JP2604172B2 - 印刷版，レリーフ版の製造に適した光重合可能の記録媒体 - Google Patents
印刷版，レリーフ版の製造に適した光重合可能の記録媒体Info
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- JP2604172B2 JP2604172B2 JP62239143A JP23914387A JP2604172B2 JP 2604172 B2 JP2604172 B2 JP 2604172B2 JP 62239143 A JP62239143 A JP 62239143A JP 23914387 A JP23914387 A JP 23914387A JP 2604172 B2 JP2604172 B2 JP 2604172B2
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- B23P—METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; COMBINED OPERATIONS; UNIVERSAL MACHINE TOOLS
- B23P13/00—Making metal objects by operations essentially involving machining but not covered by a single other subclass
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D—WORKING OR PROCESSING OF SHEET METAL OR METAL TUBES, RODS OR PROFILES WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21D39/00—Application of procedures in order to connect objects or parts, e.g. coating with sheet metal otherwise than by plating; Tube expanders
- B21D39/06—Application of procedures in order to connect objects or parts, e.g. coating with sheet metal otherwise than by plating; Tube expanders of tubes in openings, e.g. rolling-in
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Description
【発明の詳細な説明】 （技術分野） 本発明は（ａ）少くとも１個の光重合可能のオレフィ
ン系不飽和二重結合を有する少くとも１種類の低分子化
合物と，（ｂ）少くとも１種類の有機重合体結合剤とか
ら成り，光重合開始剤としてビスアシルホスフィンオキ
シド化合物を含有する混合物を主体として構成された，
水或はアルカリ水溶液で現像し得る改良された光重合性
記録媒体に関するものである。
ン系不飽和二重結合を有する少くとも１種類の低分子化
合物と，（ｂ）少くとも１種類の有機重合体結合剤とか
ら成り，光重合開始剤としてビスアシルホスフィンオキ
シド化合物を含有する混合物を主体として構成された，
水或はアルカリ水溶液で現像し得る改良された光重合性
記録媒体に関するものである。
（従来技術） 印刷版体，レリーフ版体製造のために使用される光重
合性記録媒体は，液体状のものであれ，固体状のもので
あれ種々の文献に，例えば西独特許出願公開2040390号
公報或はフランス特許1520856号明細書に記載されてい
る。このような記録材料用の光重合開始剤としては，主
としてベンジルケタール，ベンゾインエーテル，ベンゾ
インエーテルのα−メチロール誘導体のような芳香族ケ
トンが使用されている。この種の開始剤は或る程度の効
果をもたらすが，記録技術の進歩につれて，ことに新聞
印刷の分野においては常に更に短かい露光時間が要望さ
れ，従来の光重合開始剤ではこのような要望には十分に
こたえられない。従って，無公害性の水で洗除可能の印
刷版体は非活性的であって，予備露光技術により十分な
増減の配慮をしなければならない。更に他の欠点として
は追加的処理が必要であることである。
合性記録媒体は，液体状のものであれ，固体状のもので
あれ種々の文献に，例えば西独特許出願公開2040390号
公報或はフランス特許1520856号明細書に記載されてい
る。このような記録材料用の光重合開始剤としては，主
としてベンジルケタール，ベンゾインエーテル，ベンゾ
インエーテルのα−メチロール誘導体のような芳香族ケ
トンが使用されている。この種の開始剤は或る程度の効
果をもたらすが，記録技術の進歩につれて，ことに新聞
印刷の分野においては常に更に短かい露光時間が要望さ
れ，従来の光重合開始剤ではこのような要望には十分に
こたえられない。従って，無公害性の水で洗除可能の印
刷版体は非活性的であって，予備露光技術により十分な
増減の配慮をしなければならない。更に他の欠点として
は追加的処理が必要であることである。
従来の開始剤を含有する記録媒体においては，レリー
フ構造の形成がしばしば不十分であって，ホトクロム剤
の添加，担体基板の光反射調整，露光時間を延長させる
特殊な禁止剤の添加など，特別の対策により上記の欠点
を改善しなければならない。
フ構造の形成がしばしば不十分であって，ホトクロム剤
の添加，担体基板の光反射調整，露光時間を延長させる
特殊な禁止剤の添加など，特別の対策により上記の欠点
を改善しなければならない。
このための一改善策は，光重合開始剤としてアシルホ
スフィンオキシド化合物を使用することである（ヨーロ
ッパ特許0059988号）。
スフィンオキシド化合物を使用することである（ヨーロ
ッパ特許0059988号）。
上述した技術水準にかんがみて，この分野の技術的課
題は，予備露光を必要とせず，しかも全露光時間を短縮
することができ，予備露光が必要である場合にはこの予
備露光の程度を正確に制御することができる，簡単に処
理可能の記録媒体を提供することである。
題は，予備露光を必要とせず，しかも全露光時間を短縮
することができ，予備露光が必要である場合にはこの予
備露光の程度を正確に制御することができる，簡単に処
理可能の記録媒体を提供することである。
（発明の要約） しかるにこの技術的課題は，特定のビスアシルホスフ
ィンオキシド化合物の使用により解決され得ることが見
出された。
ィンオキシド化合物の使用により解決され得ることが見
出された。
本発明の対象は，（ａ）少くとも１個の光重合可能オ
レフィン系不飽和二重結合を有する少くとも１種類の低
分子化合物と，（ｂ）少くとも１種類の有機重合体結合
剤とから成り，光重合開始剤を含有する混合物を主体と
する，ことに印刷版体，レリーフ版体製造用の光重合可
能記録媒体において，上記光重合開始剤として，式
（Ｉ） （式中,R1は１乃至６個の炭素原子を有するアルキル残
基,5もしくは６個の環炭素原子を有するシクロアルキル
残基，場合によりハロゲン，アルキルもしくはアルコキ
シで置換されたアリール残基，或はＳもしくはＮを含有
する５員もしくは６員の複素環式残基を意味し,R2及びR
3は同じ或は異なるアシル残基であって，そのカルボニ
ル基に４乃至18個の炭素原子を有する３級アルキル基,5
もしくは６個の環炭素原子を有する３級シクロアルキル
残基，アリール残基或は５員もしくは６員の複素環式残
基が結合されており，上記アリール残基或いは５員もし
くは６員の複素環式残基が少なくとも、カルボニル基に
対する二つのオルト位置において結合した置換基Ａ及び
Ｂを含有し，このＡ及びＢがアルキル基，アルコキシ
基，アルコキシアルキル基，アルキルチオ基，シクロア
ルキル基，アリール基或はハロゲン原子であって，互に
同じもの或は異なるものを意味してもよい）で表わされ
るビスアシルホスフィンオキシド化合物を含有すること
を特徴とする記録媒体である。
レフィン系不飽和二重結合を有する少くとも１種類の低
分子化合物と，（ｂ）少くとも１種類の有機重合体結合
剤とから成り，光重合開始剤を含有する混合物を主体と
する，ことに印刷版体，レリーフ版体製造用の光重合可
能記録媒体において，上記光重合開始剤として，式
（Ｉ） （式中,R1は１乃至６個の炭素原子を有するアルキル残
基,5もしくは６個の環炭素原子を有するシクロアルキル
残基，場合によりハロゲン，アルキルもしくはアルコキ
シで置換されたアリール残基，或はＳもしくはＮを含有
する５員もしくは６員の複素環式残基を意味し,R2及びR
3は同じ或は異なるアシル残基であって，そのカルボニ
ル基に４乃至18個の炭素原子を有する３級アルキル基,5
もしくは６個の環炭素原子を有する３級シクロアルキル
残基，アリール残基或は５員もしくは６員の複素環式残
基が結合されており，上記アリール残基或いは５員もし
くは６員の複素環式残基が少なくとも、カルボニル基に
対する二つのオルト位置において結合した置換基Ａ及び
Ｂを含有し，このＡ及びＢがアルキル基，アルコキシ
基，アルコキシアルキル基，アルキルチオ基，シクロア
ルキル基，アリール基或はハロゲン原子であって，互に
同じもの或は異なるものを意味してもよい）で表わされ
るビスアシルホスフィンオキシド化合物を含有すること
を特徴とする記録媒体である。
上述の「カルボニル基に対する二つのオルト位置にお
いて結合した置換基Ａ及びＢを含有し」という要件は，
置換基Ａ及びＢが，カルボニル基との結合位置に隣接す
る置換可能の環構成両炭素原子に結合されていることを
意味する。すなわち，α−ナフチル残基が少くとも2,8
位置において，またβ−ナフチル残基が1,3位置におい
て結合された置換基Ａ及びＢを有するという意味であ
る。
いて結合した置換基Ａ及びＢを含有し」という要件は，
置換基Ａ及びＢが，カルボニル基との結合位置に隣接す
る置換可能の環構成両炭素原子に結合されていることを
意味する。すなわち，α−ナフチル残基が少くとも2,8
位置において，またβ−ナフチル残基が1,3位置におい
て結合された置換基Ａ及びＢを有するという意味であ
る。
（発明の構成） 式（Ｉ）について更に具体的に説明すると,R1はメチ
ル，エチル,1−プロピル,n−プロピル,n−ブチル，アミ
ル或はｎ−ヘキシルのような１乃至６個の炭素原子を有
する直鎖或は分枝アルキル残基，シクロペンチル或はシ
クロヘキシル残基，フェニル或はナフチルのようなアリ
ール残基，モノ或はジクロルフェニルのようなハロゲン
置換アリール残基，メチルフェニル，エチルフェニル，
イソプロピルフェニル,3級ブチルフェニル或はジメチル
フェニルのようなアルキル置換アリール、メトキシフェ
ニル、エトキシフェニル、ジメトキシフェニルのような
アルコキシ置換アリール残基，チオフェニル或はピリジ
ルのような硫黄もしくは窒素原子を有する５員もしくは
６員の複素環式残基を意味する。
ル，エチル,1−プロピル,n−プロピル,n−ブチル，アミ
ル或はｎ−ヘキシルのような１乃至６個の炭素原子を有
する直鎖或は分枝アルキル残基，シクロペンチル或はシ
クロヘキシル残基，フェニル或はナフチルのようなアリ
ール残基，モノ或はジクロルフェニルのようなハロゲン
置換アリール残基，メチルフェニル，エチルフェニル，
イソプロピルフェニル,3級ブチルフェニル或はジメチル
フェニルのようなアルキル置換アリール、メトキシフェ
ニル、エトキシフェニル、ジメトキシフェニルのような
アルコキシ置換アリール残基，チオフェニル或はピリジ
ルのような硫黄もしくは窒素原子を有する５員もしくは
６員の複素環式残基を意味する。
R2及びR3は互に同じ或は異なるアシル残基を意味する
ことができるが，共に同じアシル残基を意味するのが好
ましい。
ことができるが，共に同じアシル残基を意味するのが好
ましい。
アシル残基R2及びR3のカルボニル基には，少くとも、
カルボニル基に対する二つのオルト位置において結合し
た置換基Ａ及びＢを含有する，フェニル残基，ナフチル
残基，或はことにS,Nもしくは０環内原子を有する５員
もしくは６員の複素環式残基，例えばフリル，ピロリ
ル，チエニル，ピラニル或はピリジルの如き残基が結合
されることができる。適当な置換基Ａ及びＢは，ことに
１乃至６個の炭素原子，好ましくは１乃至４個の炭素原
子を有する，場合により分枝されたアルキル残基，例え
ばメチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，
イソブチル,3級３ブチル，場合により置換されたシクロ
アルキル残基，例えばシクロヘキシル，場合により置換
されたアリール残基，例えばフェニル，トルイル，こと
に１乃至６個，好ましくは１乃至４個の炭素原子を有す
るアルコキシもしくはアルキルチオ残基，例えばメトキ
シ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ,n−ブトキ
シ，メチルチオ，エチルチオ，プロピルチオ，イソプロ
ピルチオ,n−ブチルチオ,2級ブチルチオ,3級ブチルチ
オ，ことに２乃至12個，好ましくは２乃至８個の炭素原
子を有するアルコキシアルキル残基，例えば２−メトキ
シエチル,3級ブトキシ−２−プロピル，ハロゲン原子，
例えば塩素原子，臭素原子である。
カルボニル基に対する二つのオルト位置において結合し
た置換基Ａ及びＢを含有する，フェニル残基，ナフチル
残基，或はことにS,Nもしくは０環内原子を有する５員
もしくは６員の複素環式残基，例えばフリル，ピロリ
ル，チエニル，ピラニル或はピリジルの如き残基が結合
されることができる。適当な置換基Ａ及びＢは，ことに
１乃至６個の炭素原子，好ましくは１乃至４個の炭素原
子を有する，場合により分枝されたアルキル残基，例え
ばメチル，エチル，プロピル，イソプロピル，ブチル，
イソブチル,3級３ブチル，場合により置換されたシクロ
アルキル残基，例えばシクロヘキシル，場合により置換
されたアリール残基，例えばフェニル，トルイル，こと
に１乃至６個，好ましくは１乃至４個の炭素原子を有す
るアルコキシもしくはアルキルチオ残基，例えばメトキ
シ，エトキシ，プロポキシ，イソプロポキシ,n−ブトキ
シ，メチルチオ，エチルチオ，プロピルチオ，イソプロ
ピルチオ,n−ブチルチオ,2級ブチルチオ,3級ブチルチ
オ，ことに２乃至12個，好ましくは２乃至８個の炭素原
子を有するアルコキシアルキル残基，例えば２−メトキ
シエチル,3級ブトキシ−２−プロピル，ハロゲン原子，
例えば塩素原子，臭素原子である。
好ましい置換基はハロゲン原子，ことに塩素，例えば
メトキシ基のようなアルコキシ基，例えばメチル，エチ
ルのようなアルキル基である。
メトキシ基のようなアルコキシ基，例えばメチル，エチ
ルのようなアルキル基である。
R2及びR3はまた例えば３級ブチル,1,1−ジメチルヘプ
チル,1−メチルシクロヘキシル或は１−メチルシクロペ
ンチルのような３級アルキル残基或は３級シクロアルキ
ル基（それぞれカルボニル基に隣接する位置に３級炭素
原子を有する）であることもできる。
チル,1−メチルシクロヘキシル或は１−メチルシクロペ
ンチルのような３級アルキル残基或は３級シクロアルキ
ル基（それぞれカルボニル基に隣接する位置に３級炭素
原子を有する）であることもできる。
ビスアシルホスフィンオキシド，その製造法ならびに
光重合可能の歯科材料として使用することは，ヨーロッ
パ特許出願0184095号公報より公知である。これに対し
てビスアシルホスフィンオキシドを水或はアルカリ水溶
液で現像可能の光重合性記録媒体に使用して達成される
効果，ことに改善された処理性は極めて秀れたものがあ
る。
光重合可能の歯科材料として使用することは，ヨーロッ
パ特許出願0184095号公報より公知である。これに対し
てビスアシルホスフィンオキシドを水或はアルカリ水溶
液で現像可能の光重合性記録媒体に使用して達成される
効果，ことに改善された処理性は極めて秀れたものがあ
る。
ビスアシルホスフィンオキシド化合物の製造は，例え
ば西独特許出願公開3443221号公報に記載されている方
法と同様の方法で行われる。
ば西独特許出願公開3443221号公報に記載されている方
法と同様の方法で行われる。
上記式（Ｉ）のビスアシルホスフィンオキシド化合物
であって，そのR1が炭素原子６乃至12個を有するアリー
ル，例えばナフチル，トルイル，ことにフェニル，炭素
原子１乃至４個のアルコキシ，例えばメトキシ，エトキ
シ、で置換された炭素原子６乃至12個のアリールを意味
するものを使用して製造された記録媒体が特に秀れてい
る。
であって，そのR1が炭素原子６乃至12個を有するアリー
ル，例えばナフチル，トルイル，ことにフェニル，炭素
原子１乃至４個のアルコキシ，例えばメトキシ，エトキ
シ、で置換された炭素原子６乃至12個のアリールを意味
するものを使用して製造された記録媒体が特に秀れてい
る。
本発明記録媒体に特に適する式（Ｉ）のビスアシルホ
スフィンオキシド化合物を列記すれば以下の通りであ
る。
スフィンオキシド化合物を列記すれば以下の通りであ
る。
ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−フェニルホスフ
ィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−2,5−ジメチルフ
ェニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−４−エトキシフ
ェニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−４−クロルフェ
ニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−４−プロピルフ
ェニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−４−ビスフェニ
ルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジメトキシベンゾイル）−2,5−ジメチル
フェニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジメトキシベンゾイル）−フェニルホス
フィンオキシド ビス（2,6−ジクロル−3,4,5−トリメトキシベンゾイ
ル）−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキシド ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−フェニルホス
フィンオキシド ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−ビスフェ
ニリルホスフィンオキシド ビス（２−メトキシ−１−ナフトイル）−2,5−ジメ
チルフェニルホスフィンオキシド ビス（２−メトキシ−１−ナフトイル）−４−エトキ
シフェニルホスフィンオキシド 本発明記録媒体は式（Ｉ）のビスアシルホスフィンオ
キシドを唯１種類の光重合開始剤として，一般に光重合
可能の記録媒体全量に対し0.005乃至10重量％，ことに
0.05乃至５重量％含有することができるけれども，この
ビスアシルホスフィンオキシドと従来公知の他の開始剤
と合併して使用することも可能である。このような公知
の開始剤として適当であるのは，ケトンタイプのもので
あって，例えばベンジルジメチルケタール，α−メチロ
ールベンゾインエチルエーテル，ジエトキシアセトフェ
ノン，α−メチロールベンゾインエチルエーテル，ベン
ゾインメチルエーテル，ベンゾインイソプロピルエーテ
ルなどである。
ィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−2,5−ジメチルフ
ェニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−４−エトキシフ
ェニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−４−クロルフェ
ニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−４−プロピルフ
ェニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）−４−ビスフェニ
ルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジメトキシベンゾイル）−2,5−ジメチル
フェニルホスフィンオキシド ビス（2,6−ジメトキシベンゾイル）−フェニルホス
フィンオキシド ビス（2,6−ジクロル−3,4,5−トリメトキシベンゾイ
ル）−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキシド ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−フェニルホス
フィンオキシド ビス（２−メチル−１−ナフトイル）−４−ビスフェ
ニリルホスフィンオキシド ビス（２−メトキシ−１−ナフトイル）−2,5−ジメ
チルフェニルホスフィンオキシド ビス（２−メトキシ−１−ナフトイル）−４−エトキ
シフェニルホスフィンオキシド 本発明記録媒体は式（Ｉ）のビスアシルホスフィンオ
キシドを唯１種類の光重合開始剤として，一般に光重合
可能の記録媒体全量に対し0.005乃至10重量％，ことに
0.05乃至５重量％含有することができるけれども，この
ビスアシルホスフィンオキシドと従来公知の他の開始剤
と合併して使用することも可能である。このような公知
の開始剤として適当であるのは，ケトンタイプのもので
あって，例えばベンジルジメチルケタール，α−メチロ
ールベンゾインエチルエーテル，ジエトキシアセトフェ
ノン，α−メチロールベンゾインエチルエーテル，ベン
ゾインメチルエーテル，ベンゾインイソプロピルエーテ
ルなどである。
記録媒体に式（Ｉ）のビスアシルホスフィンオキシド
と共に３級アミン，例えばメチルジエタノールアミン，
ジメチルエタノールアミン，トリエタノールアミン,p−
ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル或はp,p′−ジ
アルキルアミノ置換ベンゾフェノン，例えばミヒラーケ
トンを使用するのがしばしば有利である。開始剤系全体
（すなわち禁止剤とアミン）の合計量割合は，光重合性
記録媒体全体量に対して0.05乃至15重量％であって，こ
の場合アミン量は開始剤系全体量の少くとも半分量であ
るのが好ましい。
と共に３級アミン，例えばメチルジエタノールアミン，
ジメチルエタノールアミン，トリエタノールアミン,p−
ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル或はp,p′−ジ
アルキルアミノ置換ベンゾフェノン，例えばミヒラーケ
トンを使用するのがしばしば有利である。開始剤系全体
（すなわち禁止剤とアミン）の合計量割合は，光重合性
記録媒体全体量に対して0.05乃至15重量％であって，こ
の場合アミン量は開始剤系全体量の少くとも半分量であ
るのが好ましい。
本発明記録媒体の構成主体をなす（ａ）及び（ｂ）の
混合物は，少くとも１個の光重合性オレフィン系不飽和
二重結合を有する低分子化合物として，選択される重合
体結合剤と併存して混合物を形成することができ，常圧
下100℃以下の沸点を有する限り，この種の記録材料に
慣用されている公知のモノマーを含有することができ
る。このような低分子化合物は，一般に2000以下の，こ
とに1000以下の分子量を有する。ことに好ましいのは少
くとも２個以上のオレフィン系不飽和光重合性二重結合
を有する単量体１種類か，或は１個のオレフィン系不飽
和光重合性二重結合を有する単量体との混合物であっ
て,1個の二重結合を有する単量体の単量体混合物全体に
対する量割合が約５乃至50重量％，好ましくは５乃至30
重量％のものである。使用される単量体の種類は，共に
使用される重合結合剤の種類に応じて広般に左右され
る。例えばジオール或はポリオールとアクリル酸或はメ
タクリル酸とのエステル化反応により製造され得る２官
能性乃至多官能性のアクリラート，メタクリラート，例
えばエチレングリコール，ジエチレングリコール，トリ
エチレングリコール，分子量500までのポリエチレング
リコール,1,2−プロパンジオール,1,3−プロパンジオー
ル，ネオペンチルグリコール，（2,2−ジメチルプロパ
ンジオール）,1,4−ブタンジオール,1,1,1−トリメチロ
ールプロパン，グリセリン或はペンタエリトリットのジ
乃至トリ（メタ）アクリラート，更に上述のジオール，
ポリオールのモノアクリラート，モノメタクリラート，
例えばエチレングリコール，ジエチレングリコール，ト
リエチレングリコール，テトラエチレングリコールのモ
ノアクリラート，ウレタン基及び／或はアミド基を有す
る,2個或はそれ以上のオレフィン系不飽和二重結合を有
する単量体，例えば上述した種類の脂肪族ジオール，有
機ジイソシアナート及びヒドロキシルアルキル（メタ）
アクリラートから製造される低分子量化合物，モノ，ジ
或はポリエポキシド化合物とアクリル酸，メタクリル酸
或はヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミドとの反
応生成物，グリシジル（メタ）アクリラートと上述した
種類のアルコール或は多価アルコールとの反応生成物な
どが挙げられる。またアクリル酸，メタクリル酸ならび
にその誘導体，例えば（メタ）アクリルアミド,N−ヒド
ロキシメチル（メタ）アクリルアミド或は１乃至６個の
炭素原子を有する（メタ）アクリラートも挙げられる。
また上述した低分子量化合物の混合物も適当である。
混合物は，少くとも１個の光重合性オレフィン系不飽和
二重結合を有する低分子化合物として，選択される重合
体結合剤と併存して混合物を形成することができ，常圧
下100℃以下の沸点を有する限り，この種の記録材料に
慣用されている公知のモノマーを含有することができ
る。このような低分子化合物は，一般に2000以下の，こ
とに1000以下の分子量を有する。ことに好ましいのは少
くとも２個以上のオレフィン系不飽和光重合性二重結合
を有する単量体１種類か，或は１個のオレフィン系不飽
和光重合性二重結合を有する単量体との混合物であっ
て,1個の二重結合を有する単量体の単量体混合物全体に
対する量割合が約５乃至50重量％，好ましくは５乃至30
重量％のものである。使用される単量体の種類は，共に
使用される重合結合剤の種類に応じて広般に左右され
る。例えばジオール或はポリオールとアクリル酸或はメ
タクリル酸とのエステル化反応により製造され得る２官
能性乃至多官能性のアクリラート，メタクリラート，例
えばエチレングリコール，ジエチレングリコール，トリ
エチレングリコール，分子量500までのポリエチレング
リコール,1,2−プロパンジオール,1,3−プロパンジオー
ル，ネオペンチルグリコール，（2,2−ジメチルプロパ
ンジオール）,1,4−ブタンジオール,1,1,1−トリメチロ
ールプロパン，グリセリン或はペンタエリトリットのジ
乃至トリ（メタ）アクリラート，更に上述のジオール，
ポリオールのモノアクリラート，モノメタクリラート，
例えばエチレングリコール，ジエチレングリコール，ト
リエチレングリコール，テトラエチレングリコールのモ
ノアクリラート，ウレタン基及び／或はアミド基を有す
る,2個或はそれ以上のオレフィン系不飽和二重結合を有
する単量体，例えば上述した種類の脂肪族ジオール，有
機ジイソシアナート及びヒドロキシルアルキル（メタ）
アクリラートから製造される低分子量化合物，モノ，ジ
或はポリエポキシド化合物とアクリル酸，メタクリル酸
或はヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミドとの反
応生成物，グリシジル（メタ）アクリラートと上述した
種類のアルコール或は多価アルコールとの反応生成物な
どが挙げられる。またアクリル酸，メタクリル酸ならび
にその誘導体，例えば（メタ）アクリルアミド,N−ヒド
ロキシメチル（メタ）アクリルアミド或は１乃至６個の
炭素原子を有する（メタ）アクリラートも挙げられる。
また上述した低分子量化合物の混合物も適当である。
更にまたアクリルアミドの誘導体，例えば２モルのＮ
−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミドと１モルの
脂肪族ジオール，例えばエチレングリコール，キシレン
ビスアクリルアミド或はアルキル基に１乃至８個の炭素
原子を有するアルキレンビスアクリルアミドとの反応生
成物も併用することができる。水或はアルカリ水溶液で
現像し得る記録媒体製造のため，例えばポリビニルアル
コール，ポリビニルアルコールのアルコキシル化生成
物，ポリビニルピロリドン或は側鎖中にカルボキシル基
を有するアクリラートエラストマーを重合体結合剤とし
て使用する印刷版体製造のためには，ことに水溶性単量
体，例えば分子量200乃至500のポリエチレングリコール
のヒドロキシエチル（メタ）アクリラート或はモノ及び
ジ（メタ）アクリラートが適当である。
−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミドと１モルの
脂肪族ジオール，例えばエチレングリコール，キシレン
ビスアクリルアミド或はアルキル基に１乃至８個の炭素
原子を有するアルキレンビスアクリルアミドとの反応生
成物も併用することができる。水或はアルカリ水溶液で
現像し得る記録媒体製造のため，例えばポリビニルアル
コール，ポリビニルアルコールのアルコキシル化生成
物，ポリビニルピロリドン或は側鎖中にカルボキシル基
を有するアクリラートエラストマーを重合体結合剤とし
て使用する印刷版体製造のためには，ことに水溶性単量
体，例えば分子量200乃至500のポリエチレングリコール
のヒドロキシエチル（メタ）アクリラート或はモノ及び
ジ（メタ）アクリラートが適当である。
ことに印刷版体，レリーフ版体製造のための，水或は
アルカリ水溶液により現像可能の光重合性記録媒体製造
用の混合物の有機重合体結合剤組成分（ｂ）としては，
このために慣用されている公知の重合体が使用されるが
この場合該重合体は共に使用される低分子量化合物
（ａ）と一般的に併用可能のものでなければならず，ま
た当業者に自明のことではあるが，画像形成露光後，光
重合性記録媒体の非露光，非架橋層部分を洗除し得るよ
うにするため，使用される現像液に可溶性であり或はこ
れに分散可能であることが必要である。適当な飽和或は
不飽和結合剤としては，セルロース誘導体，ことにアル
カリ水溶液で洗除可能のセルロース誘導体，ビニルアル
コール重合体，種々の鹸化度を有する炭素原子１乃至４
個の脂肪族モノカルボン酸ビニルエステルの単独重合体
乃至共重合体，ポリエーテルウレタン及びポリエステル
ウレタンが挙げられる。不飽和の，場合により飽和の２
塩基性，場合により多塩基性のカルボン酸と,2塩基性，
場合により多塩基性のポリアルコールとの反応により製
造される直鎖性乃至分枝性ホリエステルのうち，比較的
高い酸価，ことに75乃至160の酸価を有するものが好ま
しい。水性アルカリ現像溶媒によく溶解し或は分散し得
るからである。カルボキシル基含有の不飽和ポリエステ
ル樹脂の構成及び製造に関しては，一般的文献，例えば
1964年アムステルダム刊,H,V,ボーニング（Boening）の
「不飽和ポリエステル，その構造及び特性」（Unsatura
ted Polyesters,Structure and Properties）を参照さ
れたい。
アルカリ水溶液により現像可能の光重合性記録媒体製造
用の混合物の有機重合体結合剤組成分（ｂ）としては，
このために慣用されている公知の重合体が使用されるが
この場合該重合体は共に使用される低分子量化合物
（ａ）と一般的に併用可能のものでなければならず，ま
た当業者に自明のことではあるが，画像形成露光後，光
重合性記録媒体の非露光，非架橋層部分を洗除し得るよ
うにするため，使用される現像液に可溶性であり或はこ
れに分散可能であることが必要である。適当な飽和或は
不飽和結合剤としては，セルロース誘導体，ことにアル
カリ水溶液で洗除可能のセルロース誘導体，ビニルアル
コール重合体，種々の鹸化度を有する炭素原子１乃至４
個の脂肪族モノカルボン酸ビニルエステルの単独重合体
乃至共重合体，ポリエーテルウレタン及びポリエステル
ウレタンが挙げられる。不飽和の，場合により飽和の２
塩基性，場合により多塩基性のカルボン酸と,2塩基性，
場合により多塩基性のポリアルコールとの反応により製
造される直鎖性乃至分枝性ホリエステルのうち，比較的
高い酸価，ことに75乃至160の酸価を有するものが好ま
しい。水性アルカリ現像溶媒によく溶解し或は分散し得
るからである。カルボキシル基含有の不飽和ポリエステ
ル樹脂の構成及び製造に関しては，一般的文献，例えば
1964年アムステルダム刊,H,V,ボーニング（Boening）の
「不飽和ポリエステル，その構造及び特性」（Unsatura
ted Polyesters,Structure and Properties）を参照さ
れたい。
更に側鎖カルボキシル基を有するアクリラートエラス
トマー，例えばエチレン/n−ブチルアクリラート／アク
リル酸共重合体ならびに西独特許出願P3540905.9,P3543
646,8及びP3602472.4号に詳記されている結合剤が特に
適当である。
トマー，例えばエチレン/n−ブチルアクリラート／アク
リル酸共重合体ならびに西独特許出願P3540905.9,P3543
646,8及びP3602472.4号に詳記されている結合剤が特に
適当である。
本発明記録媒体は，光重合開始剤を含有する（ａ）及
び（ｂ）の混合物を主体として，すなわち50重量％以
上，ことに70乃至100重量％含有する。この混合物中の
重合体結合剤（ｂ）の含有量は，この重合体（ｂ）及び
光重合性低分子量化合物（ａ）の合計量に対して，一般
に45乃至90重量％，ことに45乃至65重量％である。
び（ｂ）の混合物を主体として，すなわち50重量％以
上，ことに70乃至100重量％含有する。この混合物中の
重合体結合剤（ｂ）の含有量は，この重合体（ｂ）及び
光重合性低分子量化合物（ａ）の合計量に対して，一般
に45乃至90重量％，ことに45乃至65重量％である。
なお光重合性記録媒体は，慣用量の公知の対熱重合禁
止剤，例えばヒドロキノン,p−メトキシフェノール,m−
ジニトロベンゼン,p−キノン，メチレンブルー，β−ナ
フトール,N−ヒドロソジフェニルアミンのようなＮ−ニ
ドロソアミン，フェノチアジン，トリフェニルホスファ
イトのような亜燐酸エステル或はＮ−ニトロソ−シクロ
ヘキシル−ヒドロキシルアミンの塩，ことにアルカリ
塩，アルミニウム塩を含有することができる。
止剤，例えばヒドロキノン,p−メトキシフェノール,m−
ジニトロベンゼン,p−キノン，メチレンブルー，β−ナ
フトール,N−ヒドロソジフェニルアミンのようなＮ−ニ
ドロソアミン，フェノチアジン，トリフェニルホスファ
イトのような亜燐酸エステル或はＮ−ニトロソ−シクロ
ヘキシル−ヒドロキシルアミンの塩，ことにアルカリ
塩，アルミニウム塩を含有することができる。
記録媒体は更に他の慣用の添加剤，例えば可塑剤，ア
ミド基含有飽和低分子量化合物，ワックスなどを含有す
ることができる。
ミド基含有飽和低分子量化合物，ワックスなどを含有す
ることができる。
この光重合性記録媒体の加工，例えばレリーフ版とし
て記録媒体層を形成した感光性樹脂印刷版体の作成は，
それ自体公知の方法で，混合物（ａ）＋（ｂ）の種類に
応じ，材料が液体であるか固体であるかに応じて行われ
る。記録媒体の処理（例えばレリーフ版作成のため）
は，光重合開始剤の吸収領域，一般的に300nm乃至500nm
領域に極大放射線量を有する，換言すればこの波長領域
に十分な線量を有する，化学線乃至超化学線螢光管，場
合によりドーピング処理された低圧，中圧，高圧水銀
燈，キセノンランプなどの光源からの化学線により公知
の方法で画像形成露光して行われる。この画像形成露光
後，レリーフ版乃至フォトレジスト作成のため，記録媒
体層の非露光部分を純水乃至／％苛性ソーダ水溶液の如
きアルカリ水溶液で洗除し，形成された版，例えばレリ
ーフ印刷版を乾燥し，多くの場合更に全面後露光処理す
る。
て記録媒体層を形成した感光性樹脂印刷版体の作成は，
それ自体公知の方法で，混合物（ａ）＋（ｂ）の種類に
応じ，材料が液体であるか固体であるかに応じて行われ
る。記録媒体の処理（例えばレリーフ版作成のため）
は，光重合開始剤の吸収領域，一般的に300nm乃至500nm
領域に極大放射線量を有する，換言すればこの波長領域
に十分な線量を有する，化学線乃至超化学線螢光管，場
合によりドーピング処理された低圧，中圧，高圧水銀
燈，キセノンランプなどの光源からの化学線により公知
の方法で画像形成露光して行われる。この画像形成露光
後，レリーフ版乃至フォトレジスト作成のため，記録媒
体層の非露光部分を純水乃至／％苛性ソーダ水溶液の如
きアルカリ水溶液で洗除し，形成された版，例えばレリ
ーフ印刷版を乾燥し，多くの場合更に全面後露光処理す
る。
本発明による光重合性記録媒体は，露光に際し強い反
応活性を示し，露光された層部分の迅速な硬化をもたら
す。しかるにもかからわずこの記録媒体が秀れた貯蔵安
定性を示すのは驚くべきことである。更に有利な点は，
この新しい記録媒体において予備露光時間を正確に制御
することができ，全露光時間を著しく短縮し得ることで
ある。
応活性を示し，露光された層部分の迅速な硬化をもたら
す。しかるにもかからわずこの記録媒体が秀れた貯蔵安
定性を示すのは驚くべきことである。更に有利な点は，
この新しい記録媒体において予備露光時間を正確に制御
することができ，全露光時間を著しく短縮し得ることで
ある。
以下の実施例及び対比実験例において使用される部及
び百分率は，特に明記しない限りすべて重量に関するも
のである。部はリットル当りキログラムのように容量部
に比例する。
び百分率は，特に明記しない限りすべて重量に関するも
のである。部はリットル当りキログラムのように容量部
に比例する。
実施例１ 57.8％のエチレン,24％のｎ−ブチルアクリラート及
び18.2％のアクリル酸から成る共重合体（メルトフロー
インデックスMFI:250）73％，フタル酸ジ（２−エチル
ヘキシル）エステル20％，ブタンジオールジアクリラー
ト5.5％,t−ブチルクレゾール0.2％，光重合開始剤とし
てトルエン50％，ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル50％の80℃混合溶媒に溶解させた48％溶液としてのビ
ス〔2,6−ジクロルベンゾイル〕フェニルホスフィンオ
キシド1.3％から光重合性混合物を製造した。この混合
物を接着剤層を形成した厚さ0.24mmのスチール薄板上に
成層して，溶媒を蒸散させ上記湿潤層を85℃で２時間乾
燥して乾燥層厚さが0.380mmとなるようにした。
び18.2％のアクリル酸から成る共重合体（メルトフロー
インデックスMFI:250）73％，フタル酸ジ（２−エチル
ヘキシル）エステル20％，ブタンジオールジアクリラー
ト5.5％,t−ブチルクレゾール0.2％，光重合開始剤とし
てトルエン50％，ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル50％の80℃混合溶媒に溶解させた48％溶液としてのビ
ス〔2,6−ジクロルベンゾイル〕フェニルホスフィンオ
キシド1.3％から光重合性混合物を製造した。この混合
物を接着剤層を形成した厚さ0.24mmのスチール薄板上に
成層して，溶媒を蒸散させ上記湿潤層を85℃で２時間乾
燥して乾燥層厚さが0.380mmとなるようにした。
この層を慣用の方法ですべての印刷必要条件を備えた
ネガチブを経て，市販の5KW水銀蒸気中圧燈により露光
処理した。この露光時間は後の洗除処理（約１％の苛性
ソーダ水溶液）によりあらゆるレリーフ要素が正確に形
成されるように選定された。このために必要な最少露光
時間は2.5分である。ミクロ硬さ試験（国際ゴム硬度単
位）（International Rubber Hardness Degree Unit）
での結果は83 I.R.H.D.であった。
ネガチブを経て，市販の5KW水銀蒸気中圧燈により露光
処理した。この露光時間は後の洗除処理（約１％の苛性
ソーダ水溶液）によりあらゆるレリーフ要素が正確に形
成されるように選定された。このために必要な最少露光
時間は2.5分である。ミクロ硬さ試験（国際ゴム硬度単
位）（International Rubber Hardness Degree Unit）
での結果は83 I.R.H.D.であった。
同様の結果は，ビス〔2,6−ジクロルベンゾイル〕−
フェニルホスフィンオキシドの代りにビス〔2,6−ジメ
トキシベンゾイル〕−フェニルホスフィンオキシドを使
用して達成された。
フェニルホスフィンオキシドの代りにビス〔2,6−ジメ
トキシベンゾイル〕−フェニルホスフィンオキシドを使
用して達成された。
対比実験例１ 実施例１におけるようにして，ただしビス（2,6−ジ
クロルベンゾイル〕フェニルホスフィンオキシドの代り
に2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィン
オキシドを使用して処理した。この場合の必要最小限度
露光時間は3.75分であった。ミクロ硬度は74 I.R.H.D.
であった。
クロルベンゾイル〕フェニルホスフィンオキシドの代り
に2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィン
オキシドを使用して処理した。この場合の必要最小限度
露光時間は3.75分であった。ミクロ硬度は74 I.R.H.D.
であった。
実施例２ 500部の水を85乃至90℃に加熱し，この温度において
均斉に撹拌（200r.p.m.）しつつ，平均鹸化度81％，平
均分子量約25,000の部分鹸化ポリビニルアセタート347
部と，平均アセタール化率14％，平均分子量約22,000
の，主鎖におけるポリエチレンオキシド部分で固有軟化
されたポリビニルアルコール149部を添加した。５時間
にわたる撹拌後,60℃に冷却した。この温度で，β−ヒ
ドロキシエチルメタクリラート420部と、ビス〔2,6−ジ
クロルベンゾイル〕フェニルホスフィンオキシド６部と
の混合物を添加した。この混合物を均質化した後，これ
をスチール支持基板上に乾燥層厚さが0.5mmとなるよう
に成層した。この光重合性層を処理して，慣用条件下に
印刷用諸要件を具備するレリーフ版を形成するため最少
限露光時間内18秒を必要とするに過ぎなかった。該層の
硬度は,5KW水銀燈で露光し，水で現像し，乾燥（80℃で
15分間）した後，約2050p・mm-2（ブリネルによる鋼球
押込み硬さ試験）であった。
均斉に撹拌（200r.p.m.）しつつ，平均鹸化度81％，平
均分子量約25,000の部分鹸化ポリビニルアセタート347
部と，平均アセタール化率14％，平均分子量約22,000
の，主鎖におけるポリエチレンオキシド部分で固有軟化
されたポリビニルアルコール149部を添加した。５時間
にわたる撹拌後,60℃に冷却した。この温度で，β−ヒ
ドロキシエチルメタクリラート420部と、ビス〔2,6−ジ
クロルベンゾイル〕フェニルホスフィンオキシド６部と
の混合物を添加した。この混合物を均質化した後，これ
をスチール支持基板上に乾燥層厚さが0.5mmとなるよう
に成層した。この光重合性層を処理して，慣用条件下に
印刷用諸要件を具備するレリーフ版を形成するため最少
限露光時間内18秒を必要とするに過ぎなかった。該層の
硬度は,5KW水銀燈で露光し，水で現像し，乾燥（80℃で
15分間）した後，約2050p・mm-2（ブリネルによる鋼球
押込み硬さ試験）であった。
対比実験例２ 実施例２と同様にして，ただしビス〔2,6−ジクロル
ベンゾイル〕フェニルホスフィンオキシドの代りに2,4,
6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ドを使用して処理した。必要最少限度の露光時間は26秒
間であった。露光，現像，乾燥後の硬度は1650p・mm-2
であった。
ベンゾイル〕フェニルホスフィンオキシドの代りに2,4,
6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ドを使用して処理した。必要最少限度の露光時間は26秒
間であった。露光，現像，乾燥後の硬度は1650p・mm-2
であった。
実施例３ 部分鹸化したポリビニルアセタート（鹸化率82モル
％，平均重合度500）294部を,90℃において数時間にわ
たる撹拌下に,294部の水に溶解させた。70℃に冷却後,1
80部の２−ヒドロキシエチルメタクリラート及び20部の
1,1,1−トリメチロールプロパントリアクリラートの混
合物200部と，ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）フェニ
ルホスフィンオキシド10部と,2,6−ジ−第３ブチル−ｐ
−クレゾール２部とを添加した。得られた均質粘稠溶液
を濾過し，減圧下に蒸散させた。残渣を，接着剤層を設
けたスチール支持基板上に成層し，室温において24時間
乾燥させて,550μｍ厚さの記録媒体非粘着層を得た。鉄
分ドーピングした中圧水銀燈（5KW）を備えた印刷版体
露光装置により,3秒間予備露光し,30秒間ネガチブ透過
画像形成露光した後，噴射洗浄装置により水で洗浄し,1
00℃で乾燥して，良好なレリーフ構造及び秀れた機械的
特性を有する凸版版体を得た。これにより全く品質の低
下を来すことなく数千回の印刷を行うことができた。レ
リーフ印刷版体は，印刷試験において，新聞における要
求を十分に充足する良好に形成されたネガチブ印字をも
たらした。
％，平均重合度500）294部を,90℃において数時間にわ
たる撹拌下に,294部の水に溶解させた。70℃に冷却後,1
80部の２−ヒドロキシエチルメタクリラート及び20部の
1,1,1−トリメチロールプロパントリアクリラートの混
合物200部と，ビス（2,6−ジクロルベンゾイル）フェニ
ルホスフィンオキシド10部と,2,6−ジ−第３ブチル−ｐ
−クレゾール２部とを添加した。得られた均質粘稠溶液
を濾過し，減圧下に蒸散させた。残渣を，接着剤層を設
けたスチール支持基板上に成層し，室温において24時間
乾燥させて,550μｍ厚さの記録媒体非粘着層を得た。鉄
分ドーピングした中圧水銀燈（5KW）を備えた印刷版体
露光装置により,3秒間予備露光し,30秒間ネガチブ透過
画像形成露光した後，噴射洗浄装置により水で洗浄し,1
00℃で乾燥して，良好なレリーフ構造及び秀れた機械的
特性を有する凸版版体を得た。これにより全く品質の低
下を来すことなく数千回の印刷を行うことができた。レ
リーフ印刷版体は，印刷試験において，新聞における要
求を十分に充足する良好に形成されたネガチブ印字をも
たらした。
対比実験例３ 実施例３に記載されたようにして，ただし光重合開始
剤として同量の2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニ
ルホスフィンオキシドを使用して製造された記録媒体か
ら印刷版体を作成した。それぞれ同量の開始剤を使用し
た記録媒体の必要露光時間は以下の通りであった。
剤として同量の2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニ
ルホスフィンオキシドを使用して製造された記録媒体か
ら印刷版体を作成した。それぞれ同量の開始剤を使用し
た記録媒体の必要露光時間は以下の通りであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭55−15471（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−130296（ＪＰ，Ａ) 特開 昭52−134693（ＪＰ，Ａ)
Claims (6)
- 【請求項１】（ａ）少なくとも１個の光重合可能オレフ
ィン系不飽和二重結合を有する少なくとも１種類の低分
子化合物と、（ｂ）少なくとも１種類の有機重合体結合
剤とから成り、光重合開始剤を含有する混合物を主体と
する、ことに印刷版体、レリーフ版体製造用の光重合可
能記録媒体において、上記光重合開始剤として、式
（Ｉ） （式中、R1は１乃至６個の炭素原子を有するアルキル残
基、５もしくは６個の環炭素原子を有するシクロアルキ
ル残基、場合によりハロゲン、アルキルもしくはアルコ
キシで置換されたアリール残基、或るいはＳもしくはＮ
を含有する５員もしくは６員の複素環式残基を意味し、
R2及びR3は同じ或いは異なるアシル残基であって、その
カルボニル基に４乃至18個の炭素原子を有する３級アル
キル基、５もしくは６個の環炭素原子を有する３級シク
ロアルキル残基、アリール残基或いは５員もしくは６員
の複素環式残基が結合されており、上記アリール残基或
いは５員もしくは６員の複素環式残基が少なくとも、カ
ルボニル基に対する二つのオルト位置において結合した
置換基Ａ及びＢを含有し、 このＡ及びＢがアルキル基、アルコキシ基、アルコキシ
アルキル基、アルキルチオ基、シクロアルキル基、アリ
ール基或いはハロゲン原子であって、互いに同じもの或
いは異なるものを意味しもよい）で表されるビスアシル
ホスフィンオキシド化合物を含有することを特徴とする
記録媒体。 - 【請求項２】特許請求の範囲（１）による光重合可能記
録媒体において、Ｒ′が置換されない６乃至12個の炭素
原子を有するアリール残基或いは１乃至４個の炭素原子
を有するアルコキシ残基で置換された６乃至12個の炭素
原子を有するアリール残基を意味する上記式（Ｉ）のビ
スアシルホスフィンオキシド化合物を含有することを特
徴とする記録媒体。 - 【請求項３】特許請求の範囲（１）或いは（２）による
光重合可能記録媒体において、R2及びR3がアシル残基で
あって、そのカルボニル基に４乃至18個の炭素原子を有
する３級アルキル残基或いは５もしくは６個の環炭素原
子を有する３級シクロアルキル残基を意味する、上記式
（Ｉ）のビスシクロホスフィンオキシド化合物を含有す
ることを特徴とする記録媒体。 - 【請求項４】特許請求の範囲（１）或いは（２）による
光重合可能記録媒体において、R2及びR3が共に同じであ
って少なくとも2,6位置において基Ａ及びＢにより置換
されているベンゾイル基である、上記式（Ｉ）の化合物
を含有することを特徴とする記録媒体。 - 【請求項５】特許請求の範囲（１）乃至（４）の何れか
による光重合可能記録媒体において、３級アミンを含有
することを特徴とする記録媒体。 - 【請求項６】特許請求の範囲（１）乃至（５）の何れか
による光重合可能記録媒体において、上記有機重合体結
合剤として、側鎖カルボキシル基を有するアクリラート
エラストマー或いは分子主鎖に反覆ビニルアルコール基
を有する重合体を含有することを特徴とする記録媒体。
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