KR20090122220A - 불소계 용매-함유 용액의 정제 방법 - Google Patents
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Abstract
불소계 용매가 증류 장치의 사용 없이 비교적 소형의 장비에 의해 고순도로 얻어질 수 있는 정제 방법을 제공하기 위한 것이다.
불소계 용매, 수용성 유기 용매 오염물질, 유기 오염물질 및 이온 오염물질을 포함하는 혼합 용액으로부터 불소계 용매를 정제하기 위한 방법인, 불소계 용매를 포함하는 혼합 용액의 정제 방법으로서, 단계 (1): 혼합 용액을 물로 세척하여, 수용성 유기 용매 농도가 0.01 wt% 이하로 감소된 제1의 처리된 용액을 얻는 단계, 단계 (2): 제1의 처리된 용액을 활성탄으로 처리하여, 유기 오염물질 농도가 20 ppb 이하로 감소된 제2의 처리된 용액을 얻는 단계, 단계 (3): 제2의 처리된 용액을 활성 알루미나로 처리하여, 불화물 이온 오염물질이 10 ppb 이하로 감소된 제3의 처리된 용액을 얻는 단계, 및 단계 (4): 제3의 처리된 용액을 입자 제거 필터로 처리하여, 0.1 ㎛ 이상의 크기를 갖는 입자의 개수가 10 입자/㎖ 이하인 불소계 용매를 얻는 단계를 포함하는 정제 방법이 제공된다.
불소, 용매, 정제, 오염물질, 필터, 활성탄, 활성 알루미나, 입자 제거
Description
본 발명은 하이드로플루오로카본 에테르(HFE)와 같은 불소계 용매를 포함하는 혼합 용액의 정제 방법에 관한 것이다.
불소계 용매는 전자 부품 또는 반도체 웨이퍼와 같은 피가공물(workpiece)을 세정하기 위해 사용된다. 일반적으로, 피가공물을 세정하는 동안, 사용된 세정 용액의 인-라인(in-line) 정제를 수행하는 것이 바람직하다. 인-라인 정제는 전형적으로 증류 재생기(distillation regenerator), 입자 제거 필터 등의 사용으로 이루어진다. 예를 들어, 공개(일본 미심사 특허 공보) 제200347802호 및 공개 제2001-129302호 각각은 불소계 용매용 증류 재생기를 기재하고 있다. 그러나, 부품의 미세 또는 고정밀 제조라는 최근의 추이에 의해, 증류를 통해 세정 용액을 생성함에 있어서 하기의 문제점들이 발생한다.
첫째, 통상의 세정 장치에 전형적으로 사용되는 증류기 크기를 이용하여 용액의 충분한 순도 수준을 얻는 것이 어렵다. 용매들 중 두 가지가 서로 가까운 비등점을 갖는 경우, 용매들의 혼합 용액을 분리하는 것은 특히 어렵다.
둘째, 용액 내 입자 개수를 전형적인 세정 장치 내의 입자 제거 필터에 의해 요구되거나 필요한 수준으로 감소시키기 어렵다.
셋째, 하이드로플루오로카본 에테르(HFE)와 같은 불소계 용매가 증류에 의해 재생되므로, 열이 HFE에 가해지며 용액 내 불화물 이온의 양이 증가한다.
넷째, 용매를 다량으로 재생하는 경우, 큰 장비가 필요하고 긴 재생 시간이 요구된다.
다섯째, 요구되거나 필요한 순도를 갖는 용액이 얻어지지 않는 경우, 신선하거나 새로운 용액이 전형적으로 첨가되거나 또는 오래된 용액이 교체된다. 이는 전형적으로 다량의 액체를 수반한다.
발명의 개요
본 발명의 목적은 하이드로플루오로카본 에테르(HFE)와 같은 불소계 용매가 비교적 소형 장비를 사용함으로써 그리고 증류 장치의 사용 없이 고순도로 얻어질 수 있는 정제 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 하기의 실시 형태를 포함한다.
(i) 하이드로플루오로카본 에테르(HFE) 및/또는 하이드로플루오로카본(HFC)과 같은 불소계 용매, 수용성 유기 용매 오염물질, 유기 오염물질 및 이온 오염물질을 포함하는 혼합 용액으로부터 불소계 용매를 정제하기 위한 공정인, 불소계 용매를 포함하는 혼합 용액의 정제 방법으로서,
단계 (1): 혼합 용액을 물로 세척하여, 수용성 유기 용매 오염물질 농도가 0.01 중량%(wt%) 이하로 감소된 제1의 처리된 용액을 얻는 단계,
단계 (2): 제1의 처리된 용액을 활성탄으로 처리하여, 유기 오염물질 농도가 20 ppb(parts per billion) 이하로 감소된 제2의 처리된 용액을 얻는 단계,
단계 (3): 제2의 처리된 용액을 활성 알루미나로 처리하여, 불화물 이온 오염물질이 10 ppb 이하로 감소된 제3의 처리된 용액을 얻는 단계, 및
단계 (4): 제3의 처리된 용액을 입자 제거 필터로 처리하여, 0.1 ㎛ 이상의 크기를 갖는 입자의 개수가 10 입자/㎖ 이하인 불소계 용매를 얻는 단계를 포함하는 정제 방법.
(ii) 하이드로플루오로카본 에테르(HFE) 및/또는 하이드로플루오로카본(HFC)과 같은 불소계 용매, 수용성 유기 용매 오염물질, 유기 오염물질 및 이온 오염물질을 포함하는 혼합 용액으로부터 불소계 용매를 정제하기 위한 공정인, 불소계 용매를 포함하는 혼합 용액의 정제 방법으로서,
단계 (1): 혼합 용액을 물로 세척하여, 수용성 유기 용매 오염물질 농도가 0.01 wt% 이하로 감소된 제1의 처리된 용액을 얻는 단계,
단계 (2): 제1의 처리된 용액을 활성 알루미나로 처리하여, 불화물 이온 오염물질이 10 ppb 이하로 감소된 제2의 처리된 용액을 얻는 단계,
단계 (3): 제2의 처리된 용액을 활성탄으로 처리하여, 유기 오염물질 농도가 20 ppb 이하로 감소된 제3의 처리된 용액을 얻는 단계, 및
단계 (4): 제3의 처리된 용액을 입자 제거 필터로 처리하여, 0.1 ㎛ 이상의 크기를 갖는 입자의 개수가 10 입자/㎖ 이하인 불소계 용매를 얻는 단계를 포함하는 정제 방법.
(iii) 상기 불소계 용매가 분리형(segregated) 하이드로플루오로카본 에테 르(HFE), 비-분리형(non-segregated) HFE, 하이드로플루오로폴리에테르, 하이드로플루오로카본 또는 하이드로클로로플루오로카본인, 상기 (i) 또는 (ii)에 기재된 불소계 용매를 포함하는 용액의 정제 방법.
(iv) 단계 (1)에서, 물 세척 탱크 및 물 제거기를 포함하는 수용성 유기 용매 제거 기구를 사용하여, 혼합 용액을 물 세척 탱크 내에서 물로 세척하여 수용성 유기 용매 오염물질을 제거하고 나서, 물을 세척된 용액으로부터 물 제거기에 의해 제거하는, 상기 (i) 내지 (iii) 중 어느 하나에 기재된 정제 방법.
(v) 단계 (1)에서, 수용성 유기 용매 오염물질의 제거는 혼합 용액을 물 세척 탱크 및 물 제거기를 포함하는 수용성 유기 용매 제거 기구를 통해 2회 이상 통과시킴으로써 수행되는, 상기 (iv)에 기재된 정제 방법.
(vi) 혼합 용액은 세정을 위해 1회 이상 소비된 사용된 세정 용액이고, 사용된 세정 용액은 정제 방법에 의해 재생되는, 상기 (i) 내지 (v) 중 어느 하나에 기재된 정제 방법.
(vii) 세정 용액은 전기/전자 부품의 정밀 세정을 위한 세정 용액이거나, 반도체 웨이퍼를 세정하기 위한 세정 용액인, 상기 (vi)에 기재된 정제 방법.
(viii) 상기 (i) 내지 (vii) 중 어느 하나에 기재된 정제 방법에 사용되는 용액 정제 장치인 정제 장치로서,
단계 (1)을 수행하기 위한 수용성 유기 용매 제거 기구,
단계 (2)를 수행하기 위한 활성탄 필터,
단계 (3)을 수행하기 위한 활성 알루미나 필터, 및
단계 (4)를 수행하기 위한 입자 제거 필터를 포함하는 정제 장치.
(ix) 전기/전자 부품 또는 반도체 웨이퍼를 세정하기 위한 세정 장치와 함께 상기 (viii)에 기재된 정제 장치를 포함하는, 전기/전자 부품의 정밀 세정용 세정 장치 또는 반도체 웨이퍼의 세정용 세정 장치.
(x) 불소계 용매가 0.1 내지 10 % w/w 아이소프로필 알코올을 갖는 C4F9OCH3인, 상기 (iii)에 기재된 불소계 용매를 포함하는 용액의 정제 방법.
본 발명에서, 전술된 단계들은 조합되고, 이에 의해 하이드로플루오로카본 에테르와 같은 고순도 불소계 용매가 소형 장비를 사용하여 단시간 내에 얻어질 수 있다. 또한, 증류에 의한 재생이 사용되지 않으며, 따라서 이온 오염물질이 재생 공정 동안 생성되지 않는다.
지금까지, 사용된 세정 용액을 정제하여, 반도체 부품의 세정에 사용하기 위한 충분히 고순도인 불소계 용매를 얻는 것은 어려웠지만, 본 발명에서는, 이러한 사용에 적용가능한 불소계 용매가 얻어질 수 있다. 본 명세서에서 고순도 불소계 용매는 용매가 하기의 기준을 충족시키는 것을 의미한다:
수용성 유기 용매 오염 농도가 10 ppb 이하이고,
불소계 용매 중 유기 오염 농도가 20 ppb 이하이며,
불소계 용매 중 0.1 ㎛ 이상의 크기를 갖는 입자의 개수가 10 입자/㎖ 이하이다.
도 1은 본 발명에 사용가능한 정제 장치의 개략도.
본 발명은 적합한 실시 형태를 참조하여 후술된다. 그러나, 당업자는 본 발명이 이들 실시 형태로 한정되지 않음을 쉽게 이해할 수 있다. 이하에서, 본 발명에 의해 HFE-함유 용액(세정 용액)과 같은 오염된 불소계 용매를 정제 및 재생하는 경우가 설명된다.
도 1은 본 발명에 사용가능한 정제 장치의 개략도를 도시한다. 정제 장치(100)는 주요 구성 기구로서, 수용성 유기 용매 제거 기구(1), 활성탄 필터(2), 활성 알루미나 필터(3) 및 입자 제거 필터(미립자 필터)(4)를 포함한다. 활성탄 필터(2) 및 활성 알루미나 필터(3)는 개별 컬럼(column)들 내에 존재할 수 있지만, 도 1에 도시된 바와 같이 이러한 필터들은 동일한 컬럼 내에서 조합될 수 있다. 부가적으로, 활성탄 필터 및 활성 알루미나 필터 순서는 본 발명의 사상을 유지하면서 바뀔 수 있다(즉, 활성 알루미나 필터가 활성탄 필터 전에 있을 수 있다). 또한, 정제 장치(100)는, 필요하다면, 혼합 용액(사용된 세정 용액) 공급 탱크(11), 공급 펌프(12), 순환 펌프(13), 순환 라인(14) 및 용액 전달 펌프(15)와 같은 보조 기구를 포함할 수 있다.
도 1을 참조하면, 수용성 유기 용매 제거 기구(1)는 물 세척 탱크(5) 및 물 제거기(6)를 포함한다. 혼합 용액(사용된 세정 용액) 공급 탱크(11) 내의 사용된 세정 용액(U)은 공급 펌프(12)에 의해 물 세척 탱크(5) 내로 도입된다. 물 세척 탱크(5)는 소정량의 물로 미리 채워져 있다. 물 세척 탱크(5) 내로 도입되는 사용된 세정 용액(U)은 분무기(7)와 같은 분산 수단에 의해 미스트(mist) 또는 비교적 작은 액적으로서 물 내로 도입된다. 이러한 방식으로 도입될 때, 사용된 세정 용액의 표면적과 이어서 물과의 접촉 면적이 증가되어, 수용성 유기 용매 오염물질이 효율적으로 제거될 수 있게 된다. 사용된 세정 용액(U) 내에 포함된 수용성 유기 용매 오염물질은 물에 용해되고, 불소계 용매(HFE)는 물로부터 개별 상(phase)으로서 분리된다. 보다 구체적으로, 이러한 물 세척 단계에서, 불소계 용매 및 수용성 유기 용매 오염물질은, 물 중 불소계 용매의 낮은 용해도와 물 중 수용성 유기 용매 오염물질의 높은 용해도 사이의 차이에 기초하여 분리된다. 따라서, 정제될 불소계 용매는 바람직하게는 수불용성이다. 불소계 용매가 수용성이라 할지라도, 이는 본 발명의 방법에 의해 정제될 수 있다. 그러나, 불소계 용매는 물과 불상용성이고, 수용성 유기 용매 오염물질보다 물 중 가용성이 덜해야 한다. 물에 용해되지 않는 불소계 용매의 일부분만이 정제될 수 있다. 물에 용해된 불소계 용매는, 용해된 불소계 용매를 물로부터 본 발명의 방법에 의해 추출하기 어렵기 때문에, 회수되지 않는다. 따라서, 물 중 불소계 용매와 물 중 수용성 유기 용매의 용해도 차이가 클수록, 수용성 유기 오염물질을 불소계 용매로부터 추출하기 더 쉽다. 수용성 유기 용매 오염물질의 예에는 메탄올, 에탄올 및 이소프로판올과 같은 수용성 알코올, 및 아세톤과 같은 짧은 탄소수의 케톤이 포함된다. 분리된 불소계 용매는 바람직하게는 단지 미량(0.01 wt% 이하)의 수용성 유기 용매 오염물질 및 미량(1 ppm 이하, 바람직하게는 30 ppb 이하)의 이온성 성분을 포함한다. 그러나, 분리된 불소계 용매는 통상적으로 소량의 자유수(free water)를 동반한다. 따라서, 불소계 용매는 물 제거기(6)에 의해 추가로 처리되고, 불소계 용매 함유 용액(HFE 액체 1) 및 수용성 유기 용매 오염물질-함유 폐수(WW)로 분리된다. 물 제거기(6)에 대해서는, 예를 들어 아사히 가세이(Asahi Kasei)(일본 도쿄 소재)에 의해 생산된 유텍(Eutec) 필터와 같은 오일-물 분리기가 사용될 수 있다. 이러한 스테이지(stage)에서, 불소계 용매 함유 용액(HFE 액체 1) 중 수용성 유기 용매 오염물질의 농도가 0.01 wt% 이하이고, 물 함량이 포화수 함량보다 크지 않다면, HFE 액체 1은 활성탄 필터(2)로 전달된다. HFE-함유 용액이 충분히 높은 유체 압력을 갖지 않는 경우, 물 제거기(6) 또는 활성탄 필터(2) 및 후속 단계들에 필요한 유체 압력은 순환 펌프(13) 및/또는 용액 전달 펌프(15)에 의해 얻어질 수 있다. HFE 액체 1 중 수용성 유기 용매 오염물질의 농도가 0.01 wt% 이상이라면, HFE 액체 1은 순환 라인(14)을 통해 수용성 유기 용매 제거 기구(1)로 귀환될 수 있다. 이때, HFE 액체 1을 수용성 유기 용매 제거 기구(1)로 재순환시킴으로써 처리가 2회 이상 수행되는 경우, 수용성 유기 용매 오염물질 농도가, 심지어 보다 작은 물 세척 탱크(5)의 사용에 의해서도 위에서 규정된 농도로 쉽게 감소될 수 있다는 것이 밝혀졌다. 또한, HFE 액체 1 용액을 순환시키는 대신에 둘 이상의 수용성 유기 용매 제거 기구(1)들을 직렬로 연결함으로서 유사한 효과가 얻어질 수 있다.
HFE 액체 1을 동일한 수용성 유기 용매 제거 기구(1)로 순환시키거나 2개의 수용성 유기 용매 제거 기구(1)를 직렬로 사용하는 경우에, HFE 액체 1 및 물의 부피비가 1:1인 것으로 가정하면, 하나의 물 세척 탱크(5)의 크기는 바람직하게는 6 리터 이상, 즉 1 ℓ/min의 공급 당 3분 이상의 체류 시간이다.
부수적으로, HFE 액체 1 중 수용성 유기 용매 오염물질 농도는 기체 크로마토그래피(GC)에 의해 측정될 수 있다.
전술된 바와 같이, 수용성 유기 용매 오염물질의 농도가 약 0.01 wt% 이하의 농도로 감소된 불소계 용매 함유 용액(HFE 액체 1)이 제1의 처리된 용액으로서 얻어진다. 이러한 제1의 처리된 용액은 활성탄 필터(2)로 전달된다. 활성탄 필터(2)는 유기 오염물질을 제거한다. 수용성 유기 용매 오염물질은 활성탄 필터(2)를 통과하기 전에 수용성 유기 용매 제거 기구(1) 내에서의 물 세척에 의해 대부분 제거되므로, 활성탄 필터(2)의 부하는 감소된다. 유기 오염물질의 예에는 탄화수소, 에스테르, 및 실리콘이 포함된다. 활성탄 필터(2) 내의 활성탄의 종류는 동반되는 유기 오염물질 성분에 따라 적당히 선택될 수 있다. 1 내지 2 ㎜의 입자 크기를 갖는 입상(granular) 활성탄이 실시예에서 사용되지만, 분말 활성탄 또는 섬유질 활성탄이 또한 사용될 수 있다. 분말 활성탄은 먼지 발생(dusting)의 가능성을 가지며, 주의 깊게 사용될 필요가 있다. 유용한 구매가능한 활성탄의 예에는, 구라레이 케미칼 컴퍼니, 리미티드(Kuraray Chemical Co., Ltd.)(일본 오사까 소재)에 의해 생산된, 액체상을 위한 활성탄인 구라레이 코울(Kuraray Coal); 저팬 인바이로케미칼스, 리미티드(Japan EnviroChemicals, Ltd.)(일본 오사까 소재)에 의해 생산된 시로사기(Shirosagi); 및 칼곤 미쯔비시 케미칼 코포레이션(Calgon Mitsubishi Chemical Corp)(일본 도쿄 소재)에 의해 생산된 칼곤 및 다이아호프(Diahope)가 포함된다. 활성탄은 사용을 위해 원통형 컬럼과 같은 적당한 컬럼 내에 패킹될 수 있다.
활성탄 필터(2)의 크기는 불소계 용매 함유 용액(HFE 액체 1) 중 유기 오염물질의 농도 및 처리 속도에 따라 적절히 결정된다. 수백 ppb의 유기 오염물질을 포함하는 HFE-함유 용액을 처리하는 경우에, 유기 오염물질 농도는 10 리터, 즉 1 ℓ/min의 공급 당 10분의 체류 시간의 활성탄 필터에 의해 10 ppb 이하로 감소될 수 있다. 부수적으로, 유기 오염물질 농도는 푸리에 변환 적외선 분광기(Fourier transformation infrared spectrometer, FT-IR)에 의해 측정될 수 있다.
활성탄 필터(2)를 통과한 불소계 용매 함유 용액(HFE 액체 1)은 제2의 처리된 용액으로서 얻어지고, 제2의 처리된 용액은 활성 알루미나 필터(3)로 전달된다. 불소계 용매 중 이온성 성분들 대부분은 물 세척에 의해 제거되므로, 활성 알루미나에서의 부하는 낮아진다. 활성 알루미나 필터(3)는 불소계 용매 함유 용액에서 이온 오염물질을 제거한다. 활성 알루미나의 크기는 특별히 한정되지 않지만, 1 내지 2 ㎜ 이상의 입자 직경을 갖는 입상 알루미나가 사용하기 쉽다. 분말형 알루미나는 먼지 발생의 가능성을 가지며, 주의 깊게 사용될 필요가 있다. 특정 제품에 대해서는, 스미또모 케미칼 컴퍼니 리미티드(Sumitomo Chemical Co. Ltd.)(일본 도쿄 소재)에 의해 생산된 KH 시리즈, 및 쇼와 덴꼬 가부시끼 가이샤(Showa Denko K.K.)(일본 도쿄 소재)에 의해 생산된 활성 알루미나가 사용될 수 있다. 활성 알루미나 필터(3)의 크기는 불소계 용매 중 이온 오염물질의 농도 및 처리 속도에 따라 적절히 결정된다. 수십 ppb의 이온 오염물질을 포함하는 HFE-함유 용액을 처리하는 경우에, 이온 오염물질 농도는 5 리터, 즉 1 ℓ/min의 공급 당 5분의 체류 시간의 활성 알루미나 필터에 의해 약 1 ppb 이하로 감소될 수 있다. 부수적으로, 불화물 이온 농도는 이온 미터(ion meter) 또는 불화물 이온 전극을 사용함으로써 측정될 수 있다.
활성 알루미나 필터(3)를 통과한 불소계 용매 함유 용액은 제3의 처리된 용액으로서 얻어지며, 제3의 처리된 용액은 입자 제거 필터(4)로 전달된다. 입자 제거 필터(4)에서, 불소계 용매 함유 용액은 약 0.1 ㎛ 이상의 입자의 개수가 10 입자/㎖ 이하로 감소될 때까지 처리되며, 이럼으로써 재생된 세정 용액(R)이 최종적으로 얻어질 수 있다. 입자 제거 필터(4)는 필터 요소로서 중합체 막(membrane)을 사용하는 필터일 수 있으며, 예를 들어 폴 코포레이션(Pall Corp.)(미국 뉴욕주 이스트 힐스 소재)에 의해 생산된 (0.05 내지 0.2 ㎛용) 얼티클린(UltiKleen) 필터와 같은, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 막과 테트라플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬 비닐 에테르 공중합체(PFA) 하우징으로 이루어진 필터일 수 있다. 필터가 적당한 크기의 입자를 제거할 수 있다면, 다른 필터가 사용될 수도 있다. 그러나, 폴리프로필렌(PP) 또는 폴리에틸렌(PE)으로 제조된 필터를 사용하는 경우에, 중합체 또는 판매자의 종류에 따라 필터로부터 오염물질이 생성될 수 있다. 따라서, 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 및 테트라플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬 비닐 에테르 공중합체(PFA)를 포함하는 필터가 바람직하게 사용된다.
입자 제거 필터(4)의 크기는 길이가 대체로 약 101.6 ㎜(4 인치), 254 ㎜(10 인치), 508 ㎜(20 인치) 또는 762 ㎜(30 인치)이지만, 원하는 유량에 따라 적절히 선택될 수 있다. 일회용 유형의 필터가 또한 사용될 수 있다. 용액 내 입자들의 개수는 액체내 입자 계수기(in-liquid particle counter)로 측정될 수 있다.
제1의 처리된 용액 중의 물을 제거하기 위해, 전술된 아사히 가세이에 의해 생산된 유텍 필터 이외에, 유니온 쇼와 가부시끼 가이샤(Union Showa K.K.)(일본 도쿄 소재)에 의해 생산된 이온 교환 수지 및 분자체(molecular sieve)가 또한 효과적이다. 분자체 및 이온 교환 수지는 바람직하게는 원하는 특성에 따라 선택 및 사용된다. 전술된 활성탄 필터 또는 활성 알루미나 필터가 또한 물 제거 능력을 갖지만, 부하를 감소시키기 위해, 부가적인 물 제거기(6)가 바람직하게는 사용된다.
전술된 기구들을 연결하기 위한 배관(piping) 또는 패킹의 구성 재료에 대해서는, 오염 발생을 피하기 위해, 스테인레스강(SUS), 폴리테트라플루오로에틸렌(PTFE) 또는 테트라플루오로에틸렌-퍼플루오로알킬 비닐 에테르 공중합체(PFA)가 바람직하게는 사용된다. 또한, 가소제의 실질적인 용리(elution)가 일어나지 않는 한, 불소계 수지가 아닌 구성 재료가 사용될 수 있다(예를 들어, 가소제를 사용하지 않는 에틸렌 프로필렌 다이엔 단량체(EPDM), 및 니폰 발쿠아 인더스트리즈, 리미티드(Nippon Valqua Industries, Ltd.)(일본 도쿄 소재)에 의해 생산된 아큐리(Arcury)).
이상의 페이지들에서, 본 발명의 방법은 하기의 순서, 즉 수용성 유기 용매 제거 기구(1)를 사용하는 수용성 유기 용매 오염물질 제거 단계(단계 (1)), 활성탄 필터(2)를 사용하는 유기 오염물질 제거 단계(단계 (2)), 활성 알루미나 필터(3)를 사용하는 이온 오염물질 제거 단계(단계 (3)), 및 입자 제거 필터(미립자 필터)(4)를 사용하는 입자 제거 단계(단계 (4))에 기초하여 설명되었다. 단계 (1)은 활성탄 또는 활성 알루미나 컬럼의 수명을 증가시키기 위해 단계 (2) 및 단계 (3)에 앞서 수행되어야 한다. 수용성 유기 용매 오염물질은, 제거되지 않는다면, 단계 (2) 및 단계 (3)에서 활성탄 또는 알루미나 상에 흡착될 수 있고, 이에 의해 컬럼 수명을 잠재적으로 감소시킨다. 단계 (2) 및 단계 (3)의 순서는 어떠한 알려진 염려도 없이 바뀔 수 있다. 더욱이, 단계 (4)는 단계 (2) 및 단계 (3) 동안에 도입될 수도 있는 어떠한 잠재적인 미립자도 제거하기 위해, 단계 (2) 및 단계 (3) 후에 수행되어야 한다.
본 발명의 정제 방법은 개별 자립형 정제 장치에서 또는 세정 장치와 통합된 인-라인 정제 장치에서 수행될 수 있다. 세정 장치의 일부로서의 포함이 바람직한데, 그 이유는 정제 장치가 소형화될 수 있기 때문이다.
전기/전자 부품의 정밀 세정에서 또는 반도체 웨이퍼의 세정에서, 미세 배선 등이 배치되므로, 예를 들어 세정 용액 내에 남아있는 미량의 유기 불순물 또는 이온 오염물질이 도체 파괴와 같은 고장을 일으킨다. 따라서, 이들 오염물질을 만족스럽게 제거할 수 있는 본 발명의 방법에 의해 재생된 세정 용액은 그러한 세정에 유리하게 사용될 수 있다. 또한, 세정 장치 내에서의 세정 용액 재생 공정의 인-라인 배치는 본 발명을 실행하기 위한 장치를 세정 장치와 조합함으로써 달성될 수 있어, 고-순도 불소계 용매가 세정 장치에 항상 공급될 수 있게 한다.
본 발명에 사용된 불소계 용매에는 분리형 하이드로플루오로카본 에테르(HFE), 비-분리형 HFE, 하이드로플루오로폴리에테르, 하이드로플루오로카본 또는 하이드로클로로플루오로카본이 포함된다. 부수적으로, 분리형 HFE에서, 에테르 산소를 통해 결합된 알킬 또는 알킬렌 세그먼트와 같은 HFE의 세그먼트는 퍼플루오르화되거나(예를 들어, 퍼플루오로카본) 플루오르화되지 않고(예를 들어, 탄화수소), 따라서 이들은 부분적으로 플루오르화되지 않는다. 비-분리형 HFE에서, 에테르 산소를 통해 결합된 세그먼트들 중 적어도 하나는 퍼플루오르화된 것도 아니고, 비-플루오르화된 것도 아니고, 부분적으로 플루오르화된다(즉, 불소 원자 및 수소 원자의 혼합물을 포함함). 본 발명의 정제 방법에 사용되는 불소계 용매에는 0.1 내지 10 wt%의 아이소프로판올을 포함하는 쓰리엠(3M) 노벡(Novec) 7100이 포함된다. 또한, 본 발명의 정제 방법에 사용되는 불소계 용매에는, 불소계 용매 이외에, 메탄올, 에탄올, 프로판올 또는 아이소프로판올이 포함될 수 있다.
구체적으로, 본 발명에 유용한 불소계 용매에는 하기의 용매가 포함된다.
분리형 HFE
c-C6F11CF2OC2H5,
c-C6F11CF2OCH3, 4-CF3-c-C6F10CF2OCH3,
CH3OCF2-c-C6F10CF2OCH3, C4F9OC2H5,
C4F9OCH3, c-C6F11OCH3, (CF3)2CFCF2OCH3, (CF3)2CFCF2OC2H5, C8F17OCH3,
C2F5CF(OCH3)CF(CF3)2, CF3CF(OCH3)CF(CF3)2, C5F11OCH3, C5F11OC2H5, C3F7OCH3,
비-분리형 HFE, C8F17-O-C2F4H, C7F15-O-C2F4H, C6F13-O-C2F4-O-CF2H,
C4F9-O-C2F4H, HCF2CF2-O-CF2CF2-O-CF2CF2H, C4F9-O-(CF2)5H, C5F11-O-(CF2)5H,
C8F17-O-(CF2)5H, C4F9-O-CF2C(CF3)2CF2H,
H(CF2)4-O-(CF2)4H, Cl(CF2)4-O-(CF2)4H, C6F13-O-C2F4H,
C4F9-O-(CF2)4-O-(CF2)3H,
(C2F5)2CFCF2-O-C2F4H, c-C6F11CF2-O-C2F4H, C4F9-O-C2F4-O-C3F6H,
C6F13-O-C4F8H, C6F13-O-C3F6H, C5F11-O-(CF2)4H, C4F9-O-C3F6H,
C8F17OCF2OC3F6H, HC3F6OC3F6H,
C5F11OCF2C(CF3)2CF2H, (C4F9O)2CFCF2H, CF3O(CF2)9H, 및 (아이소-C3F7)2CFOC2F4H.
또한, 이는 CF3CFHCFHC2F5, CF3CH2CF2CH3, CF3CF2CHCl2, CClF2CF2CHClF, 2-클로로-1,1,12-트라이플루오로메틸 에틸 에테르, 테트라플루오로에틸 메틸 에테르, 및 테트라플루오로에틸 에틸 에테르를 포함한다.
본 발명을 실시예를 참조하여 하기에 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로 한정되지 않는다. 실시예에서, 하기의 기구, 측정 방법 및 재료를 사용하였다.
기구:
물 세척 탱크(5): 60 리터의 드럼 체적
물 분리기(6): 아사히 가세이에 의해 생산된 유텍 필터 TH 시리즈
활성탄 필터(2): 다께다 케미칼 인더스트리즈, 리미티드(Takeda Chemical Industries, Ltd.)(일본 오사까 소재)에 의해 생산된 2,600 ㎤의 WH2C(입자 크기가 8 내지 32 메쉬이고 비표면적(specific surface area)이 1,200 ㎡/g인 활성탄)가 내부에 패킹된, 스테인레스강(SUS)으로 만들어진 원통형 컬럼
활성 알루미나 필터(3): 스미또모 케미칼 컴퍼니, 리미티드(일본 도쿄 소재) 에 의해 생산된 1,300 ㎤의 KHO-12(입자 직경이 1 내지 2 ㎜이고 비표면적이 140 내지 190 ㎡/g인 알루미나)가 내부에 패킹된, 스테인레스강(SUS)으로 만들어진 원통형 컬럼
입자 제거 필터(4): 폴 코포레이션(미국 뉴옥주 이스트 힐스 소재)에 의해 생산된 (0.05 ㎛용 및 0.1 ㎛용) 얼티클린 필터. 엠플론(Emflon) 및 이온클린(IonKleen)-SL (둘 모두 폴 코포레이션으로부터 입수가능)이 또한 실시예 4에서 사용된다.
측정 방법:
알코올 농도의 측정 방법
불소계 용매 중 알코올 농도를 휴렛 팩커드(Hewlett Packard)에 의해 제조된 기체 크로마토그래프 HP6890을 사용하여 측정하였다. 부수적으로, 기체 크로마토그래프에 의해 얻어진 농도를 중량 농도로 환산하기 위해, 불소계 용매 및 알코올의 혼합 용액을 사용하여 보정 곡선(calibration curve)을 만들었다. 알코올은 정제될 용액에 첨가된 것과 동일한 것이었다. 실시예에서, 불소계 용매 중 알코올 농도에 대한 데이터만이 나타나 있지만, 실제로는 분리된 수상(water phase) 중 알코올 농도를 또한 동일한 방식으로 측정하였다.
유기 오염물질의 측정 방법
소정량의 샘플을 깨끗한 비커 내에 넣고, 50℃의 오븐을 사용하여 용매 성분을 증발시켰다. 잔류물의 중량을 측정하였고 잔류물 중량이라 명명하였다. 이러한 잔류물을 와코 퓨어 케미칼 인더스트리즈, 리미티드(Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)(일본 오사까 소재)로부터의 소정량의 사염화탄소(순도 99.5% 이상) 중에 용해시키고, 생성된 용액을 퍼킨 엘머(Perkin Elmer)(미국 매사추세츠주 웰즐리 소재)에 의해 제조된 푸리에 변환 적외선 분광기(FT-IR) 1600 시리즈에 의해 분석하였다. 이후에, 추출된 탄화수소, 에스테르 및 실리콘의 양을 각각, 스쿠알란(squalane)(순도 98% 이상), 비스(2-에틸헥실)프탈레이트(DOP)(순도 97% 이상)(둘 모두 와코 퓨어 케미칼 인더스트리즈, 리미티드(일본 오사까 추오꾸 소재)로부터 입수가능), 및 신-에쯔 케미칼 컴퍼니, 리미티드(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)(일본 도쿄 소재)로부터의 실리콘 오일 KF-96으로부터 만들어진 보정 곡선을 사용하여 정량적으로 환산하였다.
다양한 이온들의 농도 측정 방법(이온 크로마토그래피)
샘플을 고밀도 폴리에틸렌(high-density polyethylene, HDPE)으로 만들어진 깨끗한 플라스틱 병 내에 넣고, 동일 중량의 초순수(ultrapure water)(밀리포어 저팬(Millipore Japan)(일본 도쿄 소재)으로부터의 밀리(Milli)-Q 울트라퓨어 워터 퓨리피케이션 시스템(Ultrapure Water Purification System)에 의해 정제됨)를 첨가한 후, 플라스틱 병을 진탕기(shaker)를 사용하여 2시간 동안 진탕시킴으로써, 불소계 용매 중 이온을 수성 층으로 추출하였다. 이어서, 수성 층(상층)을 디오넥스(Dionex)(미국 캘리포니아주 서니베일 소재)에 의해 제조된 이온 크로마토그래프 DX320 내에 주입하여, 용액 중 이온의 양을 결정하였다. 이러한 측정에 사용된 초순수 내에 근본적으로 존재하는 이온 농도를 보정하기 위해, 초순수의 이온 농도를 샘플의 이온 농도로부터 뺐다. 이온 크로마토그래피의 검출 한계는 약 0.01 ppb이 다.
pH 측정 방법
샘플을 깨끗한 플라스틱 병에 넣고 동일 중량의 초순수를 첨가한 후, 플라스틱 병을 진탕기를 사용하여 2시간 동안 진탕시켰다. 후속적으로, 수성 층(상층)의 pH를 측정하였다. 측정을 위해, 오리온 리서치 인크.(Orion Research Inc.)(미국 매사추세츠주 보스톤 소재)에 의해 제조된 모델 920A pH 미터를 사용하였다.
용액 내 입자 개수의 측정 방법
용액을 깨끗한 용기로 옮기고 용액 내 입자 개수를 리온 컴퍼니, 리미티드(Rion Co., Ltd)(일본 도쿄 소재)에 의해 제조된 액체-내 입자 계수기 KS-40A를 사용하여 측정하였다. 측정된 입자 개수는 ㎖ 당 입자 개수로 환산하였다.
물 부피의 측정 방법
샘플 내 물 부피를 미쯔비시 케미칼 코포레이션(일본 도쿄 소재)에 의해 제조된 칼-피셔 유형 수량계(Karl-Fischer type water meter) CA-21을 사용하여 측정하였다.
사용한 재료
스미또모 쓰리엠(Sumitomo 3M)(일본 도쿄 소재)으로부터 상표명 "쓰리엠 노벡™ HFE-7100"으로 입수된 하이드로플루오로카본 에테르
아사히 글래스 컴퍼니, 리미티드(Asahi Glass Company, Ltd.)로부터 상표명 "AE-3000"으로 입수된 하이드로플루오로카본 에테르: HFE-347pc-f CHF2CF2OCH2CF3)
IPA: 와코 퓨어 케미칼 인더스트리즈, 리미티드로부터의 아이소프로필 알코올(순도 99.5% 이상)
EtOH: 와코 퓨어 케미칼 인더스트리즈, 리미티드로부터의 에탄올(순도 99.5% 이상)
[0035]
각각의 기구의 성능을 확인하기 위한 시험을 수행하였다.
실시예 1 (수용성 유기 용매 오염물질 제거 단계)
시험 1:
시뮬레이션된 오염된 불소계 세정 용액을 쓰리엠 노벡™ 7100 및 다양한 농도의 IPA를 사용하여 제조하였다. 이러한 시뮬레이션된 오염된 세정 용액을 물 세척 탱크 및 물 제거기를 포함하는 수용성 유기 용매 제거 기구를 사용하여 처리하여, IPA를 제거하였다. 처리 후의 IPA 농도가 하기 표 1에 나타나 있다. 처리 후의 IPA 농도를 상기 "알코올 농도의 측정 방법"에 기재된 바와 같이 기체 크로마토그래프를 사용하여 측정하였다.
시험 2:
이어서, 다양한 IPA 농도로 처리된 용액을 물 세척 탱크 및 물 제거기에 다시 통과시켜 상이한 처리 시간으로 IPA를 제거하였다. 이러한 처리 후의 IPA 농도를 기체 크로마토그래프를 사용하여 측정하였다. 이러한 제2 처리에 대한 결과가 하기 표 2에 나타나 있다.
시험 3:
다른 시뮬레이션된 오염된 불소계 세정 용액을 쓰리엠 노벡™ 7100 및 5 wt% IPA로 제조하였다. 이러한 시뮬레이션된 오염된 불소계 세정 용액을 물 세척 탱크 및 물 제거기에 통과시켜 IPA를 제거하였다. 다양한 처리 시간을 사용하였고 얻어진 IPA 농도를 측정하였다. 결과가 하기 표 3에 나타나 있다.
시험 4:
쓰리엠 노벡™ 7100 및 10 wt% IPA를 포함하는 또 다른 시뮬레이션된 오염된 불소계 세정 용액을 사용하여, 시뮬레이션된 오염된 불소계 세정 용액을 물 세척 탱크 및 물 제거기를 통과시켜 IPA를 제거하였다. 다양한 처리 시간 및 처리 횟수를 사용하였다. 얻어진 IPA 농도를 측정하였고 결과가 표 4에 나타나 있다.
실시예 2 (활성탄 필터를 사용한 유기 오염물질 제거 단계)
시험 1:
탄화수소 및 에스테르로 오염된 쓰리엠 노벡™ 7100을 이 시험에 사용하였다. 유기 오염물질의 제거에 사용된 활성탄 필터는 2개의 상이한 탄소 공급원으로 구성되었다. 구라레이 케미칼 컴퍼니, 리미티드(일본 오사까 소재)에 의해 생산된 액체상을 위한 활성탄인 구라레이 코울은 표 5에서 컬럼 번호 1이며, 저팬 인바이로케미칼스, 리미티드(일본 오사까 소재)에 의해 생산된 시로사기(Shirosagi)는 표 5에서 컬럼 번호 2이다. 유기 오염물질(탄화수소 및 에스테르)의 농도를 상기 "유기 오염물질의 측정 방법"에 의해 측정하였다. 결과가 하기 표 5에 나타나 있다.
시험 2:
번호 2 (시로사기)를 사용하여, 하이드로플루오로카본 에테르의 용액을 컬럼을 통해 추출하여 유기 오염물질을 제거하였다. 소정량의 활성탄을 깨끗한 컬럼 내에 넣었다. 쓰리엠 노벡™ 7100을 오염시켜 사용된 조건을 시뮬레이션하였다. 이어서, 시뮬레이션된 오염된 쓰리엠 노벡™ 7100 용액을 컬럼 내에 붓고 활성탄에 5분 동안 노출시켰다. 첨가된 용액 대 활성탄의 양의 부피 대 부피(V/V) 비의 영향을 변화시켰다. 결과가 하기 표 6에 나타나 있다.
실시예 3 (활성 알루미나 필터를 사용한 이온 오염물질 제거 단계)
시뮬레이션된 오염된 쓰리엠 노벡™ 7100의 용액을 앞서 설명된 활성 알루미나 필터를 통해 통과시켰다. 2회의 상이한 실험을 수행하였는데, 제1 실험에서 활성 알루미나는 156 ㎡/g의 표면적을 가졌고 제2 실험에서는 190 ㎡/g의 표면적을 가졌다. 이온 오염물질 농도를 "다양한 이온의 농도 측정 방법"에 의해 측정하였다. 실험 1 및 실험 2에 사용된 용액은 상이한 오염된 노벡 용기으로부터 유래하여서, 이들은 시험 전에 상이한 F 음이온 오염 수준을 갖는다. 결과가 하기 표 7에 나타나 있다.
실시예 4 (입자 필터를 사용한 입자 제거 단계)
시험 1:
입자 필터가 추가의 오염물질을 불소계 용매 세정 용액에 도입하지 않음을 보장하기 위해, HFE의 용액을 다양한 입자 필터를 통해 통과시켰고, 유기 오염물질을 "유기 오염물질의 측정 방법"에 의해 푸리에 변환 적외선 분광기(FT-IR)를 사용하여 분석하였다. 각각의 필터를, 유기 오염물질 분석을 위해 샘플을 여과하기 전에 쓰리엠 노벡™ 7100으로 세척하였다. 어떠한 필터를 통해서도 통과되지 않은 HFE 용액을 또한 시험하였고, 입자 필터로 인한 유기 오염물질의 증가량이 하기 표 8에 보고되어 있다. 각각의 필터에 대해 2회 실험을 수행하였다. 표 8에 각각의 필터 유형에 대한 재료가 또한 나타나 있다.
시험 2:
후속적으로, 쓰리엠에 의해 생산된 노벡™ 7100 내의 입자를 제거하는 시험을 얼티클린 필터를 사용하여 수행하였다. HFE 용액을 9개의 분취물로 나누고, 하나의 분취물은 여과하지 않았고, 나머지 8개의 분취물은 얼티클린 필터를 통해 여과하였다. 이어서, 각각의 분취물을 "용액 내 입자 개수의 측정 방법"에 의해 측정하였다. 결과가 하기 표 9에 나타나 있다.
또한, 전술된 바와 같이 처리된 3 로트(lot)의 쓰리엠 노벡™ 7100 용액으로부터 유도된 HFE 용액을 또한 "유기 오염물질의 측정 방법"에 의해 측정하였다. 결과가 하기 표 10에 나타나 있다.
표 10의 결과 및 실시예 4의 시험 1의 여과되지 않은 HFE 오염물질 수준의 비교로부터, 필터로부터의 유기 잔류물에 의한 유기 오염을 초래함이 없이 입자들이 제거될 수 있음을 알게 된다.
실시예 5
약 5 wt%의 아이소프로필 알코올(IPA)을 포함하는 시뮬레이션된 오염된 HFE 세정 용액을 본 실시예 섹션의 시작부에서 전술된 기구를 사용하여 재생시켰다. 사용된 HFE는 쓰리엠에 의해 생산된 노벡™ 7100이었다.
물 세척 탱크 내 용액은 물:(HFE/IPA) = 1:1 (질량 기준)의 조성을 가졌고, 배치 처리(batch processing)에 의해 처리를 2회 수행하였다. 제1 처리 시간은 5분이었으며, 뒤이어 물을 신선한 물로 교체한 후 추가 1분간 세척하였다. 공정 편차를 알기 위해 시험을 5회 반복하였다. IPA 농도를 각각의 처리된 용매에 대해 "알코올 농도의 측정 방법"에 의해 측정하였다. 이들 동일 샘플들에 대해, 불화물 이온 오염물질, 물 함량 부피 및 pH를 전술된 방법에 의해 또한 측정하였다. 결과가 하기 표 11에 나타나 있다.
그리고 나서, "실험 3"의 샘플 스트림(stream)을 물 제거기로부터 활성탄 필터로, 이어서 활성 알루미나 필터로, 그리고 마지막으로 입자 필터를 통해 통과시켰다. 처리 후 IPA 농도, 유기 오염물질 및 입자 개수를 전술된 방법에 의해 측정하였다. 결과가 하기 표 12에 나타나 있다. 표에서의 접촉 시간은 활성탄 필터 및 활성 알루미늄 필터를 포함하는 컬럼에서의 접촉 시간을 의미한다.
실시예 6
10 wt%의 에탄올을 포함하는 HFE-347-pcf (CHF2CF2OCH2CF3)에 대해 시험을 수행하였다. 불소계 용매 및 에탄올을 포함하는 용액을 5분 세척한 후 5분 더 세척하였다. 두번째 5분 세척 전에, 물 세척 탱크 내의 물을 깨끗한 물로 교체하였다. 용액의 일부를 분석을 위해 표 13에 나타낸 시간에서 탱크로부터 취하였다.
조건:
용액: 10 wt%의 에탄올을 포함하는 HFE-347-pcf
물 세척 탱크의 조건:
물:HFE/에탄올 혼합 용액 = 1:1 (질량 기준)
처리 시간:
제1 단계: 1 내지 5분, 제2 단계: 1 내지 5분 (제2 단계 전에, 물을 새로운 물로 교체하였음)
각각의 샘플의 에탄올 농도를 측정하였다. 결과가 하기 표 13에 나타나 있다.
세척 후 샘플 8 스트림을 활성탄 필터를 통해, 활성 알루미나 필터를 통해, 그리고 마지막으로 입자 필터를 통해 통과시켰다. 처리 후 유기 오염물질 및 입자 개수를 전술된 방법에 의해 측정하였다. 결과가 하기 표 14에 나타나 있다.
Claims (10)
- 불소계 용매, 수용성 유기 용매 오염물질, 유기 오염물질 및 이온 오염물질을 포함하는 혼합 용액으로부터 불소계 용매를 정제하기 위한 방법인, 불소계 용매를 포함하는 혼합 용액의 정제 방법으로서,단계 (1): 혼합 용액을 물로 세척하여, 수용성 유기 용매 오염물질 농도가 0.01 wt% 이하로 감소된 제1의 처리된 용액을 얻는 단계,단계 (2): 상기 제1의 처리된 용액을 활성탄으로 처리하여, 유기 오염물질 농도가 20 ppb 이하로 감소된 제2의 처리된 용액을 얻는 단계,단계 (3): 상기 제2의 처리된 용액을 활성 알루미나로 처리하여, 불화물 이온 오염물질이 10 ppb 이하로 감소된 제3의 처리된 용액을 얻는 단계, 및단계 (4): 상기 제3의 처리된 용액을 입자 제거 필터로 처리하여, 0.1 ㎛ 이상의 크기를 갖는 입자의 개수가 10 입자/㎖ 이하인 불소계 용매를 얻는 단계를 포함하는 정제 방법.
- 불소계 용매, 수용성 유기 용매 오염물질, 유기 오염물질 및 이온 오염물질을 포함하는 혼합 용액으로부터 불소계 용매를 정제하기 위한 방법인, 불소계 용매를 포함하는 혼합 용액의 정제 방법으로서,단계 (1): 혼합 용액을 물로 세척하여, 수용성 유기 용매 오염물질 농도가 0.01 wt% 이하로 감소된 제1의 처리된 용액을 얻는 단계,단계 (2): 상기 제1의 처리된 용액을 활성 알루미나로 처리하여, 불화물 이온 오염물질이 10 ppb 이하로 감소된 제2의 처리된 용액을 얻는 단계,단계 (3): 상기 제2의 처리된 용액을 활성탄으로 처리하여, 유기 오염물질 농도가 20 ppb 이하로 감소된 제3의 처리된 용액을 얻는 단계, 및단계 (4): 상기 제3의 처리된 용액을 입자 제거 필터로 처리하여, 0.1 ㎛ 이상의 크기를 갖는 입자의 개수가 10 입자/㎖ 이하인 불소계 용매를 얻는 단계를 포함하는 정제 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 불소계 용매가 분리형(segregated) 하이드로플루오로카본 에테르(HFE), 비-분리형(non-segregated) HFE, 하이드로플루오로폴리에테르, 하이드로플루오로카본 또는 하이드로클로로플루오로카본인, 불소계 용매를 포함하는 용액의 정제 방법.
- 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 단계 (1)에서, 물 세척 탱크 및 물 제거기를 포함하는 수용성 유기 용매 제거 기구를 사용하여, 상기 혼합 용액을 상기 물 세척 탱크 내에서 물로 세척하여 수용성 유기 용매 오염물질을 제거하고 나서, 물을 세척된 용액으로부터 물 제거기에 의해 제거하는 정제 방법.
- 제4항에 있어서, 상기 단계 (1)에서, 수용성 유기 용매 오염물질의 제거는 혼합 용액을 상기 물 세척 탱크 및 상기 물 제거기를 포함하는 상기 수용성 유기 용매 제거 기구를 통해 2회 이상 통과시킴으로써 수행되는 정제 방법.
- 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 혼합 용액은 세정을 위해 1회 이상 소비된 사용된 세정 용액이고, 사용된 세정 용액은 상기 정제 방법에 의해 재생되는 정제 방법.
- 제6항에 있어서, 상기 세정 용액은 전기/전자 부품의 정밀 세정을 위한 세정 용액이거나, 반도체 웨이퍼를 세정하기 위한 세정 용액인 정제 방법.
- 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항의 정제 방법에 사용되는 용액 정제 장치인 정제 장치로서,상기 단계 (1)을 수행하기 위한 수용성 유기 용매 제거 기구,상기 단계 (2)를 수행하기 위한 활성탄 필터,상기 단계 (3)을 수행하기 위한 활성 알루미나 필터, 및상기 단계 (4)를 수행하기 위한 입자 제거 필터를 포함하는 정제 장치.
- 전기/전자 부품 또는 반도체 웨이퍼를 세정하기 위한 세정 장치와 함께 제8항의 정제 장치를 포함하는, 전기/전자 부품의 정밀 세정용 세정 장치 또는 반도체 웨이퍼의 세정용 세정 장치.
- 제3항에 있어서, 불소계 용매가 0.1 내지 10 % w/w 아이소프로필 알코올을 갖는 C4F9OCH3인, 불소계 용매를 포함하는 용액의 정제 방법.
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