CN101486268A - 偏光膜制造方法及使用该制造方法制造的偏光膜 - Google Patents

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陈裕泓
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Abstract

本发明提供了一种偏光膜制造方法,步骤包括:以第一张力拉伸第一保护膜;以第二张力拉伸第二保护膜;将第一保护膜及第二保护膜分别贴合于基底膜两侧;以第三张力拉伸第三保护膜;将第三保护膜贴合于第一保护膜的相对于基底膜的另一侧,以形成复合膜;以及以第四张力拉伸复合膜以形成偏光膜。其中,第一张力与第三张力的乘积除以第二张力与第四张力的乘积的比值介于0.015至8之间。本发明还提供了一种使用该偏光膜制造方法制造的偏光膜,包括基底膜、第一保护膜、第二保护膜以及第三保护膜。利用本发明的偏光膜制造方法可以减少偏光膜翘曲的发生。

Description

偏光膜制造方法及使用该制造方法制造的偏光膜
技术领域
本发明涉及一种偏光膜制造方法;具体而言,本发明涉及一种供液晶显示器(liquid crystal display,LCD)使用的偏光膜的制造方法。
背景技术
偏光膜的质量是影响液晶显示器的包括对比、可视角、色彩饱和度、暗态、色偏等显示效果的重要因素之一。优选的偏光膜质量可提高液晶显示器的显示效果。
已知的偏光膜制造方法包括将聚乙烯醇(polyvinylalcohol,PVA)经过染色、固色、拉伸以及烘干步骤后,将三醋酸纤维素(tri-acetyl cellulose,TAC)保护层及聚环烯烃高分子(cycloolefinpolymer,COP)保护层分别黏于两侧,再分别在三醋酸纤维素保护层的一侧及聚环烯烃高分子保护层的一侧贴上表面保护膜及离型膜即完成。
由于偏光膜是以不同材质的光学膜贴合而成的,所以不同材质的光学膜贴合的效果好坏会直接影响偏光膜的质量,进而影响液晶显示器的显示效果。光学膜贴合效果好坏的评估指标之一是偏光膜翘曲的发生及程度。若翘曲状况较多或翘曲程度较大,使用该偏光膜进行片贴时易于发生无法片贴或贴合缺陷的情形。因此,当光学膜贴合后偏光膜发生翘曲的状况较少或翘曲程度较小时,偏光膜的质量即是优选的。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种偏光膜制造方法,以便减少偏光膜翘曲的发生。
本发明的另一主要目的在于提供一种偏光膜,具有较少的翘曲状况。
本发明的偏光膜制造方法步骤包括:以第一张力拉伸第一保护膜;以第二张力拉伸第二保护膜;将第一保护膜及第二保护膜分别贴合于基底膜两侧;以第三张力拉伸第三保护膜;将第三保护膜贴合于第一保护膜的相对于基底膜的另一侧,以形成复合膜;以及以第四张力拉伸复合膜以形成偏光膜。其中,第一张力与第三张力的乘积除以第二张力与第四张力的乘积的比值介于0.015至8之间。
拉伸步骤包括使用滚轴卷收。第一保护膜是三醋酸纤维素。第二保护膜是聚环烯烃高分子。基底膜是聚乙烯醇。其中,基底膜的单体穿透率大于41%、偏光度高于99.9%,厚度介于20至35μm。第三保护膜是聚对苯二甲酸乙二醇酯。
偏光膜制造方法进一步包括在基底膜与第一保护膜及第二保护膜贴合之前,对基底膜进行预处理。预处理步骤包括在温度介于25℃至35℃的水中进行膨润,以及在温度介于25℃至50℃的含有3.0至5.5重量百分率的硼酸以及2.0至6.0重量百分率的碘化钾的溶液中,拉伸使基底膜的长度成为原本长度的4至7倍。
偏光膜制造方法进一步包括在基底膜与第一保护膜及第二保护膜贴合之前,对第一保护膜进行皂化处理。偏光膜制造方法进一步包括在基底膜与第一保护膜及第二保护膜贴合之前,对第二保护膜进行表面改性。
贴合步骤包括使用聚乙烯醇高分子作为贴合剂。贴合步骤包括使用聚氨基甲酸乙酯(polyurethane)作为贴合剂。偏光膜制造方法进一步包括对第一保护膜进行雾面处理(anti-glare treatment)。偏光膜制造方法进一步包括对第一保护膜进行高精细雾面处理(highdefine anti-glare treatment)。偏光膜制造方法进一步包括对第一保护膜进行硬镀膜处理(hard-coating treatment)。
本发明的一种偏光膜包括基底膜、第一保护膜、第二保护膜以及第三保护膜。其中,第一保护膜经第一张力拉伸后贴合于基底膜的一侧。第二保护膜经第二张力拉伸后贴合于基底膜的相对于第一保护膜的另一侧。第三保护膜经第三张力拉伸后贴合于第一保护膜的相对于基底膜的另一侧。偏光膜经第四张力拉伸,且第一张力与第三张力的乘积除以第二张力与第四张力的乘积的比值介于0.015至8之间。
附图说明
图1为本发明的偏光膜制造方法的优选实施例示意图;
图2为本发明的偏光膜制造方法的优选实施例流程图;
图3为本发明的偏光膜的优选实施例示意图;
具体实施方式
本发明提供了一种偏光膜制造方法,以及使用该偏光膜制造方法制造的偏光膜。
图1及图2分别为本发明的偏光膜制造方法实施例示意图及实施例流程图。如图1所示,在优选实施例中,滚轴400、第一滚轴410、第二滚轴420及第三滚轴430分别卷收基底膜100、第一保护膜110、第二保护膜120及第三保护膜130。第一槽体510是染色槽。第二槽体520是固色拉伸槽。干燥装置530则供烘干膜片之用。第一卷收滚轴310可将第一保护膜110从第一滚轴410卷收拉出并压贴于基底膜100。第二卷收滚轴320可将第二保护膜120从第二滚轴420卷收拉出并压贴于基底膜100。第三卷收滚轴330可将第三保护膜130从第三滚轴430卷收拉出并压贴于第一保护膜110。偏光膜140最终则卷收于偏光膜卷收滚轴340。
进一步说明本发明的偏光膜制造方法的实施步骤。如图2所示,步骤3001包括如图1所示的以第一张力210拉伸第一保护膜110。在优选实施例中,第一保护膜110是三醋酸纤维素,第一保护膜110卷收于第一滚轴410上,第一张力210由第一卷收滚轴310卷收第一保护膜110时产生。然而在不同实施例中,可以其它方式拉伸第一保护膜110以产生第一张力210。
如图2所示,步骤3003包括如图1所示的以第二张力220拉伸第二保护膜120。在优选实施例中,第二保护膜是聚环烯烃高分子,第二保护膜120卷收于第二滚轴420上,第二张力220由第二卷收滚轴320卷收第二保护膜120时产生。然而在不同实施例中,可以其它方式拉伸第二保护膜120以产生第二张力220。
如图2所示,步骤3005包括如图1所示的在基底膜100经过于第一槽体510中进行的染色步骤、在第二槽体520中进行的固色与拉伸步骤、以及在干燥装置530中进行的干燥步骤后,将第一保护膜110及第二保护膜120分别贴合于基底膜100两侧。其中,基底膜100的单体穿透率大于41%、偏光度高于99.9%,厚度介于20至35μm。在优选实施例中,基底膜100是聚乙烯醇,基底膜100卷收于基底膜滚轴400上。
如图2所示,步骤3007包括如图1所示的以第三张力230拉伸第三保护膜130。在优选实施例中,第三保护膜是聚对苯二甲酸乙二醇酯,第三保护膜130卷收于第三滚轴430上,第三张力230由第三卷收滚轴330卷收第三保护膜130时产生。然而在不同实施例中,可以其它方式拉伸第三保护膜130以产生第三张力230。
如图2所示,步骤3009包括如图1所示的将第三保护膜130贴合于第一保护膜110的相对于基底膜100的另一侧,以形成复合膜141。
如图2所示,步骤3011包括如图1所示的以第四张力240拉伸复合膜141以形成偏光膜140。在优选实施例中,第四张力240由偏光膜卷收滚轴340卷收复合膜141时产生。然而在不同实施例中,可以其它方式拉伸复合膜141以产生第四张力240。
其中,从步骤3001至步骤3011中的第一张力210与第三张力230的乘积除以第二张力220与第四张力240的乘积的比值介于0.015至8之间。即,
Figure A200810000713D00091
0.015≤n≤8
此外,在优选实施例中,贴合步骤包括使用聚乙烯醇高分子或聚氨基甲酸乙酯(polyurethane)作为贴合剂。然而在不同实施例中,也可使用其它水性黏胶作为贴合之用。
本发明的偏光膜制造方法进一步包括在如图1所示的基底膜100与第一保护膜110及第二保护膜120贴合之前,对基底膜100进行预处理。在优选实施例中,预处理步骤包括在温度介于25℃至35℃的水中进行膨润,以及在温度介于25℃至50℃的含有3.0至5.5重量百分率的硼酸以及2.0至6.0重量百分率的碘化钾的溶液中,拉伸使基底膜100的长度成为原本长度的4至7倍。
本发明的偏光膜制造方法进一步包括在如图1所示的基底膜100与第一保护膜110及第二保护膜120贴合之前,对第一保护膜110进行皂化处理。偏光膜制造方法进一步包括在基底膜100与第一保护膜110及第二保护膜120贴合之前,对第二保护膜120进行表面改性。偏光膜制造方法进一步包括对第一保护膜110进行雾面处理(anti-glare treatment)。偏光膜制造方法进一步包括对第一保护膜110进行高精细雾面处理(high define anti-glare treatment)。偏光膜制造方法进一步包括对第一保护膜110进行硬镀膜处理(hard-coating treatment)。以下举例说明上述偏光膜制造方法及各步骤。
实施例1
在如图1中的第二槽体520中,将单体穿透率大于41%、偏光度高于99.9%,厚度介于20至35μm的聚乙烯醇基底膜100在温度介于25℃至35℃的水中进行膨润,以及在温度介于25℃至50℃的含有3.0至5.5重量百分率的硼酸以及2.0至6.0重量百分率的碘化钾的溶液中,拉伸使基底膜100的长度成为原本长度的4至7倍。而后如图1所示,使用聚乙烯醇高分子水胶将以70公斤的第一张力210拉伸的第一保护膜110及以30公斤的第二张力220拉伸的第二保护膜120分别贴合于基底膜100两侧。其中,第一保护膜110是经过皂化处理的三醋酸纤维素,第二保护膜120是经过电晕处理以增加表面亲水性的聚环烯烃高分子。接着将以37公斤的第三张力230拉伸的第三保护膜130贴合于第一保护膜110的相对于基底膜100的另一侧,以形成复合膜141。其中,第三保护膜130是聚对苯二甲酸乙二醇酯。最后,以65公斤的第四张力240拉伸复合膜141以形成偏光膜140。
如图3所示,本发明的偏光膜140包括基底膜100、第一保护膜110、第二保护膜120以及第三保护膜130。其中,第一保护膜经第一张力210拉伸后贴合于基底膜100的一侧。第二保护120膜经第二张力220拉伸后贴合于基底膜100的相对于第一保护膜110的另一侧。第三保护膜130经第三张力230拉伸后贴合于第一保护膜110的相对于基底膜100的另一侧。偏光膜140经第四张力240拉伸,且第一张力210与第三张力230的乘积除以第二张力220与第四张力240的乘积的比值介于0.015至8之间。在该实施例中,
Figure A200810000713D00111
实施例2
在如图1中的第二槽体520中,将单体穿透率大于41%、偏光度高于99.9%,厚度介于20至35μm的聚乙烯醇基底膜100在温度介于25℃至35℃的水中进行膨润,以及在温度介于25℃至50℃的含有3.0至5.5重量百分率的硼酸以及2.0至6.0重量百分率的碘化钾的溶液中,拉伸使基底膜100的长度成为原本长度的4至7倍。而后如图1所示,使用聚乙烯醇高分子水胶将以80公斤的第一张力210拉伸的第一保护膜110及以70公斤的第二张力220拉伸的第二保护膜120分别贴合于基底膜100两侧。其中,第一保护膜110是经过皂化处理的三醋酸纤维素,第二保护膜120是经过电晕处理以增加表面亲水性的聚环烯烃高分子。接着将以35公斤的第三张力230拉伸的第三保护膜130贴合于第一保护膜110的相对于基底膜100的另一侧,以形成复合膜141。其中,第三保护膜130是聚对苯二甲酸乙二醇酯。最后,以40公斤的第四张力240拉伸复合膜141以形成偏光膜140。其中,
本发明已由上述相关实施例加以描述,然而上述实施例仅为实施本发明的范例。必需指出的是,已披露的实施例并非限制本发明的范围。相反地,包括在权利要求的精神及范围内的修改及等同设置均包括在本发明的范围内。
主要组件符号说明
100  基底膜             110  第一保护膜
120  第二保护膜         130  第三保护膜
140  偏光膜             141  复合膜
210  第一张力           220  第二张力
230  第三张力           240  第四张力
310  第一卷收滚轴       320  第二卷收滚轴
330  第三卷收滚轴       340  偏光膜卷收滚轴
400  基底膜滚轴         410  第一滚轴
420  第二滚轴           430  第三滚轴
510  第一槽体           520  第二槽体
530  干燥装置           3001 步骤
3003 步骤               3005 步骤
3007 步骤               3009 步骤
3011 步骤

Claims (10)

1.一种偏光膜制造方法,包括以下步骤:
以第一张力拉伸第一保护膜;
以第二张力拉伸第二保护膜;
将所述第一保护膜及所述第二保护膜分别贴合于基底膜两侧;
以第三张力拉伸第三保护膜;
将所述第三保护膜贴合于所述第一保护膜的相对于所述基底膜的另一侧,以形成复合膜;以及
以第四张力拉伸所述复合膜以形成所述偏光膜;
其中,所述第一张力与所述第三张力的乘积除以所述第二张力与所述第四张力的乘积的比值介于0.015至8之间。
2.根据权利要求1所述的偏光膜制造方法,其中,所述拉伸步骤包括使用滚轴卷收。
3.根据权利要求1所述的偏光膜制造方法,其中,所述第一保护膜是三醋酸纤维素。
4.根据权利要求1所述的偏光膜制造方法,其中,所述第二保护膜是聚环烯烃高分子。
5.根据权利要求1所述的偏光膜制造方法,其中,所述基底膜是聚乙烯醇。
6.根据权利要求5所述的偏光膜制造方法,其中,所述基底膜的单体穿透率大于41%、偏光度高于99.9%,厚度介于20至35μm。
7.根据权利要求1所述的偏光膜制造方法,其中,所述第三保护膜是聚对苯二甲酸乙二醇酯。
8.根据权利要求1所述的偏光膜制造方法,进一步包括在所述基底膜与所述第一保护膜及所述第二保护膜贴合之前,对所述基底膜进行预处理,包括:
在温度介于25℃至35℃的水中进行膨润;以及
在温度介于25℃至50℃的含有3.0至5.5重量百分率的硼酸以及2.0至6.0重量百分率的碘化钾的溶液中,拉伸使所述基底膜的长度成为原本长度的4至7倍。
9.根据权利要求1所述的偏光膜制造方法,进一步包括在所述基底膜与所述第一保护膜及所述第二保护膜贴合之前,对所述第一保护膜进行皂化处理。
10.一种偏光膜,包括:
基底膜;
第一保护膜,经第一张力拉伸后贴合于所述基底膜的一侧;
第二保护膜,经第二张力拉伸后贴合于所述基底膜的相对于所述第一保护膜的另一侧;以及
第三保护膜,经第三张力拉伸后贴合于所述第一保护膜的相对于所述基底膜的另一侧;
其中,所述偏光膜经第四张力拉伸,且所述第一张力与所述第三张力的乘积除以所述第二张力与所述第四张力的乘积的比值介于0.015至8之间。
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