KR20050001445A - 반전된 웨이퍼 투영 광학 인터페이스를 사용한 이머젼포토리소그래피 시스템 및 방법 - Google Patents

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Abstract

액체 이머젼 포토리소그래피 시스템은, 전자기 방사광으로 기판을 노광시키고 기판 상에 전자기 방사광을 초점 맞추는 투영 광학 시스템을 포함하는 노광 시스템을 구비한다. 액체 공급 시스템은 투영 광학 시스템과 기판 간에 액체를 공급한다. 투영 광학 시스템은 기판 아래에 위치한다.

Description

반전된 웨이퍼 투영 광학 인터페이스를 사용한 이머젼 포토리소그래피 시스템 및 방법{IMMERSION PHOTOLITHOGRAPHY SYSTEM AND METHOD USING INVERTED WAFER-PROJECTION OPTICS INTERFACE}
본 발명은 액체 이머젼 포토리소그래피(liquid immersion photolithography)에 관한 것으로, 특히 이머젼 포토리소그래피 시스템에서 액체 흐름(liquid flow)을 한정하기 위한 방법 및 시스템에 관한 것이다.
렌즈 시스템 및 반사굴절 시스템(catadioptric systems)을 사용하는 광학 리소그래피(optical lithography)는 회로 패턴(circuit patterns)을 프린트하기 위하여 반도체 제조 산업에서 널리 사용된다. 지금까지, 최종 렌즈 소자와 반도체 웨이퍼 표면 간의 갭은 가스, 보통은 공기 또는 질소로 채워졌다. 이러한 가스 갭은, 특히 웨이퍼가 노광(exposure) 동안 광학계(optics) 하에서 스캐닝되고 이미지 전사(image transfer) 동안 웨이퍼와 렌즈 시스템 간에 상대적인 이동(relative movement)이 있는 경우에, 잘 기능한다.
광학 리소그래피의 실제상의 한계는, 이미징(imaging)이 발생하는 매질(medium)이 공기라고 가정한다. 이 실제상의 한계는 공식에 의하여 정의되는데, 여기서 λ는 입사광의 파장이고, NA는 투영 광학 시스템의 개구수(numerical aperture)이며, n은 매질의 굴절율(index of refraction)이다{여기서 4는 오프 액시스 조명(off axis illumination)의 사용으로 인하여 2 대신에 사용된다}. 최종 렌즈 소자와 웨이퍼 표면 간의 가스 인터페이스는 광학 시스템의 최대 해상도를 1.0 미만의 개구수로 제한한다. 최종 렌즈 소자와 웨이퍼 표면 간의 가스 공간이 기름 또는 물과 같은 굴절 물질로 채워질 수 있다면, 시스템의 개구수 및 이로 인한 해상력(resolution capability)이 굴절율 n에 대응하여 크게 향상될수 있다.
그러므로, 투영 광학 시스템의 마지막 렌즈 소자와 이미징되고 있는 웨이퍼 간에 액체를 투입함으로써, 굴절율이 변하여, 광원(light source)의 더 낮은 유효 파장으로 향상된 해상도를 가능하게 한다. 이머젼 리소그래피는 (예를 들면, n = 1.365에 대하여) 157nm 광원을 115nm 파장으로 효율적으로 낮추어서, 오늘날 산업계가 사용하는데 익숙한 동일한 포토리소그래피 도구로 임계층(critical layers)을 프린트하는 것을 가능하게 한다.
마찬가지로, 이머젼 리소그래피는 (n = 1.33에 대하여) 193nm 리소그래피를, 예를 들면 145nm로 낮출 수 있다. 435nm, 405nm, 365nm, 248nm, 193nm 및 157nm 도구들 모두 효과적으로 더 나은 해상도를 달성하고 사용 가능한 파장을 "확장(extend)"시키기 위하여 사용될 수 있다. 또한, 많은 양의 CaF2, 하드 펠리클(hard pellicles), 질소 퍼지(nitrogen purge) 등이 회피될 수 있다. 초점 심도(depth of focus)도, 예를 들면 LCD 패널 제조에 유용할 수 있는 액체 이머젼을 사용하여 향상될 수 있다.
그러나, 이머젼 포토리소그래피의 유망성에도 불구하고, 다수의 문제점이 남아 있는데, 이러한 문제점으로 인하여 이제까지 이머젼 포토리소그래피 시스템의 상업화가 방해되었다. 기존의 이머젼 포토리소그래피 시스템의 하나의 문제점은, 투영 광학 시스템과 노광되고 있는 웨이퍼 간의 인터페이스에 사용되는 액체를 한정(confining)하는데 있어서의 어려움을 포함한다. 종래의 시스템에서, 액체는 투영 광학 시스템과 웨이퍼 간에 주입된다. 매우 복잡한 시스템이 액체를 한정하는 것을 유지하기 위하여 제안되어 왔다.
웨이퍼가 노광 영역으로부터 이동되어 유출되는 웨이퍼의 스캐닝 동작이 있는 곳에서는, 또 다른 문제점이 있다. 또한, 이러한 유출은, 액체의 고유한 점도 특성(inherent viscosity properties)으로 인하여 웨이퍼가 투영 광학 시스템 아래에 존재할 때에도 문제가 될 수 있다.
따라서, 투영 광학 시스템과 웨이퍼 간에 액체를 한정하는 간단한 시스템 및 방법이 필요하다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 액체 이머젼 포토리소그래피 시스템의 단면도.
도 2는 도 1의 시스템의 등척도(isometric view).
< 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 >
100 투영 광학 시스템
101 웨이퍼
102a, 102b 렌즈 소자
103 하우징
106 웨이퍼 표면
108 메니스커스
110 개구
본 발명은, 종래 기술에서의 하나 이상의 문제점 및 단점을 실질적으로 제거하는, 반전된 웨이퍼 투영 광학 인터페이스를 사용하는 이머젼 포토리소그래피 시스템 및 방법을 목적으로 한다.
액체 이머젼 포토리소그래피 시스템이 제공되는데, 본 시스템은, 전자기 방사광(electromagnetic radiation)으로 기판을 노광시키고, 또한 기판에 전자기 방사광을 초점 맞추는 투영 광학 시스템(projection optical system)을 포함하는 노광 시스템(exposure system)을 구비한다. 액체 공급 시스템은 투영 광학 시스템과 기판 간에 액체를 제공한다. 투영 광학 시스템은 기판 아래에 위치한다.
다른 특징에 따르면, 액체 이머젼 포토리소그래피 시스템이 제공되는데, 본 시스템은, 전자기 방사광으로 기판을 노광시키고, 또한 기판에 전자기 방사광을 초점 맞추는 투영 광학 시스템을 포함하는 노광 시스템을 구비한다. 액체를 제공하기 위한 수단은 투영 광학 시스템과 기판 간에 액체를 제공한다. 투영 광학 시스템은 기판 아래에 위치한다. 메니스커스는 투영 광학 시스템과 웨이퍼 간에 형성된다.
본 발명의 또 다른 특징에 따르면, 기판을 노광시키는 방법이 제공되는데, 본 방법은 기판 아래에 투영 광학 시스템을 위치시키는 단계, 투영 광학 시스템을 사용하여 기판에 전자기 방사광을 투영하는 단계, 및 투영 광학 시스템과 기판 간에 액체를 전달하는 단계를 포함한다.
본 발명의 다른 특징 및 이점은 후술된다. 그러나 또 다른 특징 및 이점은 본 명세서에서 개시된 설명을 기초로 하면 당업자에게 자명할 것이고 본 발명의 실시에 의하여 습득될 수 있다. 본 발명의 이점은 첨부된 도면뿐만 아니라 개시된 설명 및 청구범위에 특히 지적된 구조에 의하여 실현되고 달성될 것이다.
상기 일반적인 설명 및 후술하는 상세한 설명 모두는 예시적이고 설명적이며 청구범위에 기재된 대로 본 발명을 더 설명하기 위한 의도이다.
본 발명의 예시적인 실시예의 더한 이해를 제공하기 위하여 포함되고, 본 명세서에 포함되어 본 명세서의 일부를 구성하는 첨부된 도면은, 본 발명의 실시예를 설명하고, 설명과 함께 본 발명의 원리를 설명하는 기능을 한다.
본 발명의 실시예를 상세히 참조하고, 그 예는 첨부된 도면에서 설명된다.
본 발명에 의하면, 투영 광학 시스템의 최종 렌즈 소자와 웨이퍼 표면 간의 공간이 액체로 채워질 수 있다. 이로 인하여, 광학 시스템의 유효 개구수가 크게증가한다. 액체의 양은 중력 및 액체에 대한 압력 제어의 조합을 사용하여 포함되고 제자리에 유지된다. 투영 광학 시스템(노광 시스템)은 현재 사용 중인 종래의 시스템과 비교하여 반전된다. 환언하면, 종래의 시스템은 아래쪽으로 또는 그 쪽으로(to the side) 노광하는 반면에, 본 발명의 투영 광학 시스템은 위쪽으로 노광한다. 웨이퍼는 레지스트 코팅 표면(resist-coated surface)을 아래로 하여 노광되고, 레지스트는 액체 메니스커스(liquid meniscus)와 접촉한다. 웨이퍼 스캐닝 동안, 메니스커스는 웨이퍼의 레지스트 코팅 표면을 가로지른다.
본 발명에 의하면, 웨이퍼의 에지가 광학계를 가로지르는 동안에도, 갭을 채우는 액체가 제자리에 유지될 수 있다. 액체를 갖는 투영 광학 시스템의 하우징(housing)은, 액체 인터페이스를 유지하면서, 웨이퍼의 에지에서 떨어져서 스캔되고 웨이퍼 상으로 다시 스캔될 수 있다. 하우징 주변의 집수구(catch basins)는 배출된 임의의 액체를 받고 포함한다. 액체 메니스커스는 액체 압력에 의하여 제어된다. 그러므로, 이러한 인터페이스는 다수의 유형의 액체와 쉽게 양립 가능하다.
도 1은 본 발명에 따른 액체 이머젼 포토리소그래피 시스템의 일 실시예를 도시한다. 도 1에 도시된 바와 같이, 투영 광학 시스템(100)은 웨이퍼(101) 아래에 위치된다. 웨이퍼(101)는 레지스트로 코팅된 웨이퍼 표면(106)을 포함한다. 투영 광학 시스템(100)은 복수의 렌즈 소자(102a, 102b 등)를 포함한다. 렌즈 소자(102a, 102b)는 하우징(103) 내에 장착된다. 하우징(103)의 상부는, 이미지를 웨이퍼(101) 상에 투영하기 위한 개구(opening; 110)를 포함한다. 도 1에서 하우징(103)의 상부가 수평으로 도시되어 있지만, 꼭 그런 것은 아니다.
렌즈(102a)와 하우징(103)의 상부 간의 영역(도 1에서 참조 번호 107로 표시됨)은 압력 제어되고 액체 씰(liquid seal; 104)에 의하여 투영 광학계(100)의 나머지로부터 밀폐된다. 영역(107)은, 중력의 힘을 상쇄시키도록 보통 액체원(도 1에 도시되지 않음)으로부터의 압력 하에서 액체로 채워진다. 노광 동안, 액체는 도 1에 도시된 바와 같이 메니스커스(108)를 형성한다. 집수구(105)는, 웨이퍼(101)가 수평 축을 따라서 스캔될 때 발생할 수 있는 임의의 스트레이 액체(stray liquid)를 제거하기 위하여 사용된다. (도 1에 도시된 것과 비교하여) 더 많거나 적은 집수구가 사용될 수 있다는 것을 이해할 것이다. 또한, 집수구(105)는 하우징(103) 주위에서 고리 모양일 수 있다.
본 발명에서 중력이 액체를 한정하데 작용할 수 있다는 것을 유의하여야 한다. 웨이퍼(101)가 스캔되는 동안, 메니스커스(108)는 본질적으로 중력에 의하여 제어된다. 더욱이, 웨이퍼(101)가 투영 광학계(100)를 넘어서 이동할 때, 종래의 이머젼 포토리소그래피 시스템과는 달리 액체가 웨이퍼(101)의 에지 상에서 용이하게 유출되지 않을 것이다.
액체 동봉 칼러 시스템(liquid enclosing collar system){즉, 집수구(105)}은 리소그래피 시스템 렌즈의 끝에 부착된다. 상기한 바와 같이, 투영 광학 시스템(100)은 웨이퍼(101)의 아래 면{즉, 웨이퍼 표면(106)}에 이미지를 위쪽 방향으로 노광한다. 웨이퍼(101)는 레지스트 코팅되고, 이미징될 웨이퍼 표면(106)은 아래쪽 표면이다. 하우징(103)의 상부는 최종 렌즈 소자(102a)와 웨이퍼(101)의 웨이퍼 표면(106) 간에 액체 인터페이스를 제공하는데, 이 웨이퍼 표면 상에 투영 광학 시스템(100)의 초점이 맞추어진다. 하우징(103)의 상부의 개구(110)로 인하여, 투영 광학계(100)로부터의 광 빔(light beam)이 웨이퍼 표면(106) 상으로 이미징 될 수 있다. 또한, 액체와 웨이퍼 표면(106) 간에 충실한 접촉이 가능하다. 하우징(103)의 상부가 웨이퍼 표면(106)에 대하여 열려 있고 웨이퍼(101)가 잠재적으로 투영 광학 시스템(100) 위를 자유롭게 이동하는 것에도 불구하고, 둘러싸인 영역(enclosed region; 107)이 액체로 채워진 상태를 유지하는 것을 보장하는 것이 중요하다. 액체는, 재순환 시스템(recirculation system)(즉, 도면에 도시되지 않은 액체 공급 시스템)을 통하여 액체에 가해지는 압력 제어에 의해 제자리에 유지될 수 있다. 압력은, 웨이퍼(101)가 존재하지 않을 때 개구(110)를 가로질러 메니스커스(108)를 유지하고 중력과 균형을 맞추도록 제어된다. 웨이퍼(101)가 투영 광학 시스템(100) 위에서 미끄러지면, 액체가 개구(aperture)의 밖으로 "밀고 나와(push out)" 웨이퍼 표면(106)에 접촉하는 것을 허용하기 위하여 압력이 증가된다. 투영 광학계(100)에 대한 웨이퍼(101)의 이동으로 인하여 액체 인터페이스가 웨이퍼(101)의 에지 위에서 미끄러지면, 액체를 웨이퍼 표면(106)으로부터 영역(107)으로 "끌어들이도록(pull back)" 액체에 대한 압력이 조정된다.
도 1에 도시된 개구(110) 근처의 하우징(103)의 상부는, 인터페이스 액체의 특성 및 모양을 제어하기 위하여 특별히 윤곽이 그려질 수 있고 표면 처리될(surface finished) 수 있다. 예를 들면, 하우징(103)의 상부 표면은 소수성(hydrophobic)으로 만들어질 수 있다. 하우징(103) 상부를 둘러싸는집수구(105)는 하우징(103) 상부로부터 넘치거나 새는 액체를 저지한다. 이 액체는 필터링되고 온도 제어될 수 있으며 영역(107)으로 다시 재순환될 수 있다.
웨이퍼 표면(106) 및 하우징(103) 상부를 조절하면, 성능이 더 향상될 수 있다. 액체가 물인 경우에, 표면은 소수성으로 만들어질 수 있다. 웨이퍼 표면(106)과 하우징(103) 상부 간의 갭(거리)은 웨이퍼 노광의 역학 관계(dynamics)에 의하여 최적화된다. 본 시스템이 스캐닝 시스템에서 웨이퍼의 동적 노광을 위하여 설계되었지만, 스텝 앤 스캔 형 노광 시스템(step-and-scan type exposure system)에서도 사용될 수 있다.
전형적인 건식 노광 시스템(dry exposure system)에서, 렌즈(102a)와 웨이퍼(101) 간의 갭은 3-4 밀리미터 정도이다. 본 발명에서는, 하우징(103)과 웨이퍼(101) 간의 갭의 치수는 50 microns만큼 작게 될 수 있지만, 예를 들면 하우징(103)과 웨이퍼(101) 간의 갭에 대하여 0.5 밀리미터까지의 더 크거나 작은 치수도 사용될 수 있다(명목상으로, 100 microns가 전형적인 범위에 있다고 기대되지만, 50-150 microns, 40-200 microns, 심지어는 1mm까지, 그리고 몇몇 경우에는 1mm 보다 큰 범위도 가능하다). 193nm 리소그래피에 대하여, 193nm에서 상대적으로 무손실인 물이 바람직한 액체라는 것을 유의하여야 한다. 157nm 리소그래피에 대하여, 액체 내의 손실이 관심 사항이고, 렌즈(102a)와 웨이퍼(101) 간에 더 작은 갭을 요구하는 경향이 있다. 환언하면, 렌즈(102a)는 웨이퍼(101)에 더 가깝게 (약 1mm 정도 아래로) 이동할 것이다. 157nm 리소그래피의 경우에, 하우징(103)과 웨이퍼(101) 간의 갭은 50 microns 이하로 내려갈 수 있다.
본 발명에서, 웨이퍼(101)의 노광이 건식 노광을 요구하는 경우에는, 액체가 완전히 제거될 수 있다는 것을 이해하여야 한다. 건식 노광을 위하여, 광학계는 따라서 조정될 필요가 있다{예를 들면, 초점, 구면 수차(spherical abberation), 개구수의 감소 등}.
상기한 바와 같이, 193nm 이미징에 대하여, 바람직하게는 액체가 물{예를 들면, 탈이온수(de-ionized water)}이지만, 다른 액체, 예를 들면 싸이클로 옥탄(cyclo-octane), Krytox®(Foemblin oil) 및 퍼플로오르폴리에테르 유체(perfluoropolyether fluids)가 사용될 수 있다.
도 2는 도 1의 액체 이머젼 포토리소그래피 시스템의 등척도를 도시한다. 도 2에서, 도 1과 공통적인 구성요소 참조 부호가 동일하게 표시되었다. {이 시뮬레이션된 도면에서 웨이퍼(101)가 투명하게 보이는 것에 유의}
투영 광학 시스템(100)을 웨이퍼(101)의 위가 아닌 아래에 위치시키면, 액체를 한정하는 것이 실질적으로 단순화되도록 메니스커스를 형성하기 위하여 중력을 이용할 수 있다. 이에 의하여, 복잡한 한정 시스템(confinement systems), 매우 복잡한 액체 재순환 및 펌핑 메커니즘 등에 대한 필요성이 제거된다. 또한, 이로 인하여 집수구(105)를 사용하여 간단하게 포획될 수 있는 임의의 스트레이 액체의 영향을 상당히 단순화시킨다.
선택적으로, "수원(fountainhead)" 효과를 갖는 것이 가능한데, 여기서 액체는 메니스커스와 유사한 효과를 달성하면서 하우징(103)으로부터 웨이퍼(101)로 배출된 후, 재순환하기 위하여 집수구로 흐른다.
본 발명의 다양한 실시예를 상술하였지만, 이들은 예로서 제시된 것이지 본 발명을 제한하는 것은 아님을 이해하여야 한다. 본 발명의 취지 및 범위를 벗어나지 않으면서 형태 및 세부 사항에 다양한 변화가 가해질 수 있다는 것은 당업자에게 자명할 것이다.
본 발명은 지정된 기능 및 이들의 관계의 실행을 설명하는 방법 단계 및 기능 빌딩 블록(functional building blocks)을 참조하여 설명되었다. 이러한 기능 빌딩 블록 및 방법 단계의 경계는 설명의 편의를 위하여 본 명세서에서 임의로 규정된다. 지정된 기능 및 이들의 관계가 적절히 수행되는 한, 다른 경계들이 사용될 수 있다. 방법 단계들의 순서도 재정렬될 수 있다. 그러므로, 임의의 이러한 경계는 청구된 발명의 범위 및 취지 내에 있다. 당업자는, 이러한 기능 빌딩 블록이 분리된 콤포넌트(discrete components), 특정 용도 집적 회로(Application specific Integrated Circuits), 적절한 소프트웨어를 실행하는 프로세서 등 또는 이들의 임의의 조합에 의하여 구현될 수 있다는 것을 인식할 것이다. 그러므로, 본 발명의 폭 및 범위는 상술한 예시적인 실시예에 의하여 제한되어서는 안되며, 첨부된 청구항 및 이것의 균등물에 따라서만 규정되어야 한다.
본 발명은 액체 이머젼 포토리소그래피 시스템에 다수의 이점을 유발한다. 액체를 한정하는 것이 단순화된다. 유출이 감소되거나 완전히 제거될 수 있다. 본 시스템은 적절하다면 (액체와 함께) 습식 노광 시스템과 (광학계 조정으로 액체 없이) 건식 노광 시스템 양자로서 사용될 수 있다. 이러한 이점 모두로 인하여,반도체 표면에 훨씬 작은 피쳐(feature)를 규정하기 위하여 기존의 포토리소그래피 도구 및 익숙한 파장이 사용될 수 있다.

Claims (42)

  1. 액체 이머젼 포토리소그래피 시스템(liquid immersion photolithography system)에 있어서,
    전자기 방사광(electromagnetic radiation)으로 기판을 노광시키고, 상기 기판에 상기 전자기 방사광을 초점 맞추는 투영 광학 시스템(projection optical system)을 포함하는 노광 시스템(exposure system); 및
    상기 투영 광학 시스템과 상기 기판 간에 액체를 제공하는 액체 공급 시스템
    을 포함하고, 상기 투영 광학 시스템은 상기 기판 아래에 위치하는 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 상기 액체 공급 시스템은 상기 투영 광학 시스템 위에서 액체 메니스커스(liquid meniscus)를 형성하도록 조정되는 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 상기 액체 공급 시스템은 상기 투영 광학 시스템 위에서 수원(fountainhead)을 형성하도록 조정되는 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템은 스트레이 액체(stray liquid)를 포획하도록 위치된 적어도 하나의 집수구(catch basin)를 갖는 하우징(housing)을 포함하는 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템은,
    복수의 렌즈가 장착되는 하우징 - 상기 하우징은 상기 복수의 렌즈의 최상부 렌즈와 상기 하우징의 상부 간에 압력 영역을 포함함 - ;
    상기 하우징의 상부의 개구(opening); 및
    상기 복수의 렌즈의 최상부 렌즈와 상기 압력 영역 간의 액체 씰(liquid seal)
    을 포함하는 시스템.
  6. 제5항에 있어서, 상기 기판과 상기 하우징의 상부 간의 거리는 대략 50-150 microns인 시스템.
  7. 제5항에 있어서, 상기 기판과 상기 하우징의 상부 간의 거리는 50 microns 내지 500 microns인 시스템.
  8. 제5항에 있어서, 상기 하우징의 상부는 소수성 표면(hydrophobic surface)을 갖는 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 액체 공급 시스템은, 습식 노광(wet exposure)이 필요한 경우에만 상기 액체를 선택적으로 제공하는 시스템.
  10. 제1항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 193 나노미터인 시스템.
  11. 제1항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 157 나노미터인 시스템.
  12. 제1항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 435 나노미터인 시스템.
  13. 제1항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 405 나노미터인 시스템.
  14. 제1항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 365 나노미터인 시스템.
  15. 제1항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 248 나노미터인 시스템.
  16. 액체 이머젼 포토리소그래피 시스템에 있어서,
    기판을 노광시키고, 투영 광학 시스템을 포함하는 노광 시스템; 및
    상기 투영 광학 시스템과 상기 기판 간에 액체를 제공하기 위한 수단
    을 포함하고, 상기 투영 광학 시스템은 상기 기판 아래에 위치되는 시스템.
  17. 제16항에 있어서, 액체를 제공하기 위한 상기 수단은 상기 투영 광학 시스템 위에서 액체 메니스커스를 형성하도록 조정되는 시스템.
  18. 제16항에 있어서, 액체를 제공하기 위한 상기 수단은 상기 투영 광학 시스템 위에서 수원을 형성하도록 조정되는 시스템.
  19. 제16항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템은 스트레이 액체(stray liquid)를 포획하도록 위치된 적어도 하나의 집수구를 갖는 하우징을 포함하는 시스템.
  20. 제16항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템은,
    복수의 렌즈가 장착되는 하우징 - 상기 하우징은 상기 복수의 렌즈의 최상부 렌즈와 상기 하우징의 상부 간에 압력 영역을 포함함 - ;
    상기 하우징의 상부의 개구; 및
    상기 복수의 렌즈의 최상부 렌즈와 상기 압력 영역 간의 액체 씰
    을 포함하는 시스템.
  21. 제20항에 있어서, 상기 기판과 상기 하우징의 상부 간의 거리는 대략 50-150 microns인 시스템.
  22. 제20항에 있어서, 상기 기판과 상기 하우징의 상부 간의 거리는 50 microns 내지 500 microns인 시스템.
  23. 제20항에 있어서, 상기 하우징의 상부는 소수성 표면을 갖는 시스템.
  24. 제16항에 있어서, 액체를 제공하기 위한 상기 수단은, 습식 노광이 필요한 경우에만 상기 액체를 선택적으로 제공하는 시스템.
  25. 제16항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 193 나노미터인 시스템.
  26. 제16항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 157 나노미터인 시스템.
  27. 제16항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 435 나노미터인 시스템.
  28. 제16항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 405 나노미터인 시스템.
  29. 제16항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 365 나노미터인 시스템.
  30. 제16항에 있어서, 상기 전자기 방사광은 248 나노미터인 시스템.
  31. 액체 이머젼 포토리소그래피 시스템에 있어서,
    투영 광학 시스템을 포함하는 노광 시스템; 및
    상기 투영 광학 시스템과 상기 기판 간에 액체를 제공하도록 조정된 액체 공급 시스템
    을 포함하고, 상기 투영 광학 시스템은 상기 기판 아래에 위치하도록 조정되는 시스템.
  32. 액체 이머젼 포토리소그래피 시스템에 있어서,
    투영 광학 시스템을 포함하는 노광 시스템; 및
    상기 투영 광학 시스템과 상기 기판 간에 액체를 제공하도록 조정된 액체 공급 시스템
    을 포함하고, 상기 액체 공급 시스템은 상기 투영 광학 시스템 위에 액체 메니스커스를 형성하도록 조정되는 시스템.
  33. 제32항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템은 상기 기판 아래에 위치하도록 조정되는 시스템.
  34. 제32항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템은 스트레이 액체를 포획하도록 조정된 적어도 하나의 집수구를 갖는 하우징을 포함하는 시스템.
  35. 제32항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템은,
    복수의 렌즈가 장착되는 하우징 - 상기 하우징은 상기 복수의 렌즈의 최상부 렌즈와 상기 하우징의 상부 간에 압력 영역을 포함함 - ;
    상기 하우징의 상부의 개구; 및
    상기 복수의 렌즈의 최상부 렌즈와 상기 압력 영역 간의 액체 씰
    을 포함하는 시스템.
  36. 제35항에 있어서, 상기 하우징의 상부는 소수성 표면인 시스템.
  37. 제35항에 있어서, 상기 액체 공급 시스템은, 습식 노광이 필요한 경우에만 상기 액체를 선택적으로 공급하도록 조정되는 시스템.
  38. 상향 투영 광학 시스템(upwardly directed projection system)에 있어서,
    소수성 상부를 포함하고, 상기 소수성 상부에 형성된 개구를 갖는 하우징;
    상기 하우징 주위의 집수구;
    기판을 상향 노광하도록 조정된 복수의 렌즈; 및
    상기 투영 광학 시스템의 최종 렌즈 소자 주변의 액체 씰
    을 포함하는 시스템.
  39. 기판을 노광시키는 방법에 있어서,
    상기 기판 아래에 투영 광학 시스템을 위치시키는 단계;
    투영 광학 시스템을 사용하여 상기 기판에 전자기 방사광을 투영하는 단계; 및
    상기 투영 광학 시스템과 상기 기판 간에 액체를 전달하는 단계
    를 포함하는 방법.
  40. 제39항에 있어서, 적어도 하나의 집수구를 사용하여 상기 기판으로부터 과잉 액체를 제거하는 단계를 더 포함하는 방법.
  41. 제39항에 있어서, 상기 투영 광학 시스템과 상기 기판 간에 액체 메니스커스를 형성하는 단계를 더 포함하는 방법.
  42. 제39항에 있어서, 메니스커스를 유지하도록 상기 액체에 압력을 제공하는 단계를 더 포함하는 방법.
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