JPH02226149A - 光重合性化合物、それを含む光重合性混合物及びそれから製造された光重合性複写材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は新規光重合性化合物、該化合物を含む光重合性
混合物、及び被覆ベースとその混合物により構成される
光重合性被覆よりなる光重合性複写材料に関する。

〔発明の背景〕

ＤＥ−Ｃ−２，０２７，４６７号明細書は、重合性バイ
ンダー、重合性化合物及び光開始剤としてのアクリジン
及びフェナジン誘導体を含む光重合性混合物を開示する
。この種の化合物の代表例の幾つか、例えば９−フェニ
ルアクリジンは高光感度が顕著である。これらの好まし
い代表例は、それらが光重合性被覆から、特に特別の処
理浴例えば酸性電気メツキ浴内の光硬化フォトレジスト
被覆から移行してそれに厄介な黄色着色を生ずる傾向を
示す欠点を有している。

ＥＰ−Ａ−１１，７８６号及び２２０．５８９号各明細
書は光開始剤としである種のキノロン誘導体を含む対応
する混合物を開示する。これらの上記混合物と同様に感
光性である混合物も又同−の欠点を有する。

光硬化された状態において、公知の光重合性材料はある
種の目的に対して不適切な機械的強度及び硬度を有する
。これは特に、フォトレジストマスクとしての、パーマ
ネントレジストとしての及びリソグラフィー印刷版とじ
ての応用において該当する。

〔発明の概要〕

本発明の目的は好ましい公知の混合物と同様な良好な光
感度及び像再現性を有する複写材料をもたらすが、しか
しその中の光開始剤が光重合性或いは光重合被覆から移
行する傾向がより少なく及び光硬化被覆がより高い機械
的耐性及び強度を有する光重合性化合物及び混合物を利
用可能にすることである。

本発明に従えば、下記一般式（Ｉ）の化合物が提案され
る： 〔式中、 Ｒ１は次式の基であり： 及び Ｒ２は水素原子或いはメチル基であり、或いはＲ１及び
Ｒ２は、−緒に、任意に置換された５−又は６員炭素環
を形成し、 Ｒ３は水素原子、メチル基或いは任意に置換されたフェ
ニル基であり、 Ｒ４は水素原子、メチル基、任意に置換されたベンゾイ
ル基或いは次式の基であり： ｎはゼロ又は１であり、 Ｘは水素又は塩素原子、１〜４個の炭素原子を含むアル
キル基或いはＯＡ、ＣＨ２０Ａ。

ＣＨＮＨＡ又はＣ２Ｈ４０Ａ基の一つであり、ここに複
数のＸは同−或いは相互に異り、及び Ａはアクリロイル又はメタクリロイル基であり、この化
合物は少なくとも１個のＡ基を含有する。〕本発明に従
えば、必須構成成分として、ａ）　重合体バインダー ｂ）　少なくとも１個の末端オレフィン性二重結合及び
常圧において１００℃を越える沸点を有する重合性化合
物、及び Ｃ）　光開始剤としてのＮ−異項環化合物、を含有する
光重合性混合物が更に提案される。

本発明に従う混合物はＮ−異項環化合物が上記一般式Ｉ
の化合物であるものである。

最後に、本発明に従えば、被覆ベースとそれに被覆され
た上記光重合性混合物により構成される光重合性被覆を
有する光重合性複写材料が提案される。

本発明による化合物は新規である。それらは、それらに
基くヒドロキシル化合物をアクリル酸及びメタクリル酸
の活性化誘導体、例えば無水物或いは塩化物でエステル
化することにより製造される。これらのヒドロキシル化
合物のある種のものは公知であり、それらの成るものは
公知方法と同様にして製造される。９−（４−ヒドロキ
シ）アクリジンは公知であり、２−（４−ヒドロキシス
チリル）キノリンは例えば無水酢酸中で１モルのキナル
ジンと１モルの４−ヒドロキシベンズアルデヒドを数滴
の濃硫酸を添加して縮合させることにより反応させて２
−（４−アセトキシスチリル）キノリンを形成すること
ができる。これから、アルコール性水酸化カリウム溶液
を用いる加水分解により遊離ヒドロキシ化合物が得られ
る。キナルジンの代りに活性化メチレン基を含むその他
のキノリン誘導体、例えば９−フェニル−２，３−ジヒ
ドロ−ＩＨ−シクロペンタン（ｂ）キノリンを用いても
よい。この場合には、得られる中間体は３−（４−アセ
トキシベンジリデン）−９−フェニル−２，３−ジヒド
ロ−ＩＨ−シクロペンタン〔ｂ〕キノリンであり、それ
を次いで・加水分解することができる。この化合物及び
その他の適当な化合物はＥＰ−Ａ−２２０，５８９号明
細書に記載されている。ｐ−ヒドロキシベンズアルデヒ
ド或いはｐ−ヒドロキシシンナムアルデヒドの代りに対
応する芳香族ジヒドロキシ化合物が用いられてよい。

Ｒ１及びＲ２がベンゼン環を形成する一般式Ｉの化合物
はジフェニルアミン或いはその単純な置換生成物例えば
３−メチルジフェニルアミン或いはクロロジフェニルア
ミンと、安息香酸或いは単純な安息香酸誘導体例えばｔ
ｅｒｔ−ブチル安息香酸、ベンゾフェノン−４−カルボ
ン酸、ジフェニル−４−カルボン酸、４−アミノメチル
安息香酸或いはテレフタル酸とを適当な反応媒体例えば
リン酸中において約１５０〜２００℃において縮合させ
ることにより２．７−ジベンゾイル−９−フェニルアク
リジンを形成して製造される。

次いで任意に置換されたベンゾイル基のカルボニル基を
例えばボラン酸ナトリウムで還元して−ＣＨ０Ｈ−基に
する。

本発明による化合物の中では、Ｒ及びＲ２が結合して芳
香族であるか部分水添されているものでよい環、好まし
くはベンゼン環を形成するものが好ましい。

Ｒ３は特に１個以上の置換基Ｘを有するフェニル基が好
ましい。置換基は好ましくは４−位にあるのがよい。

Ｒ１及びＲ２が一緒にベンゼン環を示す場合には、後者
は特にそれで形成されているアクリジン核の２−位にお
いて置換されているのが好ましい。可能性のある置換基
は特にＲ４の意味を有するものである。２−及び７−位
がそのような置換基を有するアクリジン化合物は、同時
出願された特許出願Ｐ３，８４３，２０４゜８　（Ｈｏ
ｅ８８／ＫＯ３９）に記載されティる化合物と同様に強
く減少された拡散能力を有するので特に有利である。本
発明による化合物は１個以上、通常１〜３のアクリロイ
ル又はメタクリロイル基を有し、２（１１の重合性基を
有する化合物はそれらの架橋作用により特に有利である
。

本発明による適当な化合物の具体例としては、２−［４
−（４−アクリロイルオキシフェニル）ブタジェニル〕
キノリン、３−　（３，４−ビスアクリロイルオキベン
ジリデン）−９−メチル−２，３−ジヒドロ−ＩＨ−シ
クロペンタ（ｂ）キノリン、３−　（２，４−ビス−メ
タクリロイルオキシベンジリデン）−７−クロロ−９−
（２−クロロフェニル）−２，３−ジヒドロ−ＩＨ−シ
クロペンタ（ｂ）キノリン、２，７−シメチルー９−（
４−アクリロイルアミノメチルフェニル）アクリジン、
２．７−ビス（α−メタクリロイルオキシ−４−ｉｅｒ
ｔ−ブチルベンジル）　−９−（４−ｔｅｒｔ−ブチル
フェニル）アクリジン、２，７−ビス（４−アクリロイ
ルオキシメチルベンゾイル）−９−（４−アクリロイル
オキシメチルフェニル）アクリジン、９−（４−メタク
リロイルオキシエチルフェニル）アクリジン及び２．７
−ビス（α−メタクリロイルオキシベンジル）−９−フ
ェニルアクリジン、が挙げられる。

本発明による混合物中の化合物の量的比率は非揮発性成
分に基づき通常の０．０１〜１０重量％、好ましくは０
．１〜５重量％である。

本発明の目的のために適した重合性化合物は公知であり
、例えばＵＳ−Ａ−２，７６０，８６３号及び３゜０６
０．０２３号各明細書に記載されている。

好ましい具体例は、−価或いは多価、好ましくは少なく
とも二価のアルコール類のアクリレート類及びメタクリ
レート類、例えばエチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、トリメチロ
ールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリ
トール及びジペンタエリスリトール及び多価脂環式アル
コール類のアクリレート類及びメタクリレート類或いは
Ｎ−置換アクリル及びメタアクリル酸アミド類である。

モノ或いはジイソシアネート類と多価アルコール類の部
分エステル類との反応生成物も又有利に用いられる。こ
のタイプの単量体はＤＥ−Ａ−２，０６４，０７９号、
２，３６１，０４１号及び２．８２２，１９０号各明細
書に記載されている。被覆中の単量体の量的比率は通常
約１０〜８０重量％、好ましくは２０〜６０重量％であ
る。

加えて、この混合物は又重合体バインダーを含有する。

数多くの可溶性有機重合体をバインダーとして使用する
ことができる。

具体例としては、ポリアミド類、ポリビニルエステル類
、ポリビニルアセタール類、ポリビニルエーテル類、エ
ポキシ樹脂類、ポリアクリル酸エステル類、ポリメタク
リル酸エステル類、ポリエステル類、アルキッド樹脂類
、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリジメチルアクリルアミド、ポリビ
ニルピロリドン、ポリビニルメチルホルムアミド、ポリ
ビニルメチルアセタミド及び又掲記した単独重合体を形
成する単量体の共重合体が挙げられる。

更に、天然物質或いは変成天然物質、例えばゼラチン及
びセルロースエーテルがバインダーとして可能である。

水不溶性であるが、しかしアルカリ水溶液に可溶性であ
るが少なくとも膨潤性であるバインダーの使用はそのよ
うなバインダーを含有する被覆が好ましい水性アルカリ
性現像液で現像することができるので特に有利である。

そのようなバインダーは例えば次のような基を含んでよ
いニーＣ００ＨＳＰＯ３Ｈ２、−５ｏ３Ｈ；−５Ｏ２−
ＮＨ−ＳＯ２−及び一５Ｏ２−ＮＨ−ＣＯ− その具体例としては、マレアート樹脂類、β−（メタク
リロイルオキシエチルＮ−（ｐ−トリルスルホニル）カ
ルバメートの重合体、及び後者及び同様な単量体と酢酸
ビニル／無水クロトン酸及びスチレン／無水マレイン酸
等のその他の単量体との共重合体が挙げられる。ＤＥ−
Ａ−２，０６４，０８０号及び２，３６３．８０６号に
記載されているようなアルキルメタクリレート／メタク
リル酸共重合体及びメタクリル酸、置級アルキルメタク
リレート及びメチルメタクリレート及び／又はスチレン
、アクリロニトリル等の共重合体が好ましい。

バインダーの量は通常被覆の構成成分の２０〜９０重量
％、好ましくは４０〜８０重量％である。

計画された応用に応じ且つ所望特性に応じて光重合性混
合物は各種物質を添加剤として含有してよい。

具体例としては： 単量体の熱重合防止用防止剤、 水素供与体、 このタイプの被覆の分光感光度を変成する物質、色素、 着色及び無色顔料、 発色剤、 指示薬、 可塑剤、例えばポリグリコール類或いはｐ−ヒドロキシ
安息香酸のエステル類等、 が挙げられる。

これらの構成成分は開始過程において重要である化学放
射線領域において、それらがなるべく少ない吸収を有す
るように選ぶのが有利である。

この説明の目的のためには、化学放射線とはそのエネル
ギーが短波可視光線のそれに少なくとも同等である任意
の放射線を意味するものと了解されるべきである。長波
紫外線及び又電子線、Ｘ−線が適したものである。

この光重合性混合物は各種応用に対して、例えば歯科学
の分野において、光又は粒子線例えば電子線により硬化
される安全ガラス、ラッカーを生成するために、及び特
に再生の分野において感光性複写材料として用いられる
。

本発明の分野は後者の応用分野に限られるが、しかし本
発明はそれに限定されるものではない。この分野におけ
る可能性のある応用としては、印字印刷、フォトリソグ
ラフィー、グラビア印刷、スクリーン印刷用印刷形の光
機械的製造用複写被覆、及び浮出し印刷、例えばブライ
ユ点字におけるテキストの製造、単一コピー、タンニン
画像、カーボン画像等が挙げられる。

更に、これらの混合物はエッチレジストの光機械的製造
例えば名札、複製回路の製造及び成形部品のエツチング
に用いられる。本発明による混合物はリソグラフィー印
刷形の製造及びフォトレジスト技術のための複写被覆と
して特に重要である。

該応用目的のためには、この混合物は商業的には液体溶
液又は分散液、例えばフォトレジスト溶液として利用さ
れ、それはユーザー自身により例えばスクリーン印刷鋳
型等の複製回路の製造のための成形部品エツチング用に
個々のベースに適用される。この混合物は又、例えばプ
リント形の製造用に貯蔵可能な予備被覆感光性被覆材料
の形の適当なベース上の固体感光性被覆の形態を取って
もよい。それは又乾燥レジストの製造にも適している。

これらの混合物は光重合時に大気酸素の影響から十分に
排除することが一般的に有益である。この混合物を薄い
複写被覆の形態で用いる場合には、酸素に対して低透過
性の適当な頂部フィルムを用いるのがよい。

後者は自己支持性であってよく、複写被覆が現像される
前に剥離されてよい。この目的のためには、例えばポリ
エステルフィルムが適している。頂部フィルム又は現像
液に溶解するか或いは現像時に少なくとも非硬化点にお
いて除去される材料から構成されてもよい。

この目的のために適した材料は、例えばワックス類、ポ
リビニルアルコール、ポリフォスフェート、糖等である
。

本発明の混合物を用いて製造される複写材料用の適当な
被覆ベースは例えばアルミニウム、鋼、亜鉛、銅及びプ
ラスチックフィルム、例えばポリエチレンテレフタレー
ト或いはセルロースアセテートから作られたもの及び又
バーロンガーゼ等のスクリーン印刷ベース等である。

本発明の混合物を用いる感光性材料は、公知の方法で製
造される。

即ち、それを溶媒に取り、溶媒或いは分散液をローラー
等を用いる注液、スプレー、浸漬塗布により設けられた
ベースにフィルムとして塗布して後乾燥する。

厚い被覆（例えば２５０μｍ以上）は自己支持性フィル
ムとして押出し或いはプレスにより製造するのが有利で
あり、それは次いでおそらくベースに積層される。

乾燥レジストの場合には、混合物の溶液を透明ベースに
塗布し乾燥する。この感光性被覆（厚み約１０〜１００
μｍ）を次いで又最初は一時的ベースと共に積層して目
的基材に積層する。

これらの材料の処理は公知の方法で行われる。現像目的
のためには、それらを適当な現像液、好ましくは弱アル
カリ性水溶液で処理し、その処理に際し、被覆の未露光
部分は除去され、複写被覆の露光領域はベース上に残る
。

本発明による被写材料は貯蔵時の光感度の損失が低いこ
とが顕著である。この利点は明らかに未置換９−フェニ
ルアクリジンと比較して光重合性被覆における開始剤の
より高い耐拡散性によるものである。これらの開始剤は
光硬化被覆から移行しないか或いは公知の開始剤よりも
移行の程度が実質的に小さい。露光後、これらの材料は
より高い機械的強度及び例えば圧力下により高い耐摩耗
性を有する被覆を与える。

以下に本発明による具体例を示す。ここでは先ず一般式
Ｉの化合物の説明を行う。次に光重合性混合物に用いら
れる応用例の説明を行う。

これらの例において重量部（ｐｂｗ）及び容量部（ｐ　
ｂ　ｖ）はｇ対ｃｃｍ比である。特に断りのない限り、
パーセント及び量比は重量単位である。

製造例 １、）２．７−シメチルー９−（４−アクリロイルアミ
ノメチルフェニル）アクリジン １９７ｐｂｗ　（１モル）の４，４′−ジメチルジフェ
ニルアミン及び１５１ｐｂｗ（１モル）の４−アミノメ
チル安息香酸を５０００ｐｂｗのポリリン酸中において
２００℃で１時間加熱した。冷却後、水及びアンモニア
を反応液に添加し、２．７−シメチルー９−（４−アミ
ノメチルフェニル）アクリジンを吸引により濾別し、精
製乾燥した（融点２２０℃）。

生成物を、アセトン中塩化アクリロイル及びトリエチル
アミンでアクリル化した。

ｌｐｂｗのジフェニルアミン及び１５ｐｂｗのポリリン
酸を攪拌しながら１００℃に加熱した。２．５ｐｂｗの
安息香酸を添加後、混合物を２００℃で４５分間加熱し
た。１００℃に冷却後、混合物を７０ｐｂｗの水中に注
ぎ、２，７−ジベンゾイル−９−フェニルアクリジンを
濾別し、精製した（融点２１０℃）。

ｌｐｂｗの２．７−ジベンゾイル−９−フェニルアクリ
ジンを４ｐｂｗのエタノール中に懸濁させ、０．１ｐｂ
ｗのボロン酸ナトリウム（分割添加）により２０〜５０
℃で還元した。２４時間後、反応生成物２．７−ビス（
α−ヒドロキシベンジル）−９−フェニルアクリジンを
水で沈澱させ、精製乾燥した（融点２８０℃を越える） ｌｐｂｗの２，７−ビス（α−ヒドロキシベンジル）−
９−フェニルアクリジンを４ｐｂｗのアセトン中に懸濁
させ、０．８ｐｂｗの無水メタクリル酸及び。−０，０
０１ｐｂｗの４−ジメチルアミノピリジンと共に加熱還
流した。水を次いで混合物に添加し生成物を濾別し乾燥
した。

応用例 例１ 次の二つの被覆溶液を下記成分から調製した：５２ｐｂ
ｗのスチレン、メタクリル酸及びｎ−へキシルメタクリ
レートの三元重合体（１０：３０：６０；酸敗１９０）
、 １７．６ｐｂｗのポリエチレングリコール４００ジメタ
クリレート、 ０．０４ｐｂｗの２，４−ジニ）ｏ−６−りｏｏベンゼ
ンジアゾニウム塩と２−メトキシ−５−アセチルアミノ
−Ｎ、Ｎ−ジエチルアニリンをカップリングさせて得た
青色アゾ色素、 ０．１２ｐｂｗの１，４−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブトキ
シフェニルアミノ）−５，８−ジヒドロキシアントラキ
ノン ９０ｐｂｗのブタノン、及び ５０ｐｂｗのエタノールに、 ａ）ｌｐｂｗの２，７−シメチルー９−（４−メタクリ
ロイルアミノメチルフェニル）アクリジン、及びｂ）ｌ
ｐｂｗの２，７−シメチルー９−（４−アセチルアミノ
メチルフェニル）アクリジン（比較）、を光開始剤とし
て添加した。２５μｍの厚みを有する二軸配向及び熱硬
化ポリエチレンテレフタレートフィルムに上記溶液の各
々を塗布し乾燥した（各場合の被覆厚みは１００μｍ）
。このようにして生成された乾燥レジストフィルムを次
いでポリプロピレンフィルムで覆った。

ポリプロピレン頂部フィルムを剥離後、レジストフィル
ムを市販の積層装置内で１１５℃において３５μｍ厚の
銅箔を有するフェノール積層パネルクラッド上に積層し
、市販の露光装置（５ｋＷハロゲン化金属ランプ）を用
いて２０秒間露光した。０．１５の密度増加を有する１
３−ステップの露光ウェッジをマスターとして用いた。

次いで、これらのプレートを１．０％強度のソーダ溶液
でスプレー処理器内で９０秒間現像した。両しジスト共
ステップ８まで硬化された。

被覆の硬度を次いで全面露光された試料について求めた
。この目的のために、ＤＩＮ５３１５３に記載されるＢ
ｕｃｈｈｏｌｚ押込硬度試験を用いた。この試験におい
て円形ナイフの規定荷重下の被試験被覆中への侵入度は
適当な装置により測定された。これは、被試験材料が柔
らかいほどより深い押込みをもたらすものである。

次の値： ｍｍでの侵入深さ が硬度数とされる。

例２ ａ）　　　１．２ｐｂｗの２．７−ビス（α−アクリロ
イルオキシベンジル）−９−フェニルアクリジン、及び ｂ）　　１．２ｐｂｗの２．７−ビス（α−アセトキシ
ベンジル）−９−フェニルアクリジン（比較）、を光開
始剤として下記成分により構成される被覆溶液に溶解し
た： ５２０ｐｂｗの２−メトキシエタノール中、４０ｐｂｗ
のメチルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体（
酸敗１１５）、 ４０ｐｂｗのトリメチロールプロパントリアクリレート
及び ０．５ｐｂｗり色素デイスパースブルー１３４（Ｃ，Ｉ
、６１５５１）。

これらの溶液をスピニングにより電解粗面化及び陽極化
０．３ｗｎ厚のアルミニウムに塗布した。被覆を１００
℃で２分間乾燥し２．４ｇ／ゴの被覆重量を得た。次い
でこれらのパネルに４ｇ／ｄのポリビニルアルコール頂
部被覆を設けた。

このようにして得られたこれらの印刷板を０．１５の密
度増加を有する１３−ステップ露光ウェッジと共にネガ
試験マスターの下で１１０ｃｍの距離で５ｋＷハロゲン
化金属ランプで１５秒間露光した。光で硬化されなかっ
た部分は下記組成の現像液を用いて拭うことにより除去
した： ３ｐｂｗのナトリウムメタシリケート９水和物０．０５
ｐｂｗの塩化ストロンチウム、０．０３ｐｂｗの非イオ
ン発生湿潤剤（約８個のオキシエチレン単位を含有する
ヤシバターアルコール／ポリオキシエチレンエーテル）
、 ０．００３ｐｂｗの消泡剤、 １１００ｐｂの完全軟化水。

これらの印刷板をオフセット印刷プレス内に互いに並べ
て型締めし、強化条件下に（特別に研磨印刷インキを用
いるゴムブランケットと印刷版間の２倍接触圧力）試験
を行った。版２ｂの印刷結果は７０．０００枚以降低下
した。版２ｂのインク吸収は８０．０００枚の運転でか
なり減少したが、版２により生成された印刻は尚−級品
であった。

例３ ９０ｐｂｗのブタノン及び ５０ｐｂｗのエタノール中の、 ４０ｐｂｗの例１で規定した三元重合体、４０ｐｂｗの
１モルの２．２．４−）リメチルへキサメチレンジイソ
シアナート及び２モルの２−ヒドロキシエチルメタクリ
レートから形成されたジウレタン、０．０４ｐｂｗの１
．４−ビス（４−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルアミノ）
−５，８−ジヒドロキシアントラキノン、 ０．７５ｐｂｗの３０（４−メタクリロイルオキシベン
ジリデン）−９−フェニル−２，３−ジヒドロ−ＩＨ−
シクロペ、ブタ［ｂｌキノリン及びＱ、６ｐｂｗの２，
２−ジブロモマロンアミド、により構成される被覆溶液
を２５μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムに
塗布した。これを次いで乾燥オーブン中で１００℃で２
分間乾燥した。４４ｇ／ばの被覆重量を有し、エツチン
グ方法及び電気メツキ応用によく適した乾燥レジストが
得られた。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、下記一般式（ I ）で表わされることを特徴とする
   化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 〔式中、 Ｒ１は次式の基であり： ▲数式、化学式、表等があります▼ 及び Ｒ＾２は水素原子或いはメチル基であり、或いはＲ＾１
   及びＲ＾２は、一緒に、任意に置換された５−又は６員
   炭素環を形成し、 Ｒ＾３は水素原子、メチル基或いは任意に置換されたフ
   ェニル基であり、 Ｒ＾４は水素原子、メチル基、任意に置換されたベンゾ
   イル基或いは次式の基であり： ▲数式、化学式、表等があります▼ ｎはゼロ又は１であり、 Ｘは水素又は塩素原子、１〜４個の炭素原子を含むアル
   キル基或いはＯＡ、ＣＨ２ＯＡ、 ＣＨ２ＮＨＡ又はＣ２Ｈ４ＯＡ基の一つで あり、ここに複数のＸは同一或いは互いに 異り、及び Ａはアクリロイル又はメタクリロイル基であり、この化
   合物は少なくとも１個のＡ基を含有する。〕２、Ｒ＾１
   及びＲ＾２が一緒にベンゼン環を形成する、請求項１に
   記載の化合物。 ３、Ｒ＾３が少なくとも１個の置換基Ｘを有するフェニ
   ル基である、請求項１又は２に記載の化合物。 ４、ベンゼン環がＲ＾４の意味を有する少なくとも１個
   の置換基を有する、請求項２に記載の化合物。 ５、置換基Ｒ＾４がベンゼン環で形成されたアクリジン
   核の２−位にある、請求項４に記載の化合物。 ６、必須構成成分として、 ａ）重合体バインダー、 ｂ）少なくとも１個の末端オレフィン性二重結合及び常
   圧において１００℃を越える沸点を有する重合性化合物
   、及び ｃ）光開始剤としてのＮ−異項環化合物、 を含有する光重合性混合物において、Ｎ−異項環化合物
   が請求項１〜５のいずれか１項に記載の一般式（ I ）
   の化合物であることを特徴とする、光重合性混合物。 ７、バインダーが水不溶性であり、且つアルカリ水溶液
   に可溶性である、請求項６に記載の光重合性混合物。 ８、光重合性化合物がアクリル酸又はメタクリル酸と脂
   肪族アルコールとのエステルである、請求項６に記載の
   光重合性混合物。 ９、被覆ベース及び光重合性被覆よりなる光重合性複写
   材料において、被覆が請求項６〜８のいずれか１項に記
   載された混合物により構成されることを特徴とする光重
   合性複写材料。