TW436918B - Apparatus and method for feeding slurry - Google Patents

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經濟部智慧財產局貝工消費合作社印製 五、發明說明（1 ) [發明所屬之技術領域] 本發明係關於爲實行基板之化學機械研磨（CMp)所使 用之漿液供给裝置及其供給方法。 [以往技術] 近年來’在半導體基板上形成電晶體等之製造工藝中， 已知有一種以層晶絕緣模之平坦化爲目的而實施化學機械 研磨（Chemical Mechanical Polish ; CMP)以將基板平押度 維時於高水準之技術3該C Μ P係使用將作爲磨粒 (abrasive grain)之熱解氧化矽（fumed siiica)或膠態氧化矽 (colloidal silica)分散於氨等驗性溶液中所成之锻液 (slurry)。 例如，第8圖係表示揭露於曰本特開平1〇_1 5822號公報 之研磨劑供給裝置（以下稱爲「漿液供給裝置」）F丨之結 構剖面圖。 如該圖所示，漿液供給裝置F I包括有：儲存著研磨衆液 之研磨劑1 0 9之儲槽1 0 1，用以自儲槽1 〇丨對研磨裝置供 給漿液之供給路1 0 2，介設於供给路1 〇 2之聚！ 〇 4，介設 於供給路1 0 2的泵1 0 4之下游侧之流量調整用之關1 〇 3， 設於供給路1 0 2之前端而用以對c Μ P裝置之研磨塾 (polishing pad) 滴下研磨劑1 0 9之供给嘴（nozzie)丨1()，以 及具有用以攪捭研磨劑1 〇 9之螺旋漿式攪拌機丨〇 6。此 外，亦設有自供給路1 0 2之閥1 0 3之上游侧分流出之循環 路1 0 5，俾由循環路1 0 5將研磨劑1 〇 9送回於儲槽1 〇 j以 使研磨劑循環3而且，儲槽1 〇 1内之研磨劑1 〇 9之溫度可 -4- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規袼（210 X 297公釐）

--- ------ ---* I I ------訂---— II--•線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -W Λ7 Β7 ^3697 3 ί 五、發明說明（2) 由加熱器1 0 7加以調節’而加熱器1 〇 7之溫度係由加熱器 溫度控制部1 0 8控制之。於研磨時，則調整閥1 〇 3之開 度，把由泵104從儲槽101所吸上來之硏磨劑109中之預 定量從供給嘴1丨0向硏磨墊供給，並且把剩餘研磨劑} 〇 9 經由循環路1 〇 5送回儲槽1 0 1 3相對地，於非研磨時，則 關住閥1 〇 3，使研磨劑1 0 9全部送回儲槽，而僅作研磨劑 1 〇 9之循環。 然而，使用膠態氧化矽時’初級粒子雖具有微細粒徑20 〜3 0 nm (微毫米），但各氧化矽之初級粒子會凝聚至某一 程度而形成粒徑爲1⑻〜200 ηπι之次級粒子。使用熱解氧 化硬時，其於製成時已具有1 〇〇〜200 nm之粒徑^此粒徑 爲1 00〜2〇0 nm之次級粒子就是實際參與研磨作用之粒 徑。 另一方面，研磨粒子之凝聚若過於受到加速作用，致磨 粒粗大化（corsening)至超過500 nm粒徑之程度時，將對被 研磨物造成微刮痕（micro scratch )。 於是，上述習知漿液供給裝置F丨，係採取令漿液狀之 研磨劑1 0 9經常循環，且以螺旋漿加以攪拌，藉此以抑制 研磨劑之沉澱及凝聚。 另外，第1 0圖係顯示以往之一般漿液供給裝置中設在 供研磨劑流通的配管系統之接頭結構剖面圖3如此，在隅 部或直線部利用各種形狀之接頭，藉此以實現複雜形狀之 配管，減少漿液供給裝置内之配管面積與整個裝置之簡潔 化。 本紙張尺度適用中國囡家標準（CNS)A4規格（210〆297公釐） ----- ------ 裝*!---—訂 -- ----- - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ， 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 43S91 8 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（3 ) [欲解決之問題] 而，苦磨粒之凝聚過於受到加速作用，使得磨粒粗大 化，直到成爲例如500 nm程度之粒徑時，不只是會在被研 磨物造成微刮痕，也會造成研磨率降低之問題3 ，第9圖係由本發明人等所作之實驗結果，用以比較固體 成份互異的漿液〗與漿液2間之研磨率差異之圖表。如該 圖所示’衆液1之固體成份濃度只不過是比漿液2僅小 1 /〇，但研磨率卻呈大幅降低3此種固體成份濃度之下 降，乃因磨粒粗大化而沉降於儲槽内等所引起，因而，終 於得知，y尤研磨率合理化之觀點而言，抑制磨粒粗大化亦 爲極其重要之課題。 然而，若由磨粒凝聚化之觀點來看，則仍有如下列問題 存在。 第一’雖以具有螺旋漿之攪拌機1 〇 6如第8圖所示在儲 槽1 〇 I内施予攪拌，但盡管如此，漿液中的磨粒粗太化並 未因而獲得令人滿意之改善。 第二，於漿液供給裝置F 1之配管系统中，使用許多接 2員，惟如第1 〇圖所示，兩配管在接頭内相連接之區域 R g ’則有多處配管彼此間之間隙或高低差之部位，而在 此部分將形成漿液之積存處，致磨粒可能因此而加速其粗 大化。 第三，因儲槽1 0 1内之液面變化，漿液之固化物將附著 於儲槽1 0 1之内壁，一旦附著之固化物若剝離而掉落於儲 槽1 0 1内，也會招致粗大化粒子增多。 ' 6 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝--------訂-----—•線 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS>A4規格（210 X 297公釐） 436918 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印數 五、發明說明（4) 因此’由於如上述之磨粒粗大化被加速，致造成被研磨 物上之微刮痕’或研磨率下降。不穩定等問題β 本發明之目的乃在於藉由改善儲槽内之漿液攪拌方法或 装液循環方法’或減少配管内部之高低差或有間隙之部 分’或抑制漿液固化物對於儲槽内壁的附著等而抑制磨粒 粗大化，以減少被研磨物之微刮痕，並達成研磨率之合理 化。 σ [解決問题之手段] 本發明之第一漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝 置供給研磨劑漿液之漿液供給裝置，包括有：容器，用以 儲存漿液；第一嘴（noZzle )，用以從上述容器吸引漿液： 第一嘴’用以向上述容器回送漿液；第三嘴，用以對上述 化學機械研磨裝置滴下漿液：第一配管，連接於上述第一 嘴及第三嘴，用以對化學機械研磨裝置供給漿液；第二配 管’連接於上述第二嘴及上述第一配管，用以將流通於上 述第一配管的漿液之至少一部分從第三嘴分路而回流於上 述第一嘴；調節閥，用以調節流通於上述第—配管的梁液 對於上述第三嘴與上述第二配管的供給量：泵，係介設於 上述第一及第二配管中至少任一方之配管，用以令漿液強 制流通，以及控制裝置’用以將上述聚控制成上述化學機 械研磨裝置在運轉中則令該泵經常運轉，相對地，上述化 學機械研磨裝置在停機中則令該泵作間歇性運轉。 依此方法，即可儘可能抑少研磨劑中磨粒因泵壓力互相 碰撞等原因所粗大化之磨粒量。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ---I ---- -- - - - I II I I II ^ *--I - ---- (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) ‘ 』 __~ - -

Q 五、發明說明（ 本發u之第—桌液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝 置供給研磨劑製液之漿液供給裝置，包括有：容器，用以 儲存漿液；第—嘴，用以從上述容器吸引漿液；第二嘴， 用以向上述容器回送装液：第三嘴，用以對上述化學機械 =磨裝置滴下槳液；第—配管，連接於上述第―嘴及第三 嘴’用以對化學機械研磨裝置供給衆U二配管，連接 於上述第一鳴及上述第—配管，用以對流通於上述第—配 &的漿液4至少一部分從第三嘴分路而回流於上述第二 4，凋節閥，用以調節流通於上述第一配管的槳液對於上 述第—4與上述第二配管的供给量；泵，係介設於上述第 及第配管中至少任一方之配管，用以令漿液強制流 通：且構成爲上述第一嘴係從距自上述容器之底面僅一定 値位於上方之部位吸入漿液。 藉此，即可抑制已粗大化而容易沉降於容器内底部之磨 粒爲第一嘴所吸入而被送往化學機械研磨裝置之現象。 於上述第二漿液供给裝置，上述第—嘴較佳爲以吸入位 於距自上述容器之底面5公分以上高度位置的漿液之方式 而予以構成° 於上述第二漿液供给裝置，上述第一嘴之前端面較佳爲 具有切成爲相對於軸向成傾斜之形狀’或上述第一嘴之责 端面被封死’而在側面設有用以吸引漿液之複數個開口 者。 於上述第二漿液供給裝置’較佳爲更具備用以調節上城 第一嘴之高度之機構者。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝----I---訂---------線 絰濟部智慧財產局貝工消費合作社印製 43 69 ϊ 8

發明說明（ ，明供给裳置，係用以對化學機械研磨 置供給研磨劑衆液之聚液供给裝置，包括有：容器，用以 儲存漿液；第一嘴，用以從上述容器吸引漿液：第二嘴， 用以向上述苳器回送漿液；第三嘴1以對上述化學機械 研磨裝置滴下漿液；第—配管，連接於上述第—嘴及第三 嘴’用：斜化學機械研磨裝置供給漿液；帛二配管，連接 於上述第二嘴及上述第-配管，用以對流通於上述第一配 管的漿液之至少一部分從第三嘴分路而回流於上述第二 用：調即μ ’用以調節流通於上述第—配管的漿液對於上 述第：尚與上述第二配管的供給量；泵，係介設於上述第 -及吊二配管中至少任_方之配管’用以令漿液強制流 通：且構成爲上述第二嘴係從距自上述容器之底面僅一定 値位於上方之部位向容器内喷出漿液。 藉此，即使在容器内不設置螺旋漿等攪拌機構，也可藉 由所貪出〈漿液來攪拌容器内之漿液。因&，可抑制起因 子螺旋聚等過大能量作用於磨粒所造成磨粒粗大化現象。 於上述第三聚液供給裝置，上述第二嘴較佳爲以從距自 上述容器之底面5公分以下之位置向容器内噴出漿液之方 式而予以構成。 於士述第三装液供給裝置’由於縮小上述第二嘴之前端 開口I’可提高裳液之噴出速度’因而可得更大之搜掉作 用。 一於上述第三漿液供給裝置，較佳爲更具備用以調節上述 第二嘴之高度位置之機構。 (諝先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝！丨丨ί I訂--I------ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 A7 B7 厶369'® 五、發明說明（7 於上述第三漿液供給裝置，上述第二嘴較佳爲將複數支 配置於容器内。 本發明之第四漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝 置供给硏磨劑，漿液之漿液供給裝置，包括有容器，用 以儲存漿液：第一嘴，用以從上述容器吸引漿液；第二 嘴’用以向上述容器回送我液；第三嘴，用以對上述化學 機械研磨裝置滴下漿液；第一配管，連接於上述第一嘴及 第二嗔，用以對化學機械研磨裝置供给漿液·，第二配管， 連接於上迷第二嘴及上述第一配管，用以將流通於上述第 一配管的漿液之至少一部分從第三嘴分路而回流於上述第 二嘴：調節閥，用以調節流通於上述第一配管的漿液對於 上述第三嘴與上述第二配管的供給量；泵：係介設於上述 第-及第二配管中至少任一方之配管，用以令漿液強制流 通：且於上述第一配管及上述第二配管之中間部分並無設 置接頭者。 藉此，於漿液流路中，可消除接頭内之高低差或間隙， 因此可抑制漿液滯留所引起粗大化磨粒之發生。 本發明之第五漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝 置供給研磨劑漿液之漿液供给裝置，包括有：容器，用以 儲存漿液：第一嘴，用以從上述容器吸引漿液：第二嘴， 用以向上述：§：器回送漿液；第三嘴，用以對上述化學機械 研磨裝置滴下漿液：第一配管，連接於上逑第_嘴及第三 嘴，用以對化學機械研磨裝置供給漿液；第二配管，連接 於上述第二嘴及上述第一配管，用以對流通於上逑第—配 •10- 本紙張尺度適用t國國家標準（CNSM4規格（210 :----"-----III ^ --------訂---------線 {靖先閲讀背面之>i意Ϋ項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局BK工消費合作社印製 297公釐） 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（8) 管的漿液之至少一部分從第三嘴分路而回流於上述第二 嘴：調節閥，用以調節流通於上述第一配管的漿液對於上 述第三嘴與上述第二配管的供給量；泵，係介設於上述第 一及第二配管中至少一任一方之配管，用以令漿液強制流 通’而於上述第一配管及上述第二配管之隅部之曲率半徑 爲5公分以上a 藉此’由於可消除隅部之漿液積留，因此可抑制粗大化 磨粒之發生。 本發明之第六漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝 置供给研磨劑漿液之漿液供給裝置，包括有：容器，用以 儲存漿液：第一嘴，用以從上述容器吸引漿液；第二嘴， 用以向上述容器回送漿液；第三嘴，用以對上述化學機械 研磨裝置滴下漿液：第一配管，連接於上述第一嘴及第三 嘴’用以對化學機械研磨裝置供給漿液；第二配管，連接 於上述第一嘴及上述第—配管，用以將流通於上述第一配 管的漿液之至少一部分從第三嘴分路而回流於上述第二 嘴：調節閥，用以調節流通於上述第一配管的漿液對於上 述第三嘴與上述第二配管的供给量；泵，係介設於上述第 一及第二配管中至少任一方之配管，用以令漿液強制流 通：以及濕氣供給裝置，係用以自外部供給濕氣氛之氣 藉此，可使得容器内呈濕的氣氛環境，因此，容器内液 面即使有所變化，也能確實的防止在内壁附著漿液固化物 之現象。 -11 - 本紙張尺度適用中國固家標準（CNS>A4規格（210 X 297公釐） 11 — — — — — — —— — —^:· 11 ί i I —tT_ — I---- — (靖先閲讀背面之沒意事項再填寫本頁) 436gjq A7 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 ---------』B7 _五、發明說明（9) 本發明疋第七漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝 置供給研磨劑衆液之t液供给裝置，包括有：容器，用以 儲存水液，第-嘴，$以從上述容器吸引聚液：第二嘴， 用以向上述各盔回送漿液：第三嘴，用以對上述化學機械 研磨裝置滴下漿液；第一配管，連接於上述第一嘴及第三 嘴，用以對化學機械研磨裝置供給漿液；第二配管，連接 於上述第二嘴及上述第—配管，用以將流通於上述第一配 管的漿欲之至少一部分從第三嘴分路而回流於上述第二 嘴；調節間，用以調節流通於上述第一配管的聚液對於上 述第一角與上述第一配管的供给量；泵，係介設於上述第 及第一配官中至少任一方之配管，用以令漿液強制流 通，以及取樣口，係附設於上述容器，用以從上述容器採 取漿液試樣。 藉此’可經常監控漿液之狀態，因此，可以穩定狀態下 實行化學機械研磨作業3 於上述第七漿液供給裝置，上述取樣口較佳爲安裝於上 述容器之上部、中間部、及底部3 本發明之第一漿液供給方法，係用以對化學機械研磨裝 置供给研磨劑漿液之漿液供給方法，係於上述化學機械研 磨裝置運轉中，經常實行從上述儲存漿液之容器取出漿 液’並將供給於上述化學機械研磨裝置所剩餘之漿液回送 至上述皋鉍之漿液循環，而於上述化學機械研磨装置停機 中’則間歇的實行從上述容器所取出之漿液全部回送至上 述容器之漿液循環之方法。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) illilt — ^illm--線 -12- 本紙張尺度適用中國圉家標準（CNS)A4規格（21〇 χ 297公釐） 436918 五、發明說明（ 果 依此方法’即可發揮與上述第1實施例相同之作用效 本發明之第二漿液供认女，土 变 . Ό万法，係用以對化學機械研磨裝 置供给研磨劑漿液之漿液供认 , 木從.々万法，係於從儲存上述漿 之谷器對上述化學機械研ώu 风吋S衣置供给漿液之際，則供給距 自上述容器之底面一定高度以 1以上<範圍之漿液之方法。 依此方法，即可發揮盥p _ '、上迷弟2實施例相同之作用效 果。 本發明之第三漿液供仏太，'土 /£ 、 法，係用以對化學機械研磨裝 置供給研磨劑漿液之漿液供蛑 〜π ^ ' '.Q万法，係在上述儲存漿液之 容器内’藉由配置於用以對卜u. a 、 野上述谷器回送漿液之配管的泵 之壓力，從距自上述容+成； 、. 〜辰面—足高度之位置噴出漿液 而攪拌容器内之漿液之方法。 依此方法，即可發探盥卜$ ^& «伴Η上迷罘3實施例相同之作用效 果3 線 [發明之實施形態] 第1圖係表示發明之實施形態之漿液供给裝置八及（：％1> 裝置之構成概略圖。 如第1圖所示，本發明之漿液供給裝置Α，係包括：内部 被岔閉之兩個漿液容器〗及2 ,自各容器丨及2延伸至C Μ ρ 裝置6 <配管系統3，用以產生含有濕氣之氮氣以供給各 漿液容器1及2之濕氮氣產生裝置4，用以將供自濕氮氣產 生裝置4之漏氮氣供給於各漿液容器丨及2之濕氮氣供給用 配官5 ’以及用以對濕氮氣產生裝置4分別供給氮氣、純 -13 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公爱） 43b'9 Α7 Β7 五、發明說明（11) 水之配管4 1及4 2。 另外’在各漿液容器1及2内配置用以自漿液容器1及2 及取漿液3 0而送出於配管系統3之吸嘴( suction nozzle) i3a及13C ，以及用以將漿液30邊喷出於漿液容器1及2邊 回送之噴嘴（spray nozzle) ΐ 3 b及1 3 d。而且，配管系統3 之各配管3a〜3d係各自從各嘴13a〜13d延伸。就是説， 送出側分歧配管3 a及3 b係連接於各吸嘴1 3 a及1 3 c，回送 侧分歧配管3 a及3 c係連接於各噴嘴1 3 b及1 3 d »然後，各 送出侧分歧管3 a及3 c就匯成爲一而成爲送出側合流配管 3 e，並設有從此合流配管3 e延伸至c Μ P裝置6之漿液供 給用配管3 X，以及用以回送從供給側合流配管3 e未流向 聚液供給管3 X之剩餘漿液之回送側合流配管3 f，而回送 側分歧配管3 b及3 d則自回送側合流配管3 f各自向各漿液 •^器1及2分流。 此外’漿液供給裝置A更包括具有控制漿液3 〇之溫度之 加熱益及冷卻器之溫度調卽器1 2，與配設於溫度調節器 1 2内之熱交換蛇管3 z。並且’從送出侧分歧配管3 a及3 c 則各自分歧出可向熱交換蛇管3 z流放漿液之入口側分歧 配管3 g及3 i，而各入口側分歧配管3 g及3 i經湛成爲一而 成爲入口側合流配管3 k後，連接於熱交換蛇管3 z之入 口。另一方面，從熱交換蛇管3 z之出口接出出口側合流 配管3 1後，分歧成出口側分歧配管3 h及3 j後，各自連接 於送回側分配管3 b及3 d。 另外’上述各配管各自介設有可調節流量之流量調節閥 -U- 本紙張尺度適用中S S家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐> (請先閲讀背面之注惠事項再填寫本頁) 裝-----— —訂--！！線 經濟部智慧財產局負工消t合作社印製 Α7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（12 7a〜7』及7\。 另外’在回送側分歧配管3 b及3 d，則介設送液泵9 a及 9b，俾由該送液泵9a及9b向各漿液容器1及2之底面側噴 出漿液3 0。 而且’設有可控制各送液泵9 a及9 b之運轉或流量之控制 系統1 0，俾C MP裝置於研磨中則使送液泵9 a及9 b經常運 轉’以令衆液經常循環，而C Μ P裝於停機中則使送液菜 9 a及9 b實行以一定時間間隔下交替作運轉。停止之間歇 運轉。譬如’於停機中則以每小時5分鐘程度之比率運轉 送液泵9a及9b，以令装液循環。 再者*各蒙液谷器1及2設有取樣口 8a〜8c、8cl〜8f，以 利採取漿液30之試樣，且在各取樣P8a〜8c、8d〜8f分別 設有閥15a〜15c、15d〜15f »亦即，予以構成為隨時可從 漿液容液1、2之頂部、中間部、下部之取樣口 8a〜8c、8d 〜8f採取漿液3 0俾供測試漿液3 〇中的磨粒之粒徑分布狀 態之用。 又係構成為可藉由嘴高度調整機構Ua〜丨lcl自由調整吸 嘴13a、13c及噴嘴13b、13d之高度位置。 另一方面’ CMP裝置6係具備研磨平台（turn table) 62、 用以旋轉驅動研磨平台62之下側旋轉軸61、貼裝於研磨 平台62之上面之聚氨酯製研磨墊（pad) 63、以及用以旋轉 驅動載片器（carrier) 65之上側旋轉軸6 4，而被研磨物之晶 圓（wafer) 66則裝在上述載片器6 5。另外，漿液係從連接 至漿液供給用配管3χ之前端嘴滴下於研磨整63。 -15- 本紙張疋度適用中國國家標準（CNS>A4規格（210 X 297公釐） ------------- '4 ------II 訂· —------I 1 f請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 五、發明說明（13 上面係就本實施形態之漿液供給裝置A之概略構成加以 說明，關於其中之特徵構成，則詳細說明於後。 一攪拌方法一 在本實施形態，如第1圖所示，漿液容器1及2内並不設 置使用螺旋漿之攪拌機，而係採用利用喷嘴1 3 b及1 3 d的 漿液30之喷出而攪拌漿液30之方法。這是依據下面實驗 結果而加以改善之處。 第2圖（a)及（b)，分別表示藉由螺旋漿之攪拌前與攪拌 後之磨粒之粒徑分布圖表。如第2圖（a)所示，以螺旋漿攪 拌前之磨粒粒徑係分布於〇.〇6〜0·3μπα(微米）範圍。與此 相對’如第2圖（b )所示，經由螺旋漿攪拌後之磨粒粒徑則 分布於0.06〜4 m範圍，具有500 nm (毫微米）以上粒徑之 磨粒增加》其原因乃在於磨粒與螺旋漿碰撞時，因提供維 持磨粒分散狀態之電氣性立體結構崩潰等，使得氧化矽之， 表面狀態發生變化’且因螺旋漿周邊產生局部性能量之影 響，致使磨粒彼此間碰撞，磨粒凝聚而沉降之緣故。 因此’如本實施形態之方式，利用泵9 a及9 b之循環壓力 使漿液3 0喷出藉此以攪拌漿液3 〇，即可加以抑制漿液凝 聚。尤於本實施形態中’因藉由嘴高度位置調整機構llb 及lid ’喷嘴13b及13d之高度位置可加以調整，可把噴 嘴13b及13d設置於能使漿液容器1、2内漿液3〇之擾拌作 用發揮最大限度之位置’藉以提高攪拌作用。 又，於第2圖中’在漿液容器1、2内只示出一個噴出喷 嘴1 3 b、1 3 d，但是，此喷嘴可因應必要設置多數個，藉 此可提高攪拌作用。 另外’如欲維持更南的授拌作用，則嘴嘴丨3 b、13 d之高 度位置以位於距自漿液容器1及2之底面為5公分以下為 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂---------線. 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 3 D 3 τ 8 * A7 ~ 1 - B7___ 五、發明說明（14) 宜。 一又由於如更加以縮子噴嘴丨3 b及丨3 d之前端部分即可提 南漿液j 〇喷出速度，因此攪拌作用也能提高。 —間歇運轉一 另方面如本實施形態之利用栗9a、9b之壓力之依毁 液30之噴出攪拌方式’也可能會產生某一程度之凝聚。 其原因乃在於無論於CMP裝置6之晶圓研磨中，或於非研 磨時（停機中），磨粒彼此將因泵％、91?之循環壓力之影響 而碰撞，致提供維持磨粒分散狀態之電氣性立體結構崩溃 而凝聚之現象，仍可能會發生之故。相對地，若完全不加 以攪拌，則漿液容器1、2内之漿液將沉降，使得固體成 份之濃度不勻，導致無法進行均勻的研磨β此現象雖係依 漿液種類而有所不同，但於經48〜72小時左右即會出現。 因此’停機中若不攪拌聚液，則須於每經過〜小時即 需更換漿液3 0，致使研磨作業將因之而遭遇障礙。 因此’於本實施形態，則以控制系統1 〇控制泵9a ' 9b作 間歇性運轉。亦即，以c Μ P裝置進行研磨中，則使聚 9a、9b作連續運轉，以經常實施利用漿液3 〇之循環與授 拌’但於非研磨狀態’即停機時，則令泵9a、9b作間歇運 轉，以間歇性地實施漿液3 0之循環與攪拌。具體而言， 停機時則令泵9a、9b每小時僅運轉5分鐘左右。 第3圖係表示停機狀態時也經常運轉菜9a、9b之情況， 與停機狀態時以間歇性地運轉泵9a、9b之情況下相對於使 用時間之經過之磨粒中値（median )直徑之變化資料。如第 -17- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 x 297公釐） ---------^--------訂---------線 . (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁> 436918

五、發明說明（15) 3圖所示，經常運轉時，中値直徑會立刻到達〇3jum& 右’相對地’間歇運轉時，中値直徑則維持於〇〗5 #爪左 右。 如上述’藉由停機中之漿液循環用泵9a、9b之間歇運 轉，便可有效效地抑制磨粒粗大化。此方法，若受到磨粒 粗大化影響之漿液3 〇之壽命係取決於漿液循環時間，則 也是基於僅作必要時間的循環之技術思想者。 下列第1表係表示’就以往之攪拌方法與本發明之攪拌 方法’由聚液容器之頂部、中間部及底部所採取漿液之3 〇 "1中粗大化粒子（直後爲以上者）之數目，與使用 各郅之漿液而實施C Μ P時之被研磨物（晶圓）上之微刮痕 I數目表。如第1表所示，以往之攪拌方法，其頂部之粗 大化足磨粒數目雖然少，但中間部及底部之粗大化之磨粒 數钟非常大，而呈不均勻分布狀態。惟依本發明之方法， 則不但漿液答器1、2之頂部、中間部、底部之粗大化磨 粒數目減少，且已獲得均勻化。 ----^----II ! 裝·ί!— — —訂---------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 以往之$ 營拌方法 本發明之攪拌方法 粗大粒子量 微刮痕數目 粗大粒子量 微刮痕數目 容器頂部 3590 23 44155 13 容器中部 115777 25 48368 25 容器底部 368141 348 47135 20 —嘴之高度一 第4圖係將上述第1表之資料予以圖表化者。如第4圖所 示’沉澱於底部之漿液，粗大化之磨粒數目特別多，使用 -18- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

此而實施C Μ P 多。 第5圖係表TJT本實施形雖士將，卜^ 小心疋戎说容器1與各嘴13a、l3b、 詳細結構剖面圖。惟，於第1圖 '•腺 ^ 吊1圃所不另一万之漿液容 及各嘴13c、13d也具有第5圖所示之结構3 在衣實施形態，由於不f姑士丨m 4貫他利用螺旋漿之攪拌，因此 幾乎不會在漿液容器1、2之底部發生粗大化磨粒之 澱。但有可能早於攪拌前就已混入凝聚的二氡化矽' 已有漿液3 0發生沉降3 ^ 於是’如第5圖所示’以不致於吸引到有粗大化磨和、.„ 降的可能性之漿液容器1、2之底部裝液之方式而予以： 成。例如’距自漿液容器1、 專 . 之·底面位於3公分以上泛古 度位置範圍，可能存在著幾半丁人 间 有戍子不含粗大化磨粒之漿 3 0 a，而於距自漿液容器1、？位 K收 -位於小於3公分之高度 範圍，則有可能含有較多的粗大 及置 _ „ 尺化厝粒心沉降漿液3 Ob存 在#。因此，構成爲不吸引距自激 、 曰戒及各洛4底面位於小於 5公分之高度位置範圍之裝液之社 、 本災心〜楫，，沈可確實的防止已 粗大化之磨粒被送往C Μ P裝置。 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 诚刮痕微目也大致與此成比例而増

HT (靖先閲讀背面之迮意事項再填寫本頁} 而且’藉由於第丨圖所示之嘴高度調整機構丨^’ 將吸引嘴1 3 a、Π c之高度位置構成爲可加以調整，則更可 顯著地發揮上述效果a —嘴之形狀一 如第5圖所示，吸嘴丨3 a具有前端係相對於軸向切成傾 斜之糖圓形之端面形狀，而噴臂1 3 b具有前端係相對於軸 -19 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）

五、發明說明（17

^ 3 &g I 向切成垂直之圓形之端面形狀。 第6圖（a)、（b)係分別表示本實施形態之吸嘴斑以 王<吸嘴之前端面形狀之差異所引起吸引區域之差異之 :▲如第6圖(b)所示，以往之前端係相對於軸向；向切 '垂直1吸嘴’其主要係從漿液容器之底部附近吸取漿 及，因此，容易積存於容器底部之已粗大化之磨粒亦遭吸 引而被送往C Μ P裝置，結果，招致被研磨物之微刮痕增 大或研磨率降低等3與此相對，如第6圖（a)所示’由= 本實施形態之吸嘴13a具有切成傾斜之前端面，所以可抑 制易於積留於漿液容器]之底部的已粗大化之磨粒被吸 入，進而抑制在被研磨物（晶圓66)上造成微刮痕或研磨 率降低等。 但是’將吸嘴13a、13c之前端封死，而在圓筒面設置複 數個開口，俾從該數個開口吸取漿液3 〇，也可發揮與本 實施形態相同之效果。 —配管連接結構一 本實施形態，於第1圖之配管系統3之配管連接部並不 予設置接頭，而係採用依熔接法之連接。合流配管與分歧 配管間之連接部，與容器與配管間之連接部也以熔接法連 接3此外，配管之隅部形狀係作成例如曲率半徑爲5公分 以上之曲線形狀’以消除锻液3 0之積留現象。 採用如上述之配管結構，即可由漿液3 〇之流通路中， 消除如以往之於直線部或曲線部所使用之接頭内高低差或 間隙之存在’以抑制起因於漿液3 〇之積留所粗大化磨粒 20- 本紙張尺度適用尹國困家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） <請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 訂---------線 經濟部智慧財產局員工消t合作社印製 4 3 6 9 1 8 A7 B7 五、發明說明（18) 之產生。 一漿液之溫度控制一 第7圖係表示晶圓研磨率之漿液溫度相依性之特性圖。 如弟7圖所示，隨著漿液溫度升高’研磨率則有降低之傾 向’但漿液溫度在20〜26。(：範圍，研磨率並不致有大幅變 化。因此’本實施形態，可藉由於第i圖所示之溫度調節 器1 2將漿液之一部分從循環路徑分流出並加以溫度調節， 即可使研磨率更加穩定》 一漿液容器之結構一 在本實施形態之漿液供給裝置，由於漿液容器1、2係密 閉，JL内部為濕氮氣所充滿’所以可抑制漿液在聚液容器 1、2内之内部固化。亦即，漿液容器1、2之内部係由蒸 發之ΝΗΘΗ或濕氮氣將漿液容器1、2内之濕度提高至 9 5 %以上’因此’即使漿液容器1、2内之液面有所變 化’也可確實地防止在漿液容器1、2之内壁產生漿液固化 物。 一取樣口之安裝一 又由於在漿液容器1、2分別設有取樣口 8a〜8c，8d〜8f 以便確認漿液3 0之結構並未發生變化，所以可作正確的判 斷出漿液之壽命已盡之時刻，或於發生異狀狀態時為排除 異常之措施，或以檢知進入異常狀態前之狀態來阻止異常 狀態之發生等，可以穩定狀態下實行CMP作業。 於半導體裝置之製造過程中，二氧化矽係廣泛地被作為 磨粒而使用，以上之說明係將此作為實施形態而加以說 -21 - 本紙張尺度適用+國國家標準（CNS)A.l規格（21〇χ 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁)

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五、發明說明（ 明，惟本發明並非限定於如上述之半導體裝置之製造領 域，研磨材料也並非局限於氧化矽。亦即，由半導體製造 半導體晶圓之際，或於製造半導體以外之晶圓，或半導體 裝置以外之裝置的製程中之CMP及CMP以外之研磨方式 中’利用於爲了防止使用漿液狀研磨劑時凝聚所引起磨粒 粗大化之用。至於氧化矽以外之研磨劑方面，也可適用於 例如使用氧化鈽、氧化鋁、氧化錳等之場合3 [發明之效果] 依照本發明之漿液供給裝置或漿液供給方法，由於查出 會促進研磨劑中磨粒凝聚之原因。並採取於對化學機械研 磨裝置供給研磨劑之際，將停機中之研磨劑循環以間歇方 式實施，或僅以噴射漿液來攪拌容器内之漿液等以排除這 些原因，籍此以抑制磨粒粗大化，即可抑制被研磨物上發 生微刮痕，達成研磨率穩定化。 [圖面之簡單説明] 第1圖係表示本發明之實施形態之漿液供给裝置及C M p 装置之構成概略圖。 弟2圖（a)及（b }係分別表示藉由螺旋漿之攪拌前與攪拌 後之磨粒之粒徑分布圖表。 第3圖係表示於停機狀態時實施泵之經常運轉之情形與 實施間歇運轉之情形之相對於使用時間之經過之磨粒中値 直徑之變化資料圖。 第4圖係表示由以往之漿液容器之頂部、中間部及底部 所採取漿液之粗大化粒子數目與微刮痕數目間之相關關係 -22- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） ί待先閲锖背面之注意事項再填寫本頁} 裝 ----訂---------線 經濟部智慧財產局貝工消费合作社印製 ^369 1 8 A7 ___B7_ 五、發明說明（2Q) 之圖表。 (請先閲讀背面之沒意事項再填寫本頁) 第5圖係用以説明本發明之實施形態之漿液容器與吸 嘴、噴嘴之形狀或位置關係之剖面圖。 第6圖（a)及（b )係分別表示本實施形態之吸嘴與以往之 吸嘴之前端面形狀之差異所引起吸引區域之差異之圖。 第7圖係表示晶圓之研磨率之漿液溫度相依性之特性 圖3 第8圖係表示以往之研磨劑供給裝置之結構例之剖面 圖。 第9圖係由本發明人等所作之實驗結果，係用以比較固 體成分濃度互異的二種類漿液之研磨率差異之圖表。 第1 0圖係表示以往之一般漿液供給裝置中設在供研磨 劑流通的配管系統之接頭之結構剖面圖。 [符號之説明] 1 漿液容器 2 漿液容器 3 配管系統 3 a、3 c 送出側分歧配管 3b、3d 回送侧分歧配管 經濟部智慧財產局負工消费合作社印製 3 e 送出側合流配管 3 f 回送侧合流配管 3 g、3 i 入口侧分歧配管 3h ' 3j 出口側分歧配管 3 k 入口側合流配管 -23- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 * 297公釐） A7 43^9^ 8 _B7 五、發明說明（21 ) 3 1 出口側合流配管 3 X 漿液供給用配管 3 z 熱交換蛇管 4 濕氮氣產生裝置 5 濕氮氣供給用配管 6 CMP裝置 n ί I ·1 一5、· ί tt- n ί ti ( 1 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -24 - 7a〜7j ' 7x 流量調節閥 8a〜8f 取樣口 9a〜9b 泵 10 控制系統 11a〜lid 高度調節機構 12 溫度調節 器 13a 、 13c 吸嘴 13b 、 13d 喷嘴 1 5a〜15f 閥 本紙張又度適用中國®家標準（CNS)/\i丨規格（210* 297公釐）

Claims (1)

1. ^3 691 g

   六、申請專利範圍 ™種衆液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝置供給研 磨劑之漿液，其特徵為包括： 容器 ，用 以儲存漿液； 第一 嘴， 用以從上述容器吸引漿液； 第二 嘴， 用以向上迷容器回送漿液； 第三 嘴， 用以對上述化學機械研磨裝置滴下漿液； 第一 配管 ，連接於上述第一嘴及第三嘴， 用以對化學 機械研磨裝 置供給漿液； 第二 配管 ，連接於上述第二嘴及上述第一 配管，用以 將流通於上逑第一配管的漿液之至少一部分從第三嘴分 路而回流於上述第二嘴； (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 調節閥，用以調節流通於上述第一配管的漿液對於上 述第三嘴與上述第二配管的供給量； 系·’係介設於上述第一及第二配管中至少任一方之配 管’用以令漿液強制流通；以及 控制裝置，用以將上述泵控制成上述化學機械研磨裝 置在運轉中則令該泵經常運轉，相對地，上述化學機械 研磨裝置在停機中則令該泵作間歇性運轉。 種榮:液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝置供給研 磨劑之漿液，其特徵為包括： 容器’用以儲存漿液； 第一嘴’用以從上述容器吸引漿液； 第二嘴，用以向上述容器回送漿液； 第三嘴，用以對上述化學機械研磨裝置滴下漿液； -25- 本紙張尺度適用尹國國家檔準（CNS)A.l規格（21U X 297公餐） -------I ^ --------- A8B8C8D8 43旳1 “ —__ 、申請專利範圍 弟一配管’連接於上迷第一嘴及第三嘴，用以對化學 機械研磨裝置供給漿液； 第一配管，連接於上述第二嘴及上述第一配管，用以 將况通於上述第一配管的漿液之至少一部分從第三嘴分 路而回流於上述第二嘴； 凋即閥，用以調節流通於上述第一配管的漿液對於上 述第三嘴與上述第二配管的供給量； X泵，係介設於上述第—及第二配管中至少任一方之配 管，用以令漿液強制流通；且構成爲 上述第一嘴係從自上述容器之底面僅以一定値位於上 方之部位吸入漿液3 如申請專利範圍第2項之漿液供給裝置，其中第一嘴係 乂吸入位於自上述容器之底面5公分以上高度位置的漿 液之方式而構成D 4.如申清專利範園第2項之漿液供给裝置，其中上述第— 嘴之前端面具有切成相對於軸向成傾斜之形狀。 5_如申請專利範圍第2項之漿液供給裝置，其中上述第— 嘴之前端面被封死，而在該第一嘴之側面設有用以吸引 漿液之複數個開口。 .如申叫專利範園第2至5項中任一項之漿液供給裝置， 其中更具備用以調節上述第一嘴之高度之機構a 7. —種漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝置供給妍 磨劑之漿液，其特徵爲包括： 容器，用以儲存漿液： -26- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規^·1〇 x 297 H -------------裝 il—l — i—tr.i-----線 (锖先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 3 691 8 ^ as B8 C8 _____— _ D8 六、申請專利範圍 第一嘴，用以從上述容器吸引漿液； 第一嘴’用以向上述容器回送漿液； 第二嘴，用以對上述化學機械研磨裝置滴下漿液； 第一配f，連接於上述第—嘴及第三嘴，用以對化學 機械研磨裝置供給漿液； 于 第二配管，連接於上述第二嘴及上述第一配管’用以 將流通於上述第一配管的漿液之至少一部分從第三嘴分 路而回流於上述第二嘴； 調節閥，用以調節流通於上迷第一配管的漿凌對於上 述第三嘴與上述第二配管的供给量； 泵，係介設於上述第一及第二配管中至少任—方之配 管’用以令漿液強制流通；且構成爲 上述第二嘴係從自上述容器之底面僅以一定値位於上 方之部位向容器内噴出漿液。 S.如申請專利範圍第7項之漿液供给裝置，其中上述第二 嘴係以自上述容器之底面5公分以下之位置向容器内噴 出槳液之方式而構成。 9. 如申凊專利範圍第7項之漿液供给裝置，其中上述第二 嘴之前端之開口徑係予以縮小者。 10. 如申請專利範圍第7至9項中任—項之漿液供給装置’ 其中更具備用以調節上述第二嘴之高度位置之機構3 U.如申請專利範圍第7至9項中任_項之漿液供給装置， 其中上述第二嘴係以複數支配置於容器内。 12. —種漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨装置供給研 I I i i I ί — ~ 裝-- -----訂----- - ----線 (請先M讀背面之注意事項再填寫本頁) •y -27 經濟部智慧財產局員工消费合作社印製 4 3691 8^-1 bI C8 D8 、申請專利範圍 磨劑之漿液，其特徵爲包括： 容器，用以儲存漿液； 第一嘴，用以從上述容器吸引漿液； 第二嘴，用以向上述容器回送漿液； 第三嘴，用以對上述化學機械研磨装置滴下漿液·， 第一配管，連接於上述第一嘴及第三嘴，用以對化學 機械研磨裝置供給漿液； 第二配管，連接於上述第二嘴及上述第一配管，用以 將流通於上述第一配管的漿液之至少一部分從第三嘴分 路而回流於上述第二嘴： 調節閥，用以調節流通於上述第一配管的漿液對於上 述第三嘴與上述第二配管的供給量； 泵，係介設於上述第一及第二配管中至少任一方之配 管，用以令漿液強制流通：且 於上述第一配管及上述第二配管之中間部分並無設置 接頭者。 13. —種漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝置供給研 磨劑之漿液，其特徵爲包括： 容器，用以儲存漿液： 第一嘴，用以從上述容器吸引漿液； 第二嘴，用以向上述容器回送漿液； 第三嘴，用以對上述化學機械研磨裝置滴下漿液； 第一配管，連接於上述第一嘴及第三嘴，用以對化學 機械研磨裝置供給漿液： -28 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） — 圓 — 画 1 — — — — I I — I I — — t ^1111---1 {請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) A8 B8 C8 D8 436918 六、申請專利範圍 第二配管，連接於上述第二嘴及上述第一配管，用以 , 將流通於上述第一配管的漿液之至少一部分從第三嘴分 路而回流於上述第二臂； 調節閥，用以調節流通於上述第一配管的漿液對於上 述第三嘴與上述第二配管的供給量； 泵，係介設於上述第一及第二配管中至少任一方之配 管，用以令漿液強制流通；而 於上述第一配管及上述第二配管之隅部之曲率半徑爲 5公分以上。 14. 一種漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨裝置供給研 磨劑之漿液，其特徵爲包括： 容器，用以儲存漿液； 第一嘴，用以從上述容器吸引漿液； 第二嘴，用以向上述容器回送漿液； 第三嘴，用以對上述化學機械研磨裝置滴下漿液； 第一配管，連接於上述第一嘴及第三嘴，用以對化學 機械研磨裝置供給漿液； 第二配管，連接於上述第二嘴及上述第一配管，用以 將流通於上述第.一配管的聚液之至少一邵分_從第三嘴分 路而回流於上述第二嘴； 調節閥，用以調節流通於上述第一配管的漿液對於上 述第三嘴與上述第二配管的供給量： 泵，係介設於上述第一及第二配管中至少任一方之配 管，用以令槳液強制流通；以及 -29 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） .^1 ^ n a^i I n n n f V i n n I i ^ 01 « n n —l·- n ϋ I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 Μ880808 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 六、申請專利範圍 濕氣供給裝置，係用以自外部供給濕氣氛之氣體。 15. —種漿液供給裝置，係用以對化學機械研磨装置供给研 磨劑之漿液，其特徵爲包括： 容器，用以儲存漿液： 第一嘴，用以從上述容器吸引漿液； 第二嘴，用以向上述容器回送漿液； 第三嘴，用以對上述化學機械研磨裝置滴下漿液； 第一配管，連接於上述第一嘴及第三嘴，用以對化學 機械研磨裝置供給漿液； 第二配管，連接於上述第二嘴及上述第一配管，用以 將流通於上述第一配管的漿液之至少一部分從第三嘴分 路而回流於上述第二嘴： 調節閥，用以調節流通於上述第一配管的漿液對於上 述第三嘴與上述第二配管的供給量； 泵，係介設於上述第一及第二配管中至少任一方之配 管，用以令漿液強制流通；以及 取樣口，係附設於上述容器，用以從上述容器採取漿 液試樣。 16. 如申請專利範圍第1 5項之漿液供給裝置，其中上述取 樣口係安裝於上述容器之上部、中間部、及底部3 17. —種漿液供給方法，係用以對化學機械研磨裝置供給研 磨劑漿液之供給方法，其特徵爲： 於上述化學機械研磨裝置運轉中，經常實行從上述儲 存漿液之容器取出漿液，並將供給於上述化學機械研磨 -30- 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） --------- - - - - -- · I 1 I — — — — 訂- — — — .— — — I- {請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 43 691 8 A A8 R8 C8 D8 六、申請專利範圍 裝置所剩餘之漿液回送至上述容器之漿液循環； 於上述化學機械研磨裝置停機中，則間歇的實行從上 述容器所取出之漿液全部回送至上述容器之漿液循環。 18. —種漿液供給方法，係用以對化學機械研磨裝置供給研 磨劑漿液之供給方法，其特徵爲： 於從儲存上述漿液之容器内對上述化學機械研磨裝置 供給漿液之際，則供給距自上述容器之底面一定高度以 上之範圍之漿液。 49. 一種漿液供給方法，係用以對化學機械研磨装置供給研 磨劑漿液之供給方法，其特徵爲：- 在上述儲存漿液之容器内，藉由配置於用以對上述容 器回送漿液之配管的泵之壓力，從距自上述容器之底面 一定高度之位置喷出漿液而攪拌容器内之漿液。-- ---------------裝.-------訂-----------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張瓦度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐）