JP3203431B2 - ビアシルホスフィンスルフィド - Google Patents

ビアシルホスフィンスルフィド

Info

Publication number
JP3203431B2
JP3203431B2 JP02463592A JP2463592A JP3203431B2 JP 3203431 B2 JP3203431 B2 JP 3203431B2 JP 02463592 A JP02463592 A JP 02463592A JP 2463592 A JP2463592 A JP 2463592A JP 3203431 B2 JP3203431 B2 JP 3203431B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
alkyl
substituted
unsubstituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP02463592A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0586080A (ja
Inventor
ルトシュ ヴェルネル
フーク ゲプハルト
ケーレル マンフレト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BASF Schweiz AG
Original Assignee
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Ciba Holding AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG, Ciba Holding AG filed Critical Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Publication of JPH0586080A publication Critical patent/JPH0586080A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3203431B2 publication Critical patent/JP3203431B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50Organo-phosphines
    • C07F9/53Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
    • C07F9/5337Phosphine oxides or thioxides containing the structure -C(=X)-P(=X) or NC-P(=X) (X = O, S, Se)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規のビアシルホスフ
ィンスルフィド、これらの化合物を含有する光硬化性組
成物、エチレン性不飽和二重結合を含有するこのような
化合物の光重合の開始剤としてのビアシルホスフィンス
ルフィドの使用、並びに光開始剤としてのビアシルホス
フィンスルフィドでこのような化合物を光重合する方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】モノアシルホスフィンスルフィドと光開
始剤としてのそれらの使用は西独特許公開公報DE−A
−3034697号に開示されている。
【0003】光誘導重合反応のための開始剤としてのビ
アシルホスフィンオキシドは、欧州特許公開公報EP−
A−184095号に開示されている。
【0004】ケー.イスライブ他は、Z.anorg.allg.Che
m.408,266-274(1974) に、環式カルボニルホスフィドの
合成について、並びに硫黄と2−フェニル−2−ベンゾ
ホスホレン−1,3−ジオンを反応させて該当するスル
フィドにすることについて報告している。この引用した
スルフィドの合成と分光学的データは、J.Chem.Soc.,Ch
em.Commun.(23),1753-4(1987) 中に公開されているアン
ドルー・アール.バロン他による報告にも見出される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ビアシルホスフィンス
ルフィドが、エチレン性の二重結合を含有する重合化合
物のためのかなり効果のある光開始剤であることが見出
された。
【0006】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は式I
【化2】 (式中,R1は未置換の炭素原子数1ないし18のアル
キル基またはフェニル基、−CN、炭素原子数1ないし
12のアルコキシ基またはハロゲン原子により置換され
た炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数2な
いし18のアルケニル基、未置換の炭素原子数5ないし
8のシクロアルキル基または炭素原子数1ないし12の
アルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基ま
たはハロゲン原子により置換された炭素原子数5ないし
8のシクロアルキル基、未置換の炭素原子数6ないし1
2のアリール基またはハロゲン原子、炭素原子数1ない
し12のアルキル基または炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基により置換された炭素原子数6ないし12の
アリール基を表すか、またはR 1 はフリル基、チエニル
基、ピロリル基、ピリジル基、インドリル基、ベンズオ
キサゾリル基、ベンズイミダゾリル基またはベンゾチア
ゾリル基、ジメチルピリジル基、メチルキノリル基、ジ
メチルピロリル基、メトキシフリル基、ジメトキシピリ
ジル基またはジフルオロピリジル基を表し;そしてR2
およびR3は各々が他と独立して、未置換の炭素原子数
1ないし18のアルキル基またはフェニル基、ハロゲン
原子または炭素原子数1ないし12のアルコキシ基によ
り置換された炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素
原子数2ないし6のアルケニル基、未置換の炭素原子数
5ないし8のシクロアルキル基または炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
キシ基またはハロゲン原子により置換された炭素原子数
5ないし8のシクロアルキル基、未置換の炭素原子数6
ないし12のアリール基または炭素原子数1ないし12
のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ
基、炭素原子数2ないし12のアルコキシアルキル基、
炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基またはハロゲン
原子により置換された炭素原子数6ないし12のアリー
ル基を表すか、またはR 2 およびR 3 はフリル基、チエニ
ル基、ピロリル基、ピリジル基、インドリル基、ベンズ
オキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基またはベンゾチ
アゾリル基、ジメチルピリジル基、メチルキノリル基、
ジメチルピロリル基、メトキシフリル基、ジメトキシピ
リジル基またはジフルオロピリジル基を表す。)により
表される化合物に関する。
【0007】炭素原子数1ないし18のアルキル基とし
てのR1 、R2 およびR3 は、分枝していてもまたは分
枝していなくてもよく、メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル
基、イソブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、
ヘキシル基、tert−ヘキシル基、ヘプチル基、2,
4,4−トリメチルペンチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、ヘプタデ
シル基またはオクタデシル基を包含する。R1 、R2
よびR3 は、好ましくは炭素原子数1ないし12のアル
キル基を包含する。
【0008】一個またはそれ以上、通常は1ないし3個
そして、好ましくは1個または2個の置換基を持つ炭素
原子数1ないし8のアルキル基としてのR1、R2 とR
3 は、ベンジル基、1−フェニルエチル基、2−フェニ
ルエチル基、α,α−ジメチルベンジル基、2−メトキ
シエチル基、2−エトキシエチル基、ジエトキシメチル
基、2−ブトキシエチル基、2−イソプロポキシエチル
基、2−ブトキシエチル基、2−イソプロポキシエチル
基、2−ブトキシプロピル基、2−オクチルオキシエチ
ル基、クロロメチル基、2−クロロエチル基またはトリ
クロロメチル基であってよく、好ましくは置換された炭
素原子数1ないし4のアルキル基、より好ましくはベン
ジル基である。R1 はシアノメチル基、シアノエチル基
および同様のものであってもよい。
【0009】炭素原子数2ないし18のアルケニル基と
してのR1 は、アリル基、メタリル基、1,1−ジメチ
ルアリル基、ブテニル基、2−ヘキセニル基、オクテニ
ル基、ウンデセニル基、ドデセニル基またはオクタデセ
ニル基であってよく、そして好ましくは炭素原子数2な
いし12のアルケニル基、最も好ましくは炭素原子数2
ないし6のアルケニル基であってよい。
【0010】炭素原子数2ないし6のアルケニル基とし
てのR2 とR3 は、ビニル基、プロペニル基、ブテニル
基またはヘキセニル基である。
【0011】炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
としてのR1 、R2 とR3 は、シクロペンチル基、シク
ロヘキシル基またはシクロオクチル基であってよく、好
ましくはシクロペンチル基とシクロヘキシル基、更に好
ましくはシクロヘキシル基である。置換された炭素原子
数5ないし8のシクロアルキル基、通常は単−ないし四
−置換の炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基とし
てのR1 、R2 とR3 は、メチルシクロペンチル基、ジ
メチルシクロベンチル基、メチルシクロヘキシル基、ジ
メチルシクロヘキシル基、ジエチルシクロヘキシル基、
メトキシシクロペンチル基、ジメトキシシクロペンチル
基、エトキシシクロペンチル基、ジエトキシシクロペン
チル基、メトキシシクロヘキシル基、ジメトキシシクロ
ヘキシル基、エトキシシクロヘキシル基、ジエトキシシ
クロヘキシル基、クロロシクロヘキシル基、クロロシク
ロペンチル基、ジクロロシクロヘキシル基またはジクロ
ロシクロペンチル基である。置換されたシクロアルキル
基は、好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル基で
置換されたシクロアルキル基である。
【0012】炭素原子数6ないし12のアリール基とし
てのR1 、R2 とR3 は、フェニル基、α−ナフチル
基、β−ナフチル基または4−ジフェニルイル基、好ま
しくはフェニル基である。置換された炭素原子数6ない
し12のアリール基としてのR1 、R2 とR3 は、好ま
しくは1ないし3個の置換基を担持し、クロロフェニル
基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、ジフ
ルオロフェニル基、トリル基、メシチル基、エチルフェ
ニル基、tert−ブチルフェニル基、ドデシルフェニ
ル基、メトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、エ
トキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、メチル
ナフチル基、イソプロピルナフチル基、クロロナフチル
基またはエトキシナフチル基、好ましくはジメトキシフ
ェニル基、クロロフェニル基およびメシチル基、好まし
くはジメトキシフェニル基であってよい。置換されたア
リール基としてのR2 とR3 は、メトキシエチルフェニ
ル基、エトキシメチルフェニル基、メチルチオフェニル
基、イソプロピルチオフェニル基またはtert−ブチ
ルチオフェニル基である。アリール基の置換基としての
アルキル基とアルコキシ基は、1ないし4個の炭素原子
を含有し、好ましくはメチル基またはメトシキ基であ
る。
【0013】複素環基R1 、R2 とR3 は、単核または
多核であってよく、好ましくは単核または典型的にはベ
ンゼン核と融合している二核であり、そしてフリル基、
チエニル基、ピローリル基、ピリジル基、インドリル
基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基また
はベンゾチアゾリル基であってよい。このような複素環
基は好ましくは4ないし12個の炭素原子を含有する。
これらの複素環基は、1個またはそれ以上、通常は1個
または2個の置換基を担持していてよい。具体例は、ジ
メチルピリジル基、メチルキノリル基、ジメチルピロー
リル基、メトキシフリル基、ジメトキシピリジル基また
はジフルオロピリジル基である。
【0014】ハロゲン原子は、好ましくは塩素、臭素ま
たはフッ素、最も好ましくは塩素原子である。
【0015】本発明の好ましい実施態様は、式中、R1
が未置換の炭素原子数1ないし12のアルキル基または
フェニル基、−CN、炭素原子数1ないし4のアルコキ
シ基またはハロゲン原子により置換された炭素原子数1
ないし8のアルキル基、炭素原子数2ないし12のアル
ケニル基、未置換の炭素原子数5ないし8のシクロアル
キル基または炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭
素原子数1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子
により置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキ
ル基、未置換の炭素原子数6ないし12のアリール基ま
たはハロゲン原子、炭素原子数1ないし12のアルキル
基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置
換された炭素原子数6ないし12のアリール基、または
酸素原子、硫黄原子および/または窒素原子を含有しそ
して未置換であるかまたはハロゲン原子、炭素原子数1
ないし4のアルキル基または炭素原子数1ないし4のア
ルコキシ基により置換された5−または6−員の芳香族
複素環基を表し;そしてR2 とR3 の各々が他と独立し
て、未置換の炭素原子数1ないし12のアルキル基また
はフェニル基、ハロゲン原子または炭素原子数1ないし
4のアルコキシ基により置換された炭素原子数1ないし
8のアルキル基、炭素原子数2ないし6のアルケニル
基、未置換の炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基
または炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子により
置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル基、
未置換の炭素原子数6ないし12のアリール基または炭
素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ない
し4のアルコキシ基、炭素原子数2ないし8のアルコキ
シアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基
またはハロゲン原子により置換された炭素原子数6ない
し12のアリール基、または酸素原子、硫黄原子および
/または窒素原子を含有しそして未置換であるかまたは
ハロゲン原子、炭素原子数1ないし4のアルキル基また
は炭素原子数1ないし4のアルコキシ基により置換され
た5−または6−員の芳香族複素環基を表す式Iの化合
物である。
【0016】式中、R1 が未置換の炭素原子数1ないし
12のアルキル基またはフェニル基、−CN、炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子により
置換された炭素原子数1ないし4のアルキル基、炭素原
子数2ないし6のアルケニル基、未置換の炭素原子数5
ないし8のシクロアルキル基または炭素原子数1ないし
12のアルキル基、炭素原子数1ないし4のアルコキシ
基またはハロゲン原子により置換された炭素原子数5な
いし8のシクロアルキル基、未置換の炭素原子数6ない
し12のアリール基またはハロゲン原子、炭素原子数1
ないし12のアルキル基または炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換された炭素原子数6ないし12
のアリール基を表し;そしてR2 とR3 の各々が他と独
立して、未置換の炭素原子数1ないし12のアルキル基
またはフェニル基、ハロゲン原子または炭素原子数1な
いし4のアルコキシ基により置換された炭素原子数1な
いし4のアルキル基、炭素原子数2ないし6のアルケニ
ル基、未置換の炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基または炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子によ
り置換された炭素原子数5ないし8のシクロアルキル
基、または未置換の炭素原子数6ないし12のアリール
基または炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原
子数1ないし4のアルコキシ基、炭素原子数2ないし8
のアルコキシアルキル基、炭素原子数1ないし4のアル
キルチオ基またはハロゲン原子により置換された炭素原
子数6ないし12のアリール基を表す式Iの化合物も興
味がある。
【0017】式Iの別の好ましい化合物は、式中、R1
が未置換の炭素原子数1ないし12のアルキル基、フェ
ニル−(炭素原子数1ないし4のアルキル)基、未置換
のまたは炭素原子数1ないし12のアルキル基で置換さ
れたシクロペンチル基またはシクロヘキシル基、または
未置換のフェニル基またはハロゲン原子、炭素原子数1
ないし12のアルキル基または炭素原子数1ないし4の
アルコキシ基により置換されたフェニル基を表し;そし
てR2 とR3 の各々が他と独立して、未置換の炭素原子
数1ないし12のアルキル基、フェニル−(炭素原子数
1ないし4のアルキル)基、未置換のまたは炭素原子数
1ないし12のアルキル基で置換されたシクロペンチル
基またはシクロヘキシル基、または未置換のフェニル基
または炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子
数1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子により
置換されたフェニル基を表すそれらである。
【0018】やはり好ましいものは、式中、R1 が炭素
原子数1ないし12のアルキル基、シクロヘキシル基ま
たはフェニル−(炭素原子数1ないし4のアルキル)基
を表し;R2 とR3 の各々が他と独立して炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基、ハロゲン原子または炭素原子
数1ないし4のアルキル基により置換されたフェニル基
を表す式Iの化合物である。
【0019】式中、R2 とR3 が同一である式Iの化合
物は興味がある。
【0020】式中,R1 が炭素原子数1ないし8のアル
キル基またはベンジル基を表し;そしてR2 とR3 が炭
素原子数1ないし4のアルキル基でまたは炭素原子数1
ないし4のアルコキシ基で置換されたフェニル基を表す
式Iの化合物も興味をひくに値する化合物である。
【0021】式Iの化合物は、元素硫黄に適当なホスフ
ィンを反応させることにより製造できる:
【化3】
【0022】この方法は、モノアシルホスフィンスルフ
ィドの製造のために西独特許公開公報DE−A−303
4697号に記述されている。ビアシルホスフィンをそ
のような即ち適当な不活性の有機溶媒中で、例えばトル
エン、シクロヘキサンまたはクロロベンゼンのような炭
化水素系の溶媒中で、またはジブチルエーテル、ジオキ
サン、ジエチレングリコールジメチルエーテルまたはジ
フェニルエーテルのような脂肪族または芳香族エーテル
中で、元素硫黄の等モル量と反応させる。得られたビア
シルホスフィンスルフィド、またはその溶液から残存す
る硫黄の全てをろ過により除く。反応は、不活性気体の
雰囲気中、例えば窒素、アルゴンまたは二酸化炭素中、
好ましくは窒素中で行うのが便利である。反応温度は、
20ないし200℃の範囲、好ましくは60ないし12
0℃の範囲内にあり、これは溶媒と遊離物による。溶媒
を除いた後、ビアシルホスフィンスルフィドは蒸留また
は再結晶により純粋な形で単離できる。
【0023】出発物質であるビアシルホスフィンの製造
は、文献から当業者に知られており、例えば欧州特許公
開公報EP−A−184095号に記述されている。か
くしてそれらは、塩基の存在下、ホスフィンに適当な酸
ハライドを反応させることにより製造できる。この反応
に使用するホスフィンは、ビス(トリメチルシリル)フ
ェニルホスフィンであると便利である。酸ハライドとの
反応では、その反応の際、トリメチルシリル基が酸基に
より置換される。
【0024】本発明は、(a)少なくとも一種のエチレ
ン性不飽和光重合性化合物および(b)少なくとも一種
の式Iの化合物を包含する組成物に関する。
【0025】この発明を実施する際には、式Iの化合物
は、エチレン性不飽和化合物のまたはこのような化合物
を含有する混合物の光重合のための光開始剤として使用
できる。成分(a)は、光重合により反応して高分子量
の生成物を形成しそしてその際その溶解度が変化する、
エチレン性不飽和モノマー、オリゴマーおよびポリマー
から適当に選択してよい。
【0026】不飽和化合物は一個またはそれ以上のオレ
フィン性の二重結合を含む。それらは低分子量の化合物
(モノマー)または高分子量の化合物(オリゴマー)で
あってよい。
【0027】特に適する不飽和化合物は、エチレン性不
飽和カルボン酸とポリオールまたはポリエポキシドのエ
ステル、そして主鎖中にまたは側鎖中にエチレン性不飽
和基を含有するポリマーを包含し、不飽和のポリエステ
ル、ポリアミドおよびポリウレタンおよびそれらのコポ
リマー、ポリブタジエンとブタジエン、ポリアミドとポ
リウレタンとそれらのコポリマー、ポリブタジエンとブ
タジエン、コポリマー、ポリイソプレンとイソプレンコ
ポリマー、(メタ)アクリル基を側鎖中に含有するポリ
マーとコポリマー、並びにそのようなポリマーの一種ま
たはそれ以上を含有するものの混合物を包含するポリマ
ーを包含する。
【0028】不飽和カルボン酸は、典型的にはアクリル
酸、メタクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、桂皮酸、
不飽和脂肪酸、例えばリノレン酸またはオレイン酸であ
る。アクリル酸とメタクリル酸が好ましい。
【0029】適当なポリオールは芳香族のポリオールで
あって、好ましくは脂肪族と環式脂肪族のポリオールで
ある。芳香族ポリオールの具体例は、ハイドロキノン、
4,4′−ジヒドロキシジフェニル、2,2−ビス(4
−ヒドロキシフェニル)プロパン,並びにノボラックと
レゾールである。ポリエポキシドは、引用したポリオー
ル、好ましくは芳香族ポリオールとエピクロルヒドリン
を基材にしたものを包含する。別の適当なポリオールは
ポリマーとコポリマーであって、それらはポリマー鎖中
にまたは側鎖中にヒドロキシ基を含有し、例えばポリビ
ニルアルコールとそれらのコポリマーまたはポリメタク
リル酸ヒドロキシアルキルエステルまたはコポリマーで
ある。他の適当なポリオールはヒドロキシ基を末端基と
して持つオリゴエステルである。
【0030】脂肪族と環式脂肪族ポリオールの具体例
は、好ましくは2ないし12の炭素原子を含有するアル
キレンジオールであって、エチレングリコール、1,2
−または1,3−プロパンジオール,1,2−、1,3
−または1,4−ブタンジオール、ペンタンジオール、
ヘキサンジオール、オクタンジオール、ドデカンジオー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
好ましくは分子量200ないし1500のポリエチレン
グリコール、1,3−シクロペンタンジオール、1,2
−、1,3−または1,4−シクロヘキサンジオール、
1,4−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセリ
ン、トリス(β−ヒドロキシエチル)アミン、トリメチ
ルロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンエリス
リトール、ジペンタエリスリトールおよびソルビトール
である。
【0031】ポリオールは、部分的にまたは完全に、一
種または異種の不飽和カルボン酸でエステル化してよ
く、その場合、部分的エステルの遊離のヒドロキシ基
は、例えばエーテル化、または他のカルボン酸とのエス
テル化により改質してもよい。
【0032】エステルの具体例を下記する:トリメチロ
ールプロパン=トリアクリレート、トリメチロールエタ
ン=トリアクリレート、トリメチロールプロパン=トリ
メタクリレート、トリメチロールエタン=トリメタクリ
レート、テトラメチレングリコール=ジメタクリレー
ト、トリエチレングリコール=ジメタクリレート、テト
ラエチレングリコール=ジアクリレート、ペンタエリス
リトール=ジアクリレート、ペンタエリスリトール=ト
リアクリレート、ペンタエリスリトール=テトラアクリ
レート、ジペンタエリスリトール=ジアクリレート、ジ
ペンタエリスリトール=トリアクリレート、ジペンタエ
リスリトール=テトラアクリレート、ジペンタエリスリ
トール=ペンタアクリレート、ジペンタエリスリトール
=ヘキサアクリレート、トリペンタエリスリトール=オ
クタアクリレート、ペンタエリスリトール=ジメタクリ
レート、ペンタエリスリトール=トリメタクリレート、
ジペンタエリスリトール=ジメタクリレート、ジペンタ
エリスリトール=テトラメタクリレート、トリペンタエ
リスリトール=オクタメタクリレート、ペンタエリスリ
トール=ジイタコネート、ジペンタエリスリトール=ト
リスイタコネート、ジペンタエリスリトール=ペンタイ
タコネート、ジペンタエリスリトール=ヘキサイタコネ
ート、エチレングリコール=ジアクリレート、1,3−
ブタンジオール=ジアクリレート、1,3−ブタンジオ
ール=ジメタクリレート、1,4−ブタンジオール=ジ
イタコネート、ソルビトール=トリアクリレート、ソル
ビトール=テトラアクリレート、改質ペンタエリスリト
ール=トリアクリレート、ソルビトール=テトラメタク
リレート、ソルビトール=ペンタアクリレート、ソルビ
トール=ヘキサアクリレート、オリゴエステル=アクリ
レートおよびメタクリレート、グリセリン=ジ−および
トリ−アクリレート、1,4−シクロヘキサン=ジアク
リレート、分子量200ないし1500のポリエチレン
グリコールのビスアクリレートおよびビスメタクリレー
ト、またはそれらの混合物。
【0033】好ましくは2ないし6、より好ましくは2
ないし4のアミノ基を含有する芳香族、環式脂肪族およ
び脂肪族ポリアミンの同種のまたは異種の不飽和カルボ
ン酸のアミドも、成分(a)として使用するのに適当で
ある。このようなポリアミンの例は、エチレンジアミ
ン、1,2−または1,3−プロピレンジアミン、1,
2−、1,3−または1,4−ブチレンジアミン、1,
5−ペンチレンジアミン、1,6−ヘキシレンジアミ
ン、オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、1,4
−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミン、フェ
ニレンジアミン、ビスフェニレンジアミン、ビス(β−
アミノエチル)エーテル、ジエチレントリアミン、トリ
エチレンテトラミン、ビス(β−アミノエトキシ)エタ
ンまたはビス(β−アミノプロポキシ)エタンである。
他の適当なポリアミンは、更に側鎖中にアミノ基を持つ
ポリマーとコポリマー並びに末端基としてのアミノ基を
持つオリゴアミドである。
【0034】このような不飽和アミドの例を下記する:
メチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレン
ビスアクリルアミド、ジエチレントリアミントリスメタ
クリルアミド、ビス(メタクリルアミドプロポキシ)エ
タン、β−メタクリルアミドエチルメタクリレート、N
−[(β−ヒドロキシエトキシ)エチル]アクリルアミ
ド。
【0035】適当な不飽和ポリエステルとポリアミド
は、マレイン酸とジオールまたはジアミンから誘導され
ている。マレイン酸を他のジカルボン酸と部分的に置換
できる。それらは、スチレンとのような他のエチレン性
不飽和コモノマーと一緒に使用できる。ポリエステルと
ポリアミドも、ジカルボン酸とエチレン性の不飽和ジオ
ールまたはジアミン、特に典型的には6ないし20個の
炭素原子を含有する長鎖を持つそれらから誘導できる。
ポリウレタンは、飽和または不飽和のジイソシアナート
と不飽和および飽和のジオールから誘導されるそれらで
ある。
【0036】ポリブタジエンとポリイソプレンおよびそ
れらのコポリマーは既知である。適当なコモノマーは、
エチレン、プロペン、ブテン、ヘキセン、(メタ)アク
リレート、アクリロニトリル、スチレンまたは塩化ビニ
ルのようなオレフィンを含有する。側鎖中に(メタ)ア
クリレート基を含有するポリマーも既知である。それら
は典型的には、(メタ)アクリル酸とのノボラックを基
材にしたエポキシ樹脂との反応生成物、ポリビニルアル
コールのホモ−またはコポリマーまたは(メタ)アクリ
ル酸でエステル化したそれらのヒドロキシアルキル誘導
体またはヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートでエ
ステル化した(メタ)アクリレートのホモ−またはコポ
リマーである。
【0037】光重合性の化合物は、それ自体でまたはい
ずれかの所望の混合物で使用できる。ポリオール(メ
タ)アクリレートの混合物を使用することが好ましい。
【0038】本発明の組成物に結合剤も添加してよい。
結合剤の添加は、光重合性の化合物が液状または粘稠性
の物質であるならば、特に有用である。結合剤の量は、
全組成物を基準にして、5−95、好ましくは10−9
0そして最も好ましくは50−90重量%である。結合
剤の選択は、使用の分野とそれらのために所望される性
質、例えば水性と有機溶媒系中に展開されるべきそれら
の性能、基材への接着性および酸素に対する感受性によ
るであろう。
【0039】適当な結合剤は、典型的には分子量約50
00−2 000 000、好ましくは10 000−
1 000 000のポリマーである。具体例を下記す
る:アクリレートとメタクリレートのホモ−およびコポ
リマーであって、メチルメタクリレート/エチルアクリ
レート/メタクリル酸のコポリマー、ポリ(アルキルメ
タクリレート)、ポリ(アルキルアクリレート)を包含
するもの;酢酸セルロース、セルロース=アセトブチレ
ート、メチルセルロース、エチルセルロースのようなセ
ルロースエステルとエーテル;ポリビニルブチラール、
ポリビニルホルマール、環化ゴム;ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシド、ポリテトラヒドロフラン
のようなポリエーテル;ポリスチレン、ポリカーボネー
ト、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン、ポリ塩化ビ
ニル、塩化ビニル/塩化ビニリデンのコポリマー、アク
リロニトリルとの塩化ビニリデンのコポリマー、メチル
メタクリレートと酢酸ビニル、ポリ酢酸ビニル、コポリ
(エチレン/酢酸ビニル)、ポリカプロラクタムとポリ
(ヘキサメチレン=アジパミド)のポリマー、ポリ(エ
チレングリコール=テレフタル酸)とポリ(ヘキサメチ
レングリコール=サクシネート)のようなポリエステ
ル。
【0040】不飽和化合物は、光重合性でない膜形成組
成物と混合して使用することが可能である。これらの成
分は、物理的に乾燥したポリマーまたは有機溶媒中のそ
れらの溶液であって、例えばニトロセルローズまたはセ
ルロース=アセトブチレートである。しかし、それら
は、ポリイソシアナート、ポリエポキシドまたはメラミ
ン樹脂のような化学的に熱的に硬化性の樹脂であってよ
い。熱的に硬化性の樹脂を併用することは、いわゆるハ
イブリッド系における使用のためには重要であり、この
系は第1段階では光重合され、そして第2段階では熱的
後処理により架橋される。
【0041】本発明の光重合性の組成物は、組成物を基
準にして0.05ないし15重量%、好ましくは0.2
ないし5重量%の量で光開始剤を含有しているのが都合
良い。
【0042】この発明は、光開始剤(b)に加えて、少
なくとも一種の別の光開始剤および/または他の添加剤
を包含する組成物にも関する。
【0043】光開始剤に加えて、光重合性の組成物中に
存在していてよい更に異種の添加剤は、典型的な熱抑制
剤であって、これは、特に成分を混合して組成物を製造
する間に、早期の重合を阻止する。このような更に添加
する添加剤は、典型的にはハイドロキノン、ハイドロキ
ノン誘導体、p−メトキシフェノール、β−ナフトール
または立体障害フェノール、例えば2,6−ジ(ter
t−ブチル)−p−クレゾールである。
【0044】暗所における貯蔵安定性を増強するために
は、ナフテン酸銅、ステアリン酸銅またはオクタン酸銅
を包含する銅化合物;トリフェニルホスフィン、トリブ
チルホスフィン、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリフ
ェニル、または亜リン酸トリベンジルを包含するリン化
合物;塩化テトラメチルアンモニウムまたは塩化トリメ
チルベンジルアンモニウムのような第四アンモニウム化
合物、またはN−ジエチルヒドロキシルアミンのような
ヒドロキシルアミン誘導体を添加することが可能であ
る。
【0045】重合の間における大気中の酸素の排除は、
パラフィンまたは同様の蝋状の物質を添加すると効果的
であり、これは重合の開始期にポリマー中への溶解性の
欠如によって表面に移行し、そして系内に空気が入るの
を抑制する透明膜を形成する。
【0046】紫外線吸収剤の最少量は、典型的にはベン
ゾトリアゾール、ベンゾフェノンまたはオキサニリド型
のそれらは、光安定剤として添加してよい。立体障害ア
ミン型(HALS)の光安定剤も、添加できる。
【0047】特別な場合には、本発明の光開始剤の2種
またはそれ以上の混合物を使用することも有利であり得
る。式Iの光開始剤に加えて使用される別の光開始剤は
下記の型から選ばれたそれらであってよい:α−ヒドロ
キシアルキルフェニルケトン、ベンゾインアルキルエー
テルおよびベンジルケタールのようなベンゾフェノン、
アセトフェノン誘導体;またはアシルホスフィンオキシ
ド、ビアシルホスフィンオキシドまたはチタノセン。
【0048】光重合は、特に着色製剤中で、トリエタノ
ールアミン、N−メチル−ジエタノールアミン、エチル
=p−ジメチルアミノベンゾエートまたはミヒラーケト
ンのようなアミンを添加することにより、促進できる。
アミンの作用は、ベンゾフェノン型の芳香族ケトンの添
加により強化される。
【0049】光重合は、スペクトラル感度を遷移または
増強する光増感剤の添加により、更に促進できる。これ
らの光増感剤は、好ましくは、ベンゾフェノン、チオキ
サントン、アントラキノンおよび3−アシルクマリン誘
導体並びに3−(アロイルメチレン)チアゾリンのよう
な芳香族カルボニル化合物である。
【0050】もくろむ最終用途によって、更に使用され
る常用の添加剤は、充填剤、顔料、染料、接着促進剤、
湿潤剤または均染剤である。
【0051】光重合性組成物は、多数の目的のために使
用できる。そしてその目的は、印刷用インクジェット組
成物中の、透明塗料組成物中の、白色エナメル中の、ペ
イント中の、外部塗装用のペイント中の、そして写真複
製工程のための、画像記録工程のためのまたは印刷版
製造のための、3次元製品の製造のための、立体平板印
刷または素材硬化によるものとして、歯科充填組成物と
して、接着剤として、オプチカルファイバーのための、
印刷電子回路のためのまたは電子部品塗装のための塗料
としてのそれらの使用を包含する。
【0052】塗料製剤において、ポリ不飽和モノマーと
一緒のプレポリマーの2成分混合物または追加の単不飽
和モノマーを含有する3成分混合物が頻繁に使用され
る。プレポリマーは最初に塗膜の性質を決め、それを変
更することにより、当業者は硬化した膜の性質に影響を
及ぼすことができる。不飽和モノマーは、塗膜を不溶性
にする架橋剤として作用する。単不飽和結合モノマー
は、そのモノマー添加により溶剤を使用しなけれはなら
ないということなしに粘度を低下する反応性希釈剤とし
て作用する。
【0053】プレポリマーを基材にした2−および3−
成分系は、印刷インク用並びに塗料組成物、フォトレジ
ストまたは他の光硬化性組成物用に使用される。光硬化
性プレポリマーを基材にした単一成分系も印刷インク用
結合剤として頻繁に使用できる。
【0054】不飽和ポリエステル樹脂は、通常は、単不
飽和モノマーと共に、好ましくはスチレンと共に使用さ
れる。特定の単一成分系、例えば西独特許公開公報DE
−OS2308830号に開示されているポリマレイン
イミド、ポリカルコンまたはポリイミドは、頻繁にフォ
トレジスト用に使用される。
【0055】本発明の光重合性組成物は、全種類の素
材、例えば木材、紙、セラミック;ポリエステルと酢酸
セルロースフィルムのような合成樹脂;そして銅とアル
ミニウムのような金属のようなものの塗料として適当に
使用でき、それらの素材に対して、光重合により保護層
または画像を作製することが所望される。
【0056】基材は、該基材に液体組成物、溶液または
けん濁液を施用することにより被覆できる。これは、典
型的には、浸漬塗装、刷毛、散布またはリバースロール
塗布により実施できる。含浸量(層厚)と基材(支持
体)の性質は、適用の所望分野によるだろう。写真情報
記録用の適当な基材は、ポリエステル、酢酸セルロース
または樹脂塗布紙のシートである。特に処理したアルミ
ニウムはオフセット版用に、そして銅クラッドラミネー
トは印刷回路板を製造するために使用される。写真材料
とオフセット版のための層厚は、通常は約0.5ないし
約10μmである。もし溶媒が併用されるならば、これ
らは塗装後に除去できる。
【0057】光硬化は印刷インクには非常に重要であ
る。というのは、結合剤の乾燥時間は、記録製品の生産
速度における決定的要因であり、数分の1秒の単位内に
あるべきであるからである。UV硬化性印刷インクは、
スクリーン印刷に特に重要である。
【0058】本発明の光硬化性の組成物は、印刷版を製
造するのにも非常に適している。この利用のために、溶
解性の線状ポリアミドまたはスチレン/ブタジエン−ゴ
ムの混合物を、光重合性のモノマー、典型的にはアクリ
ルアミド、および光開始剤と共に使用する。これらの系
のフィルムと版(湿式または乾式)をネガ(またはポ
ジ)原画を通して暴露し、次いで非硬化部分を溶媒で溶
出する。
【0059】光硬化の別の使用分野は、薄板と管、罐ま
たは瓶の蓋におけるような金属の塗布、並びに例えばP
VC製の床または壁の被覆のための樹脂塗膜の硬化であ
る。
【0060】紙への塗膜の硬化の具体例は、ラベル、レ
コードジャケットまたは本のカバーである。
【0061】光重合性組成物の使用は、画像作製技術の
ためと情報担体の光学的生産のためにも重要である。こ
れらの目的のために、基材に施用した層(乾式または湿
式)を、短波長の光でフォトマスクを通して照射し、非
暴露面を溶媒で処理して除去する(=現像)。光硬化性
層の施用は、金属上への電着によっても実施できる。暴
露面は、架橋した高分子性であり、その結果不溶性であ
り、基材上に残存する。可視画像は適当な着色により形
成できる。もしも基材が金属化した層であるならば、そ
のときは、暴露それに次ぐ非暴露面における現像の後金
属をエッチングして取り去ることができるかまたは亜鉛
メッキにより強化することができる。この方法では、印
刷回路板とフォトレジストを作製することは可能であ
る。
【0062】更に本発明は、少なくとも1個のエチレン
性の不飽和二重結合を含有するモノマー、オリゴマーま
たはポリマーの化合物を光重合する方法であって、式I
の化合物を該化合物に添加しそして200ないし600
nmの範囲内の波長の光で照射することからなる方法に
関する。
【0063】重合は、太陽光を使用するまたは短波長放
射が豊富である光を使用する照射による光重合の既知の
方法により実施される。適当な光源は典型的には水銀−
中圧、高圧および低圧−灯、超化学線蛍光灯、金属ハロ
ゲン化物灯またはレーザであって、その最大の放射は2
50−450nmの範囲内にある。レーザ光線光源に
は、フォトマスクを必要としない利点があり、その理由
は制御されたレーザ光線が光硬化性層上に直接に書くか
らである。光増感剤との組み合わせが使用される時は、
より長い波長の光または600nmまでのレーザ光線を
使用することが可能である。
【0064】組成物は各々の成分を混合することにより
製造するのが便利である。
【0065】本発明は更に、上述の方法によって得られ
る硬化した組成物に関する。
【0066】本発明のビアシルホスフィンスルフィド光
開始剤は、常用の、好ましくは非極性のシリコーンのよ
うな樹脂中への優れた溶解性を持っている。
【0067】別の利点は、本発明の光開始剤で硬化した
組成物の微々たる黄色化である。
【0068】
【実施例】本発明を下記の実施例により更に詳細に説明
する。特に記述のない限り下記の記述では部とパーセン
トは重量による。
【0069】実施例1:ビス(2,6−ジメトキシベン
ゾイル)−(2−メチルプロピル)ホスフィンスルフィ
ド a)ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−(2−メ
チルプロピル)ホスフィン 5ml(0.0425モル)の(2−メチルプロピル)
ホスフィンと13ml(0.0935モル)のトリエチ
ルアミンの混合物を、100mlのトルエン中の18.
8g(0.0935モル)の塩化2,6−ジメトキシベ
ンゾイルに、30分間にわたり100−110℃で滴下
して添加する。反応混合物を、6時間にわたり同じ温度
で、攪拌することにより反応を完結すると、生成物並び
にトリエチルアミン塩酸塩が黄色の沈澱として沈積す
る。反応混合物を冷却した後、水を添加してアンモニウ
ム塩を溶解し、生成物をろ過して単離し、真空乾燥し
て、融点138−140℃の白色粉末として、表記の化
合物を11.1g(理論量の62.5%)を得る。 元素分析:C計算値 63.15% H計算値 6.50% 実測値 63.19% 実測値 6.52%
【0070】b)ビス(2,6−ジメトキシベンゾイ
ル)−(2−メチルプロピル)ホスフィンスルフィド 10.0g(0.024モル)のビス(2,6−ジメト
キシベンゾイル)−(2−メチルプロピル)ホスフィン
をトルエンに添加し、混合物を窒素を導通しながら60
℃に加熱すると、ホスフィンは完全に溶解する。次い
で、0.8g(0.024モル)の硫黄を60℃で添加
する。その後、反応混合物を60℃で6時間にわたり攪
拌し、冷却し、減圧下濃縮する。残留分を酢酸エチルか
ら再結晶し、融点145−147℃の黄色粉末として表
記の化合物を6.9g(理論量の63.9%)を得る。 元素分析:計算値 C 58.66% 実測値 C 58.59% H 6.04% H 6.01% S 7.12% S 7.03%
【0071】実施例2−3:実施例1に記載した一般的
方法に従って、適当な原料のホスフィンを使用して、実
施例2と3の化合物を製造する。
【化4】
【0072】実施例4: 白色エナメル製剤における開始剤活性 下記の成分を含有する光重合性の組成物を製造する:
(部は重量部) エベクリル(Ebecryl )830(登録商標)(ポリエステル=アクリレート、U CB社製、ベルギー) ・・・・・ 13.5部 トリメチロールプロパン=トリスアクリレート(デクサ社製)・・ 0.5部 1,6−ヘキサンジオール=ジアクリレート(ローム社製) ・・ 1 部 二酸化チタン(ルチル型;R−TC2(登録商標);チオキシド社製,フランス ) ・・ 5.0部
【0073】この組成物に、表Bに掲示した試験光開始
剤の一定量を添加する。製剤を、アルミニウム箔に10
0μmの層厚で塗布する。次いで、検体を水銀中圧ラン
プ(2×80W/cm)を付したPPG装置中で暴露す
る。検体を、摩擦抵抗性の塗膜を得るのに必要な回数1
0m/分の速度で動いているベルト上に載せてランプの
下を通過せしめる。通過の回数(n)が少ない程、試験
化合物の反応性は高い。検体の硬度は、ケーニッヒ(K
oenig)の装置(DIN53157)を使用する振
子型硬度試験(pendulum hardness test) により測定す
る。秒数が多い程、検体はより硬い。検体の黄変は、A
STM D1925−70に従って黄変度指数(YI)
を測定することにより決められる。その値が低い程、検
体の黄変度は低い。振子型硬度試験(pendulum hardnes
s )と黄変は、440WフィリップスTL40/03ラ
ンプの下での、硬化の直後と、15分間と16時間にわ
たる追加暴露の後に測定される。検体の光沢度は、AS
TM D523に従って、15分間と16時間の追加暴
露の後、20°と60°の入射角で測定される。反射光
の度合いを%で示す。値の高い程、光沢度は良好であ
る。結果を表Bに示す。
【0074】
【表1】
【0075】実施例5: 白色エナメル製剤における開始剤活性 下記の成分を含有する光重合性の組成物を製造する: エベクリル(Ebecryl )608(登録商標)(エポキシ=アクリレート、UCB 社製、ベルギー) ・・・・・ 30% トリメチロールプロパン=トリスアクリレート(デクサ社製)・・ 15% N−ビニルピロリドン ・・・・・ 5% 二酸化チタン(ルチル型;R−TC2(登録商標);チオキシド社,フランス) ・・・・・ 50%
【0076】実施例1b)の光開始剤の2重量%をこの
製剤に包含せしめる。製剤を、アルミニウム箔に100
μmの層厚で塗布する。次いで、100μm層をハノヴ
ィア水銀中圧ランプ(2×80W/cm)で照射して硬
化せしめる。検体を、摩擦抵抗性の塗膜を得るのに必要
な回数10m/分の速度で動いているベルト上に載せて
ランプの下を通過せしめる。通過の回数(n)が少ない
程、試験化合物の反応性は高い。検体の硬度は、ケーニ
ッヒ(Koenig)の装置(DIN53157)を使
用する振子型硬度試験(pendulum hardness test) によ
り測定する。秒数が多い程、検体はより硬い。検体の黄
変は、ASTM D1925−70に従って黄変度指数
(YI)を測定することにより決められる。その値が低
い程、検体の黄変度は低い。振子型硬度試験(pendulum
hardness )と黄変は、440WフィリップスTL40
/03ランプの下での、硬化の直後と、15分間と16
時間にわたる追加暴露の後に測定される。検体の光沢度
は、ASTM D523に従って、15分間と16時間
の追加暴露の後、20°と60°の入射角で測定され
る。反射光の度合いを%で示す。値の高い程、光沢度は
良好である。結果を表Cに示す。
【0077】
【表2】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲプハルト フーク スイス国,1700 フリブールク,ル ド シフェネン3 (72)発明者 マンフレト ケーレル ドイツ連邦共和国,7800 フライブル ク,ケーレルシュトラーセ 15 (56)参考文献 Chemical Abstract s Vol.75:129889 (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) C07F 9/32 C08F 2/50 CA(STN)

Claims (10)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式I 【化1】 (式中,R1は未置換の炭素原子数1ないし18のアル
    キル基またはフェニル基、−CN、炭素原子数1ないし
    12のアルコキシ基またはハロゲン原子により置換され
    た炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素原子数2な
    いし18のアルケニル基、未置換の炭素原子数5ないし
    8のシクロアルキル基または炭素原子数1ないし12の
    アルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ基ま
    たはハロゲン原子により置換された炭素原子数5ないし
    8のシクロアルキル基、未置換の炭素原子数6ないし1
    2のアリール基またはハロゲン原子、炭素原子数1ない
    し12のアルキル基または炭素原子数1ないし12のア
    ルコキシ基により置換された炭素原子数6ないし12の
    アリール基を表すか、またはR 1 はフリル基、チエニル
    基、ピロリル基、ピリジル基、インドリル基、ベンズオ
    キサゾリル基、ベンズイミダゾリル基またはベンゾチア
    ゾリル基、ジメチルピリジル基、メチルキノリル基、ジ
    メチルピロリル基、メトキシフリル基、ジメトキシピリ
    ジル基またはジフルオロピリジル基を表し;そしてR2
    およびR3は各々が他と独立して、未置換の炭素原子数
    1ないし18のアルキル基またはフェニル基、ハロゲン
    原子または炭素原子数1ないし12のアルコキシ基によ
    り置換された炭素原子数1ないし8のアルキル基、炭素
    原子数2ないし6のアルケニル基、未置換の炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキル基または炭素原子数1ない
    し12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコ
    キシ基またはハロゲン原子により置換された炭素原子数
    5ないし8のシクロアルキル基、未置換の炭素原子数6
    ないし12のアリール基または炭素原子数1ないし12
    のアルキル基、炭素原子数1ないし12のアルコキシ
    基、炭素原子数2ないし12のアルコキシアルキル基、
    炭素原子数1ないし4のアルキルチオ基またはハロゲン
    原子により置換された炭素原子数6ないし12のアリー
    ル基を表すか、またはR 2 およびR 3 はフリル基、チエニ
    ル基、ピロリル基、ピリジル基、インドリル 基、ベンズ
    オキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基またはベンゾチ
    アゾリル基、ジメチルピリジル基、メチルキノリル基、
    ジメチルピロリル基、メトキシフリル基、ジメトキシピ
    リジル基またはジフルオロピリジル基を表す。)により
    表される化合物。
  2. 【請求項2】Rが未置換の炭素原子数1ないし12の
    アルキル基、フェニルー(炭素原子数1ないし4のアル
    キル)基、未置換のまたは炭素原子数1ないし12のア
    ルキル基で置換されたシクロペンチル基またはシクロヘ
    キシル基、または未置換のフェニル基またはハロゲン原
    子、炭素原子数1ないし12のアルキル基または炭素原
    子数1ないし4のアルコキシ基により置換されたフェニ
    ル基を表し; そしてRとRの各々が他と独立して、未置換の炭素
    原子数1ないし12のアルキル基、フェニルー(炭素原
    子数1ないし4のアルキル)基、未置換のまたは炭素原
    子数1ないし12のアルキル基で置換されたシクロペン
    チル基またはシクロヘキシル基、または未置換のフェニ
    ル基または炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素
    原子数1ないし4のアルコキシ基またはハロゲン原子に
    より置換されたフェニル基を表す請求項記載の化合
    物。
  3. 【請求項3】Rが炭素原子数1ないし8のアルキル基
    またはベンジル基を表し;RとRが炭素原子数1な
    いし4のアルキル基でまたは炭素原子数1ないし4のア
    ルコキシ基で置換されたフェニル基を表す請求項載の
    化合物。
  4. 【請求項4】(a)少なくとも一種のエチレン性の不飽
    和の光重合性化合物および(b)少なくとも一種の式I
    の化合物を包含する組成物。
  5. 【請求項5】光開始剤(b)に追加して、少なくともも
    う一種の別の光開始剤および/または他の添加剤を包含
    する請求項記載の組成物。
  6. 【請求項6】該組成物を基準にして、成分(b)を0.
    05ないし15重量%、好ましくは0.2ないし5重量
    %含有する請求項記載の組成物。
  7. 【請求項7】エチレン性の不飽和二重結合を含有する化
    合物を光重合する方法であって、200ないし600n
    mの範囲内にある光で請求項で請求した組成物を照射
    することからなる方法。
  8. 【請求項8】塗料、複合材料、印刷版、電子印刷回路用
    フォトレジスト、接着剤またはオプチカルファイバーの
    ための塗料の製造のための請求項記載の方法。
  9. 【請求項9】素材硬化または立体平板印刷の方法に従っ
    て行われる請求項記載の方法。
  10. 【請求項10】請求項で請求した方法によって得られ
    る硬化組成物。
JP02463592A 1991-01-14 1992-01-14 ビアシルホスフィンスルフィド Expired - Fee Related JP3203431B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH8491 1991-01-14
CH84/91-2 1991-01-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0586080A JPH0586080A (ja) 1993-04-06
JP3203431B2 true JP3203431B2 (ja) 2001-08-27

Family

ID=4178903

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP02463592A Expired - Fee Related JP3203431B2 (ja) 1991-01-14 1992-01-14 ビアシルホスフィンスルフィド

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0495752B1 (ja)
JP (1) JP3203431B2 (ja)
CA (1) CA2059144C (ja)
DE (1) DE59201477D1 (ja)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
RU2091385C1 (ru) * 1991-09-23 1997-09-27 Циба-Гейги АГ Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий
ES2059261B1 (es) * 1992-10-08 1995-11-16 Ciba Geigy Ag Alquil-bisacilfosfinoxidos.
CA2134156A1 (en) * 1993-11-22 1995-05-23 Thomas P. Klun Coatable compositions, abrasive articles made therefrom, and methods of making and using same
TW303379B (ja) * 1994-03-02 1997-04-21 Ciba Sc Holding Ag
AU682793B2 (en) * 1994-09-08 1997-10-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Novel acylphosphine oxides
ATE226509T1 (de) * 1995-09-09 2002-11-15 Vantico Ltd Verfahren zum herstellung von polymerschichten mit selektiv gefärbten zonen
US6130980A (en) * 1997-05-06 2000-10-10 Dsm N.V. Ribbon assemblies and ink coating compositions for use in forming the ribbon assemblies
DE69827142T2 (de) * 1998-11-11 2006-03-09 Minnesota Mining And Manufacturing Co., St. Paul Mehrschichtige Folie enthaltend eine Polyurethanschutzschicht
GB2365430B (en) * 2000-06-08 2002-08-28 Ciba Sc Holding Ag Acylphosphine photoinitiators and intermediates
DE60232160D1 (de) 2001-08-21 2009-06-10 Ciba Holding Inc Bathochromische mono- und bis-acylphosphinoxide und sulfide und ihre verwendung als photoinitiatoren

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3034697A1 (de) * 1980-09-15 1982-05-06 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Acylphosphinsulfidverbindungen, ihre herstellung und verwendung
DE3443221A1 (de) * 1984-11-27 1986-06-05 ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Chemical Abstracts Vol.75:129889

Also Published As

Publication number Publication date
DE59201477D1 (de) 1995-04-06
EP0495752A1 (de) 1992-07-22
EP0495752B1 (de) 1995-03-01
CA2059144C (en) 2002-07-16
CA2059144A1 (en) 1992-07-15
JPH0586080A (ja) 1993-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4171073B2 (ja) 不揮発性フェニルグリオキシル酸エステル
JP4869463B2 (ja) 光開始剤の組み合わせ
KR100363978B1 (ko) 알콕시페닐-치환비스아실포스핀옥시드
US6284813B1 (en) Alkylphenylbisacylphosphine oxides and photoinitiator mixtures
US7026017B2 (en) Organometallic monoacylalkylphosphines
CA2059145A1 (en) Bisacylphosphines
KR100358815B1 (ko) 이합체성비스아실포스핀,옥사이드및술파이드화합물및이들화합물을포함하는조성물
US6361925B1 (en) Photoinitiator mixtures and compositions with alkylphenylbisacylphosphine oxides
JP3203431B2 (ja) ビアシルホスフィンスルフィド
KR100363977B1 (ko) 신규아실포스핀옥시드
US5399782A (en) Benzoyl-substituted phosphabicycloalkanes and phosphabicycloalkanesulfides as photoinitiators
US5210110A (en) Silylated acylphosphine oxides
US5368985A (en) Bisacylphosphine sulfides
JP2005225793A (ja) ホスフィンオキシド化合物
KR20000047902A (ko) 광개시제 혼합물
KR19980063821A (ko) 신규 α-아미노아세토페논 광개시제

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees