JPS6340799B2 - - Google Patents

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JPS6340799B2
JPS6340799B2 JP54088336A JP8833679A JPS6340799B2 JP S6340799 B2 JPS6340799 B2 JP S6340799B2 JP 54088336 A JP54088336 A JP 54088336A JP 8833679 A JP8833679 A JP 8833679A JP S6340799 B2 JPS6340799 B2 JP S6340799B2
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acylphosphine oxide
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carbon atoms
alkyl group
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JP54088336A
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Rehitoken Peetaa
Byuute Ingorufu
Buronshuteruto Berunto
Hetsuse Anton
Hofuman Geruharuto
Yakobi Manfureeto
Rinchi Jon
Torimuborun Uerunaa
Uiuiaru Rudorufu
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BASF SE
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は新規なアシルホスフインオキシド化合
物、その製法ならびに光重合可能な材料たとえば
塗料、ワニス、印刷インキ及び記録用材料中での
光開始剤としてのその使用に関する。 種々の構造の一連の光開始剤、たとえば芳香族
ケトンたとえばアセトフエノン誘導体又はベンゾ
フエノン誘導体、ベンジルケタールたとえばベン
ジルメチルケタール（ドイツ特許出願公開
2261383号明細書）、ベンゾインエーテル（ドイツ
特許出願公開1694149号明細書）チオキサントン
（ドイツ特許出願公開2003132号明細書）等、なら
びにこの種の開始剤系を用いて硬化される光重合
可能な材料がすでに知られている。しかしこれら
は希望しない黄変を示し、この黄変は開始剤系を
明るい色（もしくは白色の）表面に用いること又
は色に忠実な表現をする塗料として用いることを
不可能にする。他の欠点は出来上つた増感された
樹脂混合物の貯蔵性が多くの場合に不満足なこと
であつて、暗所での貯蔵においてさえ、多くの場
合数日間貯蔵しうるにすぎない。 本発明は、一般式 〔式中R1は低級アルキル基、低級アルコキシ
基又は低級アルキル基により置換されていてもよ
いフエニル基、R2は低級アルコキシ基、又は低
級アルキル基により置換されていてもよいフエニ
ル基、R3はアセチルオキシ基により置換されて
いてもよい２〜18個の炭素原子を有する直鎖状又
は分岐状のアルキル基、３〜12個の炭素原子を有
するシクロアルキル基、又は低級アルキル基、低
級アルコキシ基もしくはハロゲン原子により置換
されていてもよいアリール基、あるいは次式 （R1及びR2は前記の意味を有し、Ｘはｐ−フ
エニレン基を意味する）の原子団である〕で表わ
されるアシルホスフインオキシド化合物に関す
る。 本発明の対象は、特に前記一般式においてR3
が少なくともジ置換されたフエニル基であつて、
少なくともカルボニル基との結合位置に隣接する
二つの炭素原子に同一でも異なつてもよい置換基
Ａ及びＢを有し、Ａ及びＢは低級アルキル基、低
級アルコキシ基又はハロゲン原子好ましくは塩素
原子もしくは臭素原子であり、あるいはR3が少
なくとも２，８−位においてＡ及びＢにより置換
されたα−ナフチル基、あるいは少なくとも１，
３−位においてＡ及びＢにより置換されたβ−ナ
フチル基であるアシルホスフインオキシド化合物
である。 そのほか本発明の対象は、本発明のアシルホス
フインオキシド化合物の製法、ならびに光重合可
能な材料特に塗料（被覆剤）、ワニス、印刷イン
キ及び記録用材料中での光開始剤としてその使用
である。 本発明のアシルホスフインオキシド化合物の一
般式（）に関して、詳細は下記に説明する。 R1は直鎖状又は分岐状の低級アルコキシ基、
たとえばメチル基、エチル基、イソプロピル基、
ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、低級アルコキシ
基たとえばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポ
キシ基、ブトキシ基又はエチルオキシエトキシ
基、アリール基たとえばフエニル基、ナフチル
基、ハロゲン置換アリール基たとえばモノ−もし
くはジクロルフエニル基、アルキル置換フエニル
基たとえばメチルフエニル基、エチルフエニル
基、イソプロピルフエニル基、三級ブチルフエニ
ル基、ジメチルフエニル基であつてよい。 R2は低級アルキル基を除いてR1と同じもので
あつてよい。 R3の例は下記のものである。エチル基、イソ
プロピル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イ
ソブチル基、三級ブチル基、イソアミル基、ｎ−
ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−
エチルヘキシル基、イソノニル基、ジメチルヘプ
チル基、ラウリル基、ステアリル基、シクロプロ
ピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、１
−メチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、
１−メチルシクロヘキシル基、ノルボルナジエニ
ル基、アダマンチル基、ジメチルオクチル基、ジ
メチルノニル基、ジメチルデシル基、メチルフエ
ニル基、ジメチルフエニル基、トリメチルフエニ
ル基、三級ブチルフエニル基、イソプロピルフエ
ニル基、メトキシフエニル基、ジメトキシフエニ
ル基、イソプロポキシフエニル基、α−及びβ−
ナフチル基、β−アセトキシエチル基、特に好ま
しくは２，６−ジメチルフエニル基、２，６−ジ
メトキシフエニル基、２，６−ジクロルフエニル
基、２，６−ジブロムフエニル基、２−クロル−
６−メトキシフエニル基、２，４，６−トリメチ
ルフエニル基、２，４，６−トリメトキシフエニ
ル基、２，３，４，６−テトラメチルフエニル
基、２，６−ジメチル−４−三級ブチルフエニル
基、１，３−ジメチルナフタリン−２基、２，８
−ジメチルナフタリン−１基、１，３−ジメトキ
シ−ナフタリン−２基、１，３−ジクロルナフタ
リン−２基、２，８−ジメトキシナフタリン−１
基。 R1及びR2はそのほか光開始剤を結合剤中に重
合含有させることを可能にするＣ−Ｃ二重結合を
含有することができる。 本発明のアシルホスフインオキシド化合物の例
は下記のものである。イソブチリル−メチルホス
フイン酸メチルエステル、イソブチリル−フエニ
ルホスフイン酸メチルエステルピバロイル−フエ
ニルホスフイン酸メチルエステル、２−エチルヘ
キサノイル−フエニルホスフイン酸メチルエステ
ル、ピバロイル−フエニルホスフイン酸イソプロ
ピルエステル、ｐ−トルイル−フエニルホスフイ
ン酸メチルエステル、ｏ−トルイル−フエニルホ
スフイン酸メチルエステル、２，４−ジメチルベ
ンゾイル−フエニルホスフイン酸メチルエステ
ル、ｐ−三級ブチルベンゾイル−フエニルホスフ
イン酸イソプロピルエステル、ピバロイル−（４
−メチルフエニル）−ホスフイン酸メチルエステ
ル、ピバロイル−フエニルホスフイン酸ビニルエ
ステル、アクリロイル−フエニルホスフイン酸メ
チルエステル、イソブチリル−ジフエニルホスフ
インオキシド、ピバロイル−ジフエニルホスフイ
ンオキシド、１−メチル−１−シクロヘキサノイ
ル−ジフエニルホスフインオキシド、２−エチル
ヘキサノイル−ジフエニルホスフインオキシド、
ｐ−トルイル−ジフエニルホスフインオキシド、
ｏ−トルイル−ジフエニルホスフインオキシド、
ｐ−三級ブチルベンゾイル−ジフエニルホスフイ
ンオキシド、アクリロイルジフエニルホスフイン
オキシド、ベンゾイル−ジフエニルホスフインオ
キシド、２，２−ジメチル−ヘプタノイル−ジフ
エニルホスフインオキシド、テレフタロイル−ビ
ス−ジフエニルホスフインオキシド、アジポイル
−ビス−ジフエニルホスフインオキシド、そして
特に２，６−ジメチルベンゾイル−フエニルホス
フイン酸メチルエステル、２，６−ジメトキシベ
ンゾイル−フエニルホスフイン酸メチルエステ
ル、２，６−ジメチルベンゾイル−ジフエニルホ
スフインオキシド、２，６−ジメトキシベンゾイ
ル−ジフエニルホスフインオキシド、２，４，６
−トリメチルベンゾイル−フエニルホスフイン酸
メチルエステル、２，４，６−トリメチルベンゾ
イル−ジフエニルホスフインオキシド、２，３，
６−トリメチルベンゾイル−ジフエニルホスフイ
ンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイル
−トリルホスフイン酸メチルエステル、２，４，
６−トリメトキシベンゾイル−ジフエニルホスフ
インオキシド、２，６−ジクロルベンゾイル−フ
エニルホスフイン酸エチルエステル、２，６−ジ
クロルベンゾイル−ジフエニルホスフインオキシ
ド、２，３，４，６−テトラメチルベンゾイル−
ジフエニルホスフインオキシド、２，６−ジブロ
ムベンゾイル−ジフエニルホスフインオキシド、
１，３−ジメチルナフタリン−２−カルボニル−
ジフエニルホスフインオキシド、２，８−ジメチ
ルナフタリン−１−カルボニル−ジフエニルホス
フインオキシド、１，３−ジメトキシナフタリン
−２−カルボニル−ジフエニルホスフインオキシ
ド、１，３−ジクロルナフタリン−２−カルボニ
ル−ジフエニルホスフインオキシド。 特に優れているものは、そのアロイル基がそれ
ぞれのｏ−位においてアルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、又はそれらの組合せにより置
換されているアロイル−フエニルホスフイン酸エ
ステル又はアロイルジフエニルホスフインオキシ
ドであつて、その例は２，６−ジメチルベンゾイ
ルジフエニルホスフインオキシド、２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフエニルホスフインオキ
シド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−フエ
ニル−ホスフイン酸メチルエステル、２，６−ジ
クロルベンゾイル−もしくは２，６−ジメトキシ
ベンゾイルジフエニルホスフインオキシドであ
る。 この種の化合物は、次式 （ＸはCl、Br）の酸ハロゲニドを、次式 （R4は直鎖状もしくは分岐状のC1〜C6−アル
キル基、又は５個もしくは６個の炭素原子を有す
るシクロアルキル基）のホスフインと反応させる
ことにより製造される。 反応は溶剤たとえば炭化水素又は炭化水素混合
物、たとえば石油エーテル、トリオール、シクロ
ヘキサン、エーテル又は他の普通の不活性有機溶
剤の中で、あるいは溶剤の不在で、−30〜＋130℃
好ましくは10〜100℃の温度で実施できる。生成
物は溶剤から直接に結晶析出させてもよく、溶剤
を蒸発し又は真空中で留去したのち残留させても
よい。 酸ハロゲン化物R3COX及び置換ホスフイン
R1R2POR4は、文献（たとえばウエイガント−ヒ
ルゲターク著、オルガーニツシユ−ヘ−ミツシ
エ・エクスペリメンテイールクンスト４版1970年
246〜256頁、ならびにホーベンワイルの著書12／
１巻208〜209頁参照）により公知の方法に従つて
専門家が容易に製造することができる。 本発明の化合物の製造はたとえば下記の反応式
により示される。 又は 又は 又は 好適なホスフインの例は、メチルジメトキシホ
スフイン、ブチルジメトキシホスフイン、フエニ
ルジメトキシホスフイン、トリルジメトキシホス
フイン、フエニルジエトキシホスフイン、トリル
ジエトキシホスフイン、フエニルジイソプロポキ
シホスフイン、トリルジイソプロポキシホスフイ
ン、フエニルジブトキシホスフイン、トリルジブ
トキシホスフイン、ジメチルメトキシホスフイ
ン、ジブチルメトキシホスフイン、ジメチルブト
キシホスフイン、ジフエニルメトキシホスフイ
ン、ジフエニルエトキシホスフイン、ジフエニル
プロポキシホスフイン、ジフエニルイソプロポキ
シホスフイン、ジフエニルブトキシホスフイン又
は本発明の化合物に変わりうる類似の出発物質で
ある。 酸ハロゲニドとしては塩化物及び臭化物が適す
るが、酸塩化物が特に優れている。 本発明の化合物の例は特に下記のものである
が、これは限定を意味するもものでない。
【表】
【表】
【表】 本発明の構造の化合物は、少なくとも１個のＣ
−Ｃ多重結合を有する光重合可能な単量体及びこ
の単量体の相互の又は既知添加物との混合物のた
めの光開始剤として、きわめて良好な反応性を示
す。本発明のアシルホスフインオキシド化合物
は、被膜及びワニスならびに記録用材料のための
光重合可能な材料中で、光開始剤として特に適し
ている。この化合物は、得られるワニス又は被膜
の黄変に関し、既知開始剤（たとえばベンジルジ
メチルケタール）よりはるかに優れている。 アシル基が、二級もしくは三級置換脂肪族カル
ボン酸たとえばピバリン酸、１−メチルシクロヘ
キサンカルボン酸、ノルボルネンカルボン酸、
α，α−ジメチルアルカンカルボン酸（市販の９
〜13個の炭素原子を有するバーサチツク酸）又は
２−エチルヘキサンカルボン酸から、又は置換芳
香族カルボン酸たとえばｐ−メチル安息香酸、ｏ
−メチル安息香酸、２，４−ジメチル安息香酸、
ｐ−三級ブチル安息香酸、２，４，５−トリメチ
ル安息香酸又はｐ−メトキシ安息香酸から誘導さ
れるアシル−フエニルホスフイン酸エステル又は
アシルジフエニルホスフインオキシドが優れてい
る。 特に好ましいｏ−ジ置換アロイル−ジフエニル
ホスフインオキシド又はアロイル−フエニルホス
フイン酸エステルは、光重合可能な単量体中にお
いてきわめて高い反応性と共に顕著な長期安定性
を有する。このことは特に、スチロール含有の不
飽和ポリエステルを基礎とする通常用いられる樹
脂ならびにスチロール不含のアクリル酸エステル
についていえる。本発明の開始剤を用いると、白
色顔料入りワニスが黄変することなしに硬化でき
るばかりでなく多色顔料添加樹脂でも加工でき
る。本開始剤はこの性質において、既知の光開始
剤たとえばベンジルジメチルケタール又はα−ヒ
ドロキシイソブチロフエノンにまさつている。 さらにこの優れたアロイル−ジフエニルホスフ
インオキシドを既知の光開始剤と組み合わせて用
いると、予想外にもこの利点がそのまま得られ、
又はさらに強化することさえあることが知られ
た。 特に有効な相乗作用を有する混合物は、芳香族
ケトン特にベンジルジメチルケタール、α−ヒド
ロキシイソブチロフエノン、ジエトキシアセトフ
エノン、ベンゾフエノン及び２−メチルチオキサ
ントン、２−イソプロピルチオキサントンならび
に２−クロル−チオキサントンを基礎とする既知
の光開始剤と組み合わせるときに得られる。その
際三級アミンたとえばメチルジエタノールアミン
の添加により、さらにその既知の促進作用が充分
に発揮される。本発明の開始剤をたとえばベンジ
ルジメチルケタールと組み合わせることにより、
予想外に有効でしかもきわめて貯蔵安定性であ
り、所望により顔料添加も可能である。アミン不
含の光重合しうる材料が製造される。 光重合可能な単量体としては、普通の化合物及
びたとえばアリール基、カルボニル基、アミノ
基、アミド基（amid及びamido）、エステル基、
カルボキシル基、シアニド基、ハロゲン原子又は
Ｃ−Ｃ二重結合又はＣ−Ｃ三重結合により活性化
されている、重合可能なＣ−Ｃ二重結合を有する
物質が適する。たとえば下記のものがあげられ
る。ビニルエーテル及びビニルエステル、スチロ
ール、ビニルトルオール、アクリル酸及びメタク
リル酸ならびに一価及び多価のアルコールとのそ
のエステル、そのニトリル又はアミド、マレイン
酸エステル及びフマル酸エステル、ならびにＮ−
ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、
Ｎ−ビニルカルバゾール及びアリルエステルたと
えばジアリルフタレート。 重合可能な高分子化合物としてはたとえば下記
のものが適する。α，β−不飽和ジカルボン酸た
とえばマレイン酸、フマル酸もしくはイタコン酸
（場合により飽和のもしくは芳香族のジカルボン
酸たとえばアジピン酸、フタル酸、テトラヒドロ
フタル酸もしくはテレフタル酸との混合物とし
て）から、アルカンジオールたとえばエチレング
リコール、プロピレングリコール、ブタンジオー
ル、ネオペンチルグリコール又はオキシアルキル
化されたビスフエノールＡとの反応により製造さ
れた不飽和ポリエステル；アクリル酸もしくはメ
タクリル酸及び芳香族のもしくは脂肪族のジグリ
シジルエーテル及びウレタンアクリレート（たと
えばヒドロキシアルキルアクリレート及びポリイ
ソシアネートから製造されたウレタンアクリレー
ト）ならびにポリエステルアクリレート（たとえ
ば水酸基含有不飽和ポリエステル及びアクリル酸
もしくはメタクリル酸から製造されたポリエステ
ルアクリレート）から製造されたエポキシドアク
リレート。 光重合可能な塗料、ワニス及び印刷インキは、
水性分散液として存在することができ、そのまま
使用することができる。 光重合可能な化合物（それぞれの使用目的に対
するその組成は専門家に周知である）に、飽和及
び／又は不飽和の重合体、ならびに他の添加物質
たとえば熱重合を抑制する抑制剤、パラフイン、
顔料、染料、過酸化物、流延助剤、充填材、つや
消し剤、ガラス繊維ならびに熱分解もしくは光化
学的分解を抑制する安定剤を常法により添加する
ことができる。 このような混合物は専門家に公知であり、そし
て添加物の種類と量はそれぞれの使用目的に依存
している。 その場合本発明の化合物は、光重合可能な材料
に対し普通は0.001〜20％好ましくは0.01〜15％
特に0.1〜５％の量で用いられる。 本化合物は、空気中酸素の光重合への阻害作用
を除く促進剤と組み合わせてもよい。 そのような促進剤又は相乗作用剤は、たとえば
二級及び／又は三級アミン、たとえばメチルジエ
タノールアミン、ジメチルエタノールアミン、ト
リエチルアミン、トリエタノールアミン、ｐ−ジ
メチルアミノ安息香酸エチルエステル、ベンジル
−ジメチルアミン、ジメチルアミノエチルアクリ
レート、Ｎ−フエニルグリシン、Ｎ−メチル−Ｎ
−フエニルグリシン及び類似の専門家に既知の化
合物である。硬化促進のために、他の脂肪族及び
芳香族のハロゲン化物、たとえば２−クロルメチ
ルナフタリン、１−クロル−２−クロルメチルナ
フタリン、ならびにラジカル生成剤たとえば過酸
化物及びアゾ化合物を用いることができる。 これらの混合物の重合を誘起する光のための照
射源としては、好ましくは本発明の化合物の吸収
範囲すなわち230〜450nmで、光を放射する光源
が用いられる。特に水銀低圧照射灯、同中圧照射
灯及び高圧照射灯、ならびに（超化学線）螢光管
又はイムパルス照射器が適する。これらの照射灯
は所望により設置される。 また本発明による光開始剤は、印刷版及び凸版
印刷用型の製造のため特に有用であり、そして (a) 少なくとも１個の光重合可能なオレフイン性
不飽和の二重結合を有する少なくとも１種の単
量体及び (b) 少なくとも１種の重合性有機結合剤からの光
開始剤含有混合物から主として成る光重合可能
な記録用材料に使用するために特に適してい
る。 本発明の光開始剤を用いると、従来知られた光
開始剤を用いる場合よりも著しく速かに、光重合
性記録系の硬化を達成することが可能となり、そ
して同時に光重合性レリーフ型のレリーフ構造が
改善される。 前記例のアシルホスフインオキシド化合物のう
ちで、この種の光重合可能な記録材料に特に適す
るものは、次式 （式中R1及びR2は前記と同じ基を示し、そし
てR3は４〜18個の炭素原子を有する三級アルキ
ル基又は５〜６個の環炭素原子を有する三級シク
ロアルキル基、あるいはシクロアルキル基又はア
リール基であつて、少なくともカルボニル基に対
するその二つのオルト位に置換基Ａ及びＢを結合
含有し、その場合Ａ及びＢが低級アルキル基、低
級アルコキシ基又はハロゲン原子であり、かつＡ
とＢは同一でも異なつてもよい） で表わされる化合物が適している。 「カルボニル基に対するその二つのオルト位に
置換基Ａ及びＢを結合含有する」ということは、
ここではカルボニル基との結合位置に隣接する、
置換基を有しうる二つの環炭素原子に置換基Ａ及
びＢが結合していることをいう。このことは、α
−ナフチル基が少なくともその２，８−位で、そ
してβ−ナフチル基が少なくともその１，３−位
で置換基Ａ及びＢを結合することを意味する。置
換基Ａ及びＢはシクロヘキシル基では２，６−位
に、シクペンチル基では２，５−位に存在する。
このR3を結合含有するアシルホスフインオキシ
ド化合物は、たとえば下記の〜の構造式で示
される。
【式】
【式】
【式】
【式】
【式】 これらの式中ＸはＡ又はＢの意味を有し、シク
ロアルキル基、フエニル基又はナフチル基にさら
に存在してもよい基を示す。 R3は、光重合が可能な材料に好適なアシルホ
スフインオキシド化合物において、三級のアルキ
ル基又はシクロアルキル基（それぞれカルボニル
基に隣接する位置に三級炭素原子を有する）、た
とえば三級ブチル基、１，１−ジメチルヘプチル
基、１−メチルシクロヘキシル基又は１−メチル
シクロペンチル基であつてよい。 光重合可能な記録用材料のためには、式のホ
スフインオキシド化合物であつて、式中のR1が
トリル基及び特にフエニル基を意味し、R2がC1
〜C4−アルコキシ基たとえばメトキシ基又はエ
トキシ基そして特にフエニル基を意味する化合物
が好適である。予想外に高性能で同時に高度安定
性のものは、式中のアシル基−CO−R3が、三級
の脂肪族又は脂環族のカルボン酸から又は少なく
とも２，６−位でＡ及びＢにより置換された安息
香酸から誘導されたアシルホスフインオキシド化
合物を有する光重合可能な記録材料である。この
種の好適なアシル基は、２，２−ジメチル−C4
〜C9−アルカノイル基、２−メチル−２−エチ
ル−C4〜C9−アルカノイル基ならびに２，６−
２，３，６−２，４，６−又は２，３，５，６−
位において置換基Ａ及びＢ（特にC1〜C4−アルキ
ル基、C1〜C4−アルコキシ基又はハロゲン原子）
を有するベンゾイル基である。 本発明による記録用材料は、その材料の全量に
対し通常は0.005〜10重量％好ましくは0.005〜５
重量％の量で、単独光開始剤として式のホスフ
インオキシド化合物を含有してよいが、ホスフイ
ンオキシド化合物は前記のように既知の光開始剤
及び／又は三級アミンと光重合可能な記録材料中
で併用してもよい。 この場合、開始剤系（光開始剤＋アミン）の全
濃度は、光重合可能な記録用材料の全量に対し
0.05〜15重量％であり、そのアミン含量を開始剤
系全含量の少なくとも半量にすることが好まし
い。 本発明の記録用材料が基礎とする、(a)及び(b)か
らの混合物のために、少なくとも１個の光重合可
能なオレフイン性不飽和の二重結合を有する低分
子化合物としては、この種の材料用に既知の手段
により用いられる単量体が、それぞれ選択される
重合性結合剤と調和する混合物を形成し、かつ大
気圧下で100℃以上の沸点を有する限り適してい
る。一般に単量体は2000以下特に1000以下の分子
量を有する。２個又は３個以上のオレフイン性不
飽和の光重合可能な二重結合を有する単量体を単
独で、又はこれとホスフイン性不飽和の光重合可
能な二重結合を１個のみ有する単量体との混合物
（二重結合１個のみを有する単量体の分量は、単
量体の全量に対して一般に約５〜50重量％好まし
くは５〜30重量％）として用いることが優れてい
る。 用いられる単量体の種類は、主として併用され
る重合体結合剤の種類に依存する。不飽和ポリエ
ステル樹脂との混合物においては、特に２個又は
３個以上の二重結合を含有するアリル化合物、た
とえばマレイン酸ジアルキルエステル、アリルア
クリレート、ジアリルフタレート、トリメリツト
酸ジー及び−トリアリルエステル又はエチレング
リコールビスアリルカーボネート、ならびにアク
リル酸又はメタクリル酸によるジオール又はポリ
オールのエステル化により製造しうるジ−及びポ
リアクリレートならびにジ−及びポリメタクリレ
ートが適している。その例はエチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコ
ール、約500までの分子量を有するポリエチレン
グリコール、１，２−プロパンジオール、１，３
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール
（２，２−ジメチルプロパンジオール）、１，４−
ブタンジオール、１，１，１−トリメチロールプ
ロパン、グリセリンもしくはペンタエリトリツト
のジ−及びトリアクリレート又はジ−及びトリメ
タクリレートである。 さらにこれらジオール及びポリオールのモノア
クリレート及びモノメタクリレート、たとえばエ
チレングリコール−又はジ−、トリ−もしくはテ
トラエチレングリコールのモノアクリレート、ウ
レタン基及び／又はアミド基を含有し、２個以上
のホスフイン性不飽和結合を有する単量体、たと
えば前記種類の脂肪族ジオール、有機ジイソシア
ネート及びヒドロキシアルキルアクリレート又は
−メタクリレートから製造された低分子化合物も
適する。またアクリル酸、メタクリル酸及びそれ
らの誘導体、たとえばメタクリル−もしくはアク
リルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルメタクリル
（又はアクリル）アミド又は１〜６個の炭素原子
を有するモノアルコールのアクリル（又はメタク
リル）酸エステルもあげられる。ジ−もしくはポ
リアクリレートとのアリルモノマーの混合物はき
わめて好適である。重合体結合剤としてのポリア
ミドとの混合物を選択する場合には、ジ−及びポ
リアクリレートのほか、前記種類の単量体のうち
で二重結合と共になおアミド基及び／又はウレタ
ン基を含有するもの、たとえばアクリルアミドの
誘導体、たとえば脂肪族ジオールたとえばエチレ
ングリコール１モルとＮ−ヒドロキシメチルメタ
クリル（又はアクリル）アミド２モルとの反応生
成物、キシリレン−ビスアクリルアミド又はアル
キレン基中に１〜８個の炭素原子を有するアルキ
レン−ビスアクリルアミドが特に好適である。水
−アルカリ性現像が可能な記録用材料を製造する
ためには、たとえば重合体結合剤としてポリビニ
ルアルコール、ポリビニルアルコール−アルコキ
シル化生成物又はポリビニルピロリドンを用いて
印刷板を製造するためには、特に水溶性単量体た
とえばヒドロキシエチルメタクリレートもしくは
−アクリレート又は約200〜500の分子量を有する
ポリエチレングリコールのモノ−及びジアクリレ
ートならびにモノ−及びジメタクリレートが適し
ている。結合剤てしてのエラストマーのジエン重
合体、たとえばポリスチロール−ポリイソプレン
−ポリスチロール−３ブロツク共重合体、ポリス
チロール−ポリブタジエン−２ブロツク共重合体
又はポリスチロール−ポリイソプレン−２ブロツ
ク共重合体と組み合わせるためには、ポリオール
特に４個以上の炭素原子を有するグリコールのポ
リアクリレートもしくは−メタクリレートが特に
適している。 光重合可能な記録材料の混合物のため、そして
特に印刷板及びレリーフ型の製造のための有機重
合体結合剤(b)としては、この用途に用いられる既
知の重合体が用いられる。その際光重合可能な記
録材料の画像に適合した照射ののちに、材料層の
照射されずそして架橋されない部分の洗出を可能
にするためには、この重合体が、併用される低分
子化合物(a)と一般に親和性であり、そして専門家
に自明のように適当な現像用溶剤に可溶又は分散
可能であることを要する。 好適な飽和もしくは不飽和の結合剤としては下
記のものがあげられる。線状ポリアミド特にアル
コール可溶性コポリアミドたとえばフランス特許
1520856号明細書に記載のもの、セルロース誘導
体特に水−アルカリ性洗出可能なセルロース誘導
体、ビニルアルコール重合体ならびに１〜４個の
炭素原子を有する脂肪族モノカルボン酸のビニル
エステルたとえば酢酸ビニルの、種々の鹸化度を
有する重合体及び共重合体、ポリウレタン、ポリ
エーテルウレタン、及びポリエステルウレタン、
ならびに不飽和ポリエステル樹脂たとえばドイツ
特許出願公開2040390号明細書に記載のもの。ジ
オール及び場合によりポリアルコールと、不飽和
の及び場合により飽和の、二塩基性及び場合によ
り多塩基性のカルボン酸との反応により製造され
た直鎖状又は分岐状のポリエステルに関しては、
材料中のポリエステルがアルカリ−水性の現像用
溶剤中で良好な分散性もしくは可溶性になるため
に高い酸価そして特に75〜160の酸価を有するポ
リエステルが優れている。不飽和ポリエステル樹
脂の組成と製造については公知文献たとえばベー
ニツヒ著「アンサチユレイテツド・ポリエスター
ズ、ストラクチヤー・アンド・プロパテイズ」ア
ムステルダム1964年が参照される。 本発明により記録用材料は、主としてすなわち
50重量％以上そして好ましくは70〜100重量％ま
でが(a)と(b)からの光開始剤含有混合物から成る。
この混合物における、重合体結合剤(b)の含量は、
重合体(b)及び光重合可能な低分子化合物(a)の合計
量に対し、一般に約45〜90重量％特に45〜65重量
％である。 光重合可能な材料には普通の量で、熱重合に対
する既知抑制剤たとえばハイドロキノン、ｐ−メ
トキシフエノール、ｍ−ジニトロベンゾール、ｐ
−キノン、メチレンブルー、β−ナフトール、Ｎ
−ニトロソアミンたとえばＮ−ニトロソジフエニ
ルアミン、フエノチアジン、亜りん酸エステルた
とえばトリフエニルホスフイトもしくはその塩、
そして特にＮ−ニトロソ−シクロヘキシル−ヒド
ロキシルアミンのアルカリ金属塩及びアルミニウ
ム塩を添加することも多くの場合に好ましい。 本材料は他の普通の添加剤、たとえば可塑剤、
アミド基を有する飽和低分子化合物、ワツクス等
を含有することもできる。 光重合可能な記録材料を加工して、たとえばレ
リーフ型を形成する層としての記録用材料を層状
に有する光重合印刷板にする処理は、自体既知の
手段により行われ、そして混合物(a)＋(b)の種類
と、材料が液体か固体かということとに依存す
る。記録用材料をたとえばレリーフ型に加工する
処理は、化合線を用いる画像に適する照射により
既知の様式で行われる。画像に適する照射のの
ち、レリーフ型又はフオトレジストを製造するた
めに、記録材料の層における非照射部分を既知技
術により機械的に除去するか、又は適当な現像用
溶剤を用いて洗出し、その結果生じた型たとえば
レリーフ型を乾燥し、そして多くの場合はなお完
全に照射することが好ましい。 この記録用材料を用いると多くの場合に、光重
合可能なこの材料の層を画像に適する照射をする
に先立つ予備照射を省略することすら可能であ
り、そのうえ好ましい照射時間により加工しうる
ことは、特に有利である。さらに予測されなかつ
た大きな利点は、実施例39が示すように、本発明
による記録用材料の層が、レリーフ印刷版への加
工に際して、改良されたレリーフ構造を生ずるこ
とであつて、このことはたとえば印刷に際して明
らかに陰画の改善された再生を可能にする。 下記実施例中の部及び％は、特に指示がない限
り重量に関し、容量部は部に対して対Kgの関係
にある。 実施例 １ 石油エーテル（沸騰範囲40〜70℃）1350容量
部、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン180容量部及びメ
タノール67容量部からの混合液に、撹拌下に０℃
で石油エーテル220容量部に溶解したジフエニル
クロルホスフイン225部を添加した。次いで混合
物を室温でなお２時間撹拌したのち約＋５℃に冷
却し、析出したアミン塩酸塩を吸引過し、すべ
ての易揮発性成分を除去するために液をまず10
〜20mmHgで蒸留した。次いで01〜１mmHgで分留
すると、沸点1.5120〜124℃のジフエニルメトキ
シホスフイン175部（ジフエニルクロルホスフイ
ンに対し収率80％）が得られる。ピバロイルクロ
リド36.2部に、撹拌下に30〜60℃でジフエニルメ
トキシホスフイン64.8部を滴加し、滴加終了後な
お30分間反応させた。次いで０〜10℃に冷却し、
沈殿した生成物をシクロヘキサンから再結晶する
と、ピバロイルジフエニルホスフインオキシド
69.5部（理論値の81％）が得られた。融点110〜
112℃、NMR（CDCl3、δ）1.33（Ｓ）、7.4〜8.0
（Ｍ） 元素分析：C17H19O3P（286） 計算値 Ｃ71.33 Ｈ6.64 Ｐ10.84 実測値 Ｃ71.0 Ｈ6.5 Ｐ11.0 実施例 ２ トルイル酸クロリド77部に、トルオール200容
量部に溶解した実施例１によるメトキシジフエニ
ルホスフイン108部を添加した。50℃に60分間加
熱したのち冷却し、沈殿を吸引過し、シクロヘ
キサンから再結晶すると、融点105℃のトルイル
ジフエニルホスフインオキシド117部（理論値の
73％）が得られた。 NMR（CDCl3、δ）2.35S；7.2〜8.0（ｍ） 元素分析：C20H17O2P（320） 計算値 Ｃ75.00 Ｈ5.31 Ｐ9.69 実測値 Ｃ75.3 Ｈ5.8 Ｐ9.3 実施例 ３ 実施例２と同様にして、２−メチル安息香酸ク
ロリド77部及びメトキシジフエニルホスフイン
108部から、２−メチルベンゾイル−ジフエニル
ホスフインオキシド１３４部を製造した。収率理
論値の84％、融点107℃ NMR（CDCl3、δ）：2.5（Ｓ）、：7.2〜８（ｍ）：8.8
（ｍ） 元素分析：C20H17O2P（320） 計算値 Ｃ75.0 Ｈ5.31 Ｐ9.69 実測値 Ｃ74.7 Ｈ5.4 Ｐ9.5 実施例 ４ 実施例１と同様にして、ｐ−三級ブチル安息香
酸クロリド41.3部を、トルオール20部に溶解した
メトキシジフエニルホスフイン45.4部と、50℃で
90分間反応させた。回転蒸発器内で溶剤を蒸発さ
せたのち、生成した４−三級ブチルベンゾイルジ
フエニルホスフインオキシドをシクロヘキサンか
ら再結晶した。収量63部（理論値の83％）、融点
136℃。 NMR（CDCl3、δ）：1.3（ｓ）；7.3〜8.1（ｍ）；8.5
(d) 元素分析：C23H23O2P（362） 計算値 Ｃ76.24 Ｈ6.35 Ｐ8.56 実測値 Ｃ76.0 Ｈ6.5 Ｐ8.7 実施例 ５ 実施例２と同様にして、トリオール200部に溶
解したテレフタル酸ジクロリド52部とメトキシジ
フエニルホスフイン108部から、テレフタロイル
−ビス−ジフエニルホスフインオキシド46部を製
造した。収率理論値の35％、融点205℃。 NMR（CDCl3、δ：6.8〜8.2（ｍ） 元素分析：C32H24O4P2（534） 計算値 Ｃ71.91 Ｈ4.49 Ｐ11.61 実測値 Ｃ71.8 Ｈ4.8 Ｐ11.0 実施例 ６ 実施例２と同様にして、１−メチル−１−シク
ロヘキサンカルボン酸クロリド80部及びメトキシ
ジフエニルホスフイン108部から、溶剤不在で１
−メチル−シクロヘキシルカルボニルジフエニル
ホスフインオキシド100部を油状の粗製物として
製造した。これをクロマトグラフイー（シリカゲ
ル、展開溶媒トルオール）により精製した。収量
42部（理論値の26％）、融点80℃ NMR（CDCl3、δ）：1.4（Ｓ）；1.1〜1.6（ｍ）；2.1
〜2.4（ｍ）；7.3〜8.0（ｍ） 元素分析：C20H23O2P（326） 計算値 Ｃ73.62 Ｈ7.06 Ｐ9.51 実測値 Ｃ73.3 Ｈ7.1 Ｐ9.6 実施例 ７ 実施例１と同様にして、２−メチル−２−エチ
ルヘキサン酸クロリド88部及びメトキシフエニル
ホスフイン108部から、２−メチル−２−エチル
−ヘキサノイル−ジフエニルホスフインオキシド
165部を油状粗生成物として製造した。カラムク
ロマトグラフイー（シリカゲル、展開溶媒：トル
オール／エーテル３：１）により目的物質が淡黄
色の油状物として得られた。収量154部（理論値
の90％）。 NMR（CDCl3、δ）：1.2（Ｓ）；0.5〜2.2（ｍ）；7.3
〜8.1（ｍ） 元素分析：C21H27O2P（342） 計算値 Ｃ73.68 Ｈ7.89 Ｐ9.06 実測値 Ｃ73.9 Ｈ8.1 Ｐ9.4 実施例 ８ 実施例１と同様にして、50℃でメトキシジフエ
ニルホスフイン43.2部を２，２−ジメチル−ヘプ
タンカルボン酸クロリド（バーサチツク酸クロリ
ド）35.3部に滴加した。50℃で３時間撹拌したの
ち15℃に冷却し、混合物をトルオール350ml中の
シリカゲル60gの懸濁物に撹拌しながら加え、氷
冷下になお１時間撹拌した。次いで吸引過し、
減圧下に溶剤を蒸留すると、バーサトイル−ジフ
エニルホスフインオキシドが粘性油状物として残
留した。収量62部（理論値の90％）。 NMR（CDCl3、δ）：0.4〜2.3（ｍ）；7.2〜8.1（ｍ） 元素分析：C21H27O2P（342） 計算値 Ｃ73.68 Ｈ7.89 Ｐ9.06 実測値 Ｃ73.6 Ｈ8.1 Ｐ8.6 実施例 ９ 石油エーテル600容量部、Ｎ，Ｎ−ジエチルア
ニリン263部及びイソプロパノール120部からの混
合部に、０℃でフエニルジクロルホスフイン143
部を１時間かけて滴加した。次いで室温でなお１
時間撹拌し、実施例１と同様に蒸留して仕上げ処
理すると、沸点68〜72℃／0.3mmのジイソプロポ
キシ−フエニルホスフイン126部（理論値の69％）
が得られた。このジイソプロポキシフエニルホス
フイン158部を、よく撹拌しながら50〜60℃で
徐々にピバリン酸クロリド84部に加えた。さらに
２時間撹拌したのち真空下に分留すると、119〜
121℃／0.5mmでピバロイル−フエニルホスフイン
酸イソプロピルエステルが得られた。収量112部
（理論値の60％）。 NMR（CDCl3、δ）：1.25（Ｓ）；1.33（ｔ）：4.5
（ｍ）；7.3〜８（ｍ） 元素分析：C14H21O3P（268） 計算値 Ｃ62.68 Ｈ7.84 Ｐ11.57 実測値 Ｃ63.0 Ｈ8.0 Ｐ11.4 実施例 10 トリオール1000容量部、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン421容量部及びメタノール100容量部からの混
合物に、０℃でフエニルジクロルホスフイン214
部を添加した。次いで室温でなお１時間撹拌し、
アミン塩酸塩の沈殿を吸引過し、分留すると、
46〜50℃／0.2〜0.3mmでジメトキシフエニルホス
フインが留出した。収量190部（理論値の93％）。 ピバロイルクロリド78.7部に15℃でジメトキシ
フエニルホスフイン110.5部を添加した。次いで
50℃に30分間加熱したのち、反応混合物を蒸留す
ると、ピバロイルフエニルホスフイン酸メチルエ
ステルが104〜107℃／0.3mmで留出した。収量
101.3部（理論値の65％）。 NMR（CDCl3、δ）：1.3（Ｓ）；3.75(d)；7.4〜8.
（ｍ） 元素分析：C12H17O3P（240） 計算値 Ｃ60.0 Ｈ7.08 Ｐ12.9 実測値 Ｃ59.8 Ｈ6.9 Ｐ12.4 実施例 11 ２−エチルヘキサン酸クロリド163部に30℃で
ジメトキシフエニルホスフイン（実施例４）170
部を滴加した。次いで50℃で50分間撹拌したのち
油真空で分留すると、２−エチル−ヘキサノイル
−フエニルホスフイン酸メチルエステルが160〜
168℃／1.2mmで留出した。収量230部（理論値の
81％）。 NMR（CDCl3、δ）：0.6〜２（ｍ）；3.2（ｑ）；3.8
(d)；7.3〜８（ｍ） 元素分析：C15H22O3P（281） 計算値 Ｃ64.06 Ｈ7.83 Ｐ11.03 実測値 Ｃ63.8 Ｈ8.1 Ｐ11.0 実施例 12 トルオール250容量部に溶解した４−メチル−
ベンゾイルクロリド155部に、30℃でジメトキシ
フエニルホスフイン170部を添加した。60分間反
応させたのち０℃に冷却し、沈殿を吸引過し
た。シクロヘキサンから再結晶すると、融点99〜
101℃の４−メチルベンゾイル−フエニルホスフ
イン酸メチルエステルが得られた。収量180部
（理論値の65％）。 NMR：2.25（Ｓ）；3.7(d)；７〜8.1（ｍ） 元素分析：C15H15O3P（274） 計算値 Ｃ65.69 Ｈ5.47 Ｐ11.31 実測値 Ｃ65.7 Ｈ5.1 Ｐ11.0 実施例 13 石油エーテル（沸騰範囲40〜70℃）1350容量
部、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン180容量部及びメ
タノール67容量部からの混合物に、撹拌下に０℃
で石油エーテル220容量部に溶解したジフエニル
クロルホスフイン225部を添加した。次いで室温
でなお２時間混合物を撹拌した。約５℃に冷却し
たのち析出したアミン塩酸塩を吸引過し、すべ
ての易揮発性成分を除去するために液をまず10
〜20mmHgで蒸留した。次いで0.1〜１mmHgで沸
点0.5120〜124℃のジフエニルメトキシホスフイ
ンを分留した。収量175部（ジフエニルクロルホ
スフインに対し80％）。 還流冷却器及び滴下漏斗を備えた撹拌式容器中
で、50〜55℃でメトキシジフエニルホスフイン
64.8部を２，４，６−トリメチルベンゾイルクロ
リド547.5部に徐々に添加した。50℃でなお４〜
５時間撹拌したのち容器の内容物を30℃でエーテ
ルに溶解し、混濁が始まるまで石油エーテルを混
合した。次いで冷却すると、融点89〜92℃の２，
４，６−トリメチルベンゾイル−ジフエニルホス
フインオキシド910部（理論値の87％）が淡黄色
の結晶として析出した。 実施例 14 実施例13と同じ容器中で、２，６−ジメトキシ
ベンゾイルクロリド20部をトルオール20容量部に
懸濁させ、この混合物に撹拌下に50〜55℃でメト
キシジフエニルホスフイン21.6部を滴加した。50
℃でなお３時間撹拌したのち、直接にトルオール
から再結晶すると、２，６−ジメトキシベンゾイ
ルフエニルホスフインオキシド32部が融点124〜
126℃の黄色結晶としてが得られた。 実施例 15 実施例13と同じ容器に２，４，６−トリメチル
ベンゾイルクロリド91部を装入し、60℃で15分間
にトリエチルホスフイート83部を加え、次いで80
℃で８時間撹拌した。容器からの排出物を0.4mm
の減圧で蒸留し、120〜122℃／0.4mmの留分を捕
集すると、２，４，６−トリメチルベンゾイル−
ホスフイン酸ジエチルエステル51部（理論値の36
％）が得られた。 実施例 16 トリオール1000容量部、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リン421容量部及びメタノール100容量部からの混
合物に、０℃でフエニルジクロルホスフイン214
部を添加した。次いで室温で１時間撹拌し、アミ
ン塩酸塩の沈殿を吸引過し、分留すると、46〜
50℃／0.2〜0.3mmでジメトキシフエニルホスフイ
ン190部（理論値の93％）が留出した。 ２，４，６−トリメチルベンゾイルクロリド
182.5部に50℃でジメトキシフエニルホスフイン
170部を滴加し、50℃で５時間保持した。淡黄色
の油状物を70〜80℃でシクロヘキサンに溶解し、
生成物を５℃に冷却して結晶させると、融点51〜
52℃の淡黄色結晶が理論値の81％の収率で得られ
た。 実施例13〜16と同様にして製造される他の化合
物を第２表に示す。
【表】 ルホスフインオキシド


75.2 5.7 8.9
実施例 17 被覆性顔料を配合したワニスを、ビスフエノー
ル−Ａ−ジグリシジルエーテルとアクリル酸２モ
ルからの反応生成物100部、ブタンジオール１，
４−ジアクリレート122部、ｎ−ブタンジオール
６部及びTiO2顔料122部の混合物から製造した。
この種のワニスは専門家によく知られている。こ
の混合物に２−メチルベンゾイル−ジフエニルホ
スフインオキシド6.5部を光開始剤として加えた。
出来上りの配合ワニスを、ガラス板上に厚さ75μ
にドクターナイフにより塗布し、水銀高圧灯（電
力80w／cm弧長）により照射した。灯とワニス層
間の距離は10cmであつた。試料は、不活性ガス雰
囲気内で、走行速度を連続的に調節しうる運搬帯
に乗せて灯下を通過させた。6m／分までの運搬
帯速度で、耐引掻き性で硬化が完全な白色のワニ
スフイルムが得られた。 実施例 18 ２当量のアクリル酸とのビスフエノール−Ａ−
ジグリシジルエーテルの反応生成物56部及びブタ
ンジオール−１，４−ジアクリレート35部からの
結合剤に、光開始剤各３部を添加した。これらの
混合物を、ガラス板上に厚さ80μの層にドクター
ナイフを用いて塗布し、照射した（水銀高圧灯、
80w／cm弧長、距離10cm）。耐引掻ぎ性の爪の硬
さの表面を得るために必要とする照射時間は、試
料が灯下を導通される可能な最高の運搬帯速度に
より表わされる。その値を第３表に示す。
【表】 ルホスフインオキシド
実施例 19 実施例18により製造したワニスにＮ−フエニル
グリシン３％を加え、次いで実施例18と同様にガ
ラス板に塗布して照射した。その結果を第３表に
示す。 実施例 20 無水マレイン酸431部及び無水フタル酸325部を
プロピレングリコール−（１，２）525部を用いて
エステル化することにより不飽和ポリエステルを
製造した。このポリエステルからハイドロキノン
0.01％を添加したのち、スチロール中の66％溶液
を製造した。このUP樹脂97部をピバロイル−ジ
フエニルホスフインオキシド1.5部と混合した。
光硬化試験のためこの混合物100部に、スチロー
ル中のパルフイン（軟化点50〜52℃）の１％溶液
10部を加え、細〓深さ400μのフイルム形成器を
用いて樹脂をガラス板上に塗布した。約１分間の
排気ののち、塗膜を螢光灯（フイリツプス社
TLA05／40w）を用いて40cmの距離から照射し
た。４分間の照射時間ののち、塗膜は76秒（ケー
ニツヒによる）の振子強度を示し、引張り又はも
むことができた。 実施例 21 実施例18により製造した結合剤を、第３表に示
す光開始剤各３部と混合し、厚さ76μの層に写真
用紙上に塗布し、水銀高圧灯（電力80w／cm弧
長）の下を72m／分の速度で通過させた。こうし
て硬化された試料は爪の硬さで、光沢が優れてい
た。第４表に示すように、本発明による化合物
は、開始剤であるベンジルメチルケタール及びベ
ンジルメチルケタール／ベンゾフエノン／メチル
ジエタノールアミン混合物を用いる技術水準のも
のよりはるかに優れていた。
【表】 実施例 22 光重合しうる不飽和ポリエステルを樹脂中にお
ける本発明化合物の硬化活性を測定するため、照
射中の温度変化を調べた。試験用に下記樹脂を製
造した。 樹脂Ａ：マレイン酸、ｏ−フタル酸、エチレング
リコール及びプロピレングリコール−
１，２を１：２：2.4：0.85のモル比で
溶融縮合することにより、酸価50を有す
る不飽和ポリエステルを得た。 樹脂Ｂ：マレイン酸、テトラヒドロフタル酸及び
ジエチレングリコールからモル比１：
0.5：1.5で酸価46のUP樹脂を得た。 使用するためにスチロール中に両樹脂を65％に
溶解し、ハイドロキノン100ppmにより安定化し
た。こうして得られた樹脂10gを光開始剤各0.35
％により増感し、次いで断熱のためポリウレタン
硬質泡状物質中に埋没されたブリキ板製皿（直径
3.8cm）の中で照射した。照射源としては、灯
（TUV40w／0.5、フイリツプス社製品）10本を
並置した紫外線の場（87×49cm）を用いた。試料
への距離は10cmとし、硬化中における樹脂の温度
変化を、記録計を備えた熱素子により記録した。
得られた測定値を第５表にまとめて示す。
【表】 ビス−ジフエニル
15秒
ホスフインオキシ
ド
実施例 23 ビスフエノール−Ａ−ジグリシドエーテルとア
クリル酸の反応生成物65部、ブタン−１，４−ジ
オールジアクリレート35部及びメチルジエタノー
ルアミン３部からの結合剤に、光開始剤各３部を
溶解した。出来上つた混合物を厚さ60μの層にガ
ラス板上に塗布し、水銀高圧灯（電力80w／cm弧
長）の下を10cmの距離で通過させた。反応性は、
ワニス薄膜の耐引掻き性硬化がなお可能である運
搬帯の最高速度として示される。
【表】 ルホスフインオキシド
【表】 このように２，６−置換誘導体は、置換基をベ
ンゾイル基の他の位置に有する誘導体よりも本質
的に高い反応性を示す。 実施例 24 実施例23に類似のワニス系に下記の光開始剤を
添加し、実施例23と同様にして試験した。
【表】 ルジフエニルホスフインオ
キシド3部
実施例 25 ビスフエノール−Ａ−ジグリシドエーテルとア
クリル酸の反応生成物55部、ブタンジオールジア
クリレート45部、ルチル顔料55部及びメチルジエ
タノールアミン３部からの混合物に、下記の光開
始剤を溶解した。出来上つた混合物をスパイラル
（80μm）によりガラス板上に塗布し、２個の順次
に配置された水銀高圧灯（電力各80w／ｍ）の下
を通過させた。開始剤系の反応性は、耐引掻き性
の硬化がなお可能である運搬帯の速度で示す。 第二の試験で前記組成物を厚さ200μの層にド
クターナイフにより塗布した。紫外線硬化後、こ
の層を分離してアセトンで洗浄し、次いで硬化さ
れた層の深さを測定した。こうして硬化深度の尺
度が得られる。
【表】 実施例 26 ビスフエノール−Ａ−ジグリシドエーテルとア
クリル酸の反応生成物55部、ブタンジオール−ジ
アクリレート45部及びルチル顔料55部からの混合
物に、比較すべき各光開始剤を溶解した。出来上
つたワニスを80μmと厚さにガラス板上に塗布し、
実施例25と同様に硬化させた。ベンジルジメチル
ケタール又はα−ヒドロキシイソブチロフエノン
の単独の場合は、顔料入りワニスを硬化するため
無効であることが知られた。しかしこれらは硬化
における著しい損失なしに、本発明の開始剤２，
４，６−トリメチルベンゾイルジフエニルホスフ
インオキシドの一部に代用することができる。
【表】 インオキシド＋α−ヒド １〓
ロキシイソブチロフエノ
ン
【表】 インオキシド＋ベンジル １〓
ジメチルケタール
α−ヒドロキシイソブチ ３〓 それぞれ表面の
ロフエノンベンジルジメ 〓 み乾燥するにす
チルケタール ３〓 ぎない
実施例 27 無水マレイン酸431部及び無水フタル酸325部を
プロピレングリコール−（1.2）525部を用いてエ
ステル化することにより、不飽和ポリエステルを
製造した。ハイドロキノン0.01％の添加後、ポリ
ステルのスチロール中66％溶液を調製し、これに
各光開始剤を溶解した。 光硬化試験のためこの溶液100部に、パラフイ
ン（軟化点50〜52℃）のスチロール中１％溶液10
部を添加し、この樹脂を細〓深度400μのフイル
ム塗布器によりガラス板上に塗布した。約１分間
の脱気後、螢光灯（フイリツプス社TLA05／
40w）により距離４cmからフイルムを照射した。
この試験を、光重合可能なこの混合物を60℃で５
日間暗所に貯蔵したのち、再び行つた。それぞれ
２分間の照射ののち下記の結果が得られた。
【表】 実施例 28 無水テトラヒドロフタル酸143部及び無水マレ
イン酸175部をジエチレングリコール260部を用い
てエステル化することにより、不飽和ポリエステ
ル樹脂を製造し、これをスチロールに64％に溶解
し、ハイドロキノン0.01％により安定化した。 光硬化試験のためこの溶液100部に、TiO220
部、スチロール中のパラフイン１％溶液10部なら
びに下記の各開始剤の下記の量を加えた。樹脂を
ドクターナイフでガラス板上に厚さ60μの層に塗
布し、そして直ちに水銀高圧灯（100w／cm弧長）
の下で10cmの距離で20秒間照射した。その結果を
次表に示す。
【表】 ールアミン
本発明の開始剤を用いて増感した樹脂は、60℃
で５日間の貯蔵後に留意するほどの反応性の低下
を示さなかつたのに対し、ベンジル／アミンを用
いた混合物はすでにゲル化した。 実施例 29 実施例28によつて製造された樹脂100部に、光
開始剤が加えてあるスチロール中のパラフイン
（融点50〜52℃）の0.7％溶液15部を加えた。この
樹脂に有色顔料３％をさらに加え、ガラス板上に
ドクターナイフにより塗布して厚さ100μのフイ
ルムとし、実施例28と同様に20秒間照射した。下
記表に示す結果から、本発明の開始剤が有色顔料
入りワニス又は印刷インキの硬化のためにも適し
ており、このために使用できないか又は少量しか
使用できない従来の開始剤と併用したときにも適
していること、すなわち本発明の開始剤が相乗的
効果を奏する事実が知られる。
【表】 実施例 30 アジピン酸、ヘキサメチレンジアミン、４，
4′−ジアミノジシクロヘキシルメタン及びε−カ
プロラクタムからのコポリアミド60％、エチレン
グリコール１モル及びＮ−ヒドロキシメチルアク
リルアミド２モルからのジエーテル25％、ベンゾ
ールスルホンアミド13.2％及び２，４，６−トリ
メチルベンゾイル−ジフエニルホスフインオキシ
ド1.8％ならびにＮ−ニトロソシクロヘキシルヒ
ドロキシルアミンのアルミニウム塩0.2％及び黒
色染料（カラーインデツクスNo.12195）0.01％か
らの65％メタノール性溶液を調製した。この溶液
を粘着ワニスを塗つた薄鋼板上に層状に流延し、
約70℃で乾燥して厚さ680μmの光重合可能な記録
材料の層を形成した。得られた光重合可能な印刷
板を、前記のように照射して像を形成させ、次い
でアルコール−水混合物により照射されない層の
部分を洗出した。この印刷板は、高化学線螢光灯
により５cmの距離で照射する際に、１cm当り60本
のスクリーン線数において３％の網点面積を支障
なく形成するためには、４分間の最小照射時間が
必要であつた。 実施例 31 実施例30と同様に操作し、ただしベンゾールス
ルホンアミドを11.4％だけにしてメチルジエタノ
ールアミン1.8％を追加して用いると、最少照射
時間はわずか３分であつた。 実施例 32 実施例30と同様に操作し、ただしホスフインオ
キシド化合物として、光開始剤である２，６−ジ
メトキシベンゾイルジフエニルホスフインオキシ
ド1.8％を用いると、最少照射時間は4.5分であつ
た。 実施例 33 実施例31と同様に操作し、ただし２，６−ジメ
トキシベンゾイルジフエニルホスフインオキシド
1.8％を開始剤として用いると、最少照射時間は
わずか2.5分であつた。 実施例 34 実施例31と同様に操作し、ただしバーサトイル
ジフエニルホスフインオキシキド1.8％を開始剤
として用いると、最少照射時間は3.5分であつた。 比較例 Ａ 実施例30と同様に操作し、ただし開始剤として
ベンジルジメチルケタール1.8％を用いた。それ
以外は比較しうる条件において、この場合は最少
照射時間が５分であつた。本発明の記録用材料は
これと比較すると25〜100％だけ高い反応性を有
する。 実施例 35 実施例30と同様に操作し、ただし顔料を添加せ
ずそしてアルミニウム塩の代わりにＮ−ニトロソ
シクロヘキシルヒドロキシルアミンのカリウム塩
を用いた。光重合可能な記録材料の製造された層
は、厚さ500μmの乾燥したものである。この板
は、反射鏡付きの市販の鉄を加えた水銀高圧灯を
使用し、50cmの距離から3000ワツト／時間の紫外
線発光体の電力受容において照射を行うと、新聞
紙の印刷にしばしば採用される１cm当りの線34本
のスクリーン線数において３％の網点面積を支障
なく形成するためには、50秒の最少照射時間を必
要とした。板の他の加工処理は、実施例30と同様
に行われた。 実施例 36 実施例35と同様に操作し、ただしベンゾールス
ルホンアミドを11.4％だけ用い、さらに材料にメ
チルジエタノールアミン1.8％を含有させると、
最少照射時間は35秒であつた。 実施例 37 実施例35と同様に操作し、ただしベンゾールス
ルホンアミドを11.4％だけとし、さらにメチルジ
エタノールアミン0.9％及びベンジルジメチルケ
タール0.9％を用い、そのほか２，４，６−トリ
メチルベンゾイルジフエニルホスフインオキシド
の代わりに２，６−ジメトキシベンゾイルジフエ
ニルホスフインオキシド1.8％を用いると、この
場合も同様に最少照射時間は35秒であつた。 比較例 Ｂ 実施例35と同様に操作し、ただし光開始剤とし
てベンジルジメチルケタール1.8％を用いると、
前記と同じ条件下で最少照射時間は55秒であつ
た。 実施例 38 フマル酸、無水トリメリツト酸及びジエチレン
グリコールからの酸価140を有する不飽和ポリエ
ステル650部に、テトラエチレングリコールジメ
タクリレート及びジアリルフタレートの同量混合
物400部、ハイドロキノン２部及び２，４，６−
トリメチルベンゾイルジフエニルホスフインオキ
シド７部を添加した。得られた液状の記録用材料
にＮ−ニトロソジフエニルアミン110ppmを加え
た。 自体公知の手段により、この記録用材料からレ
リーフ印刷版を製造した。そのため担持体として
の粘性ワニス塗りの薄鋼板上に液状の記録用材料
を流延し、ドクターナイフにより層厚800μmに調
節し、次いで空気の混入を避けながら厚さ6μmの
透明なポリエステルフイルムで被覆した。この記
録用材料の液状の層を、ポリエステルフイルム上
に置かれた陰画を通して、市販の普通の水銀中圧
灯により照射して画像を形成した。次いで陰画と
ポリエステルフイルムを取り除き、記録材料層の
非照射部分を0.5％炭酸ナトリウム水溶液により
洗出した。得られたレリーフ型を乾燥し、これに
それぞれ同時に２分間照射した。すべての必要な
画像要素（すなわち40線／cm及び３％の網点面積
を有するスクリーン、0.3mmの印刷面の直径を有
する弧立した点、0.07mmの横断面を有する細い
線）が担持薄板上に留められる正確な照射時間と
して、普通市販の自動照射装置を用いて前記条件
において照射単位を測定すると、９照射単位であ
つた。このレリーフ版は支障がなくそして所期の
要求を満足していた。 比較例 Ｃ 実施例38と全く同様に操作し、ただし２，４，
６−トリメチルベンゾイルジフエニルホスフイン
オキシドの代わりにベンジルジメチルケタール８
部を用いた。この液状の記録用材料を用いると、
前記の方法に従い、23照射単位（すなわち約2.5
倍長い照射時間）の照射時間が必要であることが
知られた。 実施例 39 部分鹸化されたポリ酢酸ビニル（鹸化価82モル
％、平均重合度500）294部を、90℃で数時間撹拌
することにより、水294部に溶解した。これに70
℃に冷却後、撹拌しながら２−ヒドロキシエチル
メタクリレート180部、１，１，１−トリメチロ
ールプロパントリアクリレート20部、２，４，６
−トリメチルベンゾイルジフエニルホスフインオ
キシド10部及び２，６−ジ三級ブチル−ｐ−クレ
ゾール２部からの単位体混合物200部を添加した。
均質で粘性の溶液を過し、減圧下に脱気した。
これを粘着ワニスを塗布した鋼薄板上に塗布し、
室温で24時間乾燥することにより、記録用材料の
厚さ550μmの非粘着層が得られた。螢光管を備え
た平面照射器中の陰画を通しての２秒間の予備照
射及びそれに続く40秒間の照射ののち、噴射洗浄
器内の水を用いる洗出ならびにそれに続く100℃
での乾燥により、良好なレリーフ構造と卓越した
機械的性能を有するステロ版が得られ、この版に
より数千部の印刷が得られた。このレリーフ印刷
版は試し刷りに際して良好に形成された解続しう
る複製文字を与え、それは新聞の要求を充分に満
たすものであつた。 実施例 40 実施例39と同様にして、ただし２，４，６−ト
リメチルベンゾイル−ジフエニルホスフインオキ
シドの代わりに同量の２，６−ジメトキシベンゾ
イル−ジフエニルホスフインオキシドを含有する
記録用材料を用いて、印刷板を製造した。予備照
射時間は約２秒で、画像形成の照射のために要す
る時間は45秒であつた。 比較試験Ｄ及びＥ 実施例39と同様に操作し、ただし光開始剤とし
て同量の既知開始剤ベンジルジメチルケタール
（比較例Ｄ）又はベンゾインイソプロピルエーテ
ル（比較例Ｅ）を含有する記録用材料を用いて印
刷板を製造した。各光開始剤の同一含量において
各記録用材料が必要とする照射時間を比較した結
果を次表に示す。
【表】 比較例Ｄによる照射された印刷板から製造され
たレリーフ印刷版は、試し刷りに際して実施例39
により製造されたレリーフ印刷版に比して、形成
が悪くかつ鋭さに欠けた複製文字を与えた。 実施例41及び比較例Ｆ 実施例39及び比較例Ｄと同様にして、一方では
２，４，６−トリメチルベンゾイルフエニルホス
フインオキシド（実施例41）を、他方ではベンジ
ルジメチルケタール（比較例Ｆ）を記録用材料の
光重合可能な層内に含有する点でのみ相違する印
刷板を、別個に同じ方法で製造した。並行してそ
れぞれの板を、予備照射なしに直接に反射鏡を備
えた普通の市販の鉄を加えた水銀高圧灯により、
75cmの距離から5kw／時間の紫外線発光体の電力
量において、陰画を通して照射して画像を形成
し、そして必要な最少照射時間を測定した。それ
は実施例41（本発明）による印刷板が60秒である
のに対し、比較例Ｆによる印刷板では110秒であ
つた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １ 一般式 〔式中R1は低級アルキル基、低級アルコキシ
    基又は低級アルキル基により置換されていてもよ
    いフエニル基、R2は低級アルコキシ基、又は低
    級アルキル基により置換されていてもよいフエニ
    ル基、R3はアセチルオキシ基により置換されて
    いてもよい２〜18個の炭素原子を有する直鎖状又
    は分岐状のアルキル基、３〜12個の炭素原子を有
    するシクロアルキル基、又は低級アルキル基、低
    級アルコキシ基もしくはハロゲン原子により置換
    されていてもよいアリール基、あるいは次式 （R1及びR2は前記の意味を有し、Ｘはｐ−フ
    エニレン基を意味する）の原子団である〕で表わ
    されるアシルホスフインオキシド化合物。 ２ R3が三級のアルキル基であることを特徴と
    する、特許請求の範囲第１項に記載のアシルホス
    フインオキシド化合物。 ３ R3がモノ−、ジ−もしくはトリ低級アルキ
    ル置換のフエニル基であることを特徴とする、特
    許請求の範囲第１項に記載のアシルホスフインオ
    キシド化合物。 ４ R3が少なくともジ置換されたフエニル基で
    あつて、少なくともカルボニル基との結合位置に
    隣接する二つの炭素原子において、同一でも異な
    つてもよい置換基Ａ及びＢを有し、Ａ及びＢが低
    級アルキル基、低級アルコキシ基又はハロゲン原
    子であり、あるいはR3が少なくとも２，８−位
    においてＡ及びＢにより置換されたα−ナフチル
    基、又は少なくとも１，３−位においてＡ及びＢ
    により置換されたβ−ナフチル基であることを特
    徴とする、特許請求の範囲第１項に記載のアシル
    ホスフインオキシド化合物。 ５ R3が２，４，６−トリメチルフエニル基、
    ２，３，６−トリメチルフエニル基、２，６−ジ
    メトキシフエニル基、２，６−ジクロルフエニル
    基又は２，３，５，６−テトラメチルフエニル基
    であることを特徴とする、特許請求の範囲第４項
    に記載のアシルホスフインオキシド化合物。 ６ R3が１，３−ジメチル−ナフタリン−２基、
    ２，８−ジメチル−ナフタリン−１基、１，３−
    ジメトキシ−ナフタリン−２基又は２，８−ジメ
    トキシナフタリン−１基であることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第４項に記載のアシルホスフ
    インオキシド化合物。 ７ R1及びR2がフエニル基又は低級アルキル置
    換フエニル基であることを特徴とする、特許請求
    の範囲第４〜６項のいずれかに記載のアシルホス
    フインオキシド化合物。 ８ 一般式 （式中Ｘは塩素原子又は臭素原子であり、R3
    は後記の意味を有する）で表わされる酸ハロゲニ
    ドを、一般式 （式中R1及びR2は後記の意味を有し、R4は直
    鎖状もしくは分岐状の１〜６個の炭素原子を有す
    るアルキル基又は５〜６個の炭素原子を有するシ
    クロアルキル基である）で表わされるホスフイン
    と、−30〜＋130℃の温度において、所望により不
    活性有機溶剤の存在下に反応させることを特徴と
    する、一般式 〔式中R1は低級アルキル基、低級アルコキシ
    基又は低級アルキル基により置換されていてもよ
    いフエニル基、R2は低級アルコキシ基、又は低
    級アルキル基により置換されていてもよいフエニ
    ル基、R3はアセチルオキシ基により置換されて
    いてもよい２〜18個の炭素原子を有する直鎖状又
    は分岐状のアルキル基、３〜12個の炭素原子を有
    するシクロアルキル基、又は低級アルキル基、低
    級アルコキシ基もしくはハロゲン原子により置換
    されていてもよいアリール基、あるいは次式 （R1及びR2は前記の意味を有し、Ｘはｐ−フ
    エニレン基を意味する）の原子団である〕で表わ
    されるアシルホスフインオキシド化合物の製法。 ９ 一般式 〔式中R1は低級アルキル基、低級アルコキシ
    基又は低級アルキル基により置換されていてもよ
    いフエニル基、R2は低級アルコキシ基、又は低
    級アルキル基により置換されていてもよいフエニ
    ル基、R3はアセチルオキシ基により置換されて
    いてもよい２〜18個の炭素原子を有する直鎖状又
    は分岐状のアルキル基、３〜12個の炭素原子を有
    するシクロアルキル基、又は低級アルキル基、低
    級アルコキシ基もしくはハロゲン原子により置換
    されていてもよいアリール基、あるいは次式 （R1及びR2は前記の意味を有し、Ｘはｐ−フ
    エニレン基を意味する）の原子団である〕で表わ
    されるアシルホスフインオキシド化合物を、光重
    合可能な材料中で光開始剤として使用する方法。 １０ 二級アミン及び／又は三級アミンと組み合
    わせて用いる特許請求の範囲第９項に記載のアシ
    ルホスフインオキシド化合物の使用法。 １１ 光重合可能な塗料、ワニス及び印刷インキ
    における光開始剤として0.001〜20％の濃度で用
    いる、特許請求の範囲第９項に記載のアシルホス
    フインオキシド化合物の使用法。 １２ 光重合可能な塗料、ワニス及び印刷インキ
    における光開始剤として、二級アミン又は三級ア
    ミンと組み合わせて用いる、特許請求の範囲第９
    項に記載のアシルホスフインオキシド化合物の使
    用法。 １３ 塗料、ワニス及び印刷インキにおいて、ア
    シルホスフインオキシド化合物対芳香族ケトンの
    10：１ないし１：30の混合比で、芳香族ケトンと
    組み合わせて光開始剤として使用する、特許請求
    の範囲第１０項に記載のアシルホスフインオキシ
    ド化合物の使用法。 １４ 促進剤として三級アミンを0.5〜15％の濃
    度で添加する、特許請求の範囲第１３項に記載の
    アシルホスフインオキシド化合物の使用法。 １５ 三級アミンと、ならびにベンゾフエノン及
    び／又はチオキサントン（メチル基、イソプロピ
    ル基、塩素原子又はクロルメチル基を有してもよ
    い）と、あるいはベンジルジメチルケタール、ベ
    ンゾインプロピルエーテル、α−ヒドロキシイソ
    ブチロフエノン、ジエトキシアセトフエノン又は
    ｐ−三級ブチルトリクロルアセトフエノンと、光
    開始剤系の合計含量が光重合可能な混合物の全量
    の１〜20％となる条件で組み合わせて用いる、特
    許請求の範囲第９項に記載のアシルホスフインオ
    キシド化合物の使用法。 １６ 光重合可能な材料が、(a)少なくとも１個の
    光重合可能なオレフイン性不飽和二重結合を有す
    る、少なくとも１種の低分子化合物及び(b)少なく
    とも１種の有機重合性結合剤からの、光開始剤含
    有混合物から主として成る、特に印刷板及び凸版
    印刷用型を製造するための光重合可能な記録用材
    料であることを特徴とする、特許請求の範囲第９
    項に記載のアシルホスフインオキシド化合物の光
    開始剤としての使用法。 １７ 式中のR1が６〜12個の炭素原子を有する
    アリール基であり、R2が１〜４個の炭素原子を
    有するアルコキシ基又は６〜12個の炭素原子を有
    するアリール基であることを特徴とする、特許請
    求の範囲第９項に記載のアシルホスフインオキシ
    ド化合物の使用法。 １８ 式中のR3が４〜18個の炭素原子を有する
    三級アルキル基又は５〜６個の環炭素原子を有す
    る三級シクロアルキル基であることを特徴とす
    る、特許請求の範囲第９項に記載のアシルホスフ
    インオキシド化合物の使用法。 １９ R3が少なくとも２，６−位で同一でも異
    なつてもよい置換基Ａ及びＢにより置換されてい
    るフエニル基であり、Ａ及びＢが低級アルキル
    基、低級アルコキシ基又はハロゲン原子であるこ
    とを特徴とする、特許請求の範囲第９項に記載の
    アシルホスフインオキシド化合物の使用法。 ２０ 光重合可能な記録用材料がさらに三級アミ
    ンを含有することを特徴とする、特許請求の範囲
    第９項に記載のアシルホスフインオキシド化合物
    の使用法。 ２１ 有機の重合性結合剤として、線状ポリアミ
    ド、不飽和ポリエステル又は分子主鎖中にビニル
    アルコールの繰返し単位を有する重合体を含有す
    ることを特徴とする、特許請求の範囲第９項に記
    載のアシルホスフインオキシド化合物の使用法。
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Cited By (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1944173A1 (en) 2007-01-15 2008-07-16 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
EP1958994A1 (en) 2007-01-31 2008-08-20 FUJIFILM Corporation Ink set for inkjet recording and inkjet recording method
EP1964893A1 (en) 2007-02-26 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set
EP1975211A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition and image recording method and image recorded matter using same
EP1975160A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 Fujifilm Corporation Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method
EP1975210A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink set for inkjet recording and inkjet recording method
EP2042574A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation White ink composition, inkjet recording method, and printed material
EP2042573A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition
EP2042563A1 (en) 2007-09-25 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Photocurable coating composition, and overprint and process for producing same
EP2042568A1 (en) 2007-09-26 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
EP2042572A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2053095A2 (en) 2007-09-28 2009-04-29 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
EP2085439A1 (en) 2008-01-22 2009-08-05 FUJIFILM Corporation Photocurable composition, photocurable ink composition, process for producing photocured material, and inkjet recording method
EP2088176A1 (en) 2008-02-07 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material
EP2105478A1 (en) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method and inkjet recording system
EP2130881A1 (en) 2008-06-02 2009-12-09 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion and ink composition using the same
EP2145932A1 (en) 2008-07-16 2010-01-20 Fujifilm Corporation Aqueous ink composition, aqueous ink composition for inkjet recording, and inkjet recording method
EP2192163A1 (en) 2008-11-27 2010-06-02 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2216377A1 (en) 2009-02-09 2010-08-11 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2216378A1 (en) 2009-02-05 2010-08-11 Fujifilm Corporation Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article
EP2230285A1 (en) 2009-03-19 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2233538A1 (en) 2009-03-27 2010-09-29 Fujifilm Corporation Photocurable composition
EP2236571A1 (en) 2009-03-30 2010-10-06 Fujifilm Corporation Ink composition
EP2284229A1 (en) 2009-07-28 2011-02-16 Fujifilm Corporation Pigment dispersion, ink composition, and inkjet recording method
EP2302007A1 (en) 2009-09-25 2011-03-30 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2311918A1 (en) 2009-09-29 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2388146A2 (en) 2010-05-19 2011-11-23 Fujifilm Corporation Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition
WO2012128306A1 (ja) 2011-03-24 2012-09-27 富士フイルム株式会社 液晶配向促進剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
WO2013015077A1 (ja) 2011-07-27 2013-01-31 富士フイルム株式会社 化合物、ヘイズ低下剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
EP2573146A1 (en) 2011-09-22 2013-03-27 Fujifilm Corporation Ink composition for ink jet recording, ink pack, and ink jet recording method
WO2013146722A1 (ja) 2012-03-28 2013-10-03 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インクジェットインク組成物及びその製造方法、インクジェット記録方法、並びに、印刷物
WO2013146923A1 (ja) 2012-03-28 2013-10-03 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶性混合物、フィルム、赤外反射板、積層体および合わせガラス
EP2703460A1 (en) 2012-08-29 2014-03-05 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition and method for producing the same, inkjet recording method, pigment dispersion for inkjet ink and method for producing the same
WO2014136923A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法
WO2014136924A1 (ja) 2013-03-08 2014-09-12 富士フイルム株式会社 多層構成物、多層構成物の製造方法、及び、組成物セット
EP2842763A2 (en) 2013-08-30 2015-03-04 Fujifilm Corporation Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set
EP2995658A2 (en) 2014-09-09 2016-03-16 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, ink composition for inkjet recording, inkkjet recording method and recorded matter
EP3000851A1 (en) 2014-09-26 2016-03-30 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed matter
EP3000854A1 (en) 2014-09-26 2016-03-30 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, ink composition for ink-jet recording, method of ink-jet recording, and printed article
WO2018084076A1 (ja) 2016-11-04 2018-05-11 富士フイルム株式会社 ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム
WO2018146958A1 (ja) 2017-02-09 2018-08-16 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
WO2018159236A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 インクジェット用液体組成物、及び、インクジェット記録方法
EP3431557A1 (en) 2017-07-19 2019-01-23 Ricoh Company, Limited Composition, cured product, image forming apparatus, and image forming method
WO2019050019A1 (ja) 2017-09-07 2019-03-14 富士フイルム株式会社 投映像表示用ハーフミラーフィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
WO2019163969A1 (ja) 2018-02-23 2019-08-29 富士フイルム株式会社 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム
WO2020080355A1 (ja) 2018-10-17 2020-04-23 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2020122023A1 (ja) 2018-12-10 2020-06-18 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2020179787A1 (ja) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
WO2021060402A1 (ja) 2019-09-27 2021-04-01 富士フイルム株式会社 ヘッドアップディスプレイ用プロジェクター
WO2021131792A1 (ja) 2019-12-26 2021-07-01 富士フイルム株式会社 光吸収異方性層、積層体、光学フィルム、画像表示装置、バックライトモジュール
WO2021200655A1 (ja) 2020-03-30 2021-10-07 富士フイルム株式会社 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2021220794A1 (ja) 2020-04-28 2021-11-04 富士フイルム株式会社 化合物、液晶組成物、硬化物およびフィルム
WO2021246402A1 (ja) 2020-06-03 2021-12-09 富士フイルム株式会社 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス
WO2022123946A1 (ja) 2020-12-09 2022-06-16 富士フイルム株式会社 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2023054324A1 (ja) 2021-09-30 2023-04-06 富士フイルム株式会社 ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機
WO2023080115A1 (ja) 2021-11-05 2023-05-11 富士フイルム株式会社 虚像表示装置、ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機

Families Citing this family (161)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2909994A1 (de) * 1979-03-14 1980-10-02 Basf Ag Acylphosphinoxidverbindungen, ihre herstellung und verwendung
DE3034697A1 (de) * 1980-09-15 1982-05-06 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Acylphosphinsulfidverbindungen, ihre herstellung und verwendung
DE3114341A1 (de) * 1981-04-09 1982-11-11 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Acylphosphinverbindungen, ihre herstellung und verwendung
DE3133419A1 (de) * 1981-08-24 1983-03-10 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Acylphosphinoxidverbindungen und ihre verwendung
DE3139984A1 (de) * 1981-10-08 1983-04-28 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Verfahren zur herstellung von acylphosphinoxiden
DE3443221A1 (de) * 1984-11-27 1986-06-05 ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung
US4757141A (en) * 1985-08-26 1988-07-12 Applied Biosystems, Incorporated Amino-derivatized phosphite and phosphate linking agents, phosphoramidite precursors, and useful conjugates thereof
DE3738567A1 (de) * 1987-03-12 1988-09-22 Merck Patent Gmbh Coreaktive fotoinitiatoren
JP2615180B2 (ja) * 1987-05-01 1997-05-28 三菱レイヨン株式会社 注型重合用活性光線硬化性組成物
JPH0655654B2 (ja) * 1987-07-21 1994-07-27 株式会社クラレ 光硬化性歯冠材料および該歯冠材料を用いる歯冠成形法
DE3885969D1 (de) * 1987-08-24 1994-01-13 Hoechst Ag Neue 6-Acyl-(6H)-dibenz[c,e] [1,2]oxaphosphorin-6-oxyde, ihre Herstellung und Verwendung als Photoinitiatoren.
DE3736180A1 (de) * 1987-10-26 1989-05-03 Basf Ag Verfahren zum verschliessen und/oder abdichten von oeffnungen, hohl- oder zwischenraeumen bei auf formzylindern aufgebrachten druckplatten
DE3837569A1 (de) * 1988-11-04 1990-05-10 Espe Stiftung Mit sichtbarem licht aushaertbare dentalmassen
US5218009A (en) * 1989-08-04 1993-06-08 Ciba-Geigy Corporation Mono- and di-acylphosphine oxides
JPH03174472A (ja) * 1989-11-24 1991-07-29 Dainippon Toryo Co Ltd 紫外線硬化型被覆組成物
JPH03192163A (ja) * 1989-12-21 1991-08-22 Dainippon Toryo Co Ltd 紫外線硬化型塗料組成物
DE4025386C2 (de) * 1990-08-10 1993-09-30 Herberts Gmbh Carboxyphosphanoxide und deren Verwendung als Photoinitiatoren zur Härtung von radikalisch polymerisierbaren Massen, Überzügen und Druckfarben
DE59307404D1 (de) * 1992-03-11 1997-10-30 Ciba Geigy Ag Benzoyl substituierte Phosphabicycloalkane und -sulfide als Photoinitiatoren
US5352713A (en) * 1992-04-01 1994-10-04 Allied-Signal Inc. Free radical co-polymerization of acrylates and vinyl ethers
DE4230555A1 (de) * 1992-09-12 1994-03-17 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von alpha-Carbonylphosphinoxiden
DE4240964A1 (de) * 1992-12-05 1994-06-09 Basf Ag Arenbisphosphinoxide
US5906490A (en) * 1994-06-09 1999-05-25 Ceramco Inc. Dental product, shading kit and method
JPH10505352A (ja) * 1994-09-08 1998-05-26 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド 新規なアシルホスフィンオキシド
US5750590A (en) * 1995-02-22 1998-05-12 Heraeus Kulzer Gmbh Polymerizable material
US6075065A (en) * 1996-12-20 2000-06-13 Takeda Chemical Industries, Ltd. Photocurable resin composition and a method for producing the same
US6015842A (en) * 1997-08-07 2000-01-18 Alcon Laboratories, Inc. Method of preparing foldable hydrophilic ophthalmic device materials
US5891931A (en) * 1997-08-07 1999-04-06 Alcon Laboratories, Inc. Method of preparing foldable high refractive index acrylic ophthalmic device materials
US6114408A (en) * 1998-02-06 2000-09-05 American Dental Association Health Foundation Single-solution adhesive resin formulations
RU2216565C2 (ru) 1998-03-13 2003-11-20 Акцо Нобель Н.В. Неводная лакокрасочная композиция на основе алкидной смолы, высыхающей в результате окисления, и фотоинициатора
SE9904080D0 (sv) 1998-12-03 1999-11-11 Ciba Sc Holding Ag Fotoinitiatorberedning
GB2365430B (en) * 2000-06-08 2002-08-28 Ciba Sc Holding Ag Acylphosphine photoinitiators and intermediates
DE10206117A1 (de) * 2002-02-13 2003-08-14 Basf Ag Acyl- und Bisacylphosphinderivate
MXPA04011923A (es) * 2002-06-11 2005-03-31 Ciba Sc Holding Ag Formas multimericas de oxidos de mono- y bis-acilfosfinas.
JP4485117B2 (ja) * 2002-06-27 2010-06-16 日東電工株式会社 保護剥離用フィルム
US6773261B2 (en) * 2002-06-28 2004-08-10 3M Innovative Properties Company Processes for forming dental materials
US7134875B2 (en) * 2002-06-28 2006-11-14 3M Innovative Properties Company Processes for forming dental materials and device
WO2004048585A2 (de) * 2002-11-22 2004-06-10 Basf Aktiengesellschaft Enzymatische synthese von polyolacrylaten
DE10261241A1 (de) * 2002-12-20 2004-07-15 3M Espe Ag Dentalmaterial mit bakteriostatischen und/oder bakteriziden Substanzen
US20040122126A1 (en) * 2002-12-20 2004-06-24 Dong Wu Free-radical initiator systems containing enzymes, compositions, and methods
US20040120901A1 (en) * 2002-12-20 2004-06-24 Dong Wu Dental compositions including enzymes and methods
US20040206932A1 (en) * 2002-12-30 2004-10-21 Abuelyaman Ahmed S. Compositions including polymerizable bisphosphonic acids and methods
DE10315671A1 (de) * 2003-04-04 2004-10-14 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Acylphosphinoxid-Feststoffen
US7452924B2 (en) 2003-08-12 2008-11-18 3M Espe Ag Self-etching emulsion dental compositions and methods
CN100537612C (zh) * 2004-04-15 2009-09-09 西巴特殊化学品控股有限公司 用发光二极管的光固化方法
US7156911B2 (en) 2004-05-17 2007-01-02 3M Innovative Properties Company Dental compositions containing nanofillers and related methods
US7090722B2 (en) 2004-05-17 2006-08-15 3M Innovative Properties Company Acid-reactive dental fillers, compositions, and methods
US7649029B2 (en) * 2004-05-17 2010-01-19 3M Innovative Properties Company Dental compositions containing nanozirconia fillers
US7090721B2 (en) * 2004-05-17 2006-08-15 3M Innovative Properties Company Use of nanoparticles to adjust refractive index of dental compositions
DE102004035066A1 (de) * 2004-05-26 2006-03-02 Basf Ag Verfahren zur Strahlungshärtung von Beschichtungen
CA2573020A1 (en) * 2004-07-08 2006-02-09 3M Innovative Properties Company Dental methods, compositions, and kits including acid-sensitive dyes
WO2006020760A1 (en) * 2004-08-11 2006-02-23 3M Innovative Properties Company Self-adhesive compositions including a plurality of acidic compounds
DE602004022551D1 (de) * 2004-09-24 2009-09-24 3M Espe Ag Dentalklebstoffzusammensetzung
WO2006055328A1 (en) 2004-11-16 2006-05-26 3M Innovative Properties Company Dental fillers, methods, compositions including a caseinate
JP5362991B2 (ja) * 2004-11-16 2013-12-11 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー リン酸塩を含む歯科用充填剤および組成物
WO2006055329A2 (en) 2004-11-16 2006-05-26 3M Innovative Properties Company Dental fillers including a phosphorus-containing surface treatment
AU2005306857A1 (en) 2004-11-16 2006-05-26 3M Innovative Properties Company Dental compositions with calcium phosphorus releasing glass
US20080260959A1 (en) * 2005-02-10 2008-10-23 Basf Aktiengesellschaft Patents, Trademarks And Licences Use of Dithiophosphinic Acid and/or Its Salts for Producing Anti-Corrosion Coatings that are Devoid of Chrome
DE102005010327A1 (de) * 2005-03-03 2006-09-07 Basf Ag Ratikalisch härtbare Beschichtungsmassen
US20060205838A1 (en) * 2005-03-10 2006-09-14 Velamakanni Bhaskar V Hardenable antimicrobial dental compositions and methods
US20060204452A1 (en) * 2005-03-10 2006-09-14 Velamakanni Bhaskar V Antimicrobial film-forming dental compositions and methods
CN102512329A (zh) 2005-05-09 2012-06-27 3M创新有限公司 含有杂化单体的牙科组合物
WO2007017152A2 (en) 2005-08-05 2007-02-15 3M Espe Ag Dental compositions containing a surface-modified filler
US7495054B2 (en) * 2005-09-19 2009-02-24 3M Innovative Properties Company Curable compositions containing dithiane monomers
EP1787627A1 (en) * 2005-11-17 2007-05-23 3M Innovative Properties Company Anti-microbial dental impression material
US7776940B2 (en) * 2005-12-20 2010-08-17 3M Innovative Properties Company Methods for reducing bond strengths, dental compositions, and the use thereof
US20070142498A1 (en) * 2005-12-20 2007-06-21 Brennan Joan V Dental compositions including thermally responsive additives, and the use thereof
US8026296B2 (en) 2005-12-20 2011-09-27 3M Innovative Properties Company Dental compositions including a thermally labile component, and the use thereof
US7896650B2 (en) * 2005-12-20 2011-03-01 3M Innovative Properties Company Dental compositions including radiation-to-heat converters, and the use thereof
AU2006332839A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-12 3M Innovative Properties Company Dental compositions and initiator systems with polycyclic aromatic component
JP2009522279A (ja) * 2005-12-29 2009-06-11 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 水スカベンジャーを有する歯科用組成物
WO2007079166A1 (en) * 2005-12-29 2007-07-12 3M Innovative Properties Company Dental compositions with surface-treated filler for shelf stability
DE602006016102D1 (de) * 2006-05-31 2010-09-23 3M Innovative Properties Co Polymerisierbare Zusammensetzungen enthaltend Salze aus Barbitursäure-Derivaten
EP2073782B1 (en) 2006-09-13 2011-07-20 3M Innovative Properties Company Dental compositions including organogelators, products, and methods
US20080096150A1 (en) 2006-10-23 2008-04-24 3M Innovative Properties Company Dental articles, methods, and kits including a compressible material
US9539065B2 (en) 2006-10-23 2017-01-10 3M Innovative Properties Company Assemblies, methods, and kits including a compressible material
KR101148660B1 (ko) * 2006-11-01 2012-05-22 후지쯔 가부시끼가이샤 무선 통신 장치 및 무선 통신 방법
EP2101716A2 (en) * 2006-12-13 2009-09-23 3M Innovative Properties Company Methods of using a dental composition having an acidic component and a photobleachable dye
EP2114351B1 (en) * 2006-12-28 2016-07-13 3M Innovative Properties Company Dental compositions with natural tooth fluorescence
US20100021869A1 (en) * 2006-12-28 2010-01-28 Abuelyaman Ahmed S (meth)acryloyl-containing materials, compositions, and methods
CN101610749B (zh) * 2006-12-28 2013-01-02 3M创新有限公司 牙科填料及方法
ATE542517T1 (de) * 2006-12-28 2012-02-15 3M Innovative Properties Co Haftzusammensetzung für hartes gewebe
EP2203144A2 (en) 2007-10-01 2010-07-07 3M Innovative Properties Company Orthodontic composition with polymeric fillers
US20090142671A1 (en) 2007-11-30 2009-06-04 Fujifilm Corporation Optical recording composition and holographic recording medium
US20090142672A1 (en) * 2007-11-30 2009-06-04 Fujifilm Corporation Optical recording composition and holographic recording medium
WO2009075977A1 (en) * 2007-12-13 2009-06-18 3M Innovative Properties Company Orthodontic article having partially hardened composition and method of its use and manufacture
US20100260849A1 (en) * 2007-12-13 2010-10-14 Rusin Richard P Remineralizing compositions and methods
EP2133063A1 (en) * 2008-06-10 2009-12-16 3M Innovative Properties Company Initiator system with biphenylene derivates, method of production and use thereof
BRPI0913521A2 (pt) * 2008-09-04 2015-10-13 3M Innovative Properties Co composição dental endurecível e artigo dental
JP2012504125A (ja) * 2008-09-30 2012-02-16 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 熱変性された鉱物を有する歯科矯正用組成物
EP2344107B1 (en) 2008-10-15 2017-02-08 3M Innovative Properties Company Dental compositions with fluorescent pigment
CN102209708B (zh) * 2008-10-22 2015-03-11 3M创新有限公司 包含具有氨基甲酸酯部分的联苯二(甲基)丙烯酸酯单体的牙科用组合物
EP2342237B1 (en) 2008-11-03 2014-04-23 Basf Se Photoinitiator mixtures
US8790707B2 (en) * 2008-12-11 2014-07-29 3M Innovative Properties Company Surface-treated calcium phosphate particles suitable for oral care and dental compositions
CN102361891A (zh) 2009-03-23 2012-02-22 富士胶片株式会社 接合型透镜用固化性树脂组合物、成像透镜和用于制造成像透镜的方法
RU2557961C2 (ru) 2009-12-22 2015-07-27 3М Инновейтив Пропертиз Компани Стоматологические композиции, заготовки для стоматологического протезирования и способы
US20130137064A1 (en) 2010-08-11 2013-05-30 3M Innovative Properties Company Coated dental crowns and method of making the same
US9044292B2 (en) 2010-08-11 2015-06-02 3M Innovative Properties Company Dental articles including a ceramic and microparticle coating and method of making the same
WO2012021438A1 (en) 2010-08-11 2012-02-16 3M Innovative Properties Company Aesthetic and abrasion resistant coated dental articles and methods of making the same
EP2603160A2 (en) 2010-08-11 2013-06-19 3M Innovative Properties Company Polymer coated dental articles and method of making the same
US9480540B2 (en) 2010-12-30 2016-11-01 3M Innovative Properties Company Bondable dental assemblies and methods including a compressible material
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
WO2012129143A1 (en) 2011-03-24 2012-09-27 3M Innovative Properties Company Dental adhesive comprising a coated polymeric component
KR101799632B1 (ko) 2012-06-04 2017-11-20 로레알 Uv-led로 라디칼 중합가능한 수지의 점착성 없는 표면 광경화를 위한 속 경화성 화장품 조성물
JP6016768B2 (ja) * 2013-02-21 2016-10-26 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、及び、高分子開始剤
CN105705112B (zh) 2013-10-04 2018-02-27 3M创新有限公司 牙科研磨坯料、牙科修复体以及形成牙科研磨坯料的方法
US9820931B2 (en) 2014-10-13 2017-11-21 L'oreal Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator
US9649272B2 (en) 2014-10-13 2017-05-16 L'oréal Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator
US9636293B2 (en) 2014-10-13 2017-05-02 L'oréal Latex nail compositions having low amounts of photo-initiator
US10369086B2 (en) 2015-03-05 2019-08-06 3M Innovative Properties Company Composite material having ceramic fibers
EP3294780A4 (en) 2015-06-08 2018-11-21 DSM IP Assets B.V. Liquid, hybrid uv/vis radiation curable resin compositions for additive fabrication
EP3106146A1 (en) 2015-06-15 2016-12-21 Dentsply DeTrey GmbH Aqueous dental glass ionomer composition
WO2017005992A1 (fr) * 2015-07-06 2017-01-12 Bluestar Silicones France Sas Article multicouche auto-adhésif et son procédé de préparation
EP3141567B1 (en) 2015-09-09 2019-08-28 DENTSPLY DETREY GmbH Polymerizable polyacidic polymer
JP6880416B2 (ja) 2015-10-01 2021-06-02 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ．Ｄｓｍ Ｉｐ Ａｓｓｅｔｓ Ｂ．Ｖ． 付加造形用液状ハイブリッドＵＶ／ｖｉｓ線硬化性樹脂組成物
JP6563028B2 (ja) 2015-11-20 2019-08-21 富士フイルム株式会社 光重合開始剤及びその製造方法、重合性組成物、インクジェット記録方法、並びに、アシルホスフィンオキシド化合物
EP3231411B1 (en) 2016-04-15 2021-11-10 DENTSPLY DETREY GmbH Aqueous dental glass ionomer composition
EP3231412A3 (en) 2016-04-15 2017-10-25 DENTSPLY DETREY GmbH Aqueous dental glass ionomer composition
EP3246002A1 (en) 2016-05-20 2017-11-22 DENTSPLY DETREY GmbH Dental composition
EP3263089A1 (en) 2016-06-30 2018-01-03 Dentsply DeTrey GmbH Dental composition comprising a dental filler containing a structural filler and silanated glass flakes
EP3300714A1 (en) 2016-09-30 2018-04-04 DENTSPLY DETREY GmbH Dental composition
EP3336092A1 (en) 2016-12-14 2018-06-20 DENTSPLY DETREY GmbH Dental composition
EP3335689A1 (en) 2016-12-14 2018-06-20 DENTSPLY DETREY GmbH Dental composition
EP3338757A1 (en) 2016-12-20 2018-06-27 Dentsply DeTrey GmbH Direct dental filling composition
EP3339335A1 (en) 2016-12-22 2018-06-27 Dentsply DeTrey GmbH Process for preparing a dental resin-modified glass ionomer composition
EP3360532B1 (en) 2017-02-13 2022-04-27 Dentsply DeTrey GmbH Dental composition
JP7111432B2 (ja) 2017-06-02 2022-08-02 コベストロ （ネザーランズ） ビー．ブイ． 光ファイバー用耐熱放射線硬化性コーティング
EP3675800B1 (en) 2017-08-30 2021-09-22 Dentsply DeTrey GmbH Photoinitiator modified polyacidic polymer
EP3449895A1 (en) 2017-08-30 2019-03-06 Dentsply DeTrey GmbH Photoinitiator modified polyacidic polymer
EP3449894A1 (en) 2017-08-31 2019-03-06 Dentsply DeTrey GmbH Dental composition comprising a particulate carrier supporting a coinitiator
EP3687949A1 (en) 2017-11-03 2020-08-05 DSM IP Assets B.V. Water-blocking systems including fibers coated with liquid radiation curable sap compositions
JP7309723B2 (ja) 2018-01-03 2023-07-18 デンツプライ シロナ インコーポレイテッド 歯科用組成物
EP3530259A1 (en) 2018-02-22 2019-08-28 Dentsply DeTrey GmbH Dental composition
EP3536303A1 (en) 2018-03-07 2019-09-11 Dentsply DeTrey GmbH Dental composition
EP3536304A1 (en) 2018-03-07 2019-09-11 Dentsply DeTrey GmbH Dental impression material
EP3632401A1 (en) 2018-10-01 2020-04-08 Dentsply Sirona Inc. Macromonomer based light-curable dental impression material
WO2019222599A1 (en) 2018-05-18 2019-11-21 Dentsply Sirona Inc. Macromonomer based light-curable dental impression material
EP3802452A1 (en) 2018-06-01 2021-04-14 DSM IP Assets B.V. Radiation curable compositions for coating optical fiber via alternative oligomers and the coatings produced therefrom
EP3820827A1 (en) 2018-08-30 2021-05-19 DSM IP Assets B.V. Radiation curable compositions for coating optical fiber
EP3653194A1 (en) 2018-11-15 2020-05-20 Dentsply DeTrey GmbH Bifunctional and polyfunctional coinitiators in dental compositions
EP3659546B1 (en) 2018-11-27 2022-10-19 Dentsply DeTrey GmbH Additive manufacturing process
EP3867207A1 (en) 2018-12-03 2021-08-25 Ms Holding B.V. Filled radiation curable compositions for coating optical fiber and the coatings produced therefrom
EP3725287A1 (en) 2019-04-18 2020-10-21 Dentsply DeTrey GmbH Redox curing dental composition
WO2020239564A1 (en) 2019-05-24 2020-12-03 Dsm Ip Assets B.V. Radiaton curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability
WO2020239563A1 (en) 2019-05-24 2020-12-03 Dsm Ip Assets B.V. Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability
CN114207063B (zh) 2019-07-31 2023-07-25 科思创(荷兰)有限公司 具有多功能长臂低聚物的涂覆光纤用辐射固化组合物
US11866526B2 (en) 2019-08-30 2024-01-09 Stratasys, Inc. Liquid, hybrid UV/vis radiation curable resin compositions for additive fabrication
CN110950977B (zh) * 2019-12-16 2022-01-04 山东科技大学 酰基氧化膦类光引发剂及其合成方法
CN111138491B (zh) * 2019-12-31 2022-08-05 天津久日新材料股份有限公司 一种制备光引发剂tpo同时副产氯苄的方法
WO2021191773A1 (en) 2020-03-25 2021-09-30 3M Innovative Properties Company Dental appliance with graphic image
CN115362189A (zh) 2020-04-03 2022-11-18 科思创(荷兰)有限公司 自修复低聚物及其用途
KR20220164527A (ko) 2020-04-03 2022-12-13 코베스트로 (네덜란드) 비.브이. 다층 광학 디바이스
JP2023520782A (ja) 2020-04-03 2023-05-19 コベストロ （ネザーランズ） ビー．ヴィー． 自己修復型光ファイバとその製造に使用される組成物
CN115777077A (zh) 2020-06-30 2023-03-10 科思创(荷兰)有限公司 光纤涂料的粘度指数改进剂
WO2022162488A1 (en) 2021-01-29 2022-08-04 3M Innovative Properties Company Dental appliances from multilayer films having discrete structures covered by an ion permeable release layer
CN116888221A (zh) 2021-02-22 2023-10-13 科思创(荷兰)有限公司 提供低光泽涂层的方法
WO2023072891A1 (en) 2021-10-29 2023-05-04 Covestro (Netherlands) B.V. Radical-curable composition
WO2023205221A2 (en) 2022-04-21 2023-10-26 Covestro (Netherlands) B.V. Low-volatility radiation curable compositions for coating optical fibers
WO2023227683A1 (en) 2022-05-25 2023-11-30 Covestro (Netherlands) B.V. Process for providing low gloss coatings
WO2024042074A1 (en) 2022-08-24 2024-02-29 Covestro (Netherlands) B.V. Process for providing low gloss coatings

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3826640A (en) * 1971-08-10 1974-07-30 Mobil Oil Corp Substituted benzoylphosphonates as herbicides

Cited By (60)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1944173A1 (en) 2007-01-15 2008-07-16 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
EP1958994A1 (en) 2007-01-31 2008-08-20 FUJIFILM Corporation Ink set for inkjet recording and inkjet recording method
EP1964893A1 (en) 2007-02-26 2008-09-03 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and ink set
EP1975211A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink composition and image recording method and image recorded matter using same
EP1975160A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 Fujifilm Corporation Polymerizable compound, polymer, ink composition, printed articles and inkjet recording method
EP1975210A1 (en) 2007-03-30 2008-10-01 FUJIFILM Corporation Ink set for inkjet recording and inkjet recording method
EP2042563A1 (en) 2007-09-25 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Photocurable coating composition, and overprint and process for producing same
EP2042568A1 (en) 2007-09-26 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
EP2042574A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation White ink composition, inkjet recording method, and printed material
EP2042573A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition
EP2042572A1 (en) 2007-09-28 2009-04-01 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
JP2009084424A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Fujifilm Corp インクジェット記録用ホワイトインク組成物
EP2053095A2 (en) 2007-09-28 2009-04-29 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method using the same
EP2085439A1 (en) 2008-01-22 2009-08-05 FUJIFILM Corporation Photocurable composition, photocurable ink composition, process for producing photocured material, and inkjet recording method
EP2088176A1 (en) 2008-02-07 2009-08-12 FUJIFILM Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and molded printed material
EP2105478A1 (en) 2008-03-26 2009-09-30 FUJIFILM Corporation Inkjet recording method and inkjet recording system
EP2130881A1 (en) 2008-06-02 2009-12-09 FUJIFILM Corporation Pigment dispersion and ink composition using the same
EP2145932A1 (en) 2008-07-16 2010-01-20 Fujifilm Corporation Aqueous ink composition, aqueous ink composition for inkjet recording, and inkjet recording method
EP2192163A1 (en) 2008-11-27 2010-06-02 Fujifilm Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2216378A1 (en) 2009-02-05 2010-08-11 Fujifilm Corporation Nonaqueous ink, image-recording method, image-recording apparatus and recorded article
EP2216377A1 (en) 2009-02-09 2010-08-11 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2230285A1 (en) 2009-03-19 2010-09-22 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, printed material, and process for producing molded printed material
EP2233538A1 (en) 2009-03-27 2010-09-29 Fujifilm Corporation Photocurable composition
EP2236571A1 (en) 2009-03-30 2010-10-06 Fujifilm Corporation Ink composition
EP2284229A1 (en) 2009-07-28 2011-02-16 Fujifilm Corporation Pigment dispersion, ink composition, and inkjet recording method
EP2302007A1 (en) 2009-09-25 2011-03-30 FUJIFILM Corporation Ink composition and inkjet recording method
EP2311918A1 (en) 2009-09-29 2011-04-20 FUJIFILM Corporation Ink composition, and inkjet recording method
EP2388146A2 (en) 2010-05-19 2011-11-23 Fujifilm Corporation Printing method, method for preparing overprint, method for processing laminate, light-emitting diode curable coating composition, and light-emitting diode curable ink composition
WO2012128306A1 (ja) 2011-03-24 2012-09-27 富士フイルム株式会社 液晶配向促進剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
US9481829B2 (en) 2011-07-27 2016-11-01 Fujifilm Corporation Compound, haze-lowering agent, liquid crystal composition, polymer material, and film
WO2013015077A1 (ja) 2011-07-27 2013-01-31 富士フイルム株式会社 化合物、ヘイズ低下剤、液晶組成物、高分子材料およびフィルム
EP2573146A1 (en) 2011-09-22 2013-03-27 Fujifilm Corporation Ink composition for ink jet recording, ink pack, and ink jet recording method
WO2013146722A1 (ja) 2012-03-28 2013-10-03 富士フイルム株式会社 活性光線硬化型インクジェットインク組成物及びその製造方法、インクジェット記録方法、並びに、印刷物
WO2013146923A1 (ja) 2012-03-28 2013-10-03 富士フイルム株式会社 コレステリック液晶性混合物、フィルム、赤外反射板、積層体および合わせガラス
EP2703460A1 (en) 2012-08-29 2014-03-05 Fujifilm Corporation Inkjet ink composition and method for producing the same, inkjet recording method, pigment dispersion for inkjet ink and method for producing the same
WO2014136923A1 (ja) 2013-03-07 2014-09-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成型印刷物の製造方法
WO2014136924A1 (ja) 2013-03-08 2014-09-12 富士フイルム株式会社 多層構成物、多層構成物の製造方法、及び、組成物セット
EP2842763A2 (en) 2013-08-30 2015-03-04 Fujifilm Corporation Image formation method, decorative sheet, decorative sheet molding, process for producing in-mold molded product, in-mold molded product, and ink set
EP2995658A2 (en) 2014-09-09 2016-03-16 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, ink composition for inkjet recording, inkkjet recording method and recorded matter
EP3000851A1 (en) 2014-09-26 2016-03-30 Fujifilm Corporation Ink composition for inkjet recording, inkjet recording method, and printed matter
EP3000854A1 (en) 2014-09-26 2016-03-30 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, ink composition for ink-jet recording, method of ink-jet recording, and printed article
EP3101070A1 (en) 2014-09-26 2016-12-07 Fujifilm Corporation Polymerizable composition, ink composition for ink-jet recording, method of ink-jet recording, and printed article
WO2018084076A1 (ja) 2016-11-04 2018-05-11 富士フイルム株式会社 ウインドシールドガラス、ヘッドアップディスプレイシステム、およびハーフミラーフィルム
WO2018146958A1 (ja) 2017-02-09 2018-08-16 富士フイルム株式会社 ハーフミラー、ハーフミラーの製造方法、および画像表示機能付きミラー
WO2018159236A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 インクジェット用液体組成物、及び、インクジェット記録方法
EP3431557A1 (en) 2017-07-19 2019-01-23 Ricoh Company, Limited Composition, cured product, image forming apparatus, and image forming method
WO2019050019A1 (ja) 2017-09-07 2019-03-14 富士フイルム株式会社 投映像表示用ハーフミラーフィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
EP4312066A2 (en) 2017-09-07 2024-01-31 FUJIFILM Corporation One-way mirror film for displaying projected images, laminated glass for displaying projected images, and image display system
WO2019163969A1 (ja) 2018-02-23 2019-08-29 富士フイルム株式会社 画像表示用合わせガラスの製造方法、画像表示用合わせガラス、および、画像表示システム
WO2020080355A1 (ja) 2018-10-17 2020-04-23 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2020122023A1 (ja) 2018-12-10 2020-06-18 富士フイルム株式会社 投映像表示用部材、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2020179787A1 (ja) 2019-03-06 2020-09-10 富士フイルム株式会社 投映像表示用積層フィルム、投映像表示用の合わせガラス、および、画像表示システム
WO2021060402A1 (ja) 2019-09-27 2021-04-01 富士フイルム株式会社 ヘッドアップディスプレイ用プロジェクター
WO2021131792A1 (ja) 2019-12-26 2021-07-01 富士フイルム株式会社 光吸収異方性層、積層体、光学フィルム、画像表示装置、バックライトモジュール
WO2021200655A1 (ja) 2020-03-30 2021-10-07 富士フイルム株式会社 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2021220794A1 (ja) 2020-04-28 2021-11-04 富士フイルム株式会社 化合物、液晶組成物、硬化物およびフィルム
WO2021246402A1 (ja) 2020-06-03 2021-12-09 富士フイルム株式会社 反射フィルム、合わせガラスの製造方法、および、合わせガラス
WO2022123946A1 (ja) 2020-12-09 2022-06-16 富士フイルム株式会社 反射フィルム、ウインドシールドガラスおよびヘッドアップディスプレイシステム
WO2023054324A1 (ja) 2021-09-30 2023-04-06 富士フイルム株式会社 ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機
WO2023080115A1 (ja) 2021-11-05 2023-05-11 富士フイルム株式会社 虚像表示装置、ヘッドアップディスプレイシステム及び輸送機

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