KR970700232A - 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물 - Google Patents
광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물Info
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Abstract
본 발명은 이형성 및 투명성이 뛰어난 밀봉재료가 될 수 있는 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물에 관한 것으로서, 에폭시수지 및 경화제와 함께 하기 일반식(1) 및 일반식(2)로 나타내어지는 화합물 중 적어도 한쪽을 함유하는 에폭시수지 조성물이며, 이 에폭시수지 조성물은 수광소자 및 발광소자 등의 광반도체소자의 밀봉재료로서 유용하고, 이 에폭시수지 조성물을 이용함으로써 트랜스퍼 성형시등에 있어서 성형금형으로부터의 양호한 이형성이 실현되고, 또한 투명성이 뛰어난 밀봉수지가 얻어지는 것을 특징으로 한다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (10)
- 하기 (A)~(C) 성분을 함유하는 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물.(A) 에폭시 수지, (B) 경화제, (C)하기 일반식(1)로 나타내어지는 화합물 및 일반식(2)으로 나타내어지는 화합물중 적어도 한쪽.[CH3CH2-(CH2-CH2)x-CH2-CH2-0-(CH2-CH2-0)-nY1…(1)식(1)중, Y1: - - H, - - RCOOH, - - COR´ 또는 - - R´이다.(단, R은 2가의 유기기이며, R´은 탄소수 30이하의 알킬기이다.)x : 8~200의 양의 정수(단, x는 화합물(2)중 x부의 평균값)n : 반복부분(n)의 중량 비율이 화합물 전체의 25~95중량%가 되도록 설정되어 있다.[CH3CH2-(CH2-CH2)x-CH2-CH2-0-(CH2-CH2-0)-n-RCOO-]mY1…(2)식(2)중, R: 2가의 유기기이다.Y2: 1가 또는 2가 이상의 금속원자이다.m: Y2의 가수에 대응하는 양의 정수이다.x: 8~200의 양의 정수(단, x는 화합물(2)중의 x부의 평균값)n: 반복부분(n)의 중량 비율이 화합물 전체의 25~95중량%가 되도록 설정되어 있다.
- 제1항에 있어서, 식(1), 식(2)에 있어서, 반복수(x)가 13~28의 양의 정수이며, 동시에 반복 부분(n)의 중량비율이 화합물 전체의 35~85중량%인 것을 특징으로 하는 반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 식(1), 식(2)에 있어서, 반복수(x)가 17~23의 양의 정수이며, 동시에 반복부분(n)의 중량비율이 화합물 전체의 45~70중량%인 것을 특징으로 하는 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물.
- 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, (C)성분의 함유량이 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물 전체의 0.01~15중량%의 범위로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물.
- 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, (C)성분의 함유량이 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물 전체의 0.1~5중량%의 범위로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물.
- 제1항 내지 제3항중 어느 한 항에 있어서, (C)성분의 함유량이 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물 전체의 0.5~3중량%의 범위로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물.
- 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, (A)성분이 비스페놀A형 에폭시수지, 트리글리시딜이소시아누레이트, 노볼락형 에폭시수지 및 지환식 에폭시수지등으로 이루어진 군에서 선택된 적어도 한개의 에폭시수지이며, (B)성분이 테트라히드로 무수 프탈산 및 무수프탈산의 적어도 한쪽이며, (C)성분이 식(1) 및 식(2)로 나타내어지는 화합물의 적어도 한쪽인 동시에 상기 식(1) 및 식(2)에 있어서, 반복수(x)가 13~28의 양의 정수이며, 반복부분(n)의 중량비율이 화합물 전체의 35~85중량%이며, 또한, 상기 (A)~(C)성분과 함께 3급 아민류 및 이미다졸류의 적어도 한쪽으로 이루어진 경화 촉진제가 배합되어 있는 것을 특징으로 하는 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물.
- 제1항 내지 제6항중 어느 한 항에 있어서, (A)성분이 비스페놀A형 에폭시수지 및 트리글리시딜이소시아누레이트중 적어도 한쪽이며, (B)성분이 테트라히드로 무수 프탈산이며, (C)성분이 식(1) 및 식(2)으로 나타내어지는 화합물중 적어도 한쪽인 동시에 상기 식(1) 및 식(2)에 있어서, 반복수(x)가 17~23의 양의 정수이며, 반복부분(n)의 중량비율이 화합물 전체의 45~70중량%이며, 또한 상기(A)~(C)성분과 함께 경화촉진제로서 이미다졸류가 배합되어 있는 것을 특징으로 하는 광반도체소자 밀봉용 에폭시수지 조성물.
- 하기의 (A)~(C)성분을 함유하는 에폭시수지 조성물을 이용하여 광반도체소자를 밀봉하여 이루어진 것을 특징으로 하는 광반도체장치.(A) 에폭시 수지, (B) 경화제, (C)하기 일반식(1)로 나타내어지는 화합물 및 일반식(2)으로 나타내어지는 화합물중 적어도 한쪽.식(1)중, Y1: - - H, - - RCOOH, - - COR´ 또는 - - R´이다.(단, R은 2가의 유기기이며, R´은 탄소수 30이하의 알킬기이다.)x : 8~200의 양의 정수(단, x는 화합물(2)중 x부의 평균값)n : 반복부분(n)의 중량 비율이 화합물 전체의 25~95중량%가 되도록 설정되어 있다.[CH3CH2-(CH2-CH2)x-CH2-CH2-0-(CH2-CH2-0)-n-RCOO-]mY2…(2)식(2)중, R: 2가의 유기기이다.Y2: 1가 또는 2가 이상의 금속원자이다.m: Y2의 가수에 대응하는 양의 정수이다.x: 8~200의 양의 정수(단, x는 화합물(2)중의 x부의 평균값n: 반복부분(n)의 중량 비율이 화합물 전체의 25~95중량%가 되도록 설정되어 있다.
- 제9항에 있어서, (C)성분의 함유량이 에폭시수지 조성물 전체의 0.01~15중량%의 범위로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 광반도체장치.
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