CN108267882A - 显示面板 - Google Patents

显示面板 Download PDF

Info

Publication number
CN108267882A
CN108267882A CN201810133421.XA CN201810133421A CN108267882A CN 108267882 A CN108267882 A CN 108267882A CN 201810133421 A CN201810133421 A CN 201810133421A CN 108267882 A CN108267882 A CN 108267882A
Authority
CN
China
Prior art keywords
sub
substrate
pixel
signal wire
row
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201810133421.XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN108267882B (zh
Inventor
王致惟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AU Optronics Corp
Original Assignee
AU Optronics Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by AU Optronics Corp filed Critical AU Optronics Corp
Publication of CN108267882A publication Critical patent/CN108267882A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN108267882B publication Critical patent/CN108267882B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133351—Manufacturing of individual cells out of a plurality of cells, e.g. by dicing
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133345—Insulating layers
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134336—Matrix
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/13624—Active matrix addressed cells having more than one switching element per pixel
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/1368—Active matrix addressed cells in which the switching element is a three-electrode device
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/124—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition, shape or layout of the wiring layers specially adapted to the circuit arrangement, e.g. scanning lines in LCD pixel circuits
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
    • H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
    • H01L27/1248—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs with a particular composition or shape of the interlayer dielectric specially adapted to the circuit arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134345—Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134345—Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy
    • G02F1/134354—Subdivided pixels, e.g. for grey scale or redundancy the sub-pixels being capacitively coupled

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

一种显示面板，包括一第一基板、多个子像素、一第二基板以及一框胶。多个子像素排成至少二行。至少一个子像素包括至少一开关元件、至少一信号线、一第一绝缘层、一像素电极以及至少一辅助结构。第一绝缘层具有至少一通孔且对应于信号线。至少一辅助结构对应于至少一通孔，且辅助结构包括至少一辅助电极以及至少一间隔物。至少一辅助电极设置于至少一通孔，且至少一间隔物设置于至少一辅助电极上。预定切割线经过二行其中至少一行的多个子像素。

Description

显示面板
技术领域
本发明是有关于一种面板，且特别是有关于一种显示面板。
背景技术
显示面板目前已经广泛地应用于不同领域与环境中，尤其为了美观以及视觉效果上的需求，形成窄边框技术发展趋势。然而，一般制造完成的显示面板设计方式无法再去任意地切割以进行再调尺寸工艺而重新切割显示面板尺寸。就算制造完成的显示面板可任意地被切割来再调整显示面板尺寸，然而，于切割后，显示面板之线路与电路板接触的接着面积太小会导致电阻值过大，更甚者易脱落，而对显示面板显示功能造成不良影响。
发明内容
本发明提供一种显示面板，其可通过再调尺寸显示面板后，可增加二者导电层(例如：信号线与侧电极)接触的面积，以于进行压着侧边柔性电路板的工艺中，可改善侧边压着柔性电路板时电阻值过大的问题。更甚者，可改善二者导电层(例如：信号线与侧电极)之间的附着力。
本发明的显示面板，其包括一第一基板、多个子像素、一第二基板以及一框胶。多个子像素设置于第一基板上，且多个子像素排成至少二行。每一行的至少一个子像素包括至少一开关元件、至少一信号线、一第一绝缘层、一像素电极以及至少一辅助结构。至少一信号线分别与至少一开关元件电性连接，其中信号线包括一数据线、一扫描线、一共用电极线及一电源供应线其中至少一者。第一绝缘层配置于至少一开关元件及信号线上，且第一绝缘层具有至少一通孔，其中至少一通孔对应于信号线。像素电极配置于第一基板上，且电性连接至至少一开关元件。至少一辅助结构设置于第一基板上，且电性连接至开关元件。至少一辅助结构设置于第一基板上，且至少一辅助结构对应于至少一通孔。至少一辅助结构包括至少一辅助电极以及至少一间隔物。至少一辅助电极设置于第一基板上，且辅助电极至少一部份设置于至少一通孔。至少一个间隔物，设置于第一基板上，且间隔物设置于至少一辅助电极上。第二基板与第一基板相对的设置。框胶设置于第一基板与第二基板之间。显示面板具有一预定切割线，且预定切割线经过二行其中至少一行之多个子像素。
在本发明的一实施例中，上述的信号线包括数据线。数据线具有一主干部与一连接主干部之延伸部。至少一通孔对应于延伸部。
在本发明的一实施例中，上述的至少一辅助结构更包括至少一导电结构。导电结构设置于第一基板与辅助电极之间。导电结构与至少一信号线部份重叠。辅助电极部份重叠于导电结构与至少一信号线且通孔分别暴露出部份导电结构与至少一信号线。
在本发明的一实施例中，上述的显示面板更包括另一框胶预定区。另一框胶预定区设置于预定切割线经过二行其中至少一行之多个子像素部份。
在本发明的一实施例中，上述的像素电极更包括至少一开口。至少一信号线包括共用电极线，其中至少一开口对应于部份至少一通孔。
在本发明的一实施例中，上述的信号线包括扫描线与共用电极线。至少一辅助结构与至少一通孔分别具有多个，且在预定切割线的方向上，分别位于共用电极线与扫描线上的多个辅助电极至少部份重叠。
在本发明的一实施例中，上述的显示面板更包括至少一光间隙物。光间隙物设置于第一基板与第二基板之间。
本发明的一种显示面板，其包括一第一基板、多个子像素、多个第一辅助电极、多个辅助结构、一第二基板、一框胶以及多个侧电极。多个子像素设置于第一基板上。多个子像素排列成至少一第一行与一第二行，且第一行位于第二行与第一基板的一侧面之间。每一行的至少一个子像素包括：至少一开关元件、至少一第一信号线及至少一第二信号线、一第一绝缘层、以及至少一像素电极。至少一第一信号线与至少一第二信号线分别与至少一开关元件电性连接。第一绝缘层配置于至少一开关元件与至少一第一信号线及至少一第二信号线。第一绝缘层具有多个通孔，分别对应于至少一第一信号线及至少一第二信号线。至少一像素电极配置于该第一基板上，且电性连接至至少一开关元件。多个第一辅助电极设置于第一行之至少一个子像素上，且多个第一辅助电极分别对应于第一行之至少一个子像素的多个通孔。多个辅助结构，设置于第二行之至少一个子像素上，且多个辅助结构分别对应于第二行之至少一个子像素的多个通孔。每一辅助结构包括至少一第二辅助电极以及至少一个间隔物。第二辅助电极设置于第一基板上，且第二辅助电极设置于对应的通孔。至少一个间隔物设置于第一基板上，且间隔物设置于至少一第二辅助电极上。第二基板与第一基板相对的设置。框胶设置于第一基板与第二基板之间，且框胶与第一行之多个子像素部份重叠。框胶之一表面分别与位于第一行的至少一个子像素之多个第一辅助电极形成多个空间。多个侧电极设置于第一基板的侧面上。多个侧电极之一端分别延伸至多个空间并分别覆盖多个第一辅助电极。多个侧电极之另一端电性连接于至少一电路元件。
在本发明的一实施例中，上述的至少一第一信号线包括一扫描线。至少一第二信号线包括至少一共用电极线。
在本发明的一实施例中，上述的每一行的至少一个子像素之像素电极更包括至少一开口。至少一开口位于第一行与第二行之至少一子像素。多个开口分别对应于多条第二信号线上的多个通孔。
在本发明的一实施例中，上述的显示面板更包括多个导电结构。多个导电结构设置于第一基板与多个第一辅助电极及多个第二辅助电极之间。多个导电结构分别与位于第一行及第二行的至少一子像素之至少一第一信号线与至少一第二信号线部份重叠。位于第一行的至少一子像素，多个第一辅助电极分别部份重叠于多个导电结构其中之一、第一信号线与第二信号线。位于第二行的至少一子像素，多个第二辅助电极分别部份重叠于多个导电结构、第一信号线与第二信号线。多个通孔分别暴露出部份多个导电结构、部份第一信号线与部份第二信号线。
在本发明的一实施例中，上述的每一行的至少一个子像素更包括至少一第三信号线。多个通孔更分别对应于多条第三信号线。
在本发明的一实施例中，上述的第三信号线包括一数据线。
在本发明的一实施例中，上述的显示面板更包括多个导电结构。多个导电结构设置于第一基板与多个第一辅助电极及多个第二辅助电极之间。多个导电结构分别与位于第一行及第二行的至少一子像素之第三信号线部份重叠。位于第一行的至少一子像素，多个第一辅助电极其中之一部份重叠于多个导电结构其中之一与第三信号线。位于第二行的至少一子像素，多个第二辅助电极其中之一部份重叠于多个导电结构其中之一与第三信号线。多个通孔分别暴露出部份多个导电结构与部份第三信号线。
在本发明的一实施例中，上述的每一第三信号线具有一主干部与一连接主干部之延伸部。多个通孔分别对应于多个延伸部。
在本发明的一实施例中，上述的显示面板更包括至少一光间隙物。光间隙物设置于第一基板与第二基板之间。
本发明的一种显示面板，其包括一第一基板、多个子像素、至少一第一辅助电极、至少一辅助结构、一第二基板、一框胶以及至少一侧电极。多个子像素设置于第一基板上，排成至少一第一行与一第二行。第一行位于第二行与第一基板的一侧面之间。每一行的至少一个子像素包括至少一开关元件、至少一信号线、一第一绝缘层以及至少一像素电极。至少一信号线分别与至少一开关元件电性连接。信号线包括一数据线、一扫描线、一共用电极线及一电源供应线其中一者。第一绝缘层配置于至少一开关元件与信号线。第一绝缘层具有至少一通孔，对应于信号线。至少一像素电极配置于第一基板上，且电性连接至至少一开关元件。至少一第一辅助电极设置于第一行之至少一个子像素上，且至少一第一辅助电极对应于第一行之至少一个子像素的至少一通孔。至少一辅助结构设置于第二行之至少一个子像素上，且至少一辅助结构应于第二行之至少一个子像素的至少一通孔。至少一辅助结构包括至少一第二辅助电极以及至少一个间隔物。至少一第二辅助电极设置于第一基板上，且第二辅助电极设置于对应的通孔。至少一个间隔物设置于第一基板上，且间隔物设置于至少一第二辅助电极上。第二基板与第一基板相对的设置。框胶设置于第一基板与第二基板之间，且框胶与第一行之多个子像素部份重叠，且框胶之一表面与位于第一行的至少一个子像素之至少一第一辅助电极形成一空间。至少一个侧电极，设置于第一基板的侧面上。侧电极之一端延伸至空间并覆盖第一辅助电极，且侧电极之另一端电性连接于至少一电路元件。
在本发明的一实施例中，上述的信号线包括数据线。
在本发明的一实施例中，上述的显示面板更包括多个导电结构。多个导电结构设置于第一基板与第一辅助电极及第二辅助电极之间。多个导电结构分别与位于第一行及第二行的至少一子像素之信号线部份重叠。位于第一行的至少一子像素，第一辅助电极部份侧重叠于多个导电结构其中之一与信号线。位于第二行的至少一像素，第二辅助电极部份重叠于多个导电结构其中之一与信号线。多个通孔分别暴露出部份多个导电结构与部份信号线。
在本发明的一实施例中，上述的该每一信号线具有一主干部与一连接主干部之延伸部。多个通孔分别对应于多个延伸部。
在本发明的一实施例中，上述的显示面板更包括至少一光间隙物。光间隙物设置于第一基板与第二基板之间。
基于上述，在本发明的显示面板的设计中，由于在多个子像素中的至少一信号线上对应配置至少一个通孔，其中至少一辅助结构对应设置于该至少一通孔中，且预定切割线可任意经过多个子像素的至少一辅助结构。因此，在进行再调尺寸工艺时，于预定切割线切割并移除(例如：研磨)部份显示面板后，可于显示面板的侧面暴露出辅助结构。于另一框胶预定区填入框胶后，框胶的一部份可与辅助结构的至少一间隔物部份共形的设置。藉由移除间隔物，可在设置于信号线上的辅助电极与框胶之间形成多个空间，使侧电极可以电性连接辅助电极，因此具有较佳的切割自由度以及增加信号线与侧电极电性连接的面积。此外，本发明的显示面板更可以进一步的包括至少一导电结构，且辅助电极可以部份重叠于导电结构与信号线，更进一步地增加信号线与侧电极电性连接的面积。意即，在本发明的显示面板所包括的子像素及辅助结构的设计，可提高本发明的显示面板于再调尺寸工艺中进行切割的自由度以简化工艺，并可以通过增加侧电极与信号线电性连接的面积而降低电阻值，且也可更改善二者导电层(例如：信号线与侧电极)之间的附着力，以避免显示异常，进而提升制作的良率以及显示品质。
以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。
附图说明
图1A为本发明的一实施例的一种显示面板的立体图。
图1B为本发明的另一实施例的一种显示面板的立体图。
图2A为本发明的一实施例的一种显示面板的上视示意图。
图2B为图2A的切割前的显示面板沿剖面线A-A’的局部剖面图。
图2C为图2A的切割前的显示面板沿剖面线B-B’的局部剖面图。
图3A为图2A的切割后的显示面板沿剖面线A-A’的局部剖面图。
图3B为图2A的切割后的显示面板沿剖面线B-B’的局部剖面图。
图4A为本发明的另一实施例的一种显示面板的上视示意图。
图4B为图4A的切割前的显示面板沿剖面线C-C’的局部剖面图。
图4C为图4A的切割后的显示面板沿剖面线C-C’的局部剖面图。
图5为本发明的另一实施例的一种显示面板的立体图。
图6A为本发明的另一实施例的切割后的显示面板的局部剖面图。
图6B为本发明的另一实施例的切割后的显示面板的局部剖面图。
图6C为本发明的另一实施例的切割后的显示面板的局部剖面图。
图7为本发明的另一实施例的一种显示面板的上视示意图。
其中，附图标记：
10、10’、10”、10”’、10a、10b、10b’、10b”、10c：显示面板
100：第一基板
112：侧面
120：第一绝缘层
122：第一子绝缘层
123：通孔
124：第二子绝缘层
140：像素电极
142：开口
160：辅助结构
162：辅助电极
162a、162ab：第一辅助电极
162b：第二辅助电极
164：间隔物
180：光间隙物
190：导电结构
200：第二基板
220：显示介质层
300：框胶
310：表面
320、320’：另一框胶预定区
340：空间
400：子像素
432、432C：主干部
434、434C：延伸部
520：侧电极
521：一端
522：另一端
700：电路元件
720：连接电极
740：驱动电路
CL：共用电极线
DL：数据线
GL：扫描线
L1、L2：预定切割线
PX1、PX1”：第一行的子像素
PX2、PX2”：第二行的子像素
SL、SL1、SL2、SL3、SLo：信号线
T：开关元件
具体实施方式
下面结合附图对本发明的结构原理和工作原理作具体的描述：
在附图中，为了清楚起见，放大了层、膜、面板、区域等的厚度。在整个说明书中，相同的附图标记表示相同的元件。应当理解，当诸如层、膜、区域或基板的元件被称为在另一元件“上”或“连接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上或与另一元件连接，或者中间元件可以也存在。相反，当元件被称为“直接在另一元件上”或“直接连接到”另一元件时，不存在中间元件。如本文所使用的，“连接”或“耦接”可以指物理及/或电性连接。再者，“电性连接”或“耦合/接”可为二元件间存在其它元件。
除非另有定义，本文使用的所有术语(包括技术和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。将进一步理解的是，诸如在通常使用的字典中定义的那些术语应当被解释为具有与它们在相关技术和本发明的上下文中的含义一致的含义，并且将不被解释为理想化的或过度正式的意义，除非本文中明确地这样定义。
这里使用的术语仅仅是为了描述特定实施例的目的，而不是限制性的。如本文所使用的，除非内容清楚地指示，否则单数形式“一”、“一个”和“该”旨在包括复数形式，包括“至少一个”。
本文参考作为理想化实施例的示意图的截面图来描述示例性实施例。因此，可以预期到作为例如制造技术及/或公差的结果的图示的形状变化。因此，本文所述的实施例不应被解释为限于如本文所示的区域的特定形状，而是包括例如由制造导致的形状偏差。例如，示出或描述为平坦的区域通常可以具有粗糙及/或非线性特征。此外，所示的锐角可以是圆的。因此，图中所示的区域本质上是示意性的，并且它们的形状不是旨在示出区域的精确形状，并且不是旨在限制权利要求的范围。
图1A为本发明的一实施例的一种显示面板的立体图。图2A为本发明的一实施例的一种显示面板的上视示意图。图2B为图2A的切割前的显示面板沿剖面线A-A’的局部剖面图。图2C为图2A的切割前的显示面板沿剖面线B-B’的局部剖面图。请先同时参考图1A与图2A，在本实施例中，显示面板10包括一第一基板100、多个子像素400、一第二基板200以及一框胶300。本发明的显示面板10更包括至少一光间隙物180，设置于第一基板100与第二基板200之间(于图1A中仅示意地示出一个光间隙物180，但不限于此)。此外，为了清楚表示元件及其位置关系，图1A中所示的元件的形状、尺寸和数量可以被夸大，而不会与实际上的元件相似。
如图1A及图2A所示，本实施例的显示面板10包括第一基板100、与第一基板100相对设置的第二基板200以及选择性地设置于第一基板100与第二基板200之间的显示介质层220，例如：液晶层，但不限于此。选择性设置的显示介质层220(例如：液晶层)包括可被水平电场转动或切换(in-plane-switching)的液晶分子或者是可被垂直电场转动或切换(vertical switching)的液晶分子，但本发明不以此为限。此外，第二基板200上可以选择性地设置电极(未示出)，然而本发明不以此为限。在其他实施例中，显示面板10之显示介质层220也可以为自发光材料(例如：有机材料、无机材料、量子点/杆、钙钛矿及其衍光物、或其它合适的材料)或者是显示介质层220也可以为其它的非自发光材料(例如：电泳、电湿润、电粉尘或其它合适的材料)而可不使用液晶。
在本实施例中，多个子像素400设置于第一基板100上，且多个子像素400排列成至少二行的子像素PX1、PX2(例如：可称为第一行子像素PX1与第二行子像素PX2)。每行子像素PX1、PX2的至少一个子像素400至少包括至少一开关元件T、至少一信号线SL、一第一绝缘层120、至少一像素电极140以及至少一辅助结构(图2B及图2C所示)。若，至少一信号线SL具有多条信号线，则其可包括一信号线SL1(或称为第一信号线)、一信号线SL2(或称为第二信号线)、一信号线SL3(或称为第三信号线)及依此类推的信号线(或称为第四信号线，未标示)。举例而言，多条信号线SL(例如：信号线SL1、信号线SL2、信号线SL3或其它信号线(未示出))可包含为一数据线DL、一扫描线GL、一共用电极线CL、一电源供应线(未示出)、或其它合适的线路、或前述线路其中至少一者。信号线SL可以布置在第一基板100上，而信号线SL3(例如：数据线DL)和信号线SL1(例如：扫描线GL)可彼此交错(interlace)设置。另外，信号线SL3(例如：数据线DL)和信号线SL1(例如：扫描线GL)可属于不同的膜层，然而本发明不限于此。此外，如图1A所示，若，子像素400的信号线SL可选择性的更包括信号线SL2(例如：共用电极线CL)，可设置于相邻的两条信号线SL1(例如：扫描线GL)之间，且可实质上平行于信号线SL1(例如：扫描线GL)以及交错于信号线SL3(例如：数据线DL)，不过本发明不以此为限。
如图1A所示，开关元件T可以分别配置在第一基板100上，位于多条信号线SL的交错处(interlace)，例如：开关元件T可以配置在二条信号线SL3、SL1(例如：数据线DL以及扫描线GL)的交错处，且分别与二条信号线SL3、SL1(例如：数据线DL以及扫描线GL)电性连接。在本实施例中，开关元件T例如为薄膜晶体管(TFT)，且其可包括底栅式(bottom-gate)、顶栅式(top-gate)、或立体式的晶体管(vertical TFT)、或其它合适的晶体管，本发明并不特别限制。开关元件T可以以矩阵的形式配置在第一基板100上，并分别电性连接所对应的至少一条信号线SL3(例如：数据线DL)或所对应的至少一条信号线SL1(例如：扫描线GL)。
在本实施例中，开关元件T也可以选择性的电性连接至至少一信号线SL2(例如：共用电极线CL)。举例而言，开关元件T通过电容耦合的方式电性连接至至少一信号线SL2(例如：共用电极线CL)。从另一方向观之，本实施例子像素400的储存电容可位于开关元件T与至少一信号线SL2(例如：共用电极线CL)之间，且储存电容可为像素电极140与共用电极线CL部份重叠所构成，其可称为储存电容位于共用电极线(Cst on common)上的形式(例如：图1A)，但不限于此。于其它实施例中，显示面板10a的储存电容可为像素电极140与至少一信号线SL1(例如：扫描线GL)部份重叠所构成，其可称为储存电容于扫描线上(Cst onscan)的形式(例如：图1B)、或前述储存电容之组合。此外，图1B之实施例可参阅图1A及其相关描述，于此不再赘言。
请参考图1A、图2A及图2B，在本实施例中，一第一绝缘层120形成于第一基板100上。于部份实施例中，第一绝缘层120可配置于开关元件T及信号线SL上，且第一绝缘层120具有至少一通孔123。至少一通孔123实质上对应信号线SL(例如：信号线SL1)设置。举例而言，第一绝缘层120可以配置于信号线SL1(例如：扫描线GL)及/或开关元件T上或者是第一绝缘层120可以与信号线SL1(例如：扫描线GL)及/或开关元件T重叠，且可为单层或双层的设计。如图2B中所示，在本实施例中第一绝缘层120为双层的设置，其中第一绝缘层120可包括第一子绝缘层122以及第二子绝缘层124。第一子绝缘层122可作为开关元件T的栅极绝缘层，且覆盖信号线SL1(例如：扫描线GL)，而第二子绝缘层124可作为保护层覆盖开关元件T，然而本发明不以此为限。在其他实施例中，第一绝缘层120也可以仅包括第一子绝缘层122，作为保护信号线SL(例如：信号线SL1)使用或者是第一绝缘层120也可以仅包括第二子绝缘层124，可作为保护开关元件T使用。此外，第一绝缘层120的材料可为无机材料、有机材料或上述之组合。
请参考图2A、图2B及图2C，在本实施例中，第一绝缘层120可配置于多条信号线SL1与SL2(例如：扫描线GL以及共用电极线CL)上，且多个通孔123分别对应于多条信号线SL1与SL2(例如：扫描线GL及共用电极线CL)上而将多条信号线SL1与SL2(例如：扫描线GL以及共用电极线CL)的部分表面暴露出来。
在本实施例中，至少二条信号线SL(例如：至少一信号线SL1及至少一信号线SL2)可分别与开关元件T电性连接。信号线SL1例如为扫描线GL，信号线SL2例如为共用电极线CL，但不限于此。至少一像素电极140配置于第一基板100上，且像素电极140电性连接至开关元件T，而完成子像素400的配置。于部份实施例中，第一绝缘层120可位于像素电极140以及第一基板100之间(例如图2C所示)，不过本发明不以此为限。在其他实施例中，像素电极140也可以位于第一绝缘层120与第一基板100之间。
如图2A、图2B及图2C中所示，显示面板10还具有一预定切割线L1，且预定切割线L1经过二行的子像素PX1、PX2其中至少一行的子像素400，例如：子像素行PX1的子像素400(或称为第一行子像素PX1的子像素400)，但不限于此。在本实施例中，可以通过设置框胶300于具有多个子像素400的第一基板100与第二基板200间的框胶预定区(未标示)上，来彼此接附有多个子像素400的第一基板100与第二基板200。再者，于本实施例中，为了可任意地切割显示面板10来再调整显示面板10尺寸，显示面板10还可在第一基板100与第二基板200之间更设置另一框胶预定区320，且另一框胶预定区320可设置于预定切割线L1经过二行的子像素PX1、PX2其中至少一行的子像素400部份，例如：子像素行PX1(或称为第一行子像素PX1)，以给予切割且再调整显示面板10尺寸后的显示面板10设置框胶300，而让切割且再调整显示面板10尺寸后的显示面板10之显示介质层(例如：液晶层，未示出)仍可以位于框胶300于第一基板100及第二基板200之间所定义出的区域(或称为具有多个子像素400之显示区)内。
在本实施例中，子像素400还包括至少一辅助结构160。至少一辅助结构160配置于第一基板100上，且至少一辅助结构160对应于至少一通孔123。举例而言，至少一辅助结构160包括至少一辅助电极162以及至少一个间隔物164。至少一辅助电极162设置于第一基板100上，且辅助电极162至少一部份设置于至少一通孔123中。辅助电极162可配置于通孔123所暴露的至少一信号线SL上作为保护至少一信号线SL，并提供至少一信号线SL电性连接其他电子元件(未示出)的用途。辅助电极162可配置于通孔123所暴露的信号线SL至少一条上，较佳地，辅助电极162可配置于多个通孔123所暴露的多条信号线SL上。在本实施例中，辅助电极162可为单层或多层结构，且其材料例如是透明导电层(例如是铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物、或其他合适的材料)、反射导电层、或其它合适的材料，但本发明不特别限定。于本实施例中，辅助电极162以像素电极140之材料为范例，但不限于此。
此外，至少一个间隔物164可设置于第一基板100上，且间隔物164可设置于至少一辅助电极162上。举例而言，在本实施例中，间隔物164至少一部份可设置于通孔123中，且间隔物164可以覆盖辅助电极162。间隔物164的材质可例如为光阻材质，且间隔物164可被流体(例如：酸液(未示出)，其可包含光阻蚀刻液、或其它合适的溶液)所去除，而暴露出辅助电极162。由于辅助电极162至少一部份设置于暴露至少一信号线SL(例如：信号线SL1、SL2、SL3其中至少一者)的通孔123中，因此暴露出的辅助电极162可以有效的增加至少一信号线SL(例如：信号线SL1、SL2、SL3其中至少一者)的接触面积至包括至少一信号线SL于侧面112的截面积以及辅助电极162，进而可以降低电路元件(图2A未示出)电性连接至至少一信号线SL(例如：信号线SL1、SL2、SL3其中至少一者)的电阻值。
图3A为图2A的切割后的显示面板沿剖面线A-A’的局部剖面图。图3B为图2A的切割后的显示面板沿剖面线B-B’的局部剖面图。请同时参考图1A、图2A、图2B、图2C、图3A及图3B，在本实施例中，多个子像素400设置于第一基板100上，且该些子像素400排成至少一第一行的子像素PX1与至少一第二行的子像素PX2。第一行的子像素PX1位于第二行的子像素PX2与第一基板100的侧面112(或称为切割面)之间。因此，于图1A的显示面板10未进行再调整尺寸(即已制造完成的显示面板10)时，显示面板10之图示包含实线部份(例如：左部份)与虚线部份(例如：右部份)，当显示面板10进行再调整尺寸时，显示面板10之图示就只包含实线部份(例如：左部份)，而虚线部份(例如：右部份)的图示就被当作显示面板10于切割后被移除的部份。于其它实施例中，可依需要保留的位置来确定显示面板10进行再调整尺寸时可移除的部份(虚线部份)，例如：左部份、下部份、上部份、一部份之中间部份、或其它合适的部份、或前述至少二者之组合。
图2B及图2C所示之切割前的显示面板10，通过再调尺寸工艺于预定切割线L1进行切割后，会形成如图3A及图3B所示的切割后的显示面板10’。请参考图2A、图3A及图3B，在本实施例中，由于第一行的子像素PX1位于预定切割线L1上，因此在进行上述再调尺寸工艺时，可利用切割用具(例如：刀具(未示出)、激光(未示出)、或其它合适的用具、或前述之组合)可以沿着预定切割线L1来切割显示面板10。举例而言，于进行再调尺寸工艺前，显示介质层220会位于第一基板100与第二基板200之间。接着，再调尺寸工艺会先对显示面板10沿着预定切割线L1进行重新切割，接着会在显示面板10或10a切割出的一侧面112(例如：切割面)填入框胶300于另一框胶预定区320来较为避免显示介质层220(例如：液晶)于过程中的减少(例如：流失)而影响显示面板10的显示品质。于部份实施例中，在填入框胶300于另一框胶预定区320之前，可对切割后的显示面板之切割处附近施加压力(例如：按压于切割后的显示面板之切割处或其它合适的方式)，可以较让切割后的显示面板之切割处的显示介质层220(例如液晶)可较为不易损失(例如：流失)。然后，再对显示面板10切割出的侧面112(例如：切割面)进行移除(例如：研磨或其它合适的方式)以于侧面112(例如：切割面)暴露出导电层或至少一信号线SL(例如：信号线SL1、SL2、SL3其中至少一者)。基于上述，显示面板10的边缘可以被切割和去除，使得边框区域(例如：非显示区)的尺寸可以被减少。
于本实施例中，通过移除(例如：研磨)工艺(未示出)将显示面板移除(例如：研磨)至暴露出至少一信号线SL(例如信号线SL1及/或信号线SL2)为示意，但不限于此。于移除(例如：研磨)后，信号线SL的截面可以与第一基板100的侧面112实质上切齐，但本发明不以此为限。于其它实施例中，信号线SL可退缩于侧面112之内，而信号线SL的截面可不与第一基板100的侧面112切齐。
在本实施例中，由于预定切割线L1同时经过多条信号线SL(例如信号线SL1及信号线SL2或者皆为信号线SL1)，因此在切割后可以暴露出至少一信号线SL1以及至少一信号线SL2或者皆为信号线SL1。基于上述，可设置多个辅助结构160与预定切割线L1部份重叠。举例而言，至少一辅助结构160可对应设置于至少一信号线SL(例如：信号线SL1及/或信号线SL2)上，则辅助结构160可对应被通孔123所暴露出的信号线SL(例如：信号线SL1及/或信号线SL2)。从另一方面观之，若，多个辅助结构160可分别对应设置于多个信号线SL(例如：信号线SL1、信号线SL2、或其它合适的线路)上，则多个(例如：二个)辅助结构160可分别对应设置于被多个(例如：二个)通孔123所暴露出的多个信号线SL(例如：信号线SL1及/或信号线SL2)。于部份实施例中，像素电极140可选择性的更包括至少一开口142。举例而言，至少一信号线SL2(例如：共用电极线CL)与至少一开口142对应于至少一通孔123。至少一开口142暴露出部份第一绝缘层120的表面、至少一通孔123以及设置于通孔123的至少一辅助结构160，且使像素电极140与辅助结构160分离。从另一方向观之，多个辅助结构160在预定切割线L1的方向上，可分别位于信号线SL2(例如：共用电极线CL)与信号线SL1(例如：扫描线GL)上，且预定切割线L1与上述的多个辅助结构160至少部分重叠。基于上述，沿着同一条预定切割线L1进行切割工艺时，可以同时切到多个辅助结构160，而将多个辅助结构160暴露于第一基板100的侧面112，进而有效地简化工艺并减少切割的成本。
然后，显示面板10′可以通过流体移除(例如：酸液蚀刻)的方式，将第一行的子像素PX1的间隔物164去除，然而本发明不限于此。在其他实施例中，间隔物164也可以通过其它移方式(例如：等离子体蚀刻或反应式离子蚀刻)去除。此时对应通孔123的第一辅助电极162a会暴露出来，且框胶300的表面310一部份(例如：框胶300的部份下表面)可分别与位于第一行的子像素PX1中至少一子像素400的第一辅助电极162a形成多个空间340。于部份实施例中，空间340也可包含部份的通孔123，但不限于此。从另一方向观之，子像素400的信号线SL除了可在切割并移除(例如：研磨)后可以在第一基板100的侧面112暴露出截面外，还可以通过移除工艺(例如：蚀刻工艺)去除间隔物164而暴露出信号线SL，进而有效的增加信号线SL的接触面积。
接着，如图3A以及图3B所示，多个侧电极520设置于第一基板100的侧面112上。侧电极520的一端521延伸至空间340并覆盖第一辅助电极162a。侧电极520可为具有导电功能的导电物与胶材之混合物，例如为银胶、或其它合适的导电物，然而本发明不限于此。举例而言，银胶可以形成(例如：涂布或其它合适的方式)于第一基板100的侧面112并填入空间340后，可选择性的通过固化形成侧电极520。侧电极520的另一端522可以电性连接于至少一电路元件700(图5所示)的接触电极720。
由于本实施例的子像素400的辅助结构160具有间隔物164以及对应通孔123的辅助电极162，因此在进行再调尺寸工艺时，于至少二行的子像素中的子像素其中一者(例如：第一行的子像素PX1中的子像素400)进行切割后，可通过流体(例如：酸液)蚀刻工艺去除间隔物164，可仅留下通孔123暴露的信号线SL、对应信号线SL的第一辅助电极162a以及位于框胶300与第一辅助电极162a之间的空间340。藉此，侧电极520可以填入空间340并覆盖第一辅助电极162a，以电性连接信号线SL于电路元件700(图5所示)。另外，本发明不需要再额外设置电极元件，即可在显示面板10切割后将信号线SL与侧电极520完成电性连接，因而提升再调尺寸工艺的切割自由度。基于上述，本实施例的设置有效的增加显示面板10的切割自由度、增加信号线SL的接触面积以及降低信号线SL连接外部电子元件的电阻值。
请参考图2A、图2B及图2C，在本实施例中，于切割后的显示面板10’上的第二行的子像素PX2中的至少一个子像素400与切割前的显示面板10相似，其差异在于：多个辅助结构160设置于第二行的子像素PX2中的至少一个子像素400上，且辅助结构160包括第二辅助电极162b设置于第一基板100上且对应通孔123，以及间隔物164对应设置于第二辅助电极162b上(未示出)。此外，框胶300可与第二行的子像素PX2中的至少一个子像素400不重叠。从另一方面观之，第二行的子像素PX2与第一行的子像素PX1的差别在于第二行的子像素PX2没有进行再调尺寸工艺，且间隔物164也不会被蚀刻去除而保留完整的辅助结构160对应于通孔123。因此，第二行的子像素PX2仍存在显示介质层220以作为显示画面，而第一行的子像素PX1就不作为显示画面。
图4A为本发明的另一实施例的一种显示面板的上视示意图。图4B为图4A的切割前的显示面板沿剖面线C-C’的局部剖面图。图4C为图4A的切割后的显示面板沿剖面线C-C’的局部剖面图。请同时参考图2A、图4A、图4B以及图4C，在本实施例中，图4A的显示面板10”与图2A的显示面板10相似，可参阅前述实施例，于此不再赘言，且显示面板10”的实施例与显示面板10的实施例之差异在于：显示面板10”的预定切割线L2与信号线SL1(例如：扫描线GL)可实质上平行，且预定切割线L2部份重叠于多条信号线SL3(例如：数据线DL)的延伸部434。于部份实施例中，预定切割线L2可位于二相邻的信号线SL之间，例如：预定切割线L2可位于信号线SL1(例如：扫描线GL)与信号线SL2(例如：共用电极线CL)之间，但不限于此。于其它实施例中，二相邻的信号线SL之间亦可选择性的不包含信号线SL2(例如：共用电极线CL)。于部份实施例中，本发明之另一实施例亦可选用于前述实施例中，可更让显示面板依需求而任意的调整尺寸。
在本实施例中，多个子像素400设置于第一基板100上且多个子像素400排列成至少二行，例如：至少一第一行的子像素PX1”与至少一第二行的子像素PX2”。至少二行子像素其中一行(例如：第一行的子像素PX1”)可位于至少二行子像素其中一行(例如：第二行的子像素PX2”)之外，但不限于此。如图4B所示的切割前的显示面板10”，第一行的子像素PX1”与第二行的子像素PX2”可实质上相同，例如：至少一个子像素400包含至少一辅助电极162对应于至少一通孔123。因此，切割前的显示面板10”的第二行的子像素PX2”之部份剖面结构可参阅第一行的子像素PX1”之部份剖面结构。举例而言，第一行的子像素PX1”的至少一子像素400的至少一第一辅助电极162a对应于第一行的子像素PX1”的至少一个子像素400的至少一通孔123，且第二行的子像素PX2”的至少一子像素400的至少一第二辅助电极162b对应第二行的子像素PX2”的至少一个子像素400的至少一通孔123。多个间隔物164设置于第一基板100上且设置于至少一第一辅助电极162a以及至少一第二辅助电极162b上。此外，多个通孔123可对应于信号线SL或SL3(例如：数据线DL)设置。
接着，上述的显示面板10”在进行再调尺寸工艺后，如图4C所示的切割后的显示面板10”’，与预定切割线L2部份重叠的至少二行的子像素PX1”、PX2”其中至少一行的子像素400，例如：第一行的子像素PX1”于切割后，可以进行填入框胶300于另一框胶预定区320’以及移除(例如：研磨)的工艺(未示出)。因此，第二行的子像素PX2仍存在显示介质层220以作为显示画面，而第一行的子像素PX1就不作为显示画面。然后，通过流体移除(例如：酸液蚀刻(未示出))工艺将第一行的子像素PX1”的间隔物164去除，仅留下通孔123暴露的部份信号线SL或SL3(例如：数据线DL)、对应信号线SL或SL3(例如：数据线DL)的第一辅助电极162a，而位于框胶300之部份表面310(例如：框胶的部份下表面)与第一辅助电极162a之间存在着空间340。于部份实施例中，空间340也可包含部份的通孔123，但不限于此。藉此，侧电极520可以填入空间340并覆盖对应的辅助电极162(例如：第一辅助电极162a)，以电性连接信号线SL或SL3(例如：数据线DL)于电路元件700(图5所示)的接触电极720。基于上述，本实施例的设置有效的增加信号线SL或SL3(例如：数据线DL)的接触面积，降低信号线SL或SL3(例如：数据线DL)连接电路元件700的电阻值。
请参考图2A、4A以及4B，在本实施例中，信号线SL或SL3包括数据线DL。数据线DL具有一主干部432与一连接主干部432之延伸部434。第一绝缘层120(例如：第二子绝缘层124)具有至少一通孔123。至少一通孔123对应于延伸部434。举例而言，信号线SL或SL3(例如：数据线DL)可在信号线SL1(例如：扫描线GL)以及像素电极140以外的部份设置延伸部434，以使至少一通孔123可以对应地设置于部份延伸部434上，进而充分的利用子像素400的空间，然而本发明不以此为限。在其他实施例中，通孔123也可以对应地设置于部份主干部432上。
图5为本发明的另一实施例的一种显示面板10的立体图。请参考图5以及其它图示(例如：图3A、图3B)，在本实施例中，电路元件700例如为柔性印刷电路板(FPC)，但本发明不以此为限。电路元件700包括连接电极720以及驱动电路740(例如驱动晶片)。电路元件700可以通过导电胶(例如为各向异性导电胶；ACF，或其它合适的导电胶或导电层)，将连接电极720电性连接至位于第一基板100的侧面112上之侧电极520的另一端522。基于上述，电路元件700可以在显示面板10的侧边，通过侧电极520而电性连接至子像素400，因此可以达成减少边框(例如：非显示区)，达成窄边框或无边框显示面板的需求。于其它实施例中，图4C之实施例，亦可运用于图5的实施例中，或者是，图3A、图3B与图4C其中至少一者之实施例，亦可运用于图5的实施例中，相应的描述可参阅前述之实施例描述。
由于本实施例的子像素400的辅助结构160具有间隔物164以及对应通孔123的辅助电极162，因此进行再调尺寸工艺时，于至少二行的子像素其中一者(例如：第一行的子像素PX1”中)的子像素400进行切割后，可通过流体(例如：酸液)蚀刻工艺去除间隔物164，仅留下通孔123暴露的信号线SL、对应信号线SL的辅助电极162(例如：第一辅助电极162a)以及位于框胶300的部份表面与辅助电极162(例如：第一辅助电极162a)之间的空间340。于部份实施例中，空间340也可包含部份的通孔123，但不限于此。藉此，可以将侧电极520设置于第一基板100的侧面112，且侧电极520还可以填入空间340并覆盖辅助电极162(例如：第一辅助电极162a)，以电性连接信号线SL(例如前述信号线其中至少一条)与电路元件700，进而实现窄边框或无边框的需求，并增加信号线SL的接触面积，降低信号线SL连接外部电子元件的电阻值。另外，本发明不需要再额外设置电极元件，即可在显示面板10切割后将信号线SL与侧电极520完成电性连接，因而提升再调尺寸工艺的切割自由度。此外，由于多个辅助结构160与对应的多个通孔123分别重叠预定切割线L1及/或L2，因此本发明可以在相同的切割工艺中暴露出多个信号线SL以及多个辅助电极162(例如：辅助电极162a)，进而减少制作成本，并简化工艺。
在此必须说明的是，下述实施例沿用前述实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同的标号来表示相同或近似的元件，关于省略了技术内容的部分说明可参考前述实施例，下述实施例中不再重复赘述。
图6A为本发明的另一实施例的切割后的显示面板的局部剖面图。请一起参考图3A以及图6A，本实施例的显示面板10b与图3A中的显示面板10’相似，二者主要差异之处在于：本实施例的辅助结构160b更包括至少一导电结构190。导电结构190可设置于第一基板100与第一辅助电极162ab及第一基板100与第二辅助电极(未示出)之间。导电结构190分别与位于第一行的子像素PX1及第二行的子像素PX2中的子像素400所对应的至少一第一信号线SL1部份重叠。举例而言，导电结构190设置于第一绝缘层120(例如第一子绝缘层122)上与第一信号线SL1隔离。于第一行的子像素PX1中，第一辅助电极162ab分别部份重叠于导电结构190以及信号线SL1，且于第二行的子像素PX2中，第二辅助电极(未示出)分别部份重叠于导电结构190以及信号线SL1。显示面板10b之多个通孔123可分别暴露出部份的多个导电结构190以及部份的信号线SL1。第一辅助电极162ab可与导电结构190以及信号线SL1形成阶梯状，而位于框胶300之部份表面310(例如：框胶的部份下表面)与第一辅助电极162ab之间存在着空间340。于部份实施例中，空间340也可包含部份的通孔123，但不限于此。本实施例的信号线SL1可例如为扫描线GL，但本发明不以此为限。通过导电结构190，可以进一步的增加第一辅助电极162ab的面积，因此更进一步的增加第一信号线SL1对外电性连接的接触面积，可进而更缩减电阻值，以避免显示异常，提升显示品质。而且，通过第一辅助电极162ab与导电结构190以及信号线SL1形成阶梯状可较为增加侧电极520与信号线SL1的电传稳定性，也可较为提升显示品质。
图6B为本发明的另一实施例的切割后的显示面板的局部剖面图。请一起参考图6A及图6B，本实施例的显示面板10b’与图6A中的显示面板10b相似，二者主要差异之处在于：本实施例的导电结构190分别与位于第一行的子像素PX1”与第二行的子像素PX2”的至少一第二信号线SL2部份重叠。举例而言，于第一行的子像素PX1中，第一辅助电极162ab分别部份重叠于导电结构190以及第二信号线SL2，且于第二行的子像素PX2中，第二辅助电极(未标示)分别部份重叠于导电结构190以及信号线SL2。显示面板10b’之多个开口142对应多个通孔123可暴露出部份的多个导电结构190以及部份的信号线SL2。本实施例的信号线SL2可例如为共用电极线CL，但本发明不以此为限。
图6C为本发明的另一实施例的切割后的显示面板的局部剖面图。请一起参考图4C、6A及图6C，本实施例的显示面板10b”与图6A中的显示面板10b相似，二者主要差异之处在于：本实施例的导电结构190分别与位于第一行的子像素PX1”与第二行的子像素PX2”的至少一信号线SL或SL3部份重叠，且信号线SL或SL3可例如包含数据线DL。举例而言，于第一行的子像素PX1”中，第一辅助电极162ab分别部份重叠于导电结构190以及信号线SL或SL3，且于第二行的子像素PX2”中，第二辅助电极(未标示)分别部份重叠于导电结构190以及信号线SL或SL3。第一绝缘层120(例如：第二子绝缘层124)具有至少一通孔123。至少一通孔123与对应于至少一信号线SL或SL3。显示面板10b”的多个通孔123可分别暴露出部份的多个导电结构190以及部份的信号线SL。再者，本发明实施例所述导电结构190以及信号线SL(例如：扫描线GL、共用电极线CL、数据线DL或其它合适的线路)设计其中至少一者，可运用于前述实施例中且相关描述可参阅前述。此外，图6A～图6C的实施例其中至少一者，可运用于本发明之显示面板中。
由于各第一行的子像素PX1、PX1”中的第一辅助电极162ab部分重叠与导电结构190以及多条信号线SL(例如：扫描线GL、共用电极线CL、数据线DL或其它合适的线路)，因此，第一辅助电极162ab的面积可以有效的增加，进而增加第一辅助电极162ab所对应重叠的多条信号线SL(例如：扫描线GL、共用电极线CL、数据线DL或其它合适的线路)与侧电路520的接触面积。在本实施例的设置中，可以进一步的降低电路元件700与信号线SL(例如：扫描线GL、共用电极线CL、数据线DL或其它合适的线路)电性接触的电阻值，以避免显示异常，更提升显示品质。
在此必须说明的是，下述实施例沿用前述实施例的元件标号与部分内容，其中采用相同的标号来表示相同或近似的元件，关于省略了技术内容的部分说明可参考前述实施例，下述实施例中不再重复赘述。
图7为本发明的另一实施例的一种显示面板的上视示意图。请一起参考图2A及图7，本实施例的显示面板10c与图2A中的显示面板10相似，二者主要差异之处在于：本实施例的同一行中相邻的两个子像素400的其中一个包括连接主干部432C的延伸部434C。举例而言，多个子像素400至少分成二行子像素400，且同一行的子像素具有相邻的多个子像素400。数据线DL具有多个对应子像素400设置的延伸部434C，且同行的相邻的两个子像素400的其中之一信号线SL(例如：信号线SL3可包含数据线DL)包括延伸部434C。意即，延伸部434C是采取跳行或跳列设置的方式。基于上述，本实施例的设置方式可以选择性的在特定行或列的所有子像素400中的延伸部434C设置辅助结构(未标示)，因此，可以有效的提升显示面板10c的开口率，以增加显示品质。不过，本发明不以此为限，于其他实施例中，也可以在每一行的子像素中皆设置延伸部434C以及对应的辅助结构160。
于前述实施例范例所述之行包含行、列、或其它合适之排列方向、或前述至少二种方向之组合。于前述实施例之范例所述之每行的数目可为至少一行。于前述实施例，空间340、通孔123、开口142、间隔物164、辅助电极162、导电结构192其中至少一者之形状可为多边形，例如：四边形、圆形、椭圆形、或其它合适的形状。于前述实施例之范例所述之一个通孔123可对应至少一个辅助结构160、或者是至少一个通孔123可对应一个辅助结构160、或者是至少一个通孔123可对应至少一个辅助结构160。于前述实施例之范例所述之子像素400相关之元件(例如：至少一条信号线SL、开关元件T等等)系设置于第一基板100的内表面上，而前述实施例之侧面112与该第一基板100的外表面及该内表面连接，则侧面112皆与内表面及外表面系为不同的表面(或称为不同的平面)。于前述实施例其中至少一种亦可运用于本发明的显示面板中。于实施例之范例所述之子像素400中多条信号线SL的位置可相互调换，或者是像素电极140可为直立、平躺或其它合适方向设置。
综上所述，本发明的显示面板包括多个子像素排列成至少二行，其中一行的子像素与预定切割线部份重叠，且每一行的多个子像素包括多个辅助结构。因此于进行再调尺寸工艺时，与预定切割线重叠的子像素行可在切割后先进行填入框胶，且再移除(例如：研磨)部份显示面板以完成调整面板尺寸。然后通过流体移除(例如：酸液蚀刻)工艺去除辅助结构的间隔物，仅留下通孔所暴露的部份信号线、对应信号线的辅助电极以及位于框胶与辅助电极之间的空间。藉此，侧电极可以设置于第一基板的侧面，且侧电极的一端可以填入空间并覆盖辅助电极以电性连接信号线于电路元件，可进而实现窄边框或无边框的需求。还可以增加信号线与侧电极的接触面积，降低信号线连接电路元件的电阻值。此外，本发明不需再额外设置电极元件，即可在显示面板切割后将信号线与侧电极完成电性连接，因而提升再调尺寸工艺的切割自由度。另外，本发明的设置还可以在相同的切割工艺中暴露出多个信号线以及多个辅助电极，进而减少制作成本，并简化工艺。本发明的显示面板更可以进一步的包括至少一导电结构，且辅助电极可以部份重叠于导电结构与信号线，更进一步地增加信号线与侧电极电性连接的面积。基于上述，本发明的显示面板适于应用在窄边框或无边框的设计，并于再调尺寸工艺中，降低信号线的电阻值，以避免显示异常，进而提升制作的良率以及显示品质。
当然，本发明还可有其它多种实施例，在不背离本发明精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本发明作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。

Claims (21)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
一第一基板；
多个子像素，设置于该第一基板上，且该些子像素排成至少二行，其中，每一该些行的该至少一个子像素包括；
至少一开关元件；
至少一信号线，分别与该至少一开关元件电性连接，其中，该信号线包括一数据线、一扫描线、一共用电极线及一电源供应线其中至少一者；
一第一绝缘层，配置于该至少一开关元件及该信号线上，且该第一绝缘层具有至少一通孔，其中，该至少一通孔对应于该信号线；
一像素电极，配置于该第一基板上，且电性连接至该至少一开关元件；以及
至少一辅助结构，设置于该第一基板上，且该至少一辅助结构对应于该至少一通孔，其中，该至少一辅助结构包括：
至少一辅助电极，设置于该第一基板上，且该辅助电极至少一部份设置于该至少一通孔；以及
至少一个间隔物，设置于该第一基板上，且该间隔物设置于该至少一辅助电极上；
一第二基板，与该第一基板相对的设置；以及
一框胶，设置于该第一基板与该第二基板之间，其中，该显示面板具有一预定切割线，且该预定切割线经过该二行其中至少一行之该些子像素。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，其中该信号线包括该数据线，且其具有一主干部与一连接该主干部之延伸部，该至少一通孔对应于该延伸部。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，其中该至少一辅助结构更包括至少一导电结构，其中，该导电结构设置于该第一基板与该辅助电极之间，该导电结构与该至少一信号线部份重叠，该辅助电极部份重叠于该导电结构与该至少一信号线，且该通孔分别暴露出部份该导电结构与该至少一信号线。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，更包括另一框胶预定区，且其设置于该预定切割线经过该二行其中至少一行之该些子像素部份。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，其中该像素电极更包括至少一开口，且该至少一信号线包括该共用电极线，其中该至少一开口对应于部份该至少一通孔。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，其中该信号线包括该扫描线与该共用电极线，该至少一辅助结构与该至少一通孔分别具有多个，且在该预定切割线的方向上，分别位于该共用电极线与该扫描线上的该些辅助电极至少部份重叠。
7.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，更包括至少一光间隙物，设置于该第一基板与该第二基板之间。
8.一种显示面板，其特征在于，包括：
一第一基板；
多个子像素，设置于该第一基板上，该些子像素排成至少一第一行与一第二行，且该第一行位于该第二行与该第一基板的一侧面之间，其中，每一该些行的该至少一个子像素包括：
至少一开关元件；
至少一第一信号线及至少一第二信号线，分别与该至少一开关元件电性连接；
一第一绝缘层，配置于该至少一开关元件与该至少一第一信号线及该至少一第二信号线，且该第一绝缘层具有多个通孔，分别对应于该至少一第一信号线及该至少一第二信号线；以及
至少一像素电极，配置于该第一基板上，且电性连接至该至少一开关元件；
多个第一辅助电极，设置于该第一行之该至少一个子像素上，且该些第一辅助电极分别对应于该第一行之该至少一个子像素的该些通孔；
多个辅助结构，设置于该第二行之该至少一个子像素上，且该些辅助结构分别对应于该第二行之该至少一个子像素的该些通孔，其中，每一辅助结构包括：
至少一第二辅助电极，设置于该第一基板上，且该第二辅助电极设置于该对应的通孔；以及
至少一个间隔物，设置于该第一基板上，且该间隔物设置于该至少一第二辅助电极上；
一第二基板，与该第一基板相对的设置；
一框胶，设置于该第一基板与该第二基板之间，且该框胶与该第一行之该些子像素部份重叠，且该框胶之一表面分别与位于该第一行的该至少一个子像素之该些第一辅助电极形成多个空间；以及
多个侧电极，设置于该第一基板的该侧面上，其中该些侧电极之一端分别延伸至该些空间并分别覆盖该些第一辅助电极，且该些侧电极之另一端电性连接于至少一电路元件。
9.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，其中该至少一第一信号线包括一扫描线，该至少一第二信号线包括至少一共用电极线。
10.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，其中每一该些行的该至少一个子像素之该像素电极更包括至少一开口，且位于该第一行与该第二行之该至少一子像素，该些开口分别对应于该些第二信号线上的该些通孔。
11.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，更包括多个导电结构，该些导电结构设置于该第一基板与该些第一辅助电极及该些第二辅助电极之间，该些导电结构分别与位于该第一行及该第二行的该至少一子像素之该至少一第一信号线与该至少一第二信号线部份重叠，其中，位于该第一行的该至少一子像素，该些第一辅助电极分别部份重叠于该些导电结构其中之一、该第一信号线与该第二信号线，位于该第二行的该至少一子像素，该些第二辅助电极分别部份重叠于该些导电结构、该第一信号线与该第二信号线，且该些通孔分别暴露出部份该些导电结构、部份该第一信号线与部份该第二信号线。
12.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，其中每一该些行的该至少一个子像素更包括至少一第三信号线，且该些通孔更分别对应于该些第三信号线。
13.如权利要求12所述的显示面板，其特征在于，其中该第三信号线包括一数据线。
14.如权利要求12所述的显示面板，其特征在于，更包括多个导电结构，该些导电结构设置于该第一基板与该些第一辅助电极及该些第二辅助电极之间，该些导电结构分别与位于该第一行及该第二行的该至少一子像素之该第三信号线部份重叠，其中，位于该第一行的该至少一子像素，该些第一辅助电极其中之一部份重叠于该些导电结构其中之一与该第三信号线，位于该第二行的该至少一子像素，该些第二辅助电极其中之一部份重叠于该些导电结构其中之一与该第三信号线，且该些通孔分别暴露出部份该些导电结构与部份该第三信号线。
15.如权利要求12所述的显示面板，其特征在于，其中该每一第三信号线具有一主干部与一连接该主干部之延伸部，该些通孔分别对应于该些延伸部。
16.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，更包括至少一光间隙物，设置于该第一基板与该第二基板之间。
17.一种显示面板，其特征在于，包括：
一第一基板；
多个子像素，设置于该第一基板上，该些子像素排成至少一第一行与一第二行，且该第一行位于该第二行与该第一基板的一侧面之间，其中，每一该些行的该至少一个子像素包括：
至少一开关元件；
至少一信号线，分别与该至少一开关元件电性连接，其中，该信号线包括一数据线、一扫描线、一共用电极线及一电源供应线其中一者；
一第一绝缘层，配置于该至少一开关元件与该信号线，且该第一绝缘层具有至少一通孔，对应于该信号线；以及
至少一像素电极，配置于该第一基板上，且电性连接至该至少一开关元件；
至少一第一辅助电极，设置于该第一行之该至少一个子像素上，且该至少一第一辅助电极对应于该第一行之该至少一个子像素的该至少一通孔；
至少一辅助结构，设置于该第二行之该至少一个子像素上，且该至少一辅助结构对应于该第二行之该至少一个子像素的该至少一通孔，其中，该至少一辅助结构包括：
至少一第二辅助电极，设置于该第一基板上，且该第二辅助电极设置于该对应的通孔；以及
至少一个间隔物，设置于该第一基板上，且该间隔物设置于该至少一第二辅助电极上；
一第二基板，与该第一基板相对的设置；
一框胶，设置于该第一基板与该第二基板之间，且该框胶与该第一行之该些子像素部份重叠，且该框胶之一表面与位于该第一行的该至少一个子像素之该至少一第一辅助电极形成一空间；以及
至少一侧电极，设置于该第一基板的该侧面上，其中，该侧电极之一端延伸至该空间并覆盖该第一辅助电极，且该侧电极之另一端电性连接于至少一电路元件。
18.如权利要求17所述的显示面板，其特征在于，其中该信号线包括该数据线。
19.如权利要求17所述的显示面板，其特征在于，更包括多个导电结构，该些导电结构设置于该第一基板与该第一辅助电极及该第二辅助电极之间，该些导电结构分别与位于该第一行及该第二行的该至少一子像素之该信号线部份重叠，其中，位于该第一行的该至少一子像素，该第一辅助电极部份重叠于该些导电结构其中之一与该信号线，位于该第二行的该至少一子像素，该第二辅助电极部份重叠于该些导电结构其中之一与该信号线，且该些通孔分别暴露出部份该些导电结构与部份该信号线。
20.如权利要求17所述的显示面板，其特征在于，其中该每一信号线具有一主干部与一连接该主干部之延伸部，该些通孔分别对应于该些延伸部。
21.如权利要求17所述的显示面板，其特征在于，更包括至少一光间隙物，设置于该第一基板与该第二基板之间。
CN201810133421.XA 2017-12-28 2018-02-09 显示面板 Active CN108267882B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW106146277A TWI657289B (zh) 2017-12-28 2017-12-28 顯示面板
TW106146277 2017-12-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN108267882A true CN108267882A (zh) 2018-07-10
CN108267882B CN108267882B (zh) 2020-10-30

Family

ID=62774043

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201810133421.XA Active CN108267882B (zh) 2017-12-28 2018-02-09 显示面板

Country Status (3)

Country Link
US (1) US10481452B2 (zh)
CN (1) CN108267882B (zh)
TW (1) TWI657289B (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109188746A (zh) * 2018-07-30 2019-01-11 友达光电股份有限公司 显示面板及其制造方法
CN109696768A (zh) * 2019-01-04 2019-04-30 友达光电股份有限公司 显示装置及其制造方法
WO2020062440A1 (zh) * 2018-09-30 2020-04-02 重庆惠科金渝光电科技有限公司 显示面板、显示装置及显示面板制造方法
US10809576B2 (en) 2018-09-30 2020-10-20 HKC Corporation Limited Display panel, display device, and method for manufacturing display panel

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102605376B1 (ko) * 2018-12-31 2023-11-23 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
TWI723677B (zh) * 2019-12-13 2021-04-01 友達光電股份有限公司 陣列基板及具有此陣列基板的顯示裝置
TW202032226A (zh) * 2020-01-14 2020-09-01 友達光電股份有限公司 軟性電路結構
CN112396981B (zh) * 2020-01-14 2023-10-17 友达光电股份有限公司 显示面板
KR20210109087A (ko) 2020-02-26 2021-09-06 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
CN113835272B (zh) * 2021-09-27 2022-11-25 Tcl华星光电技术有限公司 显示面板及显示装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007192886A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Victor Co Of Japan Ltd 液晶表示素子の製造方法
CN102237014A (zh) * 2010-04-26 2011-11-09 Lg电子株式会社 多显示器设备
CN104181734A (zh) * 2013-05-20 2014-12-03 Lg电子株式会社 显示面板和显示装置
CN107065334A (zh) * 2017-03-09 2017-08-18 友达光电股份有限公司 显示面板
CN107357102A (zh) * 2017-04-28 2017-11-17 友达光电股份有限公司 显示装置与其制作方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03110518A (ja) 1989-09-25 1991-05-10 Stanley Electric Co Ltd 液晶表示装置の製造方法
TWI424232B (zh) * 2008-07-24 2014-01-21 Chunghwa Picture Tubes Ltd 液晶顯示面板及其顯示基板結構以及框膠塗佈方法
CN101825787B (zh) 2009-03-04 2013-06-12 北京京东方光电科技有限公司 触摸显示屏及其制造方法
TWI396003B (zh) * 2009-07-30 2013-05-11 Au Optronics Corp 顯示面板及其邊框窄化、邊緣強度提昇方法
TWI540361B (zh) * 2011-07-05 2016-07-01 友達光電股份有限公司 顯示面板之母板的切割方法
CN102981337B (zh) 2012-12-07 2016-01-13 京东方科技集团股份有限公司 Tft-lcd显示面板及显示装置
TWI504978B (zh) * 2013-12-05 2015-10-21 Innolux Corp 液晶顯示面板及其製備方法
US9507222B2 (en) * 2014-03-14 2016-11-29 Innolux Corporation Display device
CN104914596B (zh) * 2014-03-14 2018-12-25 群创光电股份有限公司 显示装置
KR102403671B1 (ko) 2015-09-18 2022-05-27 엘지디스플레이 주식회사 디스플레이 장치
CN105223747B (zh) 2015-10-27 2019-04-05 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种显示面板

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007192886A (ja) * 2006-01-17 2007-08-02 Victor Co Of Japan Ltd 液晶表示素子の製造方法
CN102237014A (zh) * 2010-04-26 2011-11-09 Lg电子株式会社 多显示器设备
CN104181734A (zh) * 2013-05-20 2014-12-03 Lg电子株式会社 显示面板和显示装置
CN107065334A (zh) * 2017-03-09 2017-08-18 友达光电股份有限公司 显示面板
CN107357102A (zh) * 2017-04-28 2017-11-17 友达光电股份有限公司 显示装置与其制作方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109188746A (zh) * 2018-07-30 2019-01-11 友达光电股份有限公司 显示面板及其制造方法
WO2020062440A1 (zh) * 2018-09-30 2020-04-02 重庆惠科金渝光电科技有限公司 显示面板、显示装置及显示面板制造方法
US10809576B2 (en) 2018-09-30 2020-10-20 HKC Corporation Limited Display panel, display device, and method for manufacturing display panel
CN109696768A (zh) * 2019-01-04 2019-04-30 友达光电股份有限公司 显示装置及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20190204698A1 (en) 2019-07-04
CN108267882B (zh) 2020-10-30
TW201930970A (zh) 2019-08-01
US10481452B2 (en) 2019-11-19
TWI657289B (zh) 2019-04-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN108267882A (zh) 显示面板
US11075224B2 (en) Display device and method for manufacturing same
US10573694B2 (en) Backplane substrate and flexible display using the same
US9671636B2 (en) Liquid crystal display and method for manufacturing the same
US10685986B2 (en) Display device and method for manufacturing display device
TWI406420B (zh) 主動矩陣基板、顯示裝置及主動矩陣基板之製造方法
TW200403508A (en) Display device and repairing method for broken line of the device
CN104835420B (zh) 显示装置及其制造方法
CN104064567B (zh) 一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制造方法
US10276601B2 (en) Display device
WO2016058348A1 (zh) 短路单元和阵列基板
CN109313371A (zh) 显示装置及其制造方法
JP5241966B2 (ja) 半導体装置、ｔｆｔ基板、ならびに半導体装置およびｔｆｔ基板の製造方法
KR20160057915A (ko) 표시장치 및 그 제조방법
JP2017152178A (ja) 表示装置の製造方法、及び、表示装置
KR20150087617A (ko) 표시 기판용 박막 트랜지스터, 표시 기판 및 표시 기판의 제조 방법
KR20190066105A (ko) 표시 패널
US9704764B2 (en) Electronic devices including organic materials
US8743306B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
US9001284B2 (en) Liquid crystal display and manufacturing method thereof
US9627493B2 (en) Forming a conductive connection between a common electrode of an optical front plane and an electrical contact part of an opposite back plane
CN104536227B (zh) 阵列基板、显示装置及制作方法
JP3773834B2 (ja) 液晶表示装置
CN106547128A (zh) 显示装置
JP2006278985A (ja) 回路基板

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant