TWI657289B

TWI657289B - 顯示面板

Info

Publication number: TWI657289B
Application number: TW106146277A
Authority: TW
Inventors: 王致惟
Original assignee: 友達光電股份有限公司
Priority date: 2017-12-28
Filing date: 2017-12-28
Publication date: 2019-04-21
Also published as: CN108267882B; TW201930970A; CN108267882A; US10481452B2; US20190204698A1

Abstract

一種顯示面板，包括一第一基板、多個子畫素、一第二基板以及一框膠。多個子畫素排成至少二串。至少一個子畫素包括至少一開關元件、至少一信號線、一第一絕緣層、一畫素電極以及至少一輔助結構。第一絕緣層具有至少一貫孔且對應於信號線。至少一輔助結構對應於至少一貫孔，且輔助結構包括至少一輔助電極以及至少一間隔物。至少一輔助電極設置於至少一貫孔，且至少一間隔物設置於至少一輔助電極上。預定切割線經過二串其中至少一串的多個子畫素。

Description

顯示面板

本發明是有關於一種面板，且特別是有關於一種顯示面板。

顯示面板目前已經廣泛地應用於不同領域與環境中，尤其為了美觀以及視覺效果上的需求，形成窄邊框技術發展趨勢。然而，一般製造完成的顯示面板設計方式無法再去任意地切割以進行再調尺寸製程而重新切割顯示面板尺寸。就算製造完成的顯示面板可任意地被切割來再調整顯示面板尺寸，然而，於切割後，顯示面板之線路與電路板接觸的接著面積太小會導致電阻值過大，更甚者易脫落，而對顯示面板顯示功能造成不良影響。

本發明提供一種顯示面板，其可透過再調尺寸顯示面板後，可增加二者導電層(例如：信號線與側電極)接觸的面積，以於進行壓著側邊軟性電路板的製程中，可改善側邊壓著軟性電路板時電阻值過大的問題。更甚者，可改善二者導電層(例如：信號線與側電極）之間的附著力。

本發明的顯示面板，其包括一第一基板、多個子畫素、一第二基板以及一框膠。多個子畫素設置於第一基板上，且多個子畫素排成至少二串。每一串的至少一個子畫素包括至少一開關元件、至少一信號線、一第一絕緣層、一畫素電極以及至少一輔助結構。至少一信號線分別與至少一開關元件電性連接，其中信號線包括一資料線、一掃描線、一共用電極線及一電源供應線其中至少一者。第一絕緣層配置於至少一開關元件及信號線上，且第一絕緣層具有至少一貫孔，其中至少一貫孔對應於信號線。畫素電極配置於第一基板上，且電性連接至至少一開關元件。至少一輔助結構設置於第一基板上，且電性連接至開關元件。至少一輔助結構設置於第一基板上，且至少一輔助結構對應於至少一貫孔。至少一輔助結構包括至少一輔助電極以及至少一間隔物。至少一輔助電極設置於第一基板上，且輔助電極至少一部份設置於至少一貫孔。至少一個間隔物，設置於第一基板上，且間隔物設置於至少一輔助電極上。第二基板與第一基板相對的設置。框膠設置於第一基板與第二基板之間。顯示面板具有一預定切割線，且預定切割線經過二串其中至少一串之多個子畫素。

在本發明的一實施例中，上述的信號線包括資料線。資料線具有一主幹部與一連接主幹部之延伸部。至少一貫孔對應於延伸部。

在本發明的一實施例中，上述的至少一輔助結構更包括至少一導電結構。導電結構設置於第一基板與輔助電極之間。導電結構與至少一信號線部份重疊。輔助電極部份重疊於導電結構與至少一信號線且貫孔分別暴露出部份導電結構與至少一信號線。

在本發明的一實施例中，上述的顯示面板更包括另一框膠預定區。另一框膠預定區設置於預定切割線經過二串其中至少一串之多個子畫素部份。

在本發明的一實施例中，上述的畫素電極更包括至少一開口。至少一信號線包括共用電極線，其中至少一開口對應於部份至少一貫孔。

在本發明的一實施例中，上述的信號線包括掃描線與共用電極線。至少一輔助結構與至少一貫孔分別具有多個，且在預定切割線的方向上，分別位於共用電極線與掃描線上的多個輔助電極至少部份重疊。

在本發明的一實施例中，上述的顯示面板更包括至少一光間隙物。光間隙物設置於第一基板與第二基板之間。

本發明的一種顯示面板，其包括一第一基板、多個子畫素、多個第一輔助電極、多個輔助結構、一第二基板、一框膠以及多個側電極。多個子畫素設置於第一基板上。多個子畫素排列成至少一第一串與一第二串，且第一串位於第二串與第一基板的一側面之間。每一串的至少一個子畫素包括：至少一開關元件、至少一第一信號線及至少一第二信號線、一第一絕緣層、以及至少一畫素電極。至少一第一信號線與至少一第二信號線分別與至少一開關元件電性連接。第一絕緣層配置於至少一開關元件與至少一第一信號線及至少一第二信號線。第一絕緣層具有多個貫孔，分別對應於至少一第一信號線及至少一第二信號線。至少一畫素電極配置於該第一基板上，且電性連接至至少一開關元件。多個第一輔助電極設置於第一串之至少一個子畫素上，且多個第一輔助電極分別對應於第一串之至少一個子畫素的多個貫孔。多個輔助結構，設置於第二串之至少一個子畫素上，且多個輔助結構分別對應於第二串之至少一個子畫素的多個貫孔。每一輔助結構包括至少一第二輔助電極以及至少一個間隔物。第二輔助電極設置於第一基板上，且第二輔助電極設置於對應的貫孔。至少一個間隔物設置於第一基板上，且間隔物設置於至少一第二輔助電極上。第二基板與第一基板相對的設置。框膠設置於第一基板與第二基板之間，且框膠與第一串之多個子畫素部份重疊。框膠之一表面分別與位於第一串的至少一個子畫素之多個第一輔助電極形成多個空間。多個側電極設置於第一基板的側面上。多個側電極之一端分別延伸至多個空間並分別覆蓋多個第一輔助電極。多個側電極之另一端電性連接於至少一電路元件。

在本發明的一實施例中，上述的至少一第一信號線包括一掃描線。至少一第二信號線包括至少一共用電極線。

在本發明的一實施例中，上述的每一串的至少一個子畫素之畫素電極更包括至少一開口。至少一開口位於第一串與第二串之至少一子畫素。多個開口分別對應於多條第二信號線上的多個貫孔。

在本發明的一實施例中，上述的顯示面板更包括多個導電結構。多個導電結構設置於第一基板與多個第一輔助電極及多個第二輔助電極之間。多個導電結構分別與位於第一串及第二串的至少一子畫素之至少一第一信號線與至少一第二信號線部份重疊。位於第一串的至少一子畫素，多個第一輔助電極分別部份重疊於多個導電結構其中之一、第一信號線與第二信號線。位於第二串的至少一子畫素，多個第二輔助電極分別部份重疊於多個導電結構、第一信號線與第二信號線。多個貫孔分別暴露出部份多個導電結構、部份第一信號線與部份第二信號線。

在本發明的一實施例中，上述的每一串的至少一個子畫素更包括至少一第三信號線。多個貫孔更分別對應於多條第三信號線。

在本發明的一實施例中，上述的第三信號線包括一資料線。

在本發明的一實施例中，上述的顯示面板更包括多個導電結構。多個導電結構設置於第一基板與多個第一輔助電極及多個第二輔助電極之間。多個導電結構分別與位於第一串及第二串的至少一子畫素之第三信號線部份重疊。位於第一串的至少一子畫素，多個第一輔助電極其中之一部份重疊於多個導電結構其中之一與第三信號線。位於第二串的至少一子畫素，多個第二輔助電極其中之一部份重疊於多個導電結構其中之一與第三信號線。多個貫孔分別暴露出部份多個導電結構與部份第三信號線。

在本發明的一實施例中，上述的每一第三信號線具有一主幹部與一連接主幹部之延伸部。多個貫孔分別對應於多個延伸部。

本發明的一種顯示面板，其包括一第一基板、多個子畫素、至少一第一輔助電極、至少一輔助結構、一第二基板、一框膠以及至少一側電極。多個子畫素設置於第一基板上，排成至少一第一串與一第二串。第一串位於第二串與第一基板的一側面之間。每一串的至少一個子畫素包括至少一開關元件、至少一信號線、一第一絕緣層以及至少一畫素電極。至少一信號線分別與至少一開關元件電性連接。信號線包括一資料線、一掃描線、一共用電極線及一電源供應線其中一者。第一絕緣層配置於至少一開關元件與信號線。第一絕緣層具有至少一貫孔，對應於信號線。至少一畫素電極配置於第一基板上，且電性連接至至少一開關元件。至少一第一輔助電極設置於第一串之至少一個子畫素上，且至少一第一輔助電極對應於第一串之至少一個子畫素的至少一貫孔。至少一輔助結構設置於第二串之至少一個子畫素上，且至少一輔助結構應於第二串之至少一個子畫素的至少一貫孔。至少一輔助結構包括至少一第二輔助電極以及至少一個間隔物。至少一第二輔助電極設置於第一基板上，且第二輔助電極設置於對應的貫孔。至少一個間隔物設置於第一基板上，且間隔物設置於至少一第二輔助電極上。第二基板與第一基板相對的設置。框膠設置於第一基板與第二基板之間，且框膠與第一串之多個子畫素部份重疊，且框膠之一表面與位於第一串的至少一個子畫素之至少一第一輔助電極形成一空間。至少一個側電極，設置於第一基板的側面上。側電極之一端延伸至空間並覆蓋第一輔助電極，且側電極之另一端電性連接於至少一電路元件。

在本發明的一實施例中，上述的信號線包括資料線。

在本發明的一實施例中，上述的顯示面板更包括多個導電結構。多個導電結構設置於第一基板與第一輔助電極及第二輔助電極之間。多個導電結構分別與位於第一串及第二串的至少一子畫素之信號線部份重疊。位於第一串的至少一子畫素，第一輔助電極部份側重疊於多個導電結構其中之一與信號線。位於第二串的至少一畫素，第二輔助電極部份重疊於多個導電結構其中之一與信號線。多個貫孔分別暴露出部份多個導電結構與部份信號線。

在本發明的一實施例中，上述的該每一信號線具有一主幹部與一連接主幹部之延伸部。多個貫孔分別對應於多個延伸部。

基於上述，在本發明的顯示面板的設計中，由於在多個子畫素中的至少一信號線上對應配置至少一個貫孔，其中至少一輔助結構對應設置於該至少一貫孔中，且預定切割線可任意經過多個子畫素的至少一輔助結構。因此，在進行再調尺寸製程時，於預定切割線切割並移除(例如:研磨)部份顯示面板後，可於顯示面板的側面暴露出輔助結構。於另一框膠預定區填入框膠後，框膠的一部份可與輔助結構的至少一間隔物部份共形的設置。藉由移除間隔物，可在設置於信號線上的輔助電極與框膠之間形成多個空間，使側電極可以電性連接輔助電極，因此具有較佳的切割自由度以及增加信號線與側電極電性連接的面積。此外，本發明的顯示面板更可以進一步的包括至少一導電結構，且輔助電極可以部份重疊於導電結構與信號線，更進一步地增加信號線與側電極電性連接的面積。意即，在本發明的顯示面板所包括的子畫素及輔助結構的設計，可提高本發明的顯示面板於再調尺寸製程中進行切割的自由度以簡化製程，並可以透過增加側電極與信號線電性連接的面積而降低電阻值，且也可更改善二者導電層(例如:信號線與側電極)之間的附著力，以避免顯示異常，進而提升製作的良率以及顯示品質。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

在附圖中，為了清楚起見，放大了層、膜、面板、區域等的厚度。在整個說明書中，相同的附圖標記表示相同的元件。應當理解，當諸如層、膜、區域或基板的元件被稱為在另一元件”上”或”連接到”另一元件時，其可以直接在另一元件上或與另一元件連接，或者中間元件可以也存在。相反，當元件被稱為”直接在另一元件上”或”直接連接到”另一元件時，不存在中間元件。如本文所使用的，”連接”或”耦接”可以指物理及/或電性連接。再者，”電性連接”或”耦合/接”可為二元件間存在其它元件。

除非另有定義，本文使用的所有術語(包括技術和科學術語)具有與本發明所屬領域的普通技術人員通常理解的相同的含義。將進一步理解的是，諸如在通常使用的字典中定義的那些術語應當被解釋為具有與它們在相關技術和本發明的上下文中的含義一致的含義，並且將不被解釋為理想化的或過度正式的意義，除非本文中明確地這樣定義。

這裡使用的術語僅僅是為了描述特定實施例的目的，而不是限制性的。如本文所使用的，除非內容清楚地指示，否則單數形式”一”、”一個”和”該”旨在包括複數形式，包括”至少一個”。

本文參考作為理想化實施例的示意圖的截面圖來描述示例性實施例。因此，可以預期到作為例如製造技術及/或公差的結果的圖示的形狀變化。因此，本文所述的實施例不應被解釋為限於如本文所示的區域的特定形狀，而是包括例如由製造導致的形狀偏差。例如，示出或描述為平坦的區域通常可以具有粗糙及/或非線性特徵。此外，所示的銳角可以是圓的。因此，圖中所示的區域本質上是示意性的，並且它們的形狀不是旨在示出區域的精確形狀，並且不是旨在限制權利要求的範圍。

圖1A繪示為本發明的一實施例的一種顯示面板的立體圖。圖2A繪示為本發明的一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。圖2B繪示為圖2A的切割前的顯示面板沿剖面線A-A’的局部剖面圖。圖2C繪示為圖2A的切割前的顯示面板沿剖面線B-B’的局部剖面圖。請先同時參考圖1A與圖2A，在本實施例中，顯示面板10包括一第一基板100、多個子畫素400、一第二基板200以及一框膠300。本發明的顯示面板10更包括至少一光間隙物180，設置於第一基板100與第二基板200之間（於圖1A中僅示意地繪示一個光間隙物180為示意，但不限於此）。此外，為了清楚表示元件及其位置關係，圖1A中所示的元件的形狀、尺寸和數量可以被誇大，而不會與實際上的元件相似。

如圖1及圖2A所示，本實施例的顯示面板10包括第一基板100、與第一基板100相對設置的第二基板200以及選擇性地設置於第一基板100與第二基板200之間的顯示介質層220，例如:液晶層，但不限於此。選擇性設置的顯示介質層220（例如:液晶層）包括可被水平電場轉動或切換（in-plane-switching）的液晶分子或者是可被垂直電場轉動或切換（vertical switching）的液晶分子，但本發明不以此為限。此外，第二基板200上可以選擇性地設置電極（未繪示），然而本發明不以此為限。在其他實施例中，顯示面板10之顯示介質層220也可以為自發光材料（例如：有機材料、無機材料、量子點/桿、鈣鈦礦及其衍光物、或其它合適的材料）或者是顯示介質層220也可以為其它的非自發光材料(例如:電泳、電濕潤、電粉塵或其它合適的材料)而可不使用液晶。

在本實施例中，多個子畫素400設置於第一基板100上，且多個子畫素400排列成至少二串的子畫素PX1、PX2（例如:可稱為第一串子畫素PX1與第二串子畫素PX2）。每串子畫素PX1、PX2的至少一個子畫素400至少包括至少一開關元件T、至少一信號線SL、一第一絕緣層120、至少一畫素電極140以及至少一輔助結構（繪示於圖2B及圖2C）。若，至少一信號線SL具有多條信號線，則其可包括一信號線SL1(或稱為第一信號線)、一信號線SL2(或稱為第二信號線)、一信號線SL3(或稱為第三信號線)及依此類推的信號線(或稱為第四信號線，未標示)。舉例而言，多條信號線SL(例如:信號線SL1、信號線SL2、信號線SL3或其它信號線（未繪示）)可包含為一資料線DL、一掃描線GL、一共用電極線CL、一電源供應線（未繪示）、或其它合適的線路、或前述線路其中至少一者。信號線SL可以布置在第一基板100上，而信號線SL3(例如:資料線DL)和信號線SL1(例如:掃描線GL)可彼此交錯(interlace)設置。另外，信號線SL3(例如:資料線DL)和信號線SL1(例如:掃描線GL)可屬於不同的膜層，然而本發明不限於此。此外，如圖1A所示，若，子畫素400的信號線SL可選擇性的更包括信號線SL2(例如:共用電極線CL)，可設置於相鄰的兩條信號線SL1(例如:掃描線GL)之間，且可實質上平行於信號線SL1(例如:掃描線GL)以及交錯於信號線SL3(例如:資料線DL)，不過本發明不以此為限。

如圖1A所示，開關元件T可以分別配置在第一基板100上，位於多條信號線SL的交錯處(interlace)，例如：開關元件T可以配置在二條信號線SL3、SL1(例如:資料線DL以及掃描線GL)的交錯處，且分別與二條信號線SL3、SL1(例如:資料線DL以及掃描線GL)電性連接。在本實施例中，開關元件T例如為薄膜電晶體（TFT），且其可包括底閘極式（bottom-gate）、頂閘極式（top-gate）、或立體式的電晶體（vertical TFT）、或其它合適的電晶體，本發明並不特別限制。開關元件T可以以矩陣的形式配置在第一基板100上，並分別電性連接所對應的至少一條信號線SL3(例如:資料線DL)或所對應的至少一條信號線SL1(例如:掃描線GL)。

在本實施例中，開關元件T也可以選擇性的電性連接至至少一信號線SL2(例如:共用電極線CL)。舉例而言，開關元件T透過電容耦合的方式電性連接至至少一信號線SL2(例如:共用電極線CL)。從另一方向觀之，本實施例子畫素400的儲存電容可位於開關元件T與至少一信號線SL2(例如:共用電極線CL)之間，且儲存電容可為畫素電極140與共用電極線CL部份重疊所構成，其可稱為儲存電容位於共用電極線（Cst on common）上的形式(例如:圖1A)，但不限於此。於其它實施例中，顯示面板10a的儲存電容可為畫素電極140與至少一信號線SL1(例如:掃描線GL)部份重疊所構成，其可稱為儲存電容於掃描線上（Cst on scan）的形式(例如:圖1B)、或前述儲存電容之組合。此外，圖1B之實施例可參閱圖1A及其相關描述，於此不再贅言。

請參考圖1A、圖2A及圖2B，在本實施例中，一第一絕緣層120形成於第一基板100上。於部份實施例中，第一絕緣層120可配置於開關元件T及信號線SL上，且第一絕緣層120具有至少一貫孔123。至少一貫孔123實質上對應信號線SL（例如:信號線SL1）設置。舉例而言，第一絕緣層120可以配置於信號線SL1(例如:掃描線GL)及/或開關元件T上或者是第一絕緣層120可以與信號線SL1(例如:掃描線GL)及/或開關元件T重疊，且可為單層或雙層的設計。如圖2B中所示，在本實施例中第一絕緣層120為雙層的設置，其中第一絕緣層120可包括第一子絕緣層122以及第二子絕緣層124。第一子絕緣層122可做為開關元件T的閘極絕緣層，且覆蓋信號線SL1(例如:掃描線GL)，而第二子絕緣層124可做為保護層覆蓋開關元件T，然而本發明不以此為限。在其他實施例中，第一絕緣層120也可以僅包括第一子絕緣層122，做為保護信號線SL（例如：信號線SL1）使用或者是第一絕緣層120也可以僅包括第二子絕緣層124，可做為保護開關元件T使用。此外，第一絕緣層120的材料可為無機材料、有機材料或上述之組合。

請參考圖2A、圖2B及圖2C，在本實施例中，第一絕緣層120可配置於多條信號線SL1與SL2（例如：掃描線GL以及共用電極線CL）上，且多個貫孔123分別對應於多條信號線SL1與SL2（例如：掃描線GL及共用電極線CL）上而將多條信號線SL1與SL2(例如:掃描線GL以及共用電極線CL)的部分表面暴露出來。

在本實施例中，至少二條信號線SL（例如：至少一信號線SL1及至少一信號線SL2）可分別與開關元件T電性連接。信號線SL1例如為掃描線GL，信號線SL2例如為共用電極線CL，但不限於此。至少一畫素電極140配置於第一基板100上，且畫素電極140電性連接至開關元件T，而完成子畫素400的配置。於部份實施例中，第一絕緣層120可位於畫素電極140以及第一基板100之間(例如圖2C所示)，不過本發明不以此為限。在其他實施例中，畫素電極140也可以位於第一絕緣層120與第一基板100之間。

如圖2A、圖2B及圖2C中所示，顯示面板10還具有一預定切割線L1，且預定切割線L1經過二串的子畫素PX1、PX2其中至少一串的子畫素400，例如：子畫素串PX1的子畫素400 (或稱為第一串子畫素PX1的子畫素400)，但不限於此。在本實施例中，可以透過設置框膠300於具有多個子畫素400的第一基板100與第二基板200間的框膠預定區(未標示)上，來彼此接附有多個子畫素400的第一基板100與第二基板200。再者，於本實施例中，為了可任意地切割顯示面板10來再調整顯示面板10尺寸，顯示面板10還可在第一基板100與第二基板200之間更設置另一框膠預定區320，且另一框膠預定區320可設置於預定切割線L1經過二串的子畫素PX1、PX2其中至少一串的子畫素400部份，例如：子畫素串PX1（或稱為第一串子畫素PX1），以給予切割且再調整顯示面板10尺寸後的顯示面板10設置框膠300，而讓切割且再調整顯示面板10尺寸後的顯示面板10之顯示介質層（例如：液晶層，未繪示）仍可以位於框膠300於第一基板100及第二基板200之間所定義出的區域(或稱為具有多個子畫素400之顯示區)內。

在本實施例中，子畫素400還包括至少一輔助結構160。至少一輔助結構160配置於第一基板100上，且至少一輔助結構160對應於至少一貫孔123。舉例而言，至少一輔助結構160包括至少一輔助電極162以及至少一個間隔物164。至少一輔助電極162設置於第一基板100上，且輔助電極162至少一部份設置於至少一貫孔123中。輔助電極162可配置於貫孔123所暴露的至少一信號線SL上做為保護至少一信號線SL，並提供至少一信號線SL電性連接其他電子元件（未繪示）的用途。輔助電極162可配置於貫孔123所暴露的信號線SL至少一條上，較佳地，輔助電極162可配置於多個貫孔123所暴露的多條信號線SL上。在本實施例中，輔助電極162可為單層或多層結構，且其材料例如是透明導電層（例如是銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其他合適的材料）、反射導電層、或其它合適的材料，但本發明不特別限定。於本實施例中，輔助電極162以畫素電極140之材料為範例，但不限於此。

此外，至少一個間隔物164可設置於第一基板100上，且間隔物164可設置於至少一輔助電極162上。舉例而言，在本實施例中，間隔物164至少一部份可設置於貫孔123中，且間隔物164可以覆蓋輔助電極162。間隔物164的材質可例如為光阻材質，且間隔物164可被流體（例如:酸液（未繪示），其可包含光阻蝕刻液、或其它合適的溶液）所去除，而暴露出輔助電極162。由於輔助電極162至少一部份設置於暴露至少一信號線SL（例如:信號線SL1、SL2、SL3其中至少一者）的貫孔123中，因此暴露出的輔助電極162可以有效的增加至少一信號線SL（例如：信號線SL1、SL2、SL3其中至少一者）的接觸面積至包括至少一信號線SL於側面112的截面積以及輔助電極162，進而可以降低電路元件（未繪示於圖2A）電性連接至至少一信號線SL（例如：信號線SL1、SL2、SL3其中至少一者）的電阻值。

圖3A繪示為圖2A的切割後的顯示面板沿剖面線A-A’的局部剖面圖。圖3B繪示為圖2A的切割後的顯示面板沿剖面線B-B’的局部剖面圖。請同時參考圖1A、圖2A、圖2B、圖2C、圖3A及圖3B，在本實施例中，多個子畫素400設置於第一基板100上，且該些子畫素400排成至少一第一串的子畫素PX1與至少一第二串的子畫素PX2。第一串的子畫素PX1位於第二串的子畫素PX2與第一基板100的側面112（或稱為切割面）之間。因此，於圖1A的顯示面板10未進行再調整尺寸(即已製造完成的顯示面板10)時，顯示面板10之圖示包含實線部份（例如：左部份）與虛線部份（例如：右部份），當顯示面板10進行再調整尺寸時，顯示面板10之圖示就只包含實線部份（例如：左部份），而虛線部份（例如：右部份）的圖示就被當作顯示面板10於切割後被移除的部份。於其它實施例中，可依需要保留的位置來確定顯示面板10進行再調整尺寸時可移除的部份（虛線部份），例如:左部份、下部份、上部份、一部份之中間部份、或其它合適的部份、或前述至少二者之組合。

圖2B及圖2C所示之切割前的顯示面板10，透過再調尺寸製程於預定切割線L1進行切割後，會形成如圖3A及圖3B所示的切割後的顯示面板10’。請參考圖2A、圖3A及圖3B，在本實施例中，由於第一串的子畫素PX1位於預定切割線L1上，因此在進行上述再調尺寸製程時，可利用切割用具(例如:刀具（未繪示）、雷射（未繪示）、或其它合適的用具、或前述之組合)可以沿著預定切割線L1來切割顯示面板10。舉例而言，於進行再調尺寸製成前，顯示介質層220會位於第一基板100與第二基板200之間。接著，再調尺寸製程會先對顯示面板10沿著預定切割線L1進行重新切割，接著會在顯示面板10或10a切割出的一側面112（例如：切割面）填入框膠300於另一框膠預定區320來較為避免顯示介質層220（例如：液晶）於過程中的減少(例如:流失)而影響顯示面板10的顯示品質。於部份實施例中，在填入框膠300於另一框膠預定區320之前，可對切割後的顯示面板之切割處附近施加壓力（例如：按壓於切割後的顯示面板之切割處或其它合適的方式），可以較讓切割後的顯示面板之切割處的顯示介質層220（例如液晶）可較為不易損失（例如：流失）。然後，再對顯示面板10切割出的側面112（例如：切割面）進行移除(例如:研磨或其它合適的方式)以於側面112（例如：切割面）暴露出導電層或至少一信號線SL（例如：信號線SL1、SL2、SL3其中至少一者）。基於上述，顯示面板10的邊緣可以被切割和去除，使得邊框區域(例如:非顯示區)的尺寸可以被減少。

於本實施例中，透過移除（例如：研磨）製程（未繪示）將顯示面板移除（例如：研磨）至暴露出至少一信號線SL（例如信號線SL1及/或信號線SL2）為示意，但不限於此。於移除(例如:研磨)後，信號線SL的截面可以與第一基板100的側面112實質上切齊，但本發明不以此為限。於其它實施例中，信號線SL可退縮於側面112之內，而信號線SL的截面可不與第一基板100的側面112切齊。

在本實施例中，由於預定切割線L1同時經過多條信號線SL（例如信號線SL1及信號線SL2或者皆為信號線SL1），因此在切割後可以暴露出至少一信號線SL1以及至少一信號線SL2或者皆為信號線SL1。基於上述，可設置多個輔助結構160與預定切割線L1部份重疊。舉例而言，至少一輔助結構160可對應設置於至少一信號線SL（例如：信號線SL1及/或信號線SL2）上，則輔助結構160可對應被貫孔123所暴露出的信號線SL（例如：信號線SL1及/或信號線SL2）。從另一方面觀之，若，多個輔助結構160可分別對應設置於多個信號線SL（例如：信號線SL1、信號線SL2、或其它合適的線路）上，則多個(例如:二個)輔助結構160可分別對應設置於被多個(例如:二個)貫孔123所暴露出的多個信號線SL（例如：信號線SL1及/或信號線SL2）。於部份實施例中，畫素電極140可選擇性的更包括至少一開口142。舉例而言，至少一信號線SL2（例如：共用電極線CL）與至少一開口142對應於至少一貫孔123。至少一開口142暴露出部份第一絕緣層120的表面、至少一貫孔123以及設置於貫孔123的至少一輔助結構160，且使畫素電極140與輔助結構160分離。從另一方向觀之，多個輔助結構160在預定切割線L1的方向上，可分別位於信號線SL2(例如:共用電極線CL)與信號線SL1(例如:掃描線GL)上，且預定切割線L1與上述的多個輔助結構160至少部分重疊。基於上述，沿著同一條預定切割線L1進行切割製程時，可以同時切到多個輔助結構160，而將多個輔助結構160暴露於第一基板100的側面112，進而有效地簡化製程並減少切割的成本。

然後，顯示面板10'可以透過流體移除(例如:酸液蝕刻)的方式，將第一串的子畫素PX1的間隔物164去除，然而本發明不限於此。在其他實施例中，間隔物164也可以透過其它移方式(例如:電漿蝕刻或反應式離子蝕刻)去除。此時對應貫孔123的第一輔助電極162a會暴露出來，且框膠300的表面310一部份(例如:框膠300的部份下表面)可分別與位於第一串的子畫素PX1中至少一子畫素400的第一輔助電極162a形成多個空間340。於部份實施例中，空間340也可包含部份的貫孔123，但不限於此。從另一方向觀之，子畫素400的信號線SL除了可在切割並移除（例如：研磨）後可以在第一基板100的側面112暴露出截面外，還可以透過移除製程（例如：蝕刻製程）去除間隔物164而暴露出信號線SL，進而有效的增加信號線SL的接觸面積。

接著，如圖3A以及圖3B所示，多個側電極520設置於第一基板100的側面112上。側電極520的一端521延伸至空間340並覆蓋第一輔助電極162a。側電極520可為具有導電功能的導電物與膠材之混合物，例如為銀膠、或其它合適的導電物，然而本發明不限於此。舉例而言，銀膠可以形成(例如:塗布或其它合適的方式)於第一基板100的側面112並填入空間340後，可選擇性的透過固化形成側電極520。側電極520的另一端522可以電性連接於至少一電路元件700（繪示於圖5）的接觸電極720。

由於本實施例的子畫素400的輔助結構160具有間隔物164以及對應貫孔123的輔助電極162，因此在進行再調尺寸製程時，於至少二串的子畫素中的子畫素其中一者（例如：第一串的子畫素PX1中的子畫素400）進行切割後，可透過流體（例如：酸液）蝕刻製程去除間隔物164，可僅留下貫孔123暴露的信號線SL、對應信號線SL的第一輔助電極162a以及位於框膠300與第一輔助電極162a之間的空間340。藉此，側電極520可以填入空間340並覆蓋第一輔助電極162a，以電性連接信號線SL於電路元件700（繪示於圖5）。另外，本發明不需要再額外設置電極元件，即可在顯示面板10切割後將信號線SL與側電極520完成電性連接，因而提升再調尺寸製程的切割自由度。基於上述，本實施例的設置有效的增加顯示面板10的切割自由度、增加信號線SL的接觸面積以及降低信號線SL連接外部電子元件的電阻值。

請參考圖2A、圖2B及圖2C，在本實施例中，於切割後的顯示面板10’上的第二串的子畫素PX2中的至少一個子畫素400與切割前的顯示面板10相似，其差異在於：多個輔助結構160設置於第二串的子畫素PX2中的至少一個子畫素400上，且輔助結構160包括第二輔助電極162b設置於第一基板100上且對應貫孔123，以及間隔物164對應設置於第二輔助電極162b上（未繪示）。此外，框膠300可與第二串的子畫素PX2中的至少一個子畫素400不重疊。從另一方面觀之，第二串的子畫素PX2與第一串的子畫素PX1的差別在於第二串的子畫素PX2沒有進行再調尺寸製程，且間隔物164也不會被蝕刻去除而保留完整的輔助結構160對應於貫孔123。因此，第二串的子畫素PX2仍存在顯示介質層220以作為顯示畫面，而第一串的子畫素PX1就不作為顯示畫面。

圖4A繪示為本發明的另一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。圖4B繪示為圖4A的切割前的顯示面板沿剖面線C-C’的局部剖面圖。圖4C繪示為圖4A的切割後的顯示面板沿剖面線C-C’的局部剖面圖。請同時參考圖2A、圖4A、圖4B以及圖4C，在本實施例中，圖4A的顯示面板10’’與圖2A的顯示面板10相似，可參閱前述實施例，於此不再贅言，且顯示面板10’’的實施例與顯示面板10的實施例之差異在於：顯示面板10’’的預定切割線L2與信號線SL1（例如：掃描線GL）可實質上平行，且預定切割線L2部份重疊於多條信號線SL3（例如：資料線DL）的延伸部434。於部份實施例中，預定切割線L2可位於二相鄰的信號線SL之間，例如:預定切割線L2可位於信號線SL1(例如:掃描線GL)與信號線SL2(例如:共用電極線CL)之間，但不限於此。於其它實施例中，二相鄰的信號線SL之間亦可選擇性的不包含信號線SL2(例如:共用電極線CL)。於部份實施例中，本發明之另一實施例亦可選用於前述實施例中，可更讓顯示面板依需求而任意的調整尺寸。

在本實施例中，多個子畫素400設置於第一基板100上且多個子畫素400排列成至少二串，例如：至少一第一串的子畫素PX1’’與至少一第二串的子畫素PX2’’。至少二串子畫素其中一串（例如：第一串的子畫素PX1’’）可位於至少二串子畫素其中一串（例如：第二串的子畫素PX2’’）之外，但不限於此。如圖4B所示的切割前的顯示面板10’’，第一串的子畫素PX1’’與第二串的子畫素PX2’’可實質上相同，例如：至少一個子畫素400包含至少一輔助電極162對應於至少一貫孔123。因此，切割前的顯示面板10’’的第二串的子畫素PX2’’之部份剖面結構可參閱第一串的子畫素PX1’’之部份剖面結構。舉例而言，第一串的子畫素PX1’’的至少一子畫素400的至少一第一輔助電極162a對應於第一串的子畫素PX1’’的至少一個子畫素400的至少一貫孔123，且第二串的子畫素PX2’’的至少一子畫素400的至少一第二輔助電極162b對應第二串的子畫素PX2’’的至少一個子畫素400的至少一貫孔123。多個間隔物164設置於第一基板100上且設置於至少一第一輔助電極162a以及至少一第二輔助電極162b上。此外，多個貫孔123可對應於信號線SL或SL3（例如：資料線DL）設置。

接著，上述的顯示面板10’’在進行再調尺寸製程後，如圖4C所示的切割後的顯示面板10’’’，與預定切割線L2部份重疊的至少二串的子畫素PX1”、PX2”其中至少一串的子畫素400，例如：第一串的子畫素PX1’’於切割後，可以進行填入框膠300於另一框膠預定區320’以及移除（例如：研磨）的製程（未繪示）。因此，第二串的子畫素PX2仍存在顯示介質層220以作為顯示畫面，而第一串的子畫素PX1就不作為顯示畫面。然後，透過流體移除(例如:酸液蝕刻（未繪示）)製程將第一串的子畫素PX1’’的間隔物164去除，僅留下貫孔123暴露的部份信號線SL或SL3（例如：資料線DL）、對應信號線SL或SL3（例如：資料線DL）的第一輔助電極162a，而位於框膠300之部份表面310（例如：框膠的部份下表面）與第一輔助電極162a之間存在著空間340。於部份實施例中，空間340也可包含部份的貫孔123，但不限於此。藉此，側電極520可以填入空間340並覆蓋對應的輔助電極162（例如：第一輔助電極162a），以電性連接信號線SL或SL3（例如：資料線DL）於電路元件700（繪示於圖5）的接觸電極720。基於上述，本實施例的設置有效的增加信號線SL或SL3（例如：資料線DL）的接觸面積，降低信號線SL或SL3（例如：資料線DL）連接電路元件700的電阻值。

請參考圖2A、4A以及4B，在本實施例中，信號線SL或SL3包括資料線DL。資料線DL具有一主幹部432與一連接主幹部432之延伸部434。第一絕緣層120(例如:第二子絕緣層124)具有至少一貫孔123。至少一貫孔123對應於延伸部434。舉例而言，信號線SL或SL3（例如：資料線DL）可在信號線SL1（例如：掃描線GL）以及畫素電極140以外的部份設置延伸部434，以使至少一貫孔123可以對應地設置於部份延伸部434上，進而充分的利用子畫素400的空間，然而本發明不以此為限。在其他實施例中，貫孔123也可以對應地設置於部份主幹部432上。

圖5繪示為本發明的另一實施例的一種顯示面板10的立體圖。請參考圖5以及其它圖示(例如:圖3A、圖3B)，在本實施例中，電路元件700例如為軟性印刷電路板（FPC），但本發明不以此為限。電路元件700包括連接電極720以及驅動電路740（例如驅動晶片）。電路元件700可以透過導電膠（例如為異方性導電膠；ACF，或其它合適的導電膠或導電層），將連接電極720電性連接至位於第一基板100的側面112上之側電極520的另一端522。基於上述，電路元件700可以在顯示面板10的側邊，透過側電極520而電性連接至子畫素400，因此可以達成減少邊框(例如:非顯示區)，達成窄邊框或無邊框顯示面板的需求。於其它實施例中，圖4C之實施例，亦可運用於圖5的實施例中，或者是，圖3A、圖3B與圖4C其中至少一者之實施例，亦可運用於圖5的實施例中，相應的描述可參閱前述之實施例描述。

由於本實施例的子畫素400的輔助結構160具有間隔物164以及對應貫孔123的輔助電極162，因此進行再調尺寸製程時，於至少二串的子畫素其中一者（例如：第一串的子畫素PX1’’中）的子畫素400進行切割後，可透過流體（例如：酸液）蝕刻製程去除間隔物164，僅留下貫孔123暴露的信號線SL、對應信號線SL的輔助電極162（例如：第一輔助電極162a）以及位於框膠300的部份表面與輔助電極162（例如：第一輔助電極162a）之間的空間340。於部份實施例中，空間340也可包含部份的貫孔123，但不限於此。藉此，可以將側電極520設置於第一基板100的側面112，且側電極520還可以填入空間340並覆蓋輔助電極162（例如：第一輔助電極162a），以電性連接信號線SL（例如前述信號線其中至少一條）與電路元件700，進而實現窄邊框或無邊框的需求，並增加信號線SL的接觸面積，降低信號線SL連接外部電子元件的電阻值。另外，本發明不需要再額外設置電極元件，即可在顯示面板10切割後將信號線SL與側電極520完成電性連接，因而提升再調尺寸製程的切割自由度。此外，由於多個輔助結構160與對應的多個貫孔123分別重疊預定切割線L1及/或L2，因此本發明可以在相同的切割製程中暴露出多個信號線SL以及多個輔助電極162（例如：輔助電極162a），進而減少製作成本，並簡化製程。

在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，關於省略了技術內容的部分說明可參考前述實施例，下述實施例中不再重複贅述。

圖6A繪示為本發明的另一實施例的切割後的顯示面板的局部剖面圖。請一起參考圖3A以及圖6A，本實施例的顯示面板10b與圖3A中的顯示面板10’相似，惟二者主要差異之處在於：本實施例的輔助結構160b更包括至少一導電結構190。導電結構190可設置於第一基板100與第一輔助電極162ab及第一基板100與第二輔助電極（未繪示）之間。導電結構190分別與位於第一串的子畫素PX1及第二串的子畫素PX2中的子畫素400所對應的至少一第一信號線SL1部份重疊。舉例而言，導電結構190設置於第一絕緣層120(例如第一子絕緣層122)上與第一信號線SL1隔離。於第一串的子畫素PX1中，第一輔助電極162ab分別部份重疊於導電結構190以及信號線SL1，且於第二串的子畫素PX2中，第二輔助電極（未繪示）分別部份重疊於導電結構190以及信號線SL1。顯示面板10b之多個貫孔123可分別暴露出部份的多個導電結構190以及部份的信號線SL1。第一輔助電極162ab可與導電結構190以及信號線SL1形成階梯狀，而位於框膠300之部份表面310（例如：框膠的部份下表面）與第一輔助電極162ab之間存在著空間340。於部份實施例中，空間340也可包含部份的貫孔123，但不限於此。本實施例的信號線SL1可例如為掃描線GL，但本發明不以此為限。透過導電結構190，可以進一步的增加第一輔助電極162ab的面積，因此更進一步的增加第一信號線SL1對外電性連接的接觸面積，可進而更縮減電阻值，以避免顯示異常，提升顯示品質。而且，透過第一輔助電極162ab與導電結構190以及信號線SL1形成階梯狀可較為增加側電極520與信號線SL1的電傳穩定性，也可較為提升顯示品質。

圖6B繪示為本發明的另一實施例的切割後的顯示面板的局部剖面圖。請一起參考圖6A及圖6B，本實施例的顯示面板10b’與圖6A中的顯示面板10b相似，惟二者主要差異之處在於：本實施例的導電結構190分別與位於第一串的子畫素PX1’’與第二串的子畫素PX2’’的至少一第二信號線SL2部份重疊。舉例而言，於第一串的子畫素PX1中，第一輔助電極162ab分別部份重疊於導電結構190以及第二信號線SL2，且於第二串的子畫素PX2中，第二輔助電極（未標示）分別部份重疊於導電結構190以及信號線SL2。顯示面板10b’之多個開口142對應多個貫孔123可暴露出部份的多個導電結構190以及部份的信號線SL2。本實施例的信號線SL2可例如為共用電極線CL，但本發明不以此為限。

圖6C繪示為本發明的另一實施例的切割後的顯示面板的局部剖面圖。請一起參考圖4C、6A及圖6C，本實施例的顯示面板10b’’與圖6A中的顯示面板10b相似，惟二者主要差異之處在於：本實施例的導電結構190分別與位於第一串的子畫素PX1’’與第二串的子畫素PX2’’的至少一信號線SL或SL3部份重疊，且信號線SL或SL3可例如包含資料線DL。舉例而言，於第一串的子畫素PX1’’中，第一輔助電極162ab分別部份重疊於導電結構190以及信號線SL或SL3，且於第二串的子畫素PX2’’中，第二輔助電極(未標示)分別部份重疊於導電結構190以及信號線SL或SL3。第一絕緣層120(例如:第二子絕緣層124)具有至少一貫孔123。至少一貫孔123與對應於至少一信號線SL或SL3。顯示面板10b”的多個貫孔123可分別暴露出部份的多個導電結構190以及部份的信號線SL。再者，本發明實施例所述導電結構190以及信號線SL(例如：掃描線GL、共用電極線CL、資料線DL或其它合適的線路)設計其中至少一者，可運用於前述實施例中且相關描述可參閱前述。此外，圖6A~圖6C的實施例其中至少一者，可運用於本發明之顯示面板中。

由於各第一串的子畫素PX1、PX1’’中的第一輔助電極162ab部分重疊與導電結構190以及多條信號線SL (例如：掃描線GL、共用電極線CL、資料線DL或其它合適的線路)，因此，第一輔助電極162ab的面積可以有效的增加，進而增加第一輔助電極162ab所對應重疊的多條信號線SL(例如：掃描線GL、共用電極線CL、資料線DL或其它合適的線路)與側電路520的接觸面積。在本實施例的設置中，可以進一步的降低電路元件700與信號線SL(例如：掃描線GL、共用電極線CL、資料線DL或其它合適的線路)電性接觸的電阻値，以避免顯示異常，更提升顯示品質。

圖7繪示為本發明的另一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。請一起參考圖2A及圖7，本實施例的顯示面板10c與圖2A中的顯示面板10相似，為二者主要差異之處在於：本實施例的同一串中相鄰的兩個子畫素400的其中一個包括連接主幹部432C的延伸部434C。舉例而言，多個子畫素400至少分成二串子畫素400，且同一串的子畫素具有相鄰的多個子畫素400。資料線DL具有多個對應子畫素400設置的延伸部434C，且同串的相鄰的兩個子畫素400的其中之一信號線SL(例如：信號線SL3可包含資料線DL)包括延伸部434C。意即，延伸部434C是採取跳行或跳列設置的方式。基於上述，本實施例的設置方式可以選擇性的在特定行或列的所有子畫素400中的延伸部434C設置輔助結構（未標示），因此，可以有效的提升顯示面板10c的開口率，以增加顯示品質。不過，本發明不以此為限，於其他實施例中，也可以在每一行的子畫素中皆設置延伸部434C以及對應的輔助結構160。

於前述實施例範例所述之串包含行、列、或其它合適之排列方向、或前述至少二種方向之組合。於前述實施例之範例所述之每串的數目可為至少一串。於前述實施例，空間340、貫孔123、開口142、間隔物164、輔助電極162、導電結構192其中至少一者之形狀可為多邊形，例如：四邊形、圓形、橢圓形、或其它合適的形狀。於前述實施例之範例所述之一個貫孔123可對應至少一個輔助結構160、或者是至少一個貫孔123可對應一個輔助結構160、或者是至少一個貫孔123可對應至少一個輔助結構160。於前述實施例之範例所述之子畫素400相關之元件(例如:至少一條信號線SL、開關元件T等等)係設置於第一基板100的內表面上，而前述實施例之側面112與該第一基板100的外表面及該內表面連接，則側面112皆與內表面及外表面係為不同的表面(或稱為不同的平面)。於前述實施例其中至少一種亦可運用於本發明的顯示面板中。於實施例之範例所述之子畫素400中多條信號線SL的位置可相互調換，或者是畫素電極140可為直立、平躺或其它合適方向設置。

綜上所述，本發明的顯示面板包括多個子畫素排列成至少二串，其中一串的子畫素與預定切割線部份重疊，且每一串的多個子畫素包括多個輔助結構。因此於進行再調尺寸製程時，與預定切割線重疊的子畫素串可在切割後先進行填入框膠，且再移除（例如：研磨）部份顯示面板以完成調整面板尺寸。然後透過流體移除（例如：酸液蝕刻）製程去除輔助結構的間隔物，僅留下貫孔所暴露的部份信號線、對應信號線的輔助電極以及位於框膠與輔助電極之間的空間。藉此，側電極可以設置於第一基板的側面，且側電極的一端可以填入空間並覆蓋輔助電極以電性連接信號線於電路元件，可進而實現窄邊框或無邊框的需求。還可以增加信號線與側電極的接觸面積，降低信號線連接電路元件的電阻值。此外，本發明不需再額外設置電極元件，即可在顯示面板切割後將信號線與側電極完成電性連接，因而提升再調尺寸製程的切割自由度。另外，本發明的設置還可以在相同的切割製程中暴露出多個信號線以及多個輔助電極，進而減少製作成本，並簡化製程。本發明的顯示面板更可以進一步的包括至少一導電結構，且輔助電極可以部份重疊於導電結構與信號線，更進一步地增加信號線與側電極電性連接的面積。基於上述，本發明的顯示面板適於應用在窄邊框或無邊框的設計，並於再調尺寸製程中，降低信號線的電阻值，以避免顯示異常，進而提升製作的良率以及顯示品質。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

10、10’、10’’、10’’’、10a、10b、10b’、10b’’、10c‧‧‧顯示面板

100‧‧‧第一基板

112‧‧‧側面

120‧‧‧第一絕緣層

122‧‧‧第一子絕緣層

123‧‧‧貫孔

124‧‧‧第二子絕緣層

140‧‧‧畫素電極

142‧‧‧開口

160‧‧‧輔助結構

162‧‧‧輔助電極

162a、162ab‧‧‧第一輔助電極

162b‧‧‧第二輔助電極

164‧‧‧間隔物

180‧‧‧光間隙物

190‧‧‧導電結構

200‧‧‧第二基板

220‧‧‧顯示介質層

300‧‧‧框膠

310‧‧‧表面

320、320’‧‧‧另一框膠預定區

340‧‧‧空間

400‧‧‧子畫素

432、432C‧‧‧主幹部

434、434C‧‧‧延伸部

520‧‧‧側電極

521‧‧‧一端

522‧‧‧另一端

700‧‧‧電路元件

720‧‧‧連接電極

740‧‧‧驅動晶片

CL‧‧‧共用電極線

DL‧‧‧資料線

GL‧‧‧掃描線

L1、L2‧‧‧預定切割線

PX1、PX1”‧‧‧第一串的子畫素

PX2、PX2”‧‧‧第二串的子畫素

SL、SL1、SL2、SL3、SLo‧‧‧信號線

T‧‧‧開關元件

圖1A繪示為本發明的一實施例的一種顯示面板的立體圖。圖1B繪示為本發明的另一實施例的一種顯示面板的立體圖。圖2A繪示為本發明的一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。圖2B繪示為圖2A的切割前的顯示面板沿剖面線A-A’的局部剖面圖。圖2C繪示為圖2A的切割前的顯示面板沿剖面線B-B’的局部剖面圖。圖3A繪示為圖2A的切割後的顯示面板沿剖面線A-A’的局部剖面圖。圖3B繪示為圖2A的切割後的顯示面板沿剖面線B-B’的局部剖面圖。圖4A繪示為本發明的另一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。圖4B繪示為圖4A的切割前的顯示面板沿剖面線C-C’的局部剖面圖。圖4C繪示為圖4A的切割後的顯示面板沿剖面線C-C’的局部剖面圖。圖5繪示為本發明的另一實施例的一種顯示面板的立體圖。圖6A繪示為本發明的另一實施例的切割後的顯示面板的局部剖面圖。圖6B繪示為本發明的另一實施例的切割後的顯示面板的局部剖面圖。圖6C繪示為本發明的另一實施例的切割後的顯示面板的局部剖面圖。圖7繪示為本發明的另一實施例的一種顯示面板的上視示意圖。

Claims

一種顯示面板，包括：一第一基板；多個子畫素，設置於該第一基板上，且該些子畫素排成至少二串，其中，每一該些串的該至少一個子畫素包括；至少一開關元件；至少一信號線，分別與該至少一開關元件電性連接，其中，該信號線包括一資料線、一掃描線、一共用電極線及一電源供應線其中至少一者；一第一絕緣層，配置於該至少一開關元件及該信號線上，且該第一絕緣層具有至少一貫孔，其中，該至少一貫孔對應於該信號線；一畫素電極，配置於該第一基板上，且電性連接至該至少一開關元件；以及至少一輔助結構，設置於該第一基板上，且該至少一輔助結構對應於該至少一貫孔，其中，該至少一輔助結構包括：至少一輔助電極，設置於該第一基板上，且該輔助電極至少一部份設置於該至少一貫孔；以及至少一個間隔物，設置於該第一基板上，且該間隔物設置於該至少一輔助電極上；一第二基板，與該第一基板相對的設置；一框膠，設置於該第一基板與該第二基板之間，其中，該顯示面板具有一預定切割線，且該預定切割線經過該二串其中至少一串之該些子畫素；以及一另一框膠預定區，設置於該預定切割線經過該二串其中至少一串之該些子畫素部份。
如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該信號線包括該資料線，且其具有一主幹部與一連接該主幹部之延伸部，該至少一貫孔對應於該延伸部。
如申請專利範圍第1所述的顯示面板，其中該至少一輔助結構更包括至少一導電結構，其中，該導電結構設置於該第一基板與該輔助電極之間，該導電結構與該至少一信號線部份重疊，該輔助電極部份重疊於該導電結構與該至少一信號線，且該貫孔分別暴露出部份該導電結構與該至少一信號線。
如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該畫素電極更包括至少一開口，且該至少一信號線包括該共用電極線，其中該至少一開口對應於部份該至少一貫孔。
如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中該信號線包括該掃描線與該共用電極線，該至少一輔助結構與該至少一貫孔分別具有多個，且在該預定切割線的方向上，分別位於該共用電極線與該掃描線上的該些輔助電極至少部份重疊。
如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，更包括至少一光間隙物，設置於該第一基板與該第二基板之間。
一種顯示面板，包括：一第一基板；多個子畫素，設置於該第一基板上，該些子畫素排成至少一第一串與一第二串，且該第一串位於該第二串與該第一基板的一側面之間，其中，每一該些串的該至少一個子畫素包括：至少一開關元件；至少一第一信號線及至少一第二信號線，分別與該至少一開關元件電性連接；一第一絕緣層，配置於該至少一開關元件與該至少一第一信號線及該至少一第二信號線，且該第一絕緣層具有多個貫孔，分別對應於該至少一第一信號線及該至少一第二信號線；以及至少一畫素電極，配置於該第一基板上，且電性連接至該至少一開關元件；多個第一輔助電極，設置於該第一串之該至少一個子畫素上，且該些第一輔助電極分別對應於該第一串之該至少一個子畫素的該些貫孔；多個輔助結構，設置於該第二串之該至少一個子畫素上，且該些輔助結構分別對應於該第二串之該至少一個子畫素的該些貫孔，其中，每一輔助結構包括：至少一第二輔助電極，設置於該第一基板上，且該第二輔助電極設置於該對應的貫孔；以及至少一個間隔物，設置於該第一基板上，且該間隔物設置於該至少一第二輔助電極上；一第二基板，與該第一基板相對的設置；一框膠，設置於該第一基板與該第二基板之間，且該框膠與該第一串之該些子畫素部份重疊，且該框膠之一表面分別與位於該第一串的該至少一個子畫素之該些第一輔助電極形成多個空間；以及多個側電極，設置於該第一基板的該側面上，其中該些側電極之一端分別延伸至該些空間並分別覆蓋該些第一輔助電極，且該些側電極之另一端電性連接於至少一電路元件。
如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，其中該至少一第一信號線包括一掃描線，該至少一第二信號線包括至少一共用電極線。
如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，其中每一該些串的該至少一個子畫素之該畫素電極更包括至少一開口，且位於該第一串與該第二串之該至少一子畫素，該些開口分別對應於該些第二信號線上的該些貫孔。
如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，更包括多個導電結構，該些導電結構設置於該第一基板與該些第一輔助電極及該些第二輔助電極之間，該些導電結構分別與位於該第一串及該第二串的該至少一子畫素之該至少一第一信號線與該至少一第二信號線部份重疊，其中，位於該第一串的該至少一子畫素，該些第一輔助電極分別部份重疊於該些導電結構其中之一、該第一信號線與該第二信號線，位於該第二串的該至少一子畫素，該些第二輔助電極分別部份重疊於該些導電結構、該第一信號線與該第二信號線，且該些貫孔分別暴露出部份該些導電結構、部份該第一信號線與部份該第二信號線。
如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，其中每一該些串的該至少一個子畫素更包括至少一第三信號線，且該些貫孔更分別對應於該些第三信號線。
如申請專利範圍第11項所述的顯示面板，其中該第三信號線包括一資料線。
如申請專利範圍第11項所述的顯示面板，更包括多個導電結構，該些導電結構設置於該第一基板與該些第一輔助電極及該些第二輔助電極之間，該些導電結構分別與位於該第一串及該第二串的該至少一子畫素之該第三信號線部份重疊，其中，位於該第一串的該至少一子畫素，該些第一輔助電極其中之一部份重疊於該些導電結構其中之一與該第三信號線，位於該第二串的該至少一子畫素，該些第二輔助電極其中之一部份重疊於該些導電結構其中之一與該第三信號線，且該些貫孔分別暴露出部份該些導電結構與部份該第三信號線。
如申請專利範圍第11項所述的顯示面板，其中該每一第三信號線具有一主幹部與一連接該主幹部之延伸部，該些貫孔分別對應於該些延伸部。
如申請專利範圍第7項所述的顯示面板，更包括至少一光間隙物，設置於該第一基板與該第二基板之間。
一種顯示面板，包括：一第一基板；多個子畫素，設置於該第一基板上，該些子畫素排成至少一第一串與一第二串，且該第一串位於該第二串與該第一基板的一側面之間，其中，每一該些串的該至少一個子畫素包括：至少一開關元件；至少一信號線，分別與該至少一開關元件電性連接，其中，該信號線包括一資料線、一掃描線、一共用電極線及一電源供應線其中一者；一第一絕緣層，配置於該至少一開關元件與該信號線，且該第一絕緣層具有至少一貫孔，對應於該信號線；以及至少一畫素電極，配置於該第一基板上，且電性連接至該至少一開關元件；至少一第一輔助電極，設置於該第一串之該至少一個子畫素上，且該至少一第一輔助電極對應於該第一串之該至少一個子畫素的該至少一貫孔；至少一輔助結構，設置於該第二串之該至少一個子畫素上，且該至少一輔助結構對應於該第二串之該至少一個子畫素的該至少一貫孔，其中，該至少一輔助結構包括：至少一第二輔助電極，設置於該第一基板上，且該第二輔助電極設置於該對應的貫孔；以及至少一個間隔物，設置於該第一基板上，且該間隔物設置於該至少一第二輔助電極上；一第二基板，與該第一基板相對的設置；一框膠，設置於該第一基板與該第二基板之間，且該框膠與該第一串之該些子畫素部份重疊，且該框膠之一表面與位於該第一串的該至少一個子畫素之該至少一第一輔助電極形成一空間；以及至少一側電極，設置於該第一基板的該側面上，其中，該側電極之一端延伸至該空間並覆蓋該第一輔助電極，且該側電極之另一端電性連接於至少一電路元件。
如申請專利範圍第16項所述的顯示面板，其中該信號線包括該資料線。
如申請專利範圍第16項所述的顯示面板，更包括多個導電結構，該些導電結構設置於該第一基板與該第一輔助電極及該第二輔助電極之間，該些導電結構分別與位於該第一串及該第二串的該至少一子畫素之該信號線部份重疊，其中，位於該第一串的該至少一子畫素，該第一輔助電極部份重疊於該些導電結構其中之一與該信號線，位於該第二串的該至少一子畫素，該第二輔助電極部份重疊於該些導電結構其中之一與該信號線，且該些貫孔分別暴露出部份該些導電結構與部份該信號線。
如申請專利範圍第16項所述的顯示面板，其中該每一信號線具有一主幹部與一連接該主幹部之延伸部，該些貫孔分別對應於該些延伸部。
如申請專利範圍第16項所述的顯示面板，更包括至少一光間隙物，設置於該第一基板與該第二基板之間。