TWI793768B - 微型發光二極體封裝結構與微型發光二極體顯示裝置 - Google Patents

Abstract

一種微型發光二極體封裝結構，包括一第一基材、一第二基材以及一顯示單元。第二基材配置於第一基材上且具有一開口。開口暴露出部分第一基材，且開口與被暴露出的第一基材定義出一容置槽。顯示單元配置於容置槽內，且顯示單元包括一控制電路板以及一微型發光二極體組件。微型發光二極體組件配置於控制電路板上，且與控制電路板電性連接。

Description

微型發光二極體封裝結構與微型發光二極體顯示裝置

本發明是有關於一種封裝結構與顯示裝置，且特別是有關於一種微型發光二極體封裝結構與微型發光二極體顯示裝置。

一般來說，為了讓發光二極體被電路控制，通常需要先將發光二極體轉移到互補式金屬氧化物半導體（Complementary Metal-Oxide-Semiconductor，CMOS）晶圓上，接著製作後續製程，最後在接合（bonding）至驅動基板上。然而，由於半導體廠所使用的設備大多是生產8吋以上的晶圓，而發光二極體廠在發光二極體之磊晶以及後續製程中，大多是使用對應4吋或6吋晶圓的設備，因而容易發生尺寸不合的情形，進而導致發光二極體與積體電路晶片（IC die）無法直接對接。再者，如果不考慮8吋晶圓廠設備的建置成本，而將發光二極體分次轉移到8吋晶圓廠設備做後續製程，因整體曝光平整度的要求下，即使對接的積體電路晶片為不良品，仍須在其上方放置發光二極體晶片，進而造成成本的浪費。

此外，解析度越高的曝光機（如步進式曝光機（stepper）），其對於晶圓的平整度要求也越高，因此若直接將積體電路晶片接合至驅動基板上做後續製程，則易因積體電路晶片的厚度而導致和驅動基板之間的高低差過大（如大於550微米）而增加曝光困難度。現有製程為了克服上述的高低差問題，因而採用打線方式導通積體電路晶片與驅動基板，進而佔據較多空間而減少單片矽晶圓的晶片數量。

本發明提供一種微型發光二極體封裝結構，其具有較薄的封裝厚度與較佳的結構平整度。

本發明還提供一種微型發光二極體顯示裝置，其包括多個上述的微型發光二極體封裝結構，可具有較薄的封裝厚度與較佳的結構平整度。

本發明的微型發光二極體封裝結構，包括一第一基材、一第二基材以及一顯示單元。第二基材配置於第一基材上且具有一開口。開口暴露出部分第一基材，且開口與被暴露出的第一基材定義出一容置槽。顯示單元配置於容置槽內，且顯示單元包括一控制電路板以及一微型發光二極體組件。微型發光二極體組件配置於控制電路板上，且與控制電路板電性連接。

在本發明的一實施例中，上述的第一基材與第二基材至少其中的一者為一基板，且基板包括一印刷電路板、一玻璃基板、一藍寶石基板或一矽基板。

在本發明的一實施例中，上述的控制電路板具有遠離第一基材的一第一頂面，而第二基材具有遠離第一基材的一第二頂面，且第一頂面與第二頂面之間的一高度差小於等於50微米。

在本發明的一實施例中，第二基材還包括一墊高層，墊高層配置於第二基材遠離第一基材的一側，且墊高層遠離第一基材的一表面定義出第二頂面。

在本發明的一實施例中，控制電路板包含一第一接墊，而第二基材更包括一第二接墊以及一墊高層。第二接墊配置於第二基材遠離第一基材的一側。墊高層覆蓋第二接墊並且具有暴露出第二接墊的一開孔。微型發光二極體封裝結構更包括一導電結構，導電結構從第一接墊延伸分布至墊高層的一表面，並經由開孔與第二接墊電性連接。

在本發明的一實施例中，上述的微型發光二極體封裝結構還包括一導光層，配置於第二基材上，且覆蓋微型發光二極體組件。

在本發明的一實施例中，控制電路板包括一第一接墊。第二基材包括一第二接墊，且具有彼此相對並經由開口連接的一第一表面與一第二表面。第二接墊設置於第一表面或第二表面。微型發光二極體封裝結構更包括一導電結構，其設置於開口並連接第一接墊以及第二接墊。

在本發明的一實施例中，上述的第二接墊設置於第二表面，且第一基材的一周圍表面抵接導電結構，且第一基材的一第一底面切齊於導電結構的一第二底面。

在本發明的一實施例中，上述的第一基材為一塗佈層，且第一基材的厚度大於0且小於50微米。

在本發明的一實施例中，上述的微型發光二極體封裝結構還包括一填充材料層，配置於容置槽內，且位於開口與顯示單元之間。

在本發明的一實施例中，上述的控制電路板具有遠離第一基材的一第一頂面，填充材料層具有遠離第一基材的第三頂面，且第一頂面切齊於第三頂面。

在本發明的一實施例中，上述的微型發光二極體封裝結構還包括一導電結構以及一絕緣層。控制電路板包括一第一接墊。絕緣層配置於第一基材與第二基材之間。顯示單元的微型發光二極體組件直接接觸絕緣層，且絕緣層具有暴露出第一接墊的一通道。導電結構配置於通道內且與第一接墊電性連接。

在本發明的一實施例中，上述的微型發光二極體封裝結構的第一基材為一絕緣材料層。

本發明的微型發光二極體顯示裝置，包括一驅動基板以及多個微型發光二極體封裝結構。微型發光二極體封裝結構彼此分離地配置於驅動基板上，並電性連接至驅動基板。每一微型發光二極體封裝結構包括一第一基材、一第二基材以及一顯示單元。第二基材配置於第一基材上且具有一開口。開口暴露出部分第一基材，且開口與被暴露出的第一基材定義出一容置槽。顯示單元配置於容置槽內，且顯示單元包括一控制電路板以及一微型發光二極體組件。微型發光二極體組件配置於控制電路板上，且與控制電路板電性連接。

基於上述，在本發明的微型發光二極體封裝結構的設計中，顯示單元是配置在第二基材的開口與第一基材所定義出的容置槽內，藉此來避免現有技術中因積體電路晶片的厚度而導致高低差過大的問題。相較於現有技術中將積體電路晶片直接接合在驅動基板上而言，本發明的微型發光二極體封裝結構可具有較薄的封裝厚度與較佳的結構平整度。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

圖1A是依照本發明的一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。圖1B與圖1C分別繪示為第一基材與第二基材未裁切之前的俯視示意圖。

請先參考圖1A，在本實施例中，微型發光二極體封裝結構100a包括一第一基材110a、一第二基材120a以及一顯示單元130。第二基材120a配置於第一基材110a上且具有一開口122。開口122暴露出部分第一基材110a，且開口122與被暴露出的第一基材110a定義出一容置槽C。顯示單元130配置於容置槽C內，且顯示單元130包括一控制電路板132以及一微型發光二極體組件134。微型發光二極體組件134配置於控制電路板132上，且與控制電路板132電性連接。

詳細來說，顯示單元130的控制電路板132包括一第一接墊133，而第二基材120a包括一第二接墊123a。控制電路板132在其上方具有一頂面T1，在圖1A中，頂面T1例如是位於第一接墊133上方，但不以此為限。第二基材120a在第二接墊123a上方具有遠離第二基材120a的一頂面T2，且頂面T1與頂面T2位於同一平面P上。也就是說，第一接墊133的頂面T1與第二接墊123a的頂面T2之間沒有高度差或約略齊平。再者，本實施例的顯示單元130的微型發光二極體組件134包括多個微型發光二極體，且這些微型發光二極體所發出的光不同。具體來說，微型發光二極體包括紅色微型發光二極體、綠色微型發光二極體以及藍色微型發光二極體，且紅色微型發光二極體、綠色微型發光二極體以及藍色微型發光二極體定義出一畫素，但不以此為限。此外，本實施例的微型發光二極體封裝結構100a還包括一黏著層140a，其中黏著層140a配置於第一基材110a與第二基材120a之間，且顯示單元130的控制電路板132直接接觸黏著層140a。此黏著層140a用以將顯示單元130固定在第一基材110a上。較佳地，黏著層140a還可同時作為絕緣層。亦即，黏著層140a的材質可以是具有電氣絕緣性的有機材料。

更進一步來說，請同時參考圖1A與圖1B，本實施例的第一基材110a例如是基板110的一部分，經由裁切以單體化基板110而得到第一基材110a，其中基板110例如是印刷電路板、玻璃基板、藍寶石基板或矽基板，但不以此為限。接著，請同時參考圖1A與圖1C，本實施例的第二基材120a例如是基板120的一部分，其中基板120具有多個開口122以及位於開口122一側邊的多個第二接墊123a。經由裁切以單體化基板120而得到具有開口122及第二接墊123a的第二基材120a，其中基板120例如是印刷電路板、玻璃基板、藍寶石基板或矽基板，但不以此為限。此處，第一基材110a具體化為矽基板，而第二基材120a具體化為印刷電路板，但不以此為限。較佳地，第一基材110a的尺寸與第二基材120a的尺寸約略相同或實質上相同。須說明的是，於其他實施例中，亦可以是第一基材110a與第二基材120a至少其中的一者為一基板，其中基板例如是印刷電路板、玻璃基板、藍寶石基板或矽基板，此仍屬於本發明所欲保護的範圍。

在製作上，首先，製作與磊晶基板相同尺寸的基板110與基板120。接著，製作基板120的開口122與第二接墊123a，並將基板120設置在基板110上，而使基板120的開口122與基板110定義出容置槽C。之後，將顯示單元130配置於容置槽C內。最後，進行單體化程序，以切割基板110及基板120，而完成微型發光二極體封裝結構100a的製作。

在本實施例的微型發光二極體封裝結構100a的設計中，顯示單元130是配置在第二基材120a的開口122與第一基材110a所定義出的容置槽C內，藉此來避免現有技術中因積體電路晶片的厚度而導致高低差過大的問題。換言之，藉由在第二基材120a的頂面T2與第一基材110a之間預先形成下凹的容置槽C，可避免僅有顯示單元130設置於第一基材110a上時，因自身厚度而與周圍的基材形成高度差，據此降低後續的曝光困難度。此外，控制電路板132的第一接墊133的頂面T1與第二基材120a的第二接墊123a的頂面T2之間沒有高度差或約略齊平，因此後續也無須透過打線接合來電性連接，可將低整體的封裝厚度。簡言之，相較於現有技術中將積體電路晶片直接接合在驅動基板上而言，本實施例的微型發光二極體封裝結構100a可具有較薄的封裝厚度與較佳的結構平整度。

在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參照前述實施例，下述實施例不再重複贅述。

圖2是圖1A之微型發光二極體封裝結構的電路連接剖面示意圖。在圖1A之微型發光二極體封裝結構100a的後續應用中，由於圖1A的微型發光二極體封裝結構100a具有高平整度，因此不需要採用打線連接的方式，可直接採用曝光方式來沉積金屬線路。詳細來說，請參考圖2，在本實施例中，微型發光二極體封裝結構100b還包括一導電結構150b，其中導電結構150b電性連接控制電路板132的第一接墊133與第二基材120a的第二接墊123a。此處，導電結構150b例如是採用微影製程來形成，其材質例如為金屬，可藉此提高像素密度。此處，第二接墊123a可以為第二基材120a上電路的一部分。也就是說，在較佳的實施例中，第二基材120a可以為印刷電路板，而第二接墊123a不限於圖2所示例的結構，而可以為金屬線路、歐姆接點或其他適合的態樣。

此外，為了減輕對圖1A之微型發光二極體封裝結構100a後續製程的影響，本實施例的微型發光二極體封裝結構100b可選擇性地包括一填充材料層160b，其中填充材料層160b配置於容置槽C內，且位於開口122與顯示單元130之間。此處，填充材料層160b具有遠離第一基材110a的一頂面T3，而控制電路板130具有遠離第一基材110a的一頂面T4，且頂面T3實質上切齊或約略切齊於頂面T4，藉此提升平坦度。填充材料層160b的材質例如是有機材料，用以填滿顯示單元130與容置槽C之間的空隙，藉此可減輕對後續製程的影響。

圖3是依照本發明的另一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。請同時參考圖2以及圖3，本實施例的微型發光二極體封裝結構100c與圖2的微型發光二極體封裝結構100b相似，兩者差異在於：在本實施例中，控制電路板132與第二基材120c的第二接墊123c具有一高度差H。詳細來說，控制電路板132具有頂面T1”，且此頂面T1”例如是微型發光二極體組件134的頂面。在本實施例中，控制電路板132的頂面T1”與第二接墊123c的頂面T6之間具有高度差H，且高度差H例如是小於等於50微米。與此相對應的，微型發光二極體組件134之寬度尺寸例如在30微米至50微米。然而，請配合參照圖1C，隨著曝光機之曝光線寬與間距縮小，單位面積內的微型發光二極體組件134數量增加、尺寸更小，高度差H可能隨之降低。此外，高度差H較佳地可以為20微米以下。此處，填充材料層160b的頂面T3實質上切齊或約略切齊於第二基材120c的頂面T5，且控制電路板130的頂面T4突出於填充材料層160b的頂面T3。

再者，本實施例的微型發光二極體封裝結構100c還包括一墊高層170，其中墊高層170配置於第二基材120c上，且覆蓋控制電路板132的一周圍表面S。如圖3所示，控制電路板132的周圍表面S被墊高層170及填充材料層160b所覆蓋。更進一步來說，墊高層170具有暴露出第二接墊123c的一開孔172，且導電結構150c從第一接墊133延伸分布至墊高層170的一表面171並經由開孔172與第二接墊123c電性連接。此處，墊高層170的材質包括絕緣材料或有機材料，用以消除第一接墊133與第二接墊123c之間的高度差H，以提升微型發光二極體封裝結構100c的平坦度。

圖4是依照本發明的另一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。請同時參考圖2以及圖4，本實施例的微型發光二極體封裝結構100d與圖2的微型發光二極體封裝結構100b相似，兩者差異在於：在本實施例中，微型發光二極體封裝結構100d還包括一導光層180，其中導光層180配置於第二基材120a上，且覆蓋微型發光二極體組件134、填充材料層160b以及第二基材120a。導光層180具有暴露出第一接墊133與第二接墊123a的一第一開孔182及一第二開孔184。導電結構150d從導光層180的一表面181延伸分布至第一開孔182與第二開孔184內以與第一接墊133與第二接墊123a電性連接。此處，導光層180的材質例如是絕緣材料或有機材料，且具有高光穿透性。

圖5A是依照本發明的另一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。請同時參考圖2以及圖5A，本實施例的微型發光二極體封裝結構100e與圖2的微型發光二極體封裝結構100b相似，兩者差異在於：在本實施例中，微型發光二極體封裝結構100e的導電結構150e和第二基材120e的結構都不同於圖2的導電結構150b和第二基材120a。

詳細來說，第二基材120e具有彼此相對的一第一表面121e1與一第二表面121e2，且還包括一第二接墊127e。開口122e連接第一表面121e1與第二表面121e2，且第二接墊127e設置於第二表面121e2。導電結構150e設置於開口122e並連接第一接墊133與第二接墊127e。此處，黏著層140e覆蓋導電結構150e。

圖5B是圖5A之微型發光二極體封裝結構移除暫時基材的剖面示意圖。在圖5A的後續製程中，可移除暫時基材110e與部分的黏著層140e，以降低整體微型發光二極體封裝結構的厚度。詳細來說，請參考圖5B，本實施例中，第一基材110f具體化為一塗佈層，其為圖5A中剩餘的黏著層140e，但不以此為限。在其他實施例中，第一基材110f也可以是絕緣材料層。較佳地，第一基材110f的厚度T大於0且小於50微米。特別是，第一基材110f的一周圍表面111f抵接導電結構150e，且第一基材110f的一第一底面114f實質上切齊或約略切齊於導電結構150e的一第二底面154e。

簡言之，圖5A的暫時基板110e僅提供顯示單元130、第二基材120e及填充材料層160b暫時性的支持，其中顯示單元130、第二基材120e及填充材料層160b可透過黏著層140e而固定於暫時基板110e上。於後續製程時，請同時參考圖5A與圖5B，為了減薄整體微型發光二極體封裝結構的厚度，可移除暫時基板110e與部分黏著層140e，而固定顯示單元130、第二基材120e及填充材料層160b的剩下的黏著層140e則可視為是第一基材110f。

圖6A是依照本發明的另一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。請同時參考圖2以及圖6A，本實施例的微型發光二極體封裝結構100g與圖2的微型發光二極體封裝結構100b相似，兩者差異在於：在本實施例中，填充材料層160g完全包覆控制電路板132，且與控制電路板132的頂面135具有一間距G。此處，第二基材120g的頂面T7實質上切齊或約略切齊於填充材料層160g的頂面T8。

也就是說，請同時參考圖3以及圖6A，當圖3之控制電路板132的頂面T1”與第二接墊123c的頂面T6之間具有高度差H時，可透過增設墊高層170來消除第一接墊133與第二接墊123c之間的高度差H，以提升微型發光二極體封裝結構100c的平坦度。在圖6A中，當控制電路板132的頂面135與第二基材120g的頂面T7具有間距G時，可透過填充材料層160g來填滿，以提升微型發光二極體封裝結構100g的平坦度。

此外，在本實施例中，微型發光二極體封裝結構100g還包括一導電結構150g。詳細來說，在本實施例中，顯示單元130的微型發光二極體組件134直接接觸黏著層140g，且黏著層140g具有暴露出第一接墊133的一通道144g。導電結構150g配置於通道144g內且與控制電路板132的第一接墊133電性連接。此處，黏著層140g的第一側表面142g實質上切齊或約略切齊於導電結構150g的第二側表面152g。

圖6B是圖6A之微型發光二極體封裝結構移除暫時基材的剖面示意圖。在圖6A的後續製程中，可移除暫時基材110g，以降低整體微型發光二極體封裝結構的厚度。詳細來說，請同時參考圖6A與圖6B，在本實施例中，第一基材110h具體化為一絕緣層，即將移除圖6A中之暫時基材110g之後所暴露出的黏著層140g可視為本實施的第一基材110h。第一基材110h具有暴露出第一接墊133的一通道115h，其中顯示單元130的微型發光二極體組件134直接接觸第一基材110h。特別是，第一基材110h的一第一底面114h實質上切齊或約略切齊於導電結構150g的一第二底面154g。第一基材110h的第一側表面112h實質上切齊或約略切齊於導電結構150g的第二側表面152g。

簡言之，圖6A的暫時基板110g僅提供顯示單元130、第二基材120g及填充材料層160g暫時性的支持，其中顯示單元130、第二基材120g及填充材料層160g可透過黏著層140g而固定於暫時基板110g上。於後續製程時，請同時參考圖6A與圖6B，為了減薄整體微型發光二極體封裝結構的厚度，可移除暫時基板110g，而固定顯示單元130、第二基材120g及填充材料層160g的黏著層140g則可視為是第一基材110h。

圖7是依照本發明的一實施例的一種微型發光二極體顯示裝置的剖面示意圖。請參考圖7，本實施例的微型發光二極體顯示裝置200包括一驅動基板210以及多個如圖2所示的微型發光二極體封裝結構100b。微型發光二極體封裝結構100b彼此分離地配置於驅動基板210上，並電性連接至驅動基板210。此處，驅動基板210例如是一互補式金屬氧化物半導體（Complementary Metal-Oxide-Semiconductor, CMOS）基板、一矽基液晶（Liquid Crystal on Silicon, LCOS）基板、一薄膜電晶體（Thin Film Transistor, TFT）基板或是其他具有工作電路的基板，於此並不加以限制。

綜上所述，在本發明的微型發光二極體封裝結構的設計中，顯示單元是配置在第二基材的開口與第一基材所定義出的容置槽內，藉此來避免現有技術中因積體電路晶片的厚度而導致高低差過大的問題。相較於現有技術中將積體電路晶片直接接合在驅動基板上而言，本發明的微型發光二極體封裝結構可具有較薄的封裝厚度與較佳的結構平整度。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100a、100b、100c、100d、100e、100f、100g、100h:微型發光二極體封裝結構 110、120:基板 110a、110f、110h:第一基材 110e、110g:暫時基材 111f:周圍表面 112h:第一側表面 114f、114h:第一底面 115h:通道 120a、120c、120e、120g:第二基材 121e1:第一表面 121e2:第二表面 122、122e:開口 123a、123c、127e:第二接墊 130:顯示單元 132:控制電路板 133:第一接墊 134:微型發光二極體組件 135:頂面 140a、140e、140g:黏著層 142e、142g:第一側表面 144g:通道 150b、150c、150d、150e、150f、150g:導電結構 152e、152g:第二側表面 154e、154g:第二底面 160b、160g:填充材料層 170:墊高層 171:表面 172:開孔 180:導光層 181:表面 182:第一開孔 184:第二開孔 200:微型發光二極體顯示裝置 210:驅動基板 C:容置槽 G:間距 H:高度差 P:平面 S:周圍表面 T:厚度 T1、T2、T3、T4、T5、T6、T7、T8、T1”:頂面

圖1A是依照本發明的一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。 圖1B與圖1C分別繪示為第一基材與第二基材未裁切之前的俯視示意圖。 圖2是圖1A之微型發光二極體封裝結構的電路連接剖面示意圖。 圖3是依照本發明的另一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。 圖4是依照本發明的另一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。 圖5A是依照本發明的另一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。 圖5B是圖5A之微型發光二極體封裝結構移除暫時基材的剖面示意圖。 圖6A是依照本發明的另一實施例的一種微型發光二極體封裝結構的剖面示意圖。 圖6B是圖6A之微型發光二極體封裝結構移除暫時基材的剖面示意圖。 圖7是依照本發明的一實施例的一種微型發光二極體顯示裝置的剖面示意圖。

100a:微型發光二極體封裝結構

110a:第一基材

120a:第二基材

122:開口

123a:第二接墊

130:顯示單元

132:控制電路板

133:第一接墊

134:微型發光二極體組件

140a:黏著層

C:容置槽

T1、T2:頂面

P:平面

Claims (13)

1. 一種微型發光二極體封裝結構，包括：一第一基材；一第二基材，配置於該第一基材上，且具有一開口，該開口暴露出部分該第一基材，且該開口與被暴露出的該第一基材定義出一容置槽；以及一顯示單元，配置於該容置槽內，且該顯示單元包括：一控制電路板；以及一微型發光二極體組件，配置於該控制電路板上，且與該控制電路板電性連接，其中該控制電路板包括一第一接墊，該第二基材還具有彼此相對的一第一表面與一第二表面，且包括一第二接墊，該第二接墊設置於該第一表面或該第二表面。
2. 如請求項1所述的微型發光二極體封裝結構，其中該第一基材與該第二基材至少其中的一者為一基板，且該基板包括一印刷電路板、一玻璃基板、一藍寶石基板或一矽基板。
3. 如請求項1所述的微型發光二極體封裝結構，其中該控制電路板具有遠離該第一基材的一第一頂面，而該第二基材具有遠離該第一基材的一第二頂面，且該第一頂面與該第二頂面之間的一高度差小於等於50微米。
4. 如請求項3所述的微型發光二極體封裝結構，其中該第二基材更包括： 一墊高層，配置於該第二基材遠離該第一基材的一側，且該墊高層遠離該第一基材的一表面定義出該第二頂面。
5. 如請求項1所述的微型發光二極體封裝結構，其中該控制電路板包含一第一接墊；該第二基材更包括：一第二接墊，配置於該第二基材遠離該第一基材的一側；以及一墊高層，覆蓋該第二接墊，並且具有暴露出該第二接墊的一開孔；該微型發光二極體封裝結構更包括：一導電結構，從該第一接墊延伸分布至該墊高層的一表面，並經由該開孔與該第二接墊電性連接。
6. 如請求項1所述的微型發光二極體封裝結構，更包括：一導光層，配置於該第二基材上，且覆蓋該微型發光二極體組件。
7. 如請求項1所述的微型發光二極體封裝結構，其中該開口連接該第一表面與該第二表面；該微型發光二極體封裝結構更包括：一導電結構，設置於該開口並連接該第一接墊以及該第二接墊。
8. 如請求項7所述的微型發光二極體封裝結構，其中該第二接墊設置於該第二表面，且該第一基材的一周圍表面抵接該 導電結構，且該第一基材的一第一底面切齊於該導電結構的一第二底面。
9. 如請求項8所述的微型發光二極體封裝結構，其中該第一基材為一塗佈層，且該第一基材的厚度大於0且小於50微米。
10. 如請求項1所述的微型發光二極體封裝結構，更包括：一填充材料層，配置於該容置槽內，且位於該開口與該顯示單元之間。
11. 如請求項10所述的微型發光二極體封裝結構，其中該控制電路板具有遠離該第一基材的一第一頂面，而該填充材料層具有遠離該第一基材的一第三頂面，且該第一頂面切齊於該第三頂面。
12. 如請求項1所述的微型發光二極體封裝結構，其中該第一基材為一絕緣材料層。
13. 一種微型發光二極體顯示裝置，包括：一驅動基板；以及多個微型發光二極體封裝結構，彼此分離地配置於該驅動基板上，並電性連接至該驅動基板，其中各該微型發光二極體封裝結構包括：一第一基材；一第二基材，配置於該第一基材上，且具有一開口，該開口暴露出部分該第一基材，且該開口與被暴露出的該第一基材定義出一容置槽；以及 一顯示單元，配置於該容置槽內，且該顯示單元包括：一控制電路板；以及一微型發光二極體組件，配置於該控制電路板上，且與該控制電路板電性連接，其中該控制電路板包括一第一接墊，該第二基材還具有彼此相對的一第一表面與一第二表面，且包括一第二接墊，該第二接墊設置於該第一表面或該第二表面。

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