KR20130108276A

KR20130108276A - 박형 편광막, 박형 편광막을 갖는 광학 적층체 및 박형 편광막의 제조 방법

Info

Publication number: KR20130108276A
Application number: KR1020137005422A
Authority: KR
Inventors: 아키노리 이자키; 다케하루 기타가와; 슈사쿠 고토; 다카시 가미조; 도모히로 모리; 미노루 미야타케
Original assignee: 닛토덴코 가부시키가이샤
Priority date: 2010-09-03
Filing date: 2011-09-02
Publication date: 2013-10-02
Also published as: TW201219858A; CN103080790A; US9453953B2; US9227222B2; JP2015057669A; TWI525350B; KR20180043402A; CN103080790B; US20130128357A1; JP6321104B2; KR101944230B1; WO2012029937A1; JP5667016B2; EP2613183A1; JP2016224469A; US20160047960A1; JP2013011837A; KR20180004294A; EP2613183A4

Abstract

환경 부하가 작고, 또한 우수한 광학 특성을 갖는 박형 편광막을 제공한다. 본 발명의 박형 편광막은, 열가소성 수지 기재 (11) 상에 폴리비닐알코올계 수지층 (12) 을 형성하여 제조되고, 두께가 10 ㎛ 이하이고, 단체 투과율이 42.0 ％ 이상이며, 편광도가 99.95 ％ 이상이고, 또한 이온 크로마토그래피법에 의해 측정되는 요오드 함유량이 17.6 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이하이다.

Description

박형 편광막, 박형 편광막을 갖는 광학 적층체 및 박형 편광막의 제조 방법{THIN POLARIZING FILM, OPTICAL LAMINATE WITH THIN POLARIZING FILM, AND PRODUCTION METHOD FOR THIN POLARIZING FILM}

본 발명은 박형 편광막, 박형 편광막을 갖는 광학 적층체 및 박형 편광막의 제조 방법에 관한 것이다.

대표적인 화상 표시 장치인 액정 표시 장치는, 그 화상 형성 방식에서 기인하여, 액정 셀의 양측에 편광막을 갖는 광학 적층체가 배치되어 있다. 광학 적층체는, 대표적으로는 폴리비닐알코올 (PVA) 계 필름에 이색성 물질을 흡착시켜 1 축 연신한 편광막과, 당해 편광막의 양측에 배치된 보호 필름을 갖는다. PVA 계 필름을 1 축 연신한 편광막의 두께는 대표적으로는 수 십 ㎛ 이다.

그런데, 최근의 세계적인 환경 의식의 고양에 수반하여, 모든 분야에서 환경 부하가 작은 공업 제품이 요망되고 있다. 예를 들어, 유럽 연합에서는 인체의 건강 및 환경 보호를 위해서, 공업 제품에 함유되는 화학 물질의 인체 및 지구 환경에 대한 영향을 조사·신청·등록 (REACH) 할 것이 의무화되게 되어, 편광막에 함유되는 붕산이 그 대상 후보 물질로 되어 있다. 또한, 붕산은 난연 기능을 갖기 때문에, 편광막 중의 붕산 함유량이 많으면, 산업 폐기물로 된 편광막을 갖는 광학 적층체의 소각 처리시에 소각 효율이 낮아져 결과적으로 환경 부하가 크다. 소각시에 발생되는 열에너지를 회수하는 서멀 리사이클에 있어서도, 편광막 중의 붕산 함유량이 많으면 리사이클 효율이 낮아진다. 또, 편광막에 흡착되는 이색성 물질로서 많은 경우 요오드가 사용되고 있으나, 편광막 중의 요오드 함유량이 많으면, 소각 처리 시에 연보라색의 가스가 소각로의 굴뚝에서 배출되기 때문에 주변에 사는 주민을 불안하게 한다.

상기와 같은 문제를 해결하는 수단으로서, 편광막의 두께를 얇게 하면, 편광막 중의 붕산 함유량 및 요오드 함유량은 필연적으로 낮아진다. 얇은 편광막을 안정적으로 제조하는 방법으로서, 열가소성 수지 기재와 PVA 계 수지층의 적층체를 공중 연신하고, 다음으로 염색액에 침지시켜 박형 편광막을 얻는 방법이 제안되어 있다 (특허문헌 1 ∼ 3 참조). 그러나, 이와 같은 방법에서는, 얻어지는 박형 편광막의 광학 특성 (예를 들어, 편광도 및 단체 투과율) 이 불충분하다는 문제가 있다.

일본 공개특허공보 2001-343521호 일본 특허공보 제4279944호 일본 공개특허공보 소51-069644호

본 발명은 상기 종래의 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로서, 그 주된 목적은 환경 부하가 작고, 또한 우수한 광학 특성을 갖는 박형 편광막을 제공하는 것에 있다.

본 발명의 박형 편광막은, 열가소성 수지 기재 상에 PVA 계 수지층을 형성하여 제조되고, 두께가 10 ㎛ 이하이고, 단체 투과율이 42.0 ％ 이상이며, 편광도가 99.95 ％ 이상이고, 또한 이온 크로마토그래피법에 의해 측정되는 요오드 함유량이 17.6 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이하이다.

바람직한 실시형태에 있어서는, 붕산 함유량이 1.5 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이하이다.

본 발명의 다른 국면에 의하면, 상기 박형 편광막의 제조 방법이 제공된다. 이 박형 편광막의 제조 방법은, 열가소성 수지 기재 상에 PVA 계 수지층을 형성하여 적층체를 제작하는 공정과, 그 PVA 계 수지층을 요오드로 염색하는 공정과, 그 적층체를 붕산 수용액 중에서 수중 연신하는 공정을 포함한다.

바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 적층체의 최대 연신 배율이 5.0 배 이상이다.

바람직한 실시형태에 있어서는, 상기 염색 공정 및 상기 붕산 수중 연신 전에, 상기 적층체를 95 ℃ 이상에서 공중 연신하는 공정을 포함한다.

본 발명에 의하면, 붕산 수용액을 사용한 수중 연신 (붕산 수중 연신) 을 실시함으로써, PVA 계 수지층이 형성된 적층체를 고배율로, 또한 양호하게 연신할 수 있다. 그 결과, 광학 특성이 매우 우수한 박형 편광막을 제작할 수 있다. 또, 얻어지는 박형 편광막은 요오드 및 붕산 함유량이 매우 낮아 환경 부하를 양호하게 억제할 수 있다.

도 1 은 본 발명의 바람직한 실시형태에 의한 적층체의 개략 단면도이다.
도 2 는 본 발명의 박형 편광막의 제조 방법의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 3 은 본 발명의 바람직한 실시형태에 의한 광학 필름 적층체의 개략 단면도이다.
도 4 는 본 발명의 다른 바람직한 실시형태에 의한 광학 기능 필름 적층체의 개략 단면도이다.

이하, 본 발명의 바람직한 실시형태에 대해 설명하지만, 본 발명은 이들 실시형태에는 한정되지 않는다.

A. 제조 방법

본 발명의 박형 편광막의 제조 방법은, 열가소성 수지 기재 상에 PVA 계 수지층을 형성하여 적층체를 제작하는 공정 (공정 A) 과, PVA 계 수지층을 요오드로 염색하는 공정 (공정 B) 과, 적층체를 붕산 수용액 중에서 수중 연신하는 공정 (공정 C) 을 포함한다. 이하, 각각의 공정에 대해 설명한다.

A-1. 공정 A

도 1 은, 본 발명의 바람직한 실시형태에 의한 적층체의 개략 단면도이다. 적층체 (10) 는, 열가소성 수지 기재 (11) 와 PVA 계 수지층 (12) 을 갖고, 열가소성 수지 기재 (11) 상에 PVA 계 수지층 (12) 을 형성함으로써 제작된다. PVA 계 수지층 (12) 의 형성 방법은 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 바람직하게는, 열가소성 수지 기재 (11) 상에, PVA 계 수지를 함유하는 도포액을 도포하고, 건조시킴으로써 PVA 계 수지층 (12) 을 형성한다.

상기 열가소성 수지 기재의 구성 재료는, 임의의 적절한 재료를 채용할 수 있다. 일 실시형태에 있어서는, 열가소성 수지 기재의 구성 재료로는, 비정질의 (결정화되어 있지 않은) 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지가 바람직하게 사용된다. 그 중에서도, 비정성의 (잘 결정화되지 않는) 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지가 특히 바람직하게 사용된다. 비정성의 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지의 구체예로는, 디카르복실산으로서 이소프탈산을 추가로 함유하는 공중합체나, 글리콜로서 시클로헥산디메탄올을 추가로 함유하는 공중합체를 들 수 있다.

상기 열가소성 수지 기재는, 후술하는 공정 C 에 있어서 물을 흡수하고, 물이 가소제적인 기능을 하여 가소화할 수 있다. 그 결과, 연신 응력을 대폭 저하시킬 수 있어 고배율로 연신할 수 있게 되고, 공중 연신시보다 열가소성 수지 기재의 연신성을 우수하게 얻을 수 있다. 그 결과, 우수한 광학 특성 (예를 들어, 편광도) 을 갖는 박형 편광막을 제작할 수 있다. 열가소성 수지 기재는, 바람직하게는 그 흡수율이 0.2 ％ 이상, 더욱 바람직하게는 0.3 ％ 이상이다. 한편, 열가소성 수지 기재의 흡수율은, 바람직하게는 3.0 ％ 이하, 더욱 바람직하게는 1.0 ％ 이하이다. 이와 같은 열가소성 수지 기재를 사용함으로써, 제조시에 열가소성 수지 기재의 치수 안정성이 현저하게 저하되어, 얻어지는 박형 편광막의 외관이 악화되는 등의 문제를 방지할 수 있다. 또, 수중 연신시에 기재가 파단되거나, 열가소성 수지 기재로부터 PVA 계 수지층이 박리되거나 하는 것을 방지할 수 있다. 또한, 흡수율은 JIS K 7209 에 준하여 구할 수 있는 값이다.

열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 는, 바람직하게는 170 ℃ 이하이다. 이와 같은 열가소성 수지 기재를 사용함으로써, PVA 계 수지층의 결정화를 억제하면서, 적층체의 연신성을 충분히 확보할 수 있다. 또한, 물에 의한 열가소성 수지 기재의 가소화와, 수중 연신을 양호하게 실시하는 것을 고려하면, 120 ℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 일 실시형태에 있어서는, 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도는 바람직하게는 60 ℃ 이상이다. 이와 같은 열가소성 수지 기재를 사용함으로써, 상기 PVA 계 수지를 함유하는 도포액을 도포·건조시킬 때, 열가소성 수지 기재가 변형 (예를 들어, 요철이나 늘어짐, 주름 등의 발생) 되는 등의 문제를 방지하여 양호하게 적층체를 제작할 수 있다. 또, PVA 계 수지층의 연신을, 바람직한 온도 (예를 들어, 60 ℃ 정도) 에서 양호하게 실시할 수 있다. 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도는, 예를 들어 구성 재료에 변성기를 도입하는, 결정화 재료를 이용하여 가열함으로써 조정할 수 있다. 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 는 JIS K 7121 에 준하여 구해지는 값이다.

다른 실시형태에서는, PVA 계 수지를 함유하는 도포액을 도포·건조시킬 때, 열가소성 수지 기재가 변형되지 않는다면, 60 ℃ 보다 낮은 유리 전이 온도여도 된다. 이 경우, 열가소성 수지 기재의 구성 재료로는, 예를 들어 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐 등의 올레핀계 수지를 들 수 있다.

열가소성 수지 기재의 연신 전의 두께는, 바람직하게는 20 ㎛ ∼ 300 ㎛, 보다 바람직하게는 50 ㎛ ∼ 200 ㎛ 이다. 20 ㎛ 미만이면, PVA 계 수지층의 형성이 곤란해질 우려가 있다. 300 ㎛ 를 초과하면, 예를 들어 공정 B 에 있어서, 열가소성 수지 기재가 물을 흡수하는 데 장시간을 필요로 함과 함께, 연신에 과대한 부하를 필요로 할 우려가 있다.

상기 PVA 계 수지는 임의의 적절한 수지를 채용할 수 있다. 예를 들어, 폴리비닐알코올, 에틸렌-비닐알코올 공중합체를 들 수 있다. 폴리비닐알코올은 폴리아세트산비닐을 비누화함으로써 얻어진다. 에틸렌-비닐알코올 공중합체는 에틸렌-아세트산비닐 공중합체를 비누화함으로써 얻어진다. PVA 계 수지의 비누화도는 통상 85 몰％ ∼ 100 몰％ 이고, 바람직하게는 95.0 몰％ ∼ 99.95 몰％, 더욱 바람직하게는 99.0 몰％ ∼ 99.93 몰％ 이다. 비누화도는 JIS K 6726-1994 에 준하여 구할 수 있다. 이와 같은 비누화도의 PVA 계 수지를 사용함으로써, 내구성이 우수한 박형 편광막을 얻을 수 있다. 비누화도가 지나치게 높은 경우에는 겔화되어 버릴 우려가 있다.

PVA 계 수지의 평균 중합도는 목적에 따라 적절히 선택할 수 있다. 평균 중합도는 통상 1000 ∼ 10000 이고, 바람직하게는 1200 ∼ 4500, 더욱 바람직하게는 1500 ∼ 4300 이다. 또한, 평균 중합도는 JIS K 6726-1994 에 준하여 구할 수 있다.

상기 도포액은, 대표적으로는 상기 PVA 계 수지를 용매에 용해시킨 용액이다. 용매로는, 예를 들어 물, 디메틸술폭시드, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드N-메틸피롤리돈, 각종 글리콜류, 트리메틸올프로판 등의 다가 알코올류, 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민 등의 아민류를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도 바람직하게는 물이다. 용액의 PVA 계 수지 농도는 용매 100 중량부에 대해 바람직하게는 3 중량부 ∼ 20 중량부이다. 이와 같은 수지 농도이면, 열가소성 수지 기재에 밀착된 균일한 도포막을 형성할 수 있다.

도포액에 첨가제를 배합해도 된다. 첨가제로는, 예를 들어 가소제, 계면활성제 등을 들 수 있다. 가소제로는, 예를 들어 에틸렌글리콜이나 글리세린 등의 다가 알코올을 들 수 있다. 계면활성제로는, 예를 들어 비이온 계면활성제를 들 수 있다. 이것들은 얻어지는 PVA 계 수지층의 균일성이나 염색성, 연신성을 더욱 더 향상시킬 목적에서 사용될 수 있다.

도포액의 도포 방법으로는 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 예를 들어, 롤 코트법, 스핀 코트법, 와이어 바 코트법, 딥 코트법, 다이 코트법, 커튼 코트법, 스프레이 코트법, 나이프 코트법 (콤마 코트법 등) 등을 들 수 있다.

상기 도포액의 도포·건조 온도는 바람직하게는 50 ℃ 이상이다.

PVA 계 수지층의 연신 전의 두께는 바람직하게는 20 ㎛ 이하이다. 한편, 연신 전의 두께는 바람직하게는 2 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 4 ㎛ 이상이다. 두께가 지나치게 얇으면 얻어지는 박형 편광막의 광학 특성이 저하될 우려가 있다.

PVA 계 수지층을 형성하기 전에, 열가소성 수지 기재에 표면 처리 (예를 들어, 코로나 처리 등) 를 실시해도 되고, 열가소성 수지 기재 상에 접착 용이층을 형성해도 된다. 이와 같은 처리를 실시함으로써, 열가소성 수지 기재와 PVA 계 수지층의 밀착성을 향상시킬 수 있다.

A-2. 공정 B

상기 공정 B 에서는 PVA 계 수지층을 요오드로 염색한다. 구체적으로는, PVA 계 수지층에 요오드를 흡착시킴으로써 실시한다. 당해 흡착 방법으로는, 예를 들어 요오드를 함유하는 염색액에 PVA 계 수지층 (적층체) 을 침지시키는 방법, PVA 계 수지층에 당해 염색액을 도공하는 방법, 당해 염색액을 PVA 계 수지층에 분무하는 방법 등을 들 수 있다. 바람직하게는 염색액에 적층체를 침지시키는 방법이다. 요오드를 양호하게 흡착할 수 있기 때문이다.

상기 염색액은 바람직하게는 요오드 수용액이다. 요오드의 배합량은 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 0.1 중량부 ∼ 0.5 중량부이다. 요오드의 물에 대한 용해도를 높이기 위해, 요오드 수용액에 요오드화물을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물로는, 예를 들어 요오드화칼륨, 요오드화리튬, 요오드화나트륨, 요오드화아연, 요오드화알루미늄, 요오드화납, 요오드화구리, 요오드화바륨, 요오드화칼슘, 요오드화주석, 요오드화티탄 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 바람직하게는 요오드화칼륨이다. 요오드화물의 배합량은, 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 0.02 중량부 ∼ 20 중량부, 보다 바람직하게는 0.1 중량부 ∼ 10 중량부이다. 염색액의 염색시의 액온은, PVA 계 수지의 용해를 억제하기 위해 바람직하게는 20 ℃ ∼ 50 ℃ 이다. 염색액에 PVA 계 수지층을 침지시키는 경우, 침지 시간은 PVA 계 수지층의 투과율을 확보하기 위해 바람직하게는 5 초 ∼ 5 분이다. 또, 염색 조건 (농도, 액온, 침지 시간) 은, 최종적으로 얻어지는 편광막의 편광도 혹은 단체 투과율이 소정 범위가 되도록 설정할 수 있다. 일 실시형태에 있어서는, 얻어지는 편광막의 편광도가 99.98 ％ 이상이 되도록 침지 시간을 설정한다. 다른 실시형태에 있어서는, 얻어지는 편광막의 단체 투과율이 40 ％ ∼ 44 ％ 가 되도록 침지 시간을 설정한다.

바람직하게는 공정 B 는 후술하는 공정 C 이전에 실시한다.

A-3. 공정 C

상기 공정 C 에서는, 상기 적층체를 수중 연신 (붕산 수중 연신) 한다. 수중 연신에 의하면, 상기 열가소성 수지 기재나 PVA 계 수지층의 유리 전이 온도 (대표적으로는, 80 ℃ 정도) 보다 낮은 온도에서 연신할 수 있고, PVA 계 수지층을, 그 결정화를 억제하면서 고배율로 연신할 수 있다. 그 결과, 우수한 광학 특성 (예를 들어, 편광도) 을 갖는 박형 편광막을 제작할 수 있다.

적층체의 연신 방법은 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 고정단 연신이어도 되고, 자유단 연신 (예를 들어, 주속 (周速) 이 상이한 롤간에 적층체를 통과시켜 1 축 연신하는 방법) 이어도 된다. 적층체의 연신은 일 단계로 실시해도 되고 다단계로 실시해도 된다. 다단계로 실시하는 경우, 후술하는 연신 배율은 각 단계의 연신 배율의 곱이다.

수중 연신은, 바람직하게는 붕산 수용액 중에 적층체를 침지시켜 실시한다 (붕산 수중 연신). 연신욕으로서 붕산 수용액을 사용함으로써, PVA 계 수지층에, 연신시에 가해지는 장력에 견디는 강성 (剛性) 과, 물에 용해되지 않는 내수성을 부여할 수 있다. 구체적으로는, 붕산은 수용액 중에서 테트라하이드록시붕산 아니온을 생성하여 PVA 계 수지와 수소 결합에 의해 가교할 수 있다. 그 결과, PVA 계 수지층에 강성과 내수성을 부여하여 양호하게 연신할 수 있어, 우수한 광학 특성 (예를 들어, 편광도) 을 갖는 박형 편광막을 제작할 수 있다.

상기 붕산 수용액은, 바람직하게는 용매인 물에 붕산 및/또는 붕산염을 용해시킴으로써 얻어진다. 붕산 농도는 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 1 중량부 ∼ 10 중량부이다. 붕산 농도를 1 중량부 이상으로 함으로써, PVA 계 수지층의 용해를 효과적으로 억제할 수 있어, 보다 고특성의 박형 편광막을 제작할 수 있다. 또한, 붕산 또는 붕산염 이외에, 붕사 등의 붕소 화합물, 글리옥살, 글루타르알데히드 등을 용매에 용해시켜 얻어진 수용액도 사용할 수 있다.

상기 염색 공정 (공정 B) 에 의해, 미리 PVA 계 수지층에 요오드가 흡착되어 있는 경우, 바람직하게는 상기 연신욕 (붕산 수용액) 에 요오드화물을 배합한다. 요오드화물을 배합함으로써, PVA 계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 구체예는 상기 서술한 바와 같다. 요오드화물의 농도는, 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 0.05 중량부 ∼ 15 중량부, 보다 바람직하게는 0.5 중량부 ∼ 8 중량부이다.

공정 C 에 있어서의 연신 온도 (연신욕의 액온) 는, 바람직하게는 40 ℃ ∼ 85 ℃, 보다 바람직하게는 50 ℃ ∼ 85 ℃ 이다. 이와 같은 온도이면, PVA 계 수지층의 용해를 억제하면서 고배율로 연신할 수 있다. 상기 서술한 바와 같이, 일 실시형태에 있어서는, 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg) 는, PVA 계 수지층의 형성과의 관계에서 바람직하게는 60 ℃ 이상이다. 이 경우, 연신 온도가 40 ℃ 를 밑돌면, 물에 의한 열가소성 수지 기재의 가소화를 고려해도 양호하게 연신할 수 없을 우려가 있다. 한편, 연신욕의 온도가 고온이 될수록, PVA 계 수지층의 용해성이 높아져 우수한 광학 특성이 얻어지지 않을 우려가 있다. 적층체의 연신욕에 대한 침지 시간은 바람직하게는 15 초 ∼ 5 분이다.

수중 연신 (붕산 수중 연신) 을 채용함으로써 고배율로 연신할 수 있어, 우수한 광학 특성 (예를 들어, 편광도) 을 갖는 박형 편광막을 제작할 수 있다. 구체적으로는, 최대 연신 배율은 적층체의 원길이에 대해 바람직하게는 5.0 배 이상이다. 본 명세서에 있어서「최대 연신 배율」이란, 적층체가 파단되기 직전의 연신 배율을 말하고, 별도로 적층체가 파단되는 연신 배율을 확인하여 그 값보다 0.2 낮은 값을 말한다.

A-4. 그 밖의 공정

본 발명의 박형 편광막의 제조 방법은, 상기 공정 A, 공정 B 및 공정 C 이외에 그 밖의 공정을 포함할 수 있다. 그 밖의 공정으로는, 예를 들어 불용화 공정, 가교 공정, 상기 공정 C 와는 별도의 연신 공정, 세정 공정, 건조 (수분율의 조절) 공정 등을 들 수 있다. 그 밖의 공정은 임의의 적절한 타이밍으로 실시할 수 있다.

상기 불용화 공정은, 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 불용화 처리를 실시함으로써 PVA 계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 당해 붕산 수용액의 농도는, 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 1 중량부 ∼ 4 중량부이다. 불용화 욕 (붕산 수용액) 의 액온은 바람직하게는 20 ℃ ∼ 50 ℃ 이다. 바람직하게는, 불용화 공정은 적층체 제작 후, 공정 B 나 공정 C 이전에 실시한다.

상기 가교 공정은, 대표적으로는 붕산 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 가교 처리를 실시함으로써, PVA 계 수지층에 내수성을 부여할 수 있다. 당해 붕산 수용액의 농도는 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 1 중량부 ∼ 4 중량부이다. 또, 상기 염색 공정 후에 가교 공정을 실시하는 경우, 추가로 요오드화물을 배합하는 것이 바람직하다. 요오드화물을 배합함으로써, PVA 계 수지층에 흡착시킨 요오드의 용출을 억제할 수 있다. 요오드화물의 배합량은 물 100 중량부에 대해 바람직하게는 1 중량부 ∼ 5 중량부이다. 요오드화물의 구체예는 상기 서술한 바와 같다. 가교욕 (붕산 수용액) 의 액온은 바람직하게는 20 ℃ ∼ 50 ℃ 이다. 바람직하게는 가교 공정은 상기 공정 C 이전에 실시한다. 바람직한 실시형태에 있어서는, 공정 B, 가교 공정 및 공정 C 를 이 순서대로 실시한다.

상기 공정 C 와는 별도의 연신 공정으로는, 예를 들어 상기 적층체를 고온 (예를 들어, 95 ℃ 이상) 에서 공중 연신하는 공정을 들 수 있다. 이와 같은 공중 연신 공정은, 바람직하게는 붕산 수중 연신 (공정 C) 및 염색 공정 이전에 실시한다. 이와 같은 공중 연신 공정은, 붕산 수중 연신에 대한 예비적 또는 보조적인 연신으로서 위치지울 수 있기 때문에, 이하「공중 보조 연신」이라고 한다.

공중 보조 연신을 조합함으로써, 적층체를 보다 고배율로 연신할 수 있는 경우가 있다. 그 결과, 보다 우수한 광학 특성 (예를 들어, 편광도) 을 갖는 박형 편광막을 제작할 수 있다. 예를 들어, 상기 열가소성 수지 기재로서 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지를 사용한 경우, 붕산 수중 연신만으로 연신하는 것보다도, 공중 보조 연신과 붕산 수중 연신을 조합하는 편이, 열가소성 수지 기재의 배향을 억제하면서 연신할 수 있다. 당해 열가소성 수지 기재는, 그 배향성이 향상됨에 따라 연신 장력이 커져, 안정적인 연신이 곤란해지거나 열가소성 수지 기재가 파단되거나 한다. 그 때문에, 열가소성 수지 기재의 배향을 억제하면서 연신함으로써, 적층체를 보다 고배율로 연신할 수 있다.

또, 공중 보조 연신을 조합함으로써, PVA 계 수지의 배향성을 향상시키고, 이로써 붕산 수중 연신 후에도 PVA 계 수지의 배향성을 향상시킬 수 있다. 구체적으로는, 미리 공중 보조 연신에 의해 PVA 계 수지의 배향성을 향상시켜 놓음으로써, 붕산 수중 연신시에 PVA 계 수지가 붕산과 가교되기 쉬워지고, 붕산이 결절점이 된 상태에서 연신됨으로써, 붕산 수중 연신 후에도 PVA 계 수지의 배향성이 높아지는 것으로 추정된다. 그 결과, 우수한 광학 특성 (예를 들어, 편광도) 을 갖는 박형 편광막을 제작할 수 있다.

공중 보조 연신의 연신 방법은, 상기 공정 C 와 동일하게 고정단 연신이어도 되고, 자유단 연신 (예를 들어, 주속이 상이한 롤간에 적층체를 통과시켜 1 축 연신하는 방법) 이어도 된다. 또, 연신은 1 단계로 실시해도 되고 다단계로 실시해도 된다. 다단계로 실시하는 경우, 후술하는 연신 배율은 각 단계의 연신 배율의 곱이다. 본 공정에 있어서의 연신 방향은, 바람직하게는 상기 공정 C 의 연신 방향과 대략 동일하다.

공중 보조 연신에 있어서의 연신 배율은 바람직하게는 3.5 배 이하이다. 공중 보조 연신의 연신 온도는 PVA 계 수지의 유리 전이 온도 이상인 것이 바람직하다. 연신 온도는 바람직하게는 95 ℃ ∼ 150 ℃ 이다. 또한, 공중 보조 연신과 상기 붕산 수중 연신을 조합한 경우의 최대 연신 배율은, 적층체의 원래 길이에 대해 바람직하게는 5.0 배 이상, 보다 바람직하게는 5.5 배 이상, 더욱 바람직하게는 6.0 배 이상이다.

상기 세정 공정은, 대표적으로는 요오드화칼륨 수용액에 PVA 계 수지층을 침지시킴으로써 실시한다. 상기 건조 공정에 있어서의 건조 온도는, 바람직하게는 30 ℃ ∼ 100 ℃ 이다.

도 2 는, 본 발명의 박형 편광막의 제조 방법의 일례를 나타내는 개략도이다. 적층체 (10) 를 조출부 (100) 로부터 조출하고, 롤 (111 및 112) 에 의해 붕산 수용액의 욕 (110) 중에 침지시킨 후 (불용화 공정), 롤 (121 및 122) 에 의해 요오드 및 요오드화칼륨의 수용액 욕 (120) 중에 침지시킨다 (공정 B). 이어서, 롤 (131 및 132) 에 의해 붕산 및 요오드화칼륨의 수용액의 욕 (130) 중에 침지시킨다 (가교 공정). 그 후, 적층체 (10) 를, 붕산 수용액의 욕 (140) 중에 침지시키면서, 속비가 상이한 롤 (141 및 142) 로 세로 방향 (길이 방향) 으로 장력을 부여하여 연신한다 (공정 C). 연신 처리된 적층체 (10) 를, 롤 (151 및 152) 에 의해 요오드화칼륨 수용액의 욕 (150) 중에 침지시키고 (세정 공정), 건조 공정에 제공한다 (도시 생략). 그 후, 적층체를 권취부 (160) 에서 권취한다.

B. 박형 편광막

본 발명의 박형 편광막은 상기 제조 방법에 의해 얻어진다. 본 발명의 박형 편광막은, 실질적으로는 요오드가 흡착 배향된 PVA 계 수지막이다. 박형 편광막의 두께는, 바람직하게는 10 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 7.5 ㎛ 이하, 더욱 바람직하게는 5 ㎛ 이하이다. 한편, 박형 편광막의 두께는 바람직하게는 0.5 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 1.5 ㎛ 이상이다. 두께가 지나치게 얇으면 얻어지는 박형 편광막의 광학 특성이 저하될 우려가 있다. 박형 편광막은 바람직하게는 파장 380 nm ∼ 780 nm의 어느 파장에서 흡수 이색성을 나타낸다. 박형 편광막의 단체 투과율은, 바람직하게는 40.0 ％ 이상, 보다 바람직하게는 41.0 ％ 이상, 더욱 바람직하게는 42.0 ％ 이상이다. 박형 편광막의 편광도는, 바람직하게는 99.8 ％ 이상, 보다 바람직하게는 99.9 ％ 이상, 더욱 바람직하게는 99.95 ％ 이상이다.

본 발명의 박형 편광막의 요오드 함유량은, 바람직하게는 3.3 kcps 이하, 더욱 바람직하게는 3.2 kcps 이하이다. 한편, 박형 편광막의 단위 두께당의 요오드 함유량은 바람직하게는 0.30 kcps/㎛ 이상이다. 상기 요오드 함유량은 형광 X 선 분석에 의해 형광 X 선 스팩트럼 강도를 측정하여 얻어진 값이다. 구체적으로는, 얻어진 스팩트럼 강도와 표준 샘플의 강도로부터 정량화를 실시할 수 있다. 대표적으로는, 질량 흡수 계수, 형광 수율, X 선원의 스팩트럼 분포 등의 물리 상수를 이용하여, 형광 X 선 강도의 이론식으로부터 이론 X 선 강도를 구하고 이론 X 선 강도와 측정 X 선 강도를 대비함으로써 함유율을 산출하는 펀더멘털 파라미터법 (FP 법) 이 이용된다.

박형 편광막의 요오드 함유량은, 상기 이외에도, 예를 들어 적정 (滴定) 이나 이온 크로마토그래피법에 의해 정량화할 수 있다. 예를 들어, 박형 편광막을 연소시켜 발생된 가스를 포집한 포집액을 이온 크로마토그래프로 측정함으로써 정량화할 수 있다. 이 경우, 박형 편광막의 요오드 함유량은, 바람직하게는 17.6 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이하, 더욱 바람직하게는 15 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이하, 더욱 바람직하게는 13 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이하이다. 한편, 박형 편광막의 요오드 함유량은, 바람직하게는 2 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이상, 보다 바람직하게는 4 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이상이다.

박형 편광막의 붕산 함유량은, 바람직하게는 1.5 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이하이다. 당해 붕산 함유량은, 박형 편광막을 용해시켜 얻어진 용액을 NaOH 수용액으로 중화 적정함으로써 측정한 값이다. 또한, 이외에도, 예를 들어 FT-IR　ATR 법에 의해 붕산에서 기인하는 흡수 피크로부터 붕산 함유량을 정량화할 수 있다.

본 발명에 의하면, 상기 서술한 바와 같이, 우수한 광학 특성을 달성하면서, 이와 같이 요오드, 붕산의 함유량을 매우 낮게 할 수 있어 환경 부하를 양호하게 억제할 수 있다.

상기 박형 편광막의 사용 방법은, 임의의 적절한 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 상기 열가소성 수지와 일체로 된 상태에서 사용해도 되고, 상기 열가소성 수지 기재로부터 다른 부재에 전사하여 사용해도 된다.

C. 광학 적층체

본 발명의 광학 적층체는 상기 박형 편광막을 갖는다. 도 3(a) 및 (b) 는 본 발명의 바람직한 실시형태에 의한 광학 필름 적층체의 개략 단면도이다. 광학 필름 적층체 (100) 는, 열가소성 수지 기재 (11') 와 박형 편광막 (12') 과 점착제층 (13) 과 세퍼레이터 (14) 를 이 순서대로 갖는다. 광학 필름 적층체 (200) 는, 열가소성 수지 기재 (11') 와 박형 편광막 (12') 과 접착제층 (15) 과 광학 기능 필름 (16) 과 점착제층 (13) 과 세퍼레이터 (14) 를 이 순서대로 갖는다. 본 실시 형태에서는, 상기 열가소성 수지 기재를, 얻어진 박형 편광막 (12') 으로부터 박리하지 않고, 그대로 광학부재로서 사용하고 있다. 열가소성 수지 기재 (11') 는, 예를 들어 박형 편광막 (12') 의 보호 필름으로서 기능할 수 있다.

도 4(a) 및 (b) 는, 본 발명의 다른 바람직한 실시형태에 의한 광학 기능 필름 적층체의 개략 단면도이다. 광학 기능 필름 적층체 (300) 는, 세퍼레이터 (14) 와 점착제층 (13) 과 박형 편광막 (12') 과 접착제층 (15) 과 광학 기능 필름 (16) 을 이 순서대로 갖는다. 광학 기능 필름 적층체 (400) 에서는, 광학 기능 필름 적층체 (300) 의 구성에 더하여, 제 2 의 광학 기능 필름 (16') 이 박형 편광막 (12') 과 세퍼레이터 (14) 사이에 점착제층 (13) 을 개재하여 형성되어 있다. 본 실시 형태에서는 상기 열가소성 수지 기재는 제거되어 있다.

본 발명의 광학 적층체를 구성하는 각 층의 적층에는, 도시예에 한정되지 않고, 임의의 적절한 점착제층 또는 접착제층이 사용된다. 점착제층은 대표적으로는 아크릴계 점착제로 형성된다. 접착제층으로는 대표적으로는 비닐알코올계 접착제로 형성된다. 상기 광학 기능 필름은, 예를 들어 편광막 보호 필름, 위상차 필름 등으로서 기능할 수 있다.

실시예

이하, 실시예에 의해 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 특성의 측정 방법은 아래와 같다.

1. 두께

디지털 마이크로미터 (안리츠사 제조, 제품명「KC-351C」) 를 사용하여 측정하였다.

2. 열가소성 수지 기재의 흡수율

JIS K 7209 에 준하여 측정하였다.

3. 열가소성 수지 기재의 유리 전이 온도 (Tg)

JIS K 7121 에 준하여 측정하였다.

[실시예 1]

(공정 A)

열가소성 수지 기재로서 흡수율 0.60 ％, 유리 전이 온도 (Tg) 80 ℃ 의 비정질 폴리에틸렌테레프탈레이트 (A-PET) 필름 (미츠비시 수지사 제조, 상품명「노바크리아」, 두께 100 ㎛) 을 사용하였다.

열가소성 수지 기재의 편면에, 중합도 2600, 비누화도 99.9 ％ 의 폴리비닐알코올 (PVA) 수지 (닛폰 합성 화학 공업사 제조, 상품명「고세놀 (등록상표) NH-26」) 의 수용액을 60 ℃ 에서 도포 및 건조시켜 두께 7 ㎛ 의 PVA 계 수지층을 형성하였다. 이와 같이 하여 적층체를 제작하였다.

얻어진 적층체를, 액온 30 ℃ 의 불용화 욕 (물 100 중량부에 대해, 붕산을 3 중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액) 에 30 초간 침지시켰다 (불용화 공정).

이어서, 액온 30 ℃ 의 염색욕 (물 100 중량부에 대해, 요오드를 0.1 중량부 배합하고, 요오드화칼륨을 0.7 중량부 배합하여 얻어진 요오드 수용액) 에, 최종적으로 얻어지는 박형 편광막의 단체 투과율 (Ts) 이 40 ∼ 44 ％ 가 되도록 침지시켰다 (공정 B).

이어서, 액온 30 ℃ 의 가교욕 (물 100 중량부에 대해, 요오드화칼륨을 3 중량부 배합하고, 붕산을 3 중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액) 에 60 초간 침지시켰다 (가교 공정).

그 후, 적층체를, 액온 60 ℃ 의 붕산 수용액 (물 100 중량부에 대해, 붕산을 4 중량부 배합하고, 요오드화칼륨을 5 중량부 배합하여 얻어진 수용액) 에 침지시키면서, 주속이 상이한 롤간에서 세로 방향 (길이 방향) 으로 1 축 연신을 실시하였다 (공정 C). 붕산 수용액에 대한 침지 시간은 120 초이고, 적층체가 파단되기 직전까지 연신하고, 최대 연신 배율은 5.0 배였다.

그 후, 적층체를 세정욕 (물 100 중량부에 대해, 요오드화칼륨을 3 중량부 배합하여 얻어진 수용액) 에 침지시킨 후, 60 ℃ 의 온풍으로 건조시켰다 (세정·건조 공정).

이와 같이 하여, 열가소성 수지 기재 상에 두께 3 ㎛ 의 박형 편광막이 형성된 광학 필름 적층체를 얻었다.

[실시예 2]

열가소성 수지 기재로서, Tg 30 ℃ 의 폴리메틸펜텐 필름 (미츠이 화학사 제조, 상품명「TPX」, 두께 100 ㎛) 을 사용한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박형 편광막을 얻었다.

공정 C 에 있어서의 최대 연신 배율은 5.5 배이고, 얻어진 박형 편광막의 두께는 3 ㎛ 였다.

[실시예 3]

적층체의 제작시에, PVA 계 수지층의 두께를 10 ㎛ 가 되도록 형성한 것 이외에는, 실시예 1 과 동일하게 하여 박형 편광막을 얻었다.

공정 C 에 있어서의 최대 연신 배율은 5.0 배이고, 얻어진 박형 편광막의 두께는 5 ㎛ 였다.

[실시예 4]

두께 10 ㎛ 의 PVA 계 수지층을 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 제작한 적층체를, 110 ℃ 의 오븐 내에서 주속이 상이한 롤간에서 세로 방향 (길이 방향) 으로 2.0 배로 1 축 연신하였다 (공중 보조 연신 공정). 그 후, 실시예 1 과 동일하게 하여, 불용화 공정, 공정 B, 가교 공정, 공정 C 및 세정·건조 공정을 실시하고, 박형 편광막을 얻었다.

공정 C 에 있어서, 공중 보조 연신을 포함하는 총연신 배율 (최대 연신 배율) 은 6.5 배이고, 얻어진 박형 편광막의 두께는 5 ㎛ 였다.

[실시예 5]

두께 6 ㎛ 의 PVA 계 수지층을 형성한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하여 제작한 적층체를, 110 ℃ 의 오븐 내에서 주속이 상이한 롤간에서 세로 방향 (길이 방향) 으로 2.0 배로 1 축 연신하였다 (공중 보조 연신 공정). 그 후, 실시예 1 과 동일하게 하여, 불용화 공정, 공정 B, 가교 공정, 공정 C 및 세정·건조 공정을 실시하고, 박형 편광막을 얻었다.

공정 C 에 있어서, 공중 보조 연신을 포함하는 총연신 배율 (최대 연신 배율) 은 6.5 배이고, 얻어진 박형 편광막의 두께는 2.5 ㎛ 였다.

(비교예 1)

두께 75 ㎛ 의 PVA 계 수지를 주성분으로 하는 고분자 필름 (쿠라레 (주) 제조, 상품명「VF-PS＃7500」) 을 하기 [1] ∼ [5] 의 5 욕에 순차적으로 필름 길이 방향으로 장력을 부여하면서 침지시키고, 최종적인 연신 배율이 필름 원길이에 대해 6.2 배가 되도록 연신하였다. 이 연신 필름을 40 ℃ 의 공기 순환식 건조 오븐 내에서 1 분간 건조시켜 두께 30 ㎛ 의 편광막을 제작하였다.

<조건>

[1] 팽윤욕 : 30 ℃ 의 순수

[2] 염색욕 : 뮬 100 중량부에 대해, 0.032 중량부의 요오드와, 0.2 중량부의 요오드화칼륨을 함유하는 30 ℃ 의 수용액

[3] 제 1 가교욕 : 3 중량％ 의 요오드화칼륨과, 3 중량％ 의 붕산을 함유하는 40 ℃ 의 수용액

[4] 제 2 가교욕 : 5 중량％ 의 요오드화칼륨과, 4 중량％ 의 붕산을 함유하는 60 ℃ 의 수용액

[5] 세정욕 : 3 중량％ 의 요오드화칼륨을 함유하는 25 ℃ 의 수용액

(비교예 2)

두께 60 ㎛ 의 PVA 계 수지를 주성분으로 하는 고분자 필름을 사용한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 편광막을 제작하였다. 얻어진 편광막의 두께는 22 ㎛ 였다.

(비교예 3)

두께 40 ㎛ 의 PVA 계 수지를 주성분으로 하는 고분자 필름을 사용한 것 이외에는, 비교예 1 과 동일하게 편광막을 제작하였다. 얻어진 편광막의 두께는 17 ㎛ 였다.

(비교예 4)

실시예 1 과 동일하게 하여 제작한 적층체를, 적층체가 파단되기 직전까지 110 ℃ 의 오븐 내에서 공중 연신 (세로 1 축 연신) 하였다. 이 때의 최대 연신 배율은 4.0 배였다.

그 후, 실시예 1 과 동일하게, 염색 공정, 가교 공정 및 세정·건조 공정을 이 순서대로 실시하여 박형 편광막을 얻었다. 얻어진 박형 편광막의 두께는 4 ㎛ 였다.

(비교예 5)

실시예 1 과 동일하게 하여 제작한 적층체를 사용하여 실시예 1 과 동일하게 염색 공정을 실시한 후, 60 ℃ 의 온풍으로 건조시켰다.

그 후, 적층체가 파단되기 직전까지 90 ℃ 의 오븐 내에서 공중 연신 (세로 1 축 연신) 하였다. 이 때의 최대 연신 배율은 4.5 배이고, 얻어진 박형 편광막의 두께는 4 ㎛ 였다.

얻어진 편광막의 편광도를 측정하였다. 편광도의 측정 방법은 아래와 같다. 측정 결과를 표 1 에 나타낸다.

(편광도의 측정 방법)

자외 가시 분광 광도계 (닛폰 분광사 제조, 제품명「V7100」) 를 사용하여, 편광막의 단체 투과율 (Ts), 평행 투과율 (Tp) 및 직교 투과율 (Tc) 을 측정하고, 편광도 (P) 를 다음 식에 의해 구하였다.

편광도 (P)(％) = {(Tp - Tc)/(Tp ＋ Tc)}^1/2 × 100

또한, 상기 Ts, Tp 및 Tc 는, JIS Z 8701 의 2 도 시야 (C 광원) 에 의해 측정하고, 시감도 보정을 실시한 Y 값이다.

얻어진 편광막의 요오드 및 요오드 화합물의 함유량을, 형광 X 선 스팩트럼의 강도를 측정함으로써 정량화하였다. 측정 조건은 아래와 같다. 측정 결과를 표 1 에 나타낸다.

· 분석 장치 : 리가쿠 전기 공업사 제조 형광 X 선 분석 장치 (XRF), 제품명「ZSX100e」

· 측정 샘플 : 직경 10 ㎜ 의 원형 샘플

· 대 (對) 음극 : 로듐

· 분광 결정 : 불화리튬

· 여기광 에너지 : 40 ㎸ - 90 ㎃

· 요오드 측정선 : I-LA

· 정량법 : FP 법

· 2 θ 각 (角) 피크 : 103.078 deg (요오드), 136.847 deg (칼륨)

· 측정 시간 : 40 초

얻어진 편광막의 요오드 및 요오드 화합물의 함유량을, 아래의 순서대로 이온 크로마토그래프에 의해 측정하였다.

얻어진 편광막으로부터, 치수 400 ㎜ × 700 ㎜ 의 시험편을 잘라내어 시험편의 중량을 측정하였다. 그 후, 자동 시료 연소 장치 (미츠비시 화학 애널리 테크사 제조, 제품명 AQF-100) 로 시험편을 연소시키고, 발생된 가스를 10 ㎖ 의 흡수액에 포집하였다. 얻어진 포집액을 15 ㎖ 에 정용 (定容) 하여, 순수로 100 배로 희석한 후, 이 희석액을 이온 크로마토그래프에 주입하여 측정하였다. 측정 조건은 아래와 같다. 측정 결과를 표 1 에 나타낸다.

· 분석 장치 : DIONEX 사 제조, 제품명「DX-320」

· 분리 칼럼 : Ion Pac AS11

· 가이드 칼럼 : Ion Pac AS11

· 제거 시스템 : ASRS-300

· 검출기 : 전기 전도도 검출기

· 용리액 : KOH 수용액

· 용리액 유량 : 1.2 ㎖/min

· 시료 주입량 : 250 ㎕

얻어진 편광막의 붕산 함유량을 아래의 순서대로 측정하였다.

얻어진 편광막으로부터 치수 400 ㎜ × 700 ㎜ 의 시험편을 잘라내었다. 잘라낸 시험편의 중량을 측정한 후, 1 ℓ 의 온수에 시험편을 모두 용해시켰다. 이 용액으로부터 적당량을 짜내고, 1 ㏖/ℓ 의 NaOH 수용액을 이용하여 중화 적정함으로써 붕산 농도 (중량％) 를 측정하였다.

얻어진 붕산 농도 (중량％) 에 시험편의 중량을 곱하여 붕산 함유량 (g/(400 ㎜ × 700 ㎜□)) 을 산출하였다. 결과를 표 1 에 나타낸다.

	두께 ㎛	단체 투과율 %	편광도 %	요오드		붕산 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□)
	두께 ㎛	단체 투과율 %	편광도 %	kcps	g/(400 ㎜ × 700 ㎜□)	붕산 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□)
실시예 1	3	42.2	99.98	2.0	10.9	0.3
실시예 2	3	42.1	99.99	1.7	9.4	0.4
실시예 3	5	42.3	99.99	2.1	11.5	0.5
실시예 4	5	42.6	99.99	1.9	10.4	0.6
실시예 5	2.5	43.9	99.96	1.0	6.0	0.3
비교예 1	30	42.2	99.99	3.5	18.6	3.5
비교예 2	22	42.1	99.99	3.0	16.1	2.5
비교예 3	17	42.3	99.99	2.7	14.5	2.0
비교예 4	4	42.1	99.57	1.5	8.4	0.2
비교예 5	4	42.0	97.18	1.9	10.4	0.3

실시예 1 내지 5 의 박형 편광막은 요오드 및 붕산의 함유량이 매우 작고, 또한 광학 특성도 매우 우수하였다.

산업상 이용가능성

본 발명의 박형 편광막은, 종래의 박형 편광막보다 높은 편광 성능을 갖는다. 따라서, 본 발명에 의하면, 박형 편광막을, 액정 텔레비전, 액정 디스플레이, 휴대 전화, 디지털 카메라, 비디오 카메라, 휴대 게임기, 카 내비게이션, 복사기, 프린터, 팩스, 시계, 전자 렌지 등의 액정 패널에 적용시키는 것이 가능해졌다다.

10 : 적층체
11 : 열가소성 수지 기재
12 : PVA 계 수지층

Claims

열가소성 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지층을 형성하여 제조된 박형 편광막으로서,
두께가 10 ㎛ 이하이고, 단체 투과율이 42.0 ％ 이상이며, 편광도가 99.95 ％ 이상이고, 또한 이온 크로마토그래피법에 의해 측정되는 요오드 함유량이 17.6 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이하인, 박형 편광막.
제 1 항에 있어서,
붕산 함유량이 1.5 g/(400 ㎜ × 700 ㎜□) 이하인, 박형 편광막.
제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 박형 편광막의 제조 방법으로서,
열가소성 수지 기재 상에 폴리비닐알코올계 수지층을 형성하여 적층체를 제작하는 공정과,
상기 폴리비닐알코올계 수지층을 요오드로 염색하는 공정과,
상기 적층체를 붕산 수용액 중에서 수중 연신하는 공정을 포함하는, 박형 편광막의 제조 방법.
제 3 항에 있어서,
상기 적층체의 최대 연신 배율이 5.0 배 이상인, 박형 편광막의 제조 방법.
제 3 항 또는 제 4 항에 있어서,
상기 염색 공정 및 상기 붕산 수중 연신 전에, 상기 적층체를 95 ℃ 이상에서 공중 연신하는 공정을 포함하는, 박형 편광막의 제조 방법.