KR910009822A - 반도체 시일링용 에폭시 수지 조성물 - Google Patents
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Abstract
내용 없음
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
Claims (14)
- 필수 성분으로 (A) 에폭시 수지, (B) 페놀수지를 하기 일반식[I] 및 [Ⅱ]로 나타낸 실리콘 화합물 일종이상과 반응시켜서 수득된 실리콘-변성 페놀수지 경화제 30∼100중량%(페놀수지 경화제 총량을 기준으로 함)를 함유하는 페놀수지 경화제, (C) 무기 충전재, 및 (D) 경화촉진제를 함유하는 반도체 시일링용 에폭시 수지 조성물;[식중, R1은또는 C2H5이고, R2는, C2H5또는 CH3이며, A는 -R-COOH, -R-COH2-또는 H이고, R은 저급알킬렌이며, 10N=+m+n+2200이고, 0m/N0.1이며, 및 5N/n50이다]
- 제1항에 있어서, 에폭시 수지(A)가 하기 일반식[Ⅲ]으로 나타낸 나프탈렌형 에폭시 화합물 및 하기 일반식[Ⅳ]로 나타낸 비페닐형 에폭시 화합물로 이루어진 군에서 선택된 일종 이상의 에폭시 화합물 30~100중량%(에폭시 수지 총량을 기준으로 함)을 함유하는 무기 충전제(C)의 양이 조성물 총량을 기준으로 70~90중량%인 에폭시 수지 조성물:[식중, R은 H 또는 CH3이다.]
- 제2항에 있어서, 에폭시수지(A)가 나프탈렌형 에폭시 화합물과 비페닐형 에폭시 화합물을 10/90~90/10중량비로 함유하는 에폭시 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 에폭시 수지(A)가 하기 일반식[Ⅳ]로 나타낸 비페닐형 에폭시 수지와 하기 일반식[Ⅴ]로 나타낸 삼작용성 에폭시 수지와의 혼합물 50~ 100중량%(에폭시 수지 총량을 기준으로 함)를 함유하는 에폭시 수지 조성물.[식중, R은 H 또는 CH3이다.][식중, R1~R11은 각각 수소, 할로겐 및 알킬기에서 선택된 원자 또는 원자성기이다.]
- 제4항에 있어서, 에폭시수지(A)가 비페닐형 에폭시 화합물과 삼작용성 에폭시 화합물을 10/90~90/10중량비로 함유하는 에폭시 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 실리콘 화합물을 나타내는 일반식[I] 및 [Ⅱ]중, A가 -C3H6 또는 -C2H4 인 에폭시 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 페놀수지 경화제가 실리콘-변성 페놀수지 경화제를 페놀수지 경화제 총량을 기준으로 50~100중량%의 양으로 함유하는 에폭시 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 에폭시수지(A)가 150~250의 에폭시당량 및 60~130℃의 연화점을 가지며 비스페놀 A형 에폭시 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 페놀 보볼락형 에폭시 수지, 크레솔 노볼락형 에폭시 수지, 지환족 에폭시 수지및 이들을 변성시켜 수득된 수지로 이루어진 군에서 선택되는 에폭시 수지 조성물.
- 제4항에 있어서, 삼작용성 에폭시 수지를 나타내는 일반식[V]중 R1,R2,R4~R7, R10및 R11이 각각 수소 원자이고, R3,R8및 R9가 각각 메틸기인 에폭시 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 페놀수지가 80~150의 히드록실기 당량 및 60~120℃의 연화점을 가지며 페놀 노볼락 수지, 크레솔 노볼락 수지 및 이들을 변성시켜 수득된 수지로 이루어진 군에서 선택되는 에폭시 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 실리콘-변성 페놀 수지 경화제가 페놀 수지 100중량부와 일종 이상의 실리콘 화합물 10∼50중량부를 반응시킴으로써 수득되는 에폭시 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 에폭시수지(A) 및 페놀수지 경화제(B)가 에폭시기/페놀 히드록실기 비 70/100~100/70로 혼합되는 에폭시 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 무기 충전재(C)가 결정질 실리카, 용융 실리카, 알루미나, 탄산칼슘, 활석, 운모, 및 유리 섬유로 이루어진 군에서 선택되는 에폭시 수지 조성물.
- 제1항에 있어서, 경화 촉진제(D)가 3차 아민, 이미다졸, 1,8-디아자비시클로 [5,4,0]운데센-7 및 유기인 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 에폭시 수지 조성물.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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