JPS6340141A - 感光性記録素子 - Google Patents
感光性記録素子Info
- Publication number
- JPS6340141A JPS6340141A JP62138348A JP13834887A JPS6340141A JP S6340141 A JPS6340141 A JP S6340141A JP 62138348 A JP62138348 A JP 62138348A JP 13834887 A JP13834887 A JP 13834887A JP S6340141 A JPS6340141 A JP S6340141A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acrylate
- copolymer
- photopolymerizable
- meth
- recording element
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 65
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 30
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 26
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims abstract description 24
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims abstract description 22
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims abstract description 16
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 13
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- -1 alkyl methacrylates Chemical class 0.000 claims description 37
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 32
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 9
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 6
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 5
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 4
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 claims description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001568 sexual effect Effects 0.000 claims 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 abstract description 14
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 abstract description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 8
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 abstract description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 89
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 13
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 9
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 9
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 4
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 4
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 4
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 4
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 4
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 4
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 4
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical class C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MWMBMDKWXVQCHY-UHFFFAOYSA-N C.OC(=O)C=C Chemical compound C.OC(=O)C=C MWMBMDKWXVQCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 3
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 2
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 2
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylazepan-2-one Chemical compound C=CN1CCCCCC1=O JWYVGKFDLWWQJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1H-imidazole Chemical compound CN1C=CN=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 10H-phenoxazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3OC2=C1 TZMSYXZUNZXBOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVKKFNORSNCNPP-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(prop-2-enoylamino)acetic acid Chemical compound C=CC(=O)NC(C(=O)O)NC(=O)C=C LVKKFNORSNCNPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPYKYDBKQYZEKG-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpropane-1,1-diol Chemical compound CC(C)(C)C(O)O QPYKYDBKQYZEKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCCOCC1CO1 SHKUUQIDMUMQQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(O)COC(=O)C=C GWZMWHWAWHPNHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O IQUPABOKLQSFBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- DZNJMLVCIZGWSC-UHFFFAOYSA-N 3',6'-bis(diethylamino)spiro[2-benzofuran-3,9'-xanthene]-1-one Chemical compound O1C(=O)C2=CC=CC=C2C21C1=CC=C(N(CC)CC)C=C1OC1=CC(N(CC)CC)=CC=C21 DZNJMLVCIZGWSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSIKFJXEYJIZNB-UHFFFAOYSA-N 9-Nitroanthracene Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=C(C=CC=C3)C3=CC2=C1 LSIKFJXEYJIZNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTMBGDBBDQKNNZ-UHFFFAOYSA-L C.I. Acid Blue 3 Chemical compound [Ca+2].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C(=CC(=C(O)C=1)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1.C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C(=CC(=C(O)C=1)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 RTMBGDBBDQKNNZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005057 Hexamethylene diisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000005058 Isophorone diisocyanate Substances 0.000 description 1
- OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N Leucocrystal Violet Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 OAZWDJGLIYNYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZKXBGJNNCGHIC-UHFFFAOYSA-N Leucomalachite green Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=CC=C1 WZKXBGJNNCGHIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-O acridine;hydron Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3[NH+]=C21 DZBUGLKDJFMEHC-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical class OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N benzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C(=O)NC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(methylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NC)C=C1 HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diol Chemical compound CCCC(O)O CDQSJQSWAWPGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical group 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 150000003972 cyclic carboxylic anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001983 dialkylethers Chemical class 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002013 dioxins Chemical class 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;2-methylprop-2-enoic acid Chemical class CCOC(N)=O.CC(=C)C(O)=O MHCLJIVVJQQNKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N ethyl carbamate;prop-2-enoic acid Chemical class OC(=O)C=C.CCOC(N)=O UHESRSKEBRADOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007306 functionalization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N hexamethylene diisocyanate Chemical compound O=C=NCCCCCCN=C=O RRAMGCGOFNQTLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008240 homogeneous mixture Substances 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical class [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N isophorone diisocyanate Chemical compound CC1(C)CC(N=C=O)CC(C)(CN=C=O)C1 NIMLQBUJDJZYEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- 229940086559 methyl benzoin Drugs 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYLBVKUPVXVTSO-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenylnitramide Chemical compound C=1C=CC=CC=1N([N+](=O)[O-])C1=CC=CC=C1 AYLBVKUPVXVTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 150000002896 organic halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000000466 oxiranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002926 oxygen Chemical class 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical class C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- XEBWQGVWTUSTLN-UHFFFAOYSA-M phenylmercury acetate Chemical compound CC(=O)O[Hg]C1=CC=CC=C1 XEBWQGVWTUSTLN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 125000005498 phthalate group Chemical class 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001495 poly(sodium acrylate) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N propane-1,1-diol Chemical compound CCC(O)O ULWHHBHJGPPBCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 239000012744 reinforcing agent Substances 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001027 sodium carboxymethylcellulose Polymers 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 150000003440 styrenes Chemical class 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- 150000003456 sulfonamides Chemical class 0.000 description 1
- DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N victoria blue B Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)=C(C=C1)C2=CC=CC=C2C1=[NH+]C1=CC=CC=C1 LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVLANIHJQRZTPY-UHFFFAOYSA-N vinyl carbamate Chemical class NC(=O)OC=C LVLANIHJQRZTPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/107—Polyamide or polyurethane
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、支持体上に設けられた、高分子量結合剤を含
有する、アルカリ性水溶液で現嵯可能のツC重合可能な
記録層を有し、殊に印刷版またはレジストパターンを製
造するのに適当である感光性記録素子に関する。
有する、アルカリ性水溶液で現嵯可能のツC重合可能な
記録層を有し、殊に印刷版またはレジストパターンを製
造するのに適当である感光性記録素子に関する。
従来の技術
感光性重合体の印刷版または印刷パターンを製造するだ
めの公知の、アルカリ現像水溶液で洗浄可能な感光性記
録票子は、寸法安定性の支持体、例えばプラスチックフ
ィルムまたは金炙薄板の上に、一般にアルカリ現像水溶
液に可溶または分散可能の少なくとも1つの高分子量結
合剤、光重合可能の低分子量の少なくとも1つのエチレ
ン性不飽和化合物、少なくとも1つの光重合開始剤なら
びに場合によっては他の加工技術特性および/または使
用技術特性を改善しおよび/または改質する添加剤およ
び/または助剤の混合物からなる光重合可能な記録層を
有する。
めの公知の、アルカリ現像水溶液で洗浄可能な感光性記
録票子は、寸法安定性の支持体、例えばプラスチックフ
ィルムまたは金炙薄板の上に、一般にアルカリ現像水溶
液に可溶または分散可能の少なくとも1つの高分子量結
合剤、光重合可能の低分子量の少なくとも1つのエチレ
ン性不飽和化合物、少なくとも1つの光重合開始剤なら
びに場合によっては他の加工技術特性および/または使
用技術特性を改善しおよび/または改質する添加剤およ
び/または助剤の混合物からなる光重合可能な記録層を
有する。
この場合、アルカリ性水溶液で現像可能の光重合可能な
記録層に対する高分子量結合剤としては、殊に例えばス
チロール/マレイン酸無水物共重合体、スチロール/マ
レイン酸半エステル共重合体、アルキル(メタノアクリ
レート/(メタノアクリル酸共重合体またはスチロール
、アルキル(メタ)アクリレートおよび(メタノアクリ
ル酸ならびに場合によっては池のコモノマーからなる共
重合体のようにアルカリ現像水性溶剤に可溶または少な
くとも分散可能の、カルボキシル基含互またはカルボン
酸無水物基含有の共重合体が使用されろ(特に、ドイツ
連邦共和国特許出願公告第2027467号明細書、ソ
ビエト連邦共和国特許第190211号明細書、ドイツ
連邦共和国特許出願公開第2205146号明細書、欧
州特許出願公開第49504号明細書またはドイツ連邦
共和国特許出願公開比2736058号明細書参照ン。
記録層に対する高分子量結合剤としては、殊に例えばス
チロール/マレイン酸無水物共重合体、スチロール/マ
レイン酸半エステル共重合体、アルキル(メタノアクリ
レート/(メタノアクリル酸共重合体またはスチロール
、アルキル(メタ)アクリレートおよび(メタノアクリ
ル酸ならびに場合によっては池のコモノマーからなる共
重合体のようにアルカリ現像水性溶剤に可溶または少な
くとも分散可能の、カルボキシル基含互またはカルボン
酸無水物基含有の共重合体が使用されろ(特に、ドイツ
連邦共和国特許出願公告第2027467号明細書、ソ
ビエト連邦共和国特許第190211号明細書、ドイツ
連邦共和国特許出願公開第2205146号明細書、欧
州特許出願公開第49504号明細書またはドイツ連邦
共和国特許出願公開比2736058号明細書参照ン。
米国特許第3796578号明細書には、オキシラン環
な有するエチレン性不飽和化合物でのカルボキンル基含
有共重合体のエステル化生成物、エチレン性不飽和化合
物および光重合開始剤からなる光重合可能な混合物なら
びにこの混合物ビオフセット印刷版の製造のために使用
することが記載されている。しかし、この生成物の相容
性は、なお改善する必要がある。また、光重合可能な混
合物中に高分子量結合剤として、例えばN−アルキル(
メタノアクリルアミドまたはアルキル−アミノアルキル
−(メタンアクリレートのような塩基性コモノマー、酸
性コモノマー、例えば(メタノアクリル酸、ならびに例
えばアルキル(メタンアクリレート、ヒドロキシアルキ
ル(メタノアクリレート、ビニルエステルール等のよう
な少なくとも1つの他のコモノマーからなる両性の共重
合体?使用することは、既に提案された(米国将許第4
293635号明細書参照ン。
な有するエチレン性不飽和化合物でのカルボキンル基含
有共重合体のエステル化生成物、エチレン性不飽和化合
物および光重合開始剤からなる光重合可能な混合物なら
びにこの混合物ビオフセット印刷版の製造のために使用
することが記載されている。しかし、この生成物の相容
性は、なお改善する必要がある。また、光重合可能な混
合物中に高分子量結合剤として、例えばN−アルキル(
メタノアクリルアミドまたはアルキル−アミノアルキル
−(メタンアクリレートのような塩基性コモノマー、酸
性コモノマー、例えば(メタノアクリル酸、ならびに例
えばアルキル(メタンアクリレート、ヒドロキシアルキ
ル(メタノアクリレート、ビニルエステルール等のよう
な少なくとも1つの他のコモノマーからなる両性の共重
合体?使用することは、既に提案された(米国将許第4
293635号明細書参照ン。
公知の水で現像可能な感光性記録材料は、既に多くの目
的に適い使用することができろか、その一連の性質の点
で所望のものには程遠い。丁なわち、この水で現像可能
な感光性記録材料は、光重合された状態で屡々洗浄媒体
に対して敏感すぎ、すなわち現像の際に過洗浄不安定性
が大きい。微細な画像素子は、この記録材料を用いろと
屡々再現するのが困難であり、洗浄条件は、現像液の洗
浄時間、温度および組成の点で極めて狭い範囲を維持し
なければならない。更に、アルカリ水溶液で現像可能な
公知の記録材料の場合には、現像で容易に残存層の形成
を生じ、すなわち記録層の画像に応じての露光の際に光
重合されない含分は、徹底的に申分なく支持体から除去
することはできない。殊に金属支持体または基材暑使用
する際に光重合可能な記録層に生じろ前記現象は、特に
レジストパターンおよび平版印刷板を製造する場合には
妨げとなる。
的に適い使用することができろか、その一連の性質の点
で所望のものには程遠い。丁なわち、この水で現像可能
な感光性記録材料は、光重合された状態で屡々洗浄媒体
に対して敏感すぎ、すなわち現像の際に過洗浄不安定性
が大きい。微細な画像素子は、この記録材料を用いろと
屡々再現するのが困難であり、洗浄条件は、現像液の洗
浄時間、温度および組成の点で極めて狭い範囲を維持し
なければならない。更に、アルカリ水溶液で現像可能な
公知の記録材料の場合には、現像で容易に残存層の形成
を生じ、すなわち記録層の画像に応じての露光の際に光
重合されない含分は、徹底的に申分なく支持体から除去
することはできない。殊に金属支持体または基材暑使用
する際に光重合可能な記録層に生じろ前記現象は、特に
レジストパターンおよび平版印刷板を製造する場合には
妨げとなる。
発明が解決しようとする問題点
本発明の課題は、:V光性重合体の印刷版またはレジス
トパターンを製造するのに好適である、アルカリ性水溶
液で現像可能の光重合可能な記録層を有する新規の感光
性記録素子を提示すろことであった。殊に、本発明の課
題は、アルカリ現像水溶液で洗浄する際に良好な現像可
能性およびできるだけ大き℃・現像のゆとりをπし、そ
の際共通の特性プロフィル?不利に変化させることがな
いような感光性記録累千乞得ろことであった。この場合
、アルカリ性水溶液で現像可能の光重合可能な記録層は
、殊に金属支持体または基材に対して良好な付着力YJ
するはずであり、この場合には、処理の際に残存層の形
成を洗浄除去すべき領域内に生じさせろことはない。
トパターンを製造するのに好適である、アルカリ性水溶
液で現像可能の光重合可能な記録層を有する新規の感光
性記録素子を提示すろことであった。殊に、本発明の課
題は、アルカリ現像水溶液で洗浄する際に良好な現像可
能性およびできるだけ大き℃・現像のゆとりをπし、そ
の際共通の特性プロフィル?不利に変化させることがな
いような感光性記録累千乞得ろことであった。この場合
、アルカリ性水溶液で現像可能の光重合可能な記録層は
、殊に金属支持体または基材に対して良好な付着力YJ
するはずであり、この場合には、処理の際に残存層の形
成を洗浄除去すべき領域内に生じさせろことはない。
問題点を解決するための手段
ところで、意外なことに、この課題は、寸法安定性の支
持体上に設けられた、アルカリ性水溶液で現像可能の光
重合可能な記録層か高分子量結合剤として水に不溶性で
あるがアルカリ性水溶液に可溶性であるかまたは少なく
とも分散可能の少なくとも1つの皮膜形成性共重合体を
含有し、この皮膜形成性共重合体が少なくとも1つのヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレート10〜50重量
%、アクリル酸および/またはメタクリル酸8〜30重
量%ならびに重合導入された形の少なくとも1つのアル
キルアクリレート、アルキルメタクリレートおよび/ま
たはビニル芳香族化合Pa30〜80重量%からなり、
かつ共重合体のカルボキシル基が部分的にグリシジルア
クリレートまたはグリシジルメタクリレートとの反応に
よってエステル化.されて(・ることにより、寸法安定
性の支持体上に設けられた、アルカリ性水溶液で現像可
能の光重合可能な記録層?■する感光性記録素子によっ
て解決されることが見い出された。
持体上に設けられた、アルカリ性水溶液で現像可能の光
重合可能な記録層か高分子量結合剤として水に不溶性で
あるがアルカリ性水溶液に可溶性であるかまたは少なく
とも分散可能の少なくとも1つの皮膜形成性共重合体を
含有し、この皮膜形成性共重合体が少なくとも1つのヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレート10〜50重量
%、アクリル酸および/またはメタクリル酸8〜30重
量%ならびに重合導入された形の少なくとも1つのアル
キルアクリレート、アルキルメタクリレートおよび/ま
たはビニル芳香族化合Pa30〜80重量%からなり、
かつ共重合体のカルボキシル基が部分的にグリシジルア
クリレートまたはグリシジルメタクリレートとの反応に
よってエステル化.されて(・ることにより、寸法安定
性の支持体上に設けられた、アルカリ性水溶液で現像可
能の光重合可能な記録層?■する感光性記録素子によっ
て解決されることが見い出された。
それに応じて、本発明の対象は、光重合可能な記録層中
に高分子量結合剤として、少なくとも1つのヒドロキシ
アルキルアクリレートおよび/またはヒドロキシアルキ
ルメタクリレート10〜50重量%、アクリル酸および
/またにメタクリル酸8〜30重量%ならびにアルキル
アクリレート、アルキルメタクリレートおよびスチロー
ルの群からの少なくとも1つの単量体30〜80重量%
からなる、水に不溶性であるかアルカリ性水溶液に可溶
性であるかまたは少なくとも分散可能の少なくとも1つ
の皮膜形成性共重合体が、共重合体のカルボキシル基が
部分的にグリシジルアクリレートまたはグリシジルメタ
クリレートとの反応によってエステル化されているとい
う条件で含有されていること’lrW徴とする、寸法安
定性の支持体上に設けられた、アルカリ性水溶液で現像
可能の、高分子量結合剤を含有する光重合可能な記録層
を有する、感光性重合体の印刷版またはレジストパター
ン乞製造するのに適した感光性記録素子である。
に高分子量結合剤として、少なくとも1つのヒドロキシ
アルキルアクリレートおよび/またはヒドロキシアルキ
ルメタクリレート10〜50重量%、アクリル酸および
/またにメタクリル酸8〜30重量%ならびにアルキル
アクリレート、アルキルメタクリレートおよびスチロー
ルの群からの少なくとも1つの単量体30〜80重量%
からなる、水に不溶性であるかアルカリ性水溶液に可溶
性であるかまたは少なくとも分散可能の少なくとも1つ
の皮膜形成性共重合体が、共重合体のカルボキシル基が
部分的にグリシジルアクリレートまたはグリシジルメタ
クリレートとの反応によってエステル化されているとい
う条件で含有されていること’lrW徴とする、寸法安
定性の支持体上に設けられた、アルカリ性水溶液で現像
可能の、高分子量結合剤を含有する光重合可能な記録層
を有する、感光性重合体の印刷版またはレジストパター
ン乞製造するのに適した感光性記録素子である。
すなわち、高分子量結合剤は、(a)少なくとも1つの
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート10〜50重
量%、(b)アクリル酸および/また・)エメタクリル
酸8〜30重量%ならびに(Q)重合導入された少なく
とも1つのアルキルアクリレート、アルキルメタクリレ
ートおよび/またはビニル芳香族化合物30〜80重量
%を含有し、この場合(a)〜(C)に記載した百分率
の数の総和は、共重合体のカルボキシル基の一部、特に
カルボキシル基の10〜60%がグリシジルアクリレー
トまたはグリシジルメタクリレートとの反応によってエ
ステル化されているという条件で100である。
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート10〜50重
量%、(b)アクリル酸および/また・)エメタクリル
酸8〜30重量%ならびに(Q)重合導入された少なく
とも1つのアルキルアクリレート、アルキルメタクリレ
ートおよび/またはビニル芳香族化合物30〜80重量
%を含有し、この場合(a)〜(C)に記載した百分率
の数の総和は、共重合体のカルボキシル基の一部、特に
カルボキシル基の10〜60%がグリシジルアクリレー
トまたはグリシジルメタクリレートとの反応によってエ
ステル化されているという条件で100である。
本発明によれば、特殊な共重合体を高分子量結合剤とし
て光重合可能な記録層に使用することによって、部分的
に驚異的に改善された好ましく・性質7五する感光性記
録素子は得られろ。符に好適なのは、共重合体のカルボ
キシル基の10〜60%かグリシジル(メタノアクリレ
ートでエステル化されているよっな記録素子であるかな
いしはグリシジル(メタンアクリレートで部分的にエス
テル化された共重合体がKOH20−100q / f
の酸価を■するような記録素子である。すなわち、この
感光性記録素子は、両像に応じて化学線で露光した後に
本発明により使用すべき共重合体中でのアクリル酸含量
および/またはメタクリル酸含量が比較的低いにも拘ら
ずアルカリ現像水溶液中での良好な現像可能性を示し、
同時に光重合された状態で水性媒体に対して高い安定性
?示し、例えばこの水性媒体は、印刷版?使用する場合
またはレジストパターン乞使用する場合に使用される。
て光重合可能な記録層に使用することによって、部分的
に驚異的に改善された好ましく・性質7五する感光性記
録素子は得られろ。符に好適なのは、共重合体のカルボ
キシル基の10〜60%かグリシジル(メタノアクリレ
ートでエステル化されているよっな記録素子であるかな
いしはグリシジル(メタンアクリレートで部分的にエス
テル化された共重合体がKOH20−100q / f
の酸価を■するような記録素子である。すなわち、この
感光性記録素子は、両像に応じて化学線で露光した後に
本発明により使用すべき共重合体中でのアクリル酸含量
および/またはメタクリル酸含量が比較的低いにも拘ら
ずアルカリ現像水溶液中での良好な現像可能性を示し、
同時に光重合された状態で水性媒体に対して高い安定性
?示し、例えばこの水性媒体は、印刷版?使用する場合
またはレジストパターン乞使用する場合に使用される。
本発明による感光性記録素子は、現像の際に僅かな過洗
浄不安定性を示し、また光重合可能な記録層は、金部支
持体または基材上で同時にこれらの支持体または基材に
対して良好な付着力で安定であり、かつ微細な画像要素
、例えば幅100μまたはそれ以下の線の正確で確実な
再現をも可能にする。
浄不安定性を示し、また光重合可能な記録層は、金部支
持体または基材上で同時にこれらの支持体または基材に
対して良好な付着力で安定であり、かつ微細な画像要素
、例えば幅100μまたはそれ以下の線の正確で確実な
再現をも可能にする。
本発明によれば、感光性記録素子の光重合可能な記録層
中に含有されている高分子量結合剤は、ヒドロキシアル
キル−(メタ)アクリレートの特殊な共重合体であり、
この共重合体は、純粋な水に不溶性であるが、アルカリ
性水溶液には可溶性であるかまたは少なくとも分散可能
である。有利に、このヒドロキシアルキル(メタノアク
リレート共重合は、約9よりも大ぎい、殊に約9〜13
の範囲内のpH値′(!′有するアルカリ性水溶液中で
可溶性であるかまたは少なくとも分散可能であるが、約
9よりも低いpH(Rを有するアルカリ性水溶液の場合
には不溶性である。本発明により使用すべき共重合体は
、皮膜形成性であり、かつ一般に約tooooよりも大
きい、特に約15000〜約500oo。
中に含有されている高分子量結合剤は、ヒドロキシアル
キル−(メタ)アクリレートの特殊な共重合体であり、
この共重合体は、純粋な水に不溶性であるが、アルカリ
性水溶液には可溶性であるかまたは少なくとも分散可能
である。有利に、このヒドロキシアルキル(メタノアク
リレート共重合は、約9よりも大ぎい、殊に約9〜13
の範囲内のpH値′(!′有するアルカリ性水溶液中で
可溶性であるかまたは少なくとも分散可能であるが、約
9よりも低いpH(Rを有するアルカリ性水溶液の場合
には不溶性である。本発明により使用すべき共重合体は
、皮膜形成性であり、かつ一般に約tooooよりも大
きい、特に約15000〜約500oo。
の範囲内、殊に約20000〜250000の範囲内の
平均分子量(重量平均)を有する。
平均分子量(重量平均)を有する。
本発明により使用丁べぎ、カルボキシル基をグリシジル
(メタノアクリレートで部分エステル化することによっ
て得られた共重合体は、通常ヒドロキシアルキル(メタ
)アクリレート、(メタノアクリル酸ならびにアルキル
(メタ)アクリレートおよび/またはビニル芳香族化合
物を共重合させろことによって得られろ。共重合体は、
個々のフモノマ一種の1つまたはそれ以上のコモノマー
を含有することかでき、すなわち共重合体は、1つまた
はそれ以上のヒドロキシアルキルアクリレ−トオ6よび
/−1:たにヒドロキンアルキルメタクリレート、アク
リル酸および/=!たはメタクリル酸ならびに1つまた
はそれ以上のアルキルアクリレート、アルキルメタクリ
レートおよび/またはビニル芳香族化合物から構成され
て(・でもよい。共重合体のカルボキシル基の一部は、
グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレー
トでエステル化されでいろ。
(メタノアクリレートで部分エステル化することによっ
て得られた共重合体は、通常ヒドロキシアルキル(メタ
)アクリレート、(メタノアクリル酸ならびにアルキル
(メタ)アクリレートおよび/またはビニル芳香族化合
物を共重合させろことによって得られろ。共重合体は、
個々のフモノマ一種の1つまたはそれ以上のコモノマー
を含有することかでき、すなわち共重合体は、1つまた
はそれ以上のヒドロキシアルキルアクリレ−トオ6よび
/−1:たにヒドロキンアルキルメタクリレート、アク
リル酸および/=!たはメタクリル酸ならびに1つまた
はそれ以上のアルキルアクリレート、アルキルメタクリ
レートおよび/またはビニル芳香族化合物から構成され
て(・でもよい。共重合体のカルボキシル基の一部は、
グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレー
トでエステル化されでいろ。
ヒドロキシアルキル−(メタンアクリレートとしては、
殊にヒドロキシアルキル基中に2〜4個のC原子を互す
るヒドロキシアルキルアクリレートおよび/またはヒド
ロキシアルキルメタクリレートがこれに該当する。特に
、このコモノマーの群ハ、アルカンジオール、例えば殊
にエチレングリコール、1.2−プロパンジオール、1
.3−プロパンジオールのモノアクリレートおよびモノ
メタクリレートである。ヒドロキシアルキル−(メタン
アクリレート−コモノマーの例としては、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒ
ドロキノプロピルアクリレート、2−ヒドロキノプロピ
ルメタクリレート、3−ヒドロキ/プロピルメタクリレ
ートならびに殊に2−ヒドロキシプロピル(メタ)アク
リレートと3−ヒドロキノプロピル(メタ)アクリレー
トとの混合物が挙げられろ。本発明により使用丁べぎ共
重合体に重合導入されたヒドロキシアルキル−(メタ)
アクリレート−コモノマーの含量は、共重合体に対して
10〜50重量%の厄囲内、符に15〜45重量%の範
囲内にある。
殊にヒドロキシアルキル基中に2〜4個のC原子を互す
るヒドロキシアルキルアクリレートおよび/またはヒド
ロキシアルキルメタクリレートがこれに該当する。特に
、このコモノマーの群ハ、アルカンジオール、例えば殊
にエチレングリコール、1.2−プロパンジオール、1
.3−プロパンジオールのモノアクリレートおよびモノ
メタクリレートである。ヒドロキシアルキル−(メタン
アクリレート−コモノマーの例としては、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、3−ヒ
ドロキノプロピルアクリレート、2−ヒドロキノプロピ
ルメタクリレート、3−ヒドロキ/プロピルメタクリレ
ートならびに殊に2−ヒドロキシプロピル(メタ)アク
リレートと3−ヒドロキノプロピル(メタ)アクリレー
トとの混合物が挙げられろ。本発明により使用丁べぎ共
重合体に重合導入されたヒドロキシアルキル−(メタ)
アクリレート−コモノマーの含量は、共重合体に対して
10〜50重量%の厄囲内、符に15〜45重量%の範
囲内にある。
この共重合体は、アクリル酸および/またはメタクリル
酸をコモノマーの第2の群として共重合体に対し8〜3
0重量%の量、殊に10〜20重量%の量で重合導入さ
せて含有する。
酸をコモノマーの第2の群として共重合体に対し8〜3
0重量%の量、殊に10〜20重量%の量で重合導入さ
せて含有する。
アルキル−(メタノアクリレート−コモノマーの群の例
としては、殊に1〜8個のC原子、特に1〜4個のC原
子7亙する@鎖状または分枝鎖状モノアルカノールのア
クリレートおよびメタクリレートが挙げられる。アルキ
ルアクリレートおよび/またはアルキルメタクリレート
は、完全にまたは待て部分的に、共重合体中に重合導入
されたコモノマーの全体量に対して1〜40重量%の量
でビニル芳香族化合物、例えばスチロール、ビニルドル
オールまたはα−メチルスチロールによって代えられて
いてもよい。共重合体中のアルキル(メタ2アクリレー
ト−コモノマ一単位および/マたはビニル芳香族−コモ
ノマ一単位の含量は、共重合体に対して30〜80重量
%の範囲内、特に40〜70重量%の範囲内にある。共
重合体中の個々のコモノマー基の含量の範囲は、それら
の共通の性質および特にそれにより得られた、本発明に
よる感光性記録素子に関連して重要なことである。
としては、殊に1〜8個のC原子、特に1〜4個のC原
子7亙する@鎖状または分枝鎖状モノアルカノールのア
クリレートおよびメタクリレートが挙げられる。アルキ
ルアクリレートおよび/またはアルキルメタクリレート
は、完全にまたは待て部分的に、共重合体中に重合導入
されたコモノマーの全体量に対して1〜40重量%の量
でビニル芳香族化合物、例えばスチロール、ビニルドル
オールまたはα−メチルスチロールによって代えられて
いてもよい。共重合体中のアルキル(メタ2アクリレー
ト−コモノマ一単位および/マたはビニル芳香族−コモ
ノマ一単位の含量は、共重合体に対して30〜80重量
%の範囲内、特に40〜70重量%の範囲内にある。共
重合体中の個々のコモノマー基の含量の範囲は、それら
の共通の性質および特にそれにより得られた、本発明に
よる感光性記録素子に関連して重要なことである。
カルボキシル基をグリシジル(メタ)アクリレートで部
分エステル化した後に本発明による感光性記録素子の光
重合可能な記録層に高分子量結合剤として使用するのに
特に有利であることが判明した共重合体の例は、コモノ
マーを前記の量比で重合導入させて含有するヒドロキシ
プロビルアクリレート/メタクリル酸/メチルメ・タフ
リレート共重合体、しドロキシプロピルアクリレート/
アクリル酸/メチルメタクリレート共重合体およびヒド
ロキシエチルメタクリレート/メタクリル酸/メチルメ
タクリレート共重合体である。
分エステル化した後に本発明による感光性記録素子の光
重合可能な記録層に高分子量結合剤として使用するのに
特に有利であることが判明した共重合体の例は、コモノ
マーを前記の量比で重合導入させて含有するヒドロキシ
プロビルアクリレート/メタクリル酸/メチルメ・タフ
リレート共重合体、しドロキシプロピルアクリレート/
アクリル酸/メチルメタクリレート共重合体およびヒド
ロキシエチルメタクリレート/メタクリル酸/メチルメ
タクリレート共重合体である。
本発明によれば、高分子量結合剤として使用すべき共重
合体は、常用の自体公知の重合法によりコモノマーを、
例えば溶液中で共重合させろことによって得ろことがで
きる。溶液重合には、例えば低級アルカノール、ケトン
、エステルおよび類似物が溶剤と1〜て適当である。重
合開始剤としては、常用のラジカル反応開始剤、例えば
アゾ−ビス−イソブチロニトリル、ペンゾイルペルオキ
ンドおよび類似物がこれに該当する。重合温度は、一般
に50°C〜100℃の間にある。
合体は、常用の自体公知の重合法によりコモノマーを、
例えば溶液中で共重合させろことによって得ろことがで
きる。溶液重合には、例えば低級アルカノール、ケトン
、エステルおよび類似物が溶剤と1〜て適当である。重
合開始剤としては、常用のラジカル反応開始剤、例えば
アゾ−ビス−イソブチロニトリル、ペンゾイルペルオキ
ンドおよび類似物がこれに該当する。重合温度は、一般
に50°C〜100℃の間にある。
グリシジルアクリレートおよび/またはグリシジルメタ
クリレートでの部分エステル化は、一般に通常カルボキ
シル基金■共重合体をグリシジル(メタ)アクリレート
と、将に不活性溶剤中、例えばメチルエチルケトンまた
はグリフールジアルキルエーテル中で60〜120°C
で反応させることによって行なうことができる。
クリレートでの部分エステル化は、一般に通常カルボキ
シル基金■共重合体をグリシジル(メタ)アクリレート
と、将に不活性溶剤中、例えばメチルエチルケトンまた
はグリフールジアルキルエーテル中で60〜120°C
で反応させることによって行なうことができる。
■利には、カルホ゛キシル基含亙共重合体?グリンジル
(メタ)アクリレートで官能化することは、次のように
行なうことができろニ ジエチレングリコールジメチルエーテル中のカルボキ/
ル基含有共重合体の10〜20%の溶液′?:象入し、
約110°Cでグリ7ジル(メタンアクリレート30部
、熱安定剤2部(例えば、キンリゲン(Xyligen
” Al )および触媒2部(例えば、ジメチルアミノ
ピリジン、N−メチルイミダゾールまた(エテトラフ゛
チルアンモニウムヨーシト〕からなる溶液を約2時間で
滴加する。反応は、一般に約3.5時間後に終結する。
(メタ)アクリレートで官能化することは、次のように
行なうことができろニ ジエチレングリコールジメチルエーテル中のカルボキ/
ル基含有共重合体の10〜20%の溶液′?:象入し、
約110°Cでグリ7ジル(メタンアクリレート30部
、熱安定剤2部(例えば、キンリゲン(Xyligen
” Al )および触媒2部(例えば、ジメチルアミノ
ピリジン、N−メチルイミダゾールまた(エテトラフ゛
チルアンモニウムヨーシト〕からなる溶液を約2時間で
滴加する。反応は、一般に約3.5時間後に終結する。
次に、冷たい反応混合物は、1〜5%の固体含量に希釈
し、かつ水中で沈殿させろことかできろ。次に、沈殿し
た共重合体は、常法で濾別し、かつ乾燥することができ
ろ。
し、かつ水中で沈殿させろことかできろ。次に、沈殿し
た共重合体は、常法で濾別し、かつ乾燥することができ
ろ。
当該形式の1つまたはそれ以上のヒドロキンアルキル−
(メタンアクリレート共重合体ハ、高分子量結合剤とし
て本発明による感光性記録素子の光重合可能な記録層中
に含有すれていてもよい。
(メタンアクリレート共重合体ハ、高分子量結合剤とし
て本発明による感光性記録素子の光重合可能な記録層中
に含有すれていてもよい。
光重合可能な記録層は、高分子量結合剤とともに一般°
に少なくとも1つのyC重合可能の低分子量のエチレン
性不飽和化合物、少なくとも1つの光重合開始剤もしく
は光重合開始剤系ならびに場合によっては感光性記録素
子もしくはこれから得られた印刷版またはレジストパタ
ーンの一般的性質を改善するかないしは改質するための
他の添加剤および/または助剤を含有する。
に少なくとも1つのyC重合可能の低分子量のエチレン
性不飽和化合物、少なくとも1つの光重合開始剤もしく
は光重合開始剤系ならびに場合によっては感光性記録素
子もしくはこれから得られた印刷版またはレジストパタ
ーンの一般的性質を改善するかないしは改質するための
他の添加剤および/または助剤を含有する。
光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物として
は、単量体ならびに約5000までの分子量を有する光
重合可能のエチレン性不飽和オリゴマーがこれに該当し
、この場合光重合可能の低分子量の化合物は、一官能価
であっても多官能価であってもよく、すなわち1つまた
はそれ以上の光重合可能なエチレン性二重結合Y’!す
ることができろ。通常、光重合可能な記録層中には、二
官能価または多官能価の光重合可能の低分子量のエチレ
ン性不飽和化合物が単独で含有されているかまたは一官
能価の光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物
の従属的含量を■するその混合物で含有されている。光
重合可能な記録層中に単独で含有されているかまたは互
いの混合物で含有されていてもよい、光重合可能の低分
子量のエチレン性不飽和化合物の代表例としては、殊に
アクリル酸誘導体およびメタクリル酸誘導体、この中で
取りわけ(メタ)アクリル酸エステルが挙げられろ。そ
の例は、約500までの分子量7有するエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール
もしくはポリエチレングリコール、1.2− フロパン
ジオール、1,3−プロパンジオール、約500までの
分子量Y亙するポリプロピレングリコール、1,4−ブ
タンジオール、1,1.1−トリメチロールプロパン、
2,2−ジメチルプロパンジオール、グリセリンまたは
ペンタエリトリットのノー(メタ)アクリレートおよび
トリー(メタ)アクリレート:ペンタエリトリットテト
ラ−(メタ)アクリレート、グルツーストリーまたはグ
リコ−ステトラ−(メタ)アクリレート;さらに記載し
たジオールおよびポリオールのモノアクリレートおよび
モノメタクリレート、例えばエチレングリコでルー、ジ
エチレングリコール−、トリエチレングリコール−また
はテトラエチレングリコールモノ(メタノアクリレート
、プロパンジオール−モノ(メタ)アクリレートおよび
ブタンジオール−モノ(メタ)アクリレートならびにモ
ノアルカノールの(メタノアクリレート、殊に1〜20
個のC原子ヲ亙するモノアルカノールのかかるものであ
る。更に、光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化
合物としては、分子中に2辺またはそれ以上のアクリロ
イル基および/またはメタクリロイル基を有する?n量
体およびオリゴマーのウレタンアクリレートおよびウレ
タンメタクリレート7挙げろことができろ。場合によっ
てはアクリロイル基および/またはメタクリロイル基と
ともになお遊離カルボキシル基¥有することができろか
かる単量体またはオリゴマーのウレタン−(メタノアク
リレートは、常用の自体公知の方法により、例えば前記
種類のジオールまたはポリオールとジーまたはポリイソ
シアネート、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート等とを、遊離インシアネー
ト基との反応生成物の形成下に反応させ、かつこのイソ
シアネート基を例えばヒドロキシアルキル(メタ)アク
リレートと反f68せろことによって得られろ。
は、単量体ならびに約5000までの分子量を有する光
重合可能のエチレン性不飽和オリゴマーがこれに該当し
、この場合光重合可能の低分子量の化合物は、一官能価
であっても多官能価であってもよく、すなわち1つまた
はそれ以上の光重合可能なエチレン性二重結合Y’!す
ることができろ。通常、光重合可能な記録層中には、二
官能価または多官能価の光重合可能の低分子量のエチレ
ン性不飽和化合物が単独で含有されているかまたは一官
能価の光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物
の従属的含量を■するその混合物で含有されている。光
重合可能な記録層中に単独で含有されているかまたは互
いの混合物で含有されていてもよい、光重合可能の低分
子量のエチレン性不飽和化合物の代表例としては、殊に
アクリル酸誘導体およびメタクリル酸誘導体、この中で
取りわけ(メタ)アクリル酸エステルが挙げられろ。そ
の例は、約500までの分子量7有するエチレングリコ
ール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール
もしくはポリエチレングリコール、1.2− フロパン
ジオール、1,3−プロパンジオール、約500までの
分子量Y亙するポリプロピレングリコール、1,4−ブ
タンジオール、1,1.1−トリメチロールプロパン、
2,2−ジメチルプロパンジオール、グリセリンまたは
ペンタエリトリットのノー(メタ)アクリレートおよび
トリー(メタ)アクリレート:ペンタエリトリットテト
ラ−(メタ)アクリレート、グルツーストリーまたはグ
リコ−ステトラ−(メタ)アクリレート;さらに記載し
たジオールおよびポリオールのモノアクリレートおよび
モノメタクリレート、例えばエチレングリコでルー、ジ
エチレングリコール−、トリエチレングリコール−また
はテトラエチレングリコールモノ(メタノアクリレート
、プロパンジオール−モノ(メタ)アクリレートおよび
ブタンジオール−モノ(メタ)アクリレートならびにモ
ノアルカノールの(メタノアクリレート、殊に1〜20
個のC原子ヲ亙するモノアルカノールのかかるものであ
る。更に、光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化
合物としては、分子中に2辺またはそれ以上のアクリロ
イル基および/またはメタクリロイル基を有する?n量
体およびオリゴマーのウレタンアクリレートおよびウレ
タンメタクリレート7挙げろことができろ。場合によっ
てはアクリロイル基および/またはメタクリロイル基と
ともになお遊離カルボキシル基¥有することができろか
かる単量体またはオリゴマーのウレタン−(メタノアク
リレートは、常用の自体公知の方法により、例えば前記
種類のジオールまたはポリオールとジーまたはポリイソ
シアネート、例えばヘキサメチレンジイソシアネート、
イソホロンジイソシアネート等とを、遊離インシアネー
ト基との反応生成物の形成下に反応させ、かつこのイソ
シアネート基を例えばヒドロキシアルキル(メタ)アク
リレートと反f68せろことによって得られろ。
また、差当りヒドロキシアルキル−(メタンァクリレー
ト7ジーまたはポリイソシアネートと反応させ、引続き
生じろ不飽和インシアネート?ジオール−またはポリオ
ール成分と反応させろことができる。遊離カルボキシル
基をウレタン化合物中に導入させろために、ジオール成
分ないしは特にポリオール成分のヒドロキシル基の一部
は、種々のカルボン酸ないしは殊に環状ジカルボン酸無
水物と、カルボン酸の醗部分エステルの形成下に反応さ
せることかできる。また、本発明による感光性記録素子
に適当な光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合
物は、アクリロイル基および/またはメタクリロイル基
を有する化合物であり、例えばこの化合物は、アクリル
酸および/またはメタクリル酸をジーまたはポリエポキ
シ化合物と反応させることによって得られる。
ト7ジーまたはポリイソシアネートと反応させ、引続き
生じろ不飽和インシアネート?ジオール−またはポリオ
ール成分と反応させろことができる。遊離カルボキシル
基をウレタン化合物中に導入させろために、ジオール成
分ないしは特にポリオール成分のヒドロキシル基の一部
は、種々のカルボン酸ないしは殊に環状ジカルボン酸無
水物と、カルボン酸の醗部分エステルの形成下に反応さ
せることかできる。また、本発明による感光性記録素子
に適当な光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合
物は、アクリロイル基および/またはメタクリロイル基
を有する化合物であり、例えばこの化合物は、アクリル
酸および/またはメタクリル酸をジーまたはポリエポキ
シ化合物と反応させることによって得られる。
光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物σとし
ては、殊に前記種mの有利に使用されろアクリレートお
よびメタクリレートとともに、例えばN−ビニルピロリ
ドン、N−ビニルカプロラクタム、ビニルアセテート、
ビニル)゛ロピオネート、(メタ)アクリルアミド、N
−メチロール−(メタンアクリルアミド、エチレングリ
コールのビスエーテルおよびN−メチロール−(メタン
アクリルアミド、ビニルカルバメート、ビスアクリルア
ミド酢酸等のようなアリル化合物および別のビニル化合
物も挙げられろ。
ては、殊に前記種mの有利に使用されろアクリレートお
よびメタクリレートとともに、例えばN−ビニルピロリ
ドン、N−ビニルカプロラクタム、ビニルアセテート、
ビニル)゛ロピオネート、(メタ)アクリルアミド、N
−メチロール−(メタンアクリルアミド、エチレングリ
コールのビスエーテルおよびN−メチロール−(メタン
アクリルアミド、ビニルカルバメート、ビスアクリルア
ミド酢酸等のようなアリル化合物および別のビニル化合
物も挙げられろ。
この場合、光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化
合物は、当業者にとって自明のことであるが、それが高
分子量結合剤として使用されたヒドロキシルアルキル−
(メタ)アクリレート共重合体と相容性であるように選
択される。光重合可能な記録層中での高分子量結合剤と
、光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物との
量比は、広範な範囲内、例えば5:95〜90 : 1
0の範囲内で変動させることができ、一般には殊に40
: 60〜90 : 10の範囲内にある。光重合可
能な記録層中での高分子量結合剤および光重合可能の低
分子量のエチレン性不飽和化合物の含量は、この化合物
の種類に左右されろとともに、殊に感光性記録票子もし
くはこれから得られた印刷版また(ニレジストパターン
の望ましい将性画像に左右される。
合物は、当業者にとって自明のことであるが、それが高
分子量結合剤として使用されたヒドロキシルアルキル−
(メタ)アクリレート共重合体と相容性であるように選
択される。光重合可能な記録層中での高分子量結合剤と
、光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物との
量比は、広範な範囲内、例えば5:95〜90 : 1
0の範囲内で変動させることができ、一般には殊に40
: 60〜90 : 10の範囲内にある。光重合可
能な記録層中での高分子量結合剤および光重合可能の低
分子量のエチレン性不飽和化合物の含量は、この化合物
の種類に左右されろとともに、殊に感光性記録票子もし
くはこれから得られた印刷版また(ニレジストパターン
の望ましい将性画像に左右される。
一般に、前記の比は、光重合可能な記録層が室温で固体
であるように伊択される。このことは、殊に本発明によ
る感光性記録材料をフォトレジスト皮膜として使用する
ことに当てはまる。その上、高分子量結合剤と、光重合
可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物との比乞選択
することの判断基阜は、この化合物の種類に依存して当
業者に周知のことである。
であるように伊択される。このことは、殊に本発明によ
る感光性記録材料をフォトレジスト皮膜として使用する
ことに当てはまる。その上、高分子量結合剤と、光重合
可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物との比乞選択
することの判断基阜は、この化合物の種類に依存して当
業者に周知のことである。
光重合可能な記録層のための光重合開始剤としては、光
重合可能な感光性記録材料に常用で自体公知の光重合開
始剤ないしは光重合開始剤系がこれに該当する。そのた
めの例は、次のものが挙げ6hろ:ベンゾイン、ベンゾ
インエーテル、殊ニペンゾインアルキルエーテル、置換
ベンゾイン、置換ベンゾ(ンのアルキルエーテル、例え
ばα−メチルベンゾインアルキルエーテルまたにα−ヒ
ドロキ・/メチルベンゾインアルキルエーテル;ベンジ
ル、ベンジルケタール、殊にベンジルジメチルケタール
、ベンジルメチルエチルケタールまたはベンジルメチル
ベンジルケタール:光重合開始剤として有効なアシルホ
スフィンオキシト化合物、例えハ置換ベンゾイルージア
リールホスフィンオキ/ド;ベンゾフェノン、ベンゾフ
ェノン誘導体、4.4′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、=1.4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトンの誘導体;アントラキノンおよび置換アント
ラキノ/ニアリール置換イミダゾールまたはその誘導体
、例えハ2,4.5− )リアリールイミダゾールニ量
体:2−クロルチオキサントンおよび光重合開始剤とし
て有効なアクリジン−またはフェナジン誘導体。光重合
開始7!FIl系の例は、記載した光重合開始剤と、増
感助剤または活性剤、例えば殊に第三アミンとの組合せ
物である。このような開始剤系の典型的な例は、ベンゾ
フェノンまたはベンゾフェノン誘導体と、第三アミン、
例えばトリエタノ−ルアミンまたハミヒラーケトンとの
組合せ物であるかまたは2.4.5− トリアリールイ
ミダゾール二を体と、2−メルカプトベンゾキナゾール
またはトリフェニルメタン染料のロイコ塩基との混合物
である。光重合開始剤ないしは光重合開始剤系を適当に
選択することは、当業者の周知せるところである。光重
合開始剤ないしは光重合開始剤系は、光重合可能な記録
層中に一般に光重合可能な記録層に対して0.001〜
10重量%の量、特に0.05〜5重量%の量で含有さ
れている。
重合可能な感光性記録材料に常用で自体公知の光重合開
始剤ないしは光重合開始剤系がこれに該当する。そのた
めの例は、次のものが挙げ6hろ:ベンゾイン、ベンゾ
インエーテル、殊ニペンゾインアルキルエーテル、置換
ベンゾイン、置換ベンゾ(ンのアルキルエーテル、例え
ばα−メチルベンゾインアルキルエーテルまたにα−ヒ
ドロキ・/メチルベンゾインアルキルエーテル;ベンジ
ル、ベンジルケタール、殊にベンジルジメチルケタール
、ベンジルメチルエチルケタールまたはベンジルメチル
ベンジルケタール:光重合開始剤として有効なアシルホ
スフィンオキシト化合物、例えハ置換ベンゾイルージア
リールホスフィンオキ/ド;ベンゾフェノン、ベンゾフ
ェノン誘導体、4.4′−ジメチルアミノベンゾフェノ
ン、=1.4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒ
ラーケトンの誘導体;アントラキノンおよび置換アント
ラキノ/ニアリール置換イミダゾールまたはその誘導体
、例えハ2,4.5− )リアリールイミダゾールニ量
体:2−クロルチオキサントンおよび光重合開始剤とし
て有効なアクリジン−またはフェナジン誘導体。光重合
開始7!FIl系の例は、記載した光重合開始剤と、増
感助剤または活性剤、例えば殊に第三アミンとの組合せ
物である。このような開始剤系の典型的な例は、ベンゾ
フェノンまたはベンゾフェノン誘導体と、第三アミン、
例えばトリエタノ−ルアミンまたハミヒラーケトンとの
組合せ物であるかまたは2.4.5− トリアリールイ
ミダゾール二を体と、2−メルカプトベンゾキナゾール
またはトリフェニルメタン染料のロイコ塩基との混合物
である。光重合開始剤ないしは光重合開始剤系を適当に
選択することは、当業者の周知せるところである。光重
合開始剤ないしは光重合開始剤系は、光重合可能な記録
層中に一般に光重合可能な記録層に対して0.001〜
10重量%の量、特に0.05〜5重量%の量で含有さ
れている。
本発明による感光性記録素子の光重合可能な記録層中に
含有されていてもよ℃・他の添加剤および/または助剤
としては、例えば熱重合抑制剤、染料および/または顔
料、フォトクロミック化合物もしくはフォトクロミック
系、センシトメトリック調整剤、可塑剤、流展助剤、充
填剤、強化剤、艶消剤または滑剤および類似物がこれに
該当する。
含有されていてもよ℃・他の添加剤および/または助剤
としては、例えば熱重合抑制剤、染料および/または顔
料、フォトクロミック化合物もしくはフォトクロミック
系、センシトメトリック調整剤、可塑剤、流展助剤、充
填剤、強化剤、艶消剤または滑剤および類似物がこれに
該当する。
適当な熱重合抑制剤は、例えばヒドロキノン、ヒドロキ
ノン誘導体、2,6−ジー第三ブチル−p−タレゾール
、ニトロフェノール、N−ニトロソアミン、例えばN−
ニトロンジフェニルアミンまたはN−ニトロソノクロヘ
キ・ンルヒドロキシルアミン塩である。コントラスト剤
であってもよ見・し、層強化作用を有していてもよい染
料および/また(工顔料の例(・工、なかんずくブリリ
アントグリーン染F) (カラーインデックス番号42
040 ) 、ビクトリアピュアブルーFGA 、ビク
トリアピュアブルーBO(カラーインデックス番号42
595 )、マラカイトグリーン、クリスタルバイオレ
ット、ビクトリアブルーB(カラーインデックス番号4
4045 )、ローダミン6(カラーインデックス番号
45]60 )、ナフタルイミド染料、アゾゾルおよび
3′−フェニル−7−シメチルアミノー2,2′−スピ
ロ−ジー(2H−1−ベンゾビラン)である。化学線で
の露光の際に可逆的または不可逆的に色を変えるが、そ
の際光重合過程を損なうことのないフォトクロミック系
は、例えば適当な活性剤と一緒のロイコ染料である。ロ
イコ染料の例としては、トリフェニルメタン染料のロイ
コ塩基、例えばクリスタルバイオレット−ロイコ塩基お
よびマラカイトグリーン−ロイコ塩基、ロイツー塩基性
ブルー、ロイコ−バラロスアニリン、ロイコ−パテント
ブルーAまたはVが挙げられ;さらにローダミンB−塩
基も当てはまる。このフォトクロミック化合物に対する
活性剤としては、なかんずく化学線での露光の際にハロ
ゲン遊琲基を脱離する有機ハロゲン化合物が当てはまる
かまたはへキサアリールビスイミダゾールが当てはまる
。センシトメトリック調整剤には、例えば9−ニトロア
ントラセン、10゜10′−ビスアントロン、殊に温和
な還元剤との組合せ物のツェナジニウム−、フェノキサ
ジニウム−、アクリジニウム−またGエフエッチアジニ
ウム染料、1.3−ジニトロペンゾールおよび類似物が
属する。可塑剤としては、自体公知の常用の低分子量ま
たは高分子量エステル、例えばフタレートまたはアジペ
ート、ベンゾ−ルーもしくバドルオールスルホンアミド
またはトリクレジルホスフェート乞使用することかでき
ろ。添加剤および/または助剤は、光重合可能な記録層
中にこれらの物質に対して常用で公知の有効量で存在し
ている。
ノン誘導体、2,6−ジー第三ブチル−p−タレゾール
、ニトロフェノール、N−ニトロソアミン、例えばN−
ニトロンジフェニルアミンまたはN−ニトロソノクロヘ
キ・ンルヒドロキシルアミン塩である。コントラスト剤
であってもよ見・し、層強化作用を有していてもよい染
料および/また(工顔料の例(・工、なかんずくブリリ
アントグリーン染F) (カラーインデックス番号42
040 ) 、ビクトリアピュアブルーFGA 、ビク
トリアピュアブルーBO(カラーインデックス番号42
595 )、マラカイトグリーン、クリスタルバイオレ
ット、ビクトリアブルーB(カラーインデックス番号4
4045 )、ローダミン6(カラーインデックス番号
45]60 )、ナフタルイミド染料、アゾゾルおよび
3′−フェニル−7−シメチルアミノー2,2′−スピ
ロ−ジー(2H−1−ベンゾビラン)である。化学線で
の露光の際に可逆的または不可逆的に色を変えるが、そ
の際光重合過程を損なうことのないフォトクロミック系
は、例えば適当な活性剤と一緒のロイコ染料である。ロ
イコ染料の例としては、トリフェニルメタン染料のロイ
コ塩基、例えばクリスタルバイオレット−ロイコ塩基お
よびマラカイトグリーン−ロイコ塩基、ロイツー塩基性
ブルー、ロイコ−バラロスアニリン、ロイコ−パテント
ブルーAまたはVが挙げられ;さらにローダミンB−塩
基も当てはまる。このフォトクロミック化合物に対する
活性剤としては、なかんずく化学線での露光の際にハロ
ゲン遊琲基を脱離する有機ハロゲン化合物が当てはまる
かまたはへキサアリールビスイミダゾールが当てはまる
。センシトメトリック調整剤には、例えば9−ニトロア
ントラセン、10゜10′−ビスアントロン、殊に温和
な還元剤との組合せ物のツェナジニウム−、フェノキサ
ジニウム−、アクリジニウム−またGエフエッチアジニ
ウム染料、1.3−ジニトロペンゾールおよび類似物が
属する。可塑剤としては、自体公知の常用の低分子量ま
たは高分子量エステル、例えばフタレートまたはアジペ
ート、ベンゾ−ルーもしくバドルオールスルホンアミド
またはトリクレジルホスフェート乞使用することかでき
ろ。添加剤および/または助剤は、光重合可能な記録層
中にこれらの物質に対して常用で公知の有効量で存在し
ている。
しかし、この有効量は、一般に光重合可能な記録層に対
して30重量%、将に20重量%を越えてはならない。
して30重量%、将に20重量%を越えてはならない。
個々の成分が光重合可能な記録層中に存在している混合
比は、一般にこの記録層がアルカリ性水溶液で現像可能
なだけでなく、好ましくは室温で固体でありかつ良好な
皮膜形成特性暑■するような程度に選択される。その上
、フォトレジストフィルムとして使用するには、組成は
、光重合可能な記録層か良好に積層可能であり、かつ圧
力の使用下および場合によっては熱の使用下に基材上に
転移可能であるように選択されろ。光重合可能な記録層
の厚さは、周知のように感光性記録素子の使用目的に左
右され、したがって広範な範囲内で変動することかでき
る。レジストパターンを製造するには、一般に光重合可
能な記録層の層厚は、約1〜5071の範囲内にあり;
凸版印刷版乞製造するためには、例えば約100μ〜数
電の層厚が当てはまる。
比は、一般にこの記録層がアルカリ性水溶液で現像可能
なだけでなく、好ましくは室温で固体でありかつ良好な
皮膜形成特性暑■するような程度に選択される。その上
、フォトレジストフィルムとして使用するには、組成は
、光重合可能な記録層か良好に積層可能であり、かつ圧
力の使用下および場合によっては熱の使用下に基材上に
転移可能であるように選択されろ。光重合可能な記録層
の厚さは、周知のように感光性記録素子の使用目的に左
右され、したがって広範な範囲内で変動することかでき
る。レジストパターンを製造するには、一般に光重合可
能な記録層の層厚は、約1〜5071の範囲内にあり;
凸版印刷版乞製造するためには、例えば約100μ〜数
電の層厚が当てはまる。
本発明の典型的な実施態様の場合、感光性記録素子の光
重合可能な記録層は、 a)高分子量結合剤としての前記種類のグリシジル(メ
タコアクリレートで部分エステル化された少なくとも1
つの共重合体40〜90重量%、 b)光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物が
高分子量結合剤と相容性でなければならないという条件
下に、2個またはそれ以上の重合可能な二重結合1個す
る光重合可能の低分子量の少なくとも1つのエチレン性
不飽和化合物またはこの化合物と、光重合可能な二重結
合1個のみt亙する光重合可能の低分子量のエチレン性
不飽和化合物の従属的含量との混合物8〜55重量%、 C) 少なくとも1つの光重合開始剤ないしは光重合
開始剤系0.001〜10重量%ならびにd)感光性記
録素子の一般的性質ないしはこれから得られた印刷版ま
たはレジストパターンの一般的性質を改善するかないし
は改質する他の添凋剤および/または助剤0〜30重量
%、例えば0.5〜5重量%、殊に1〜3重世%の量の
常用の可塑剤 の均質でアルカリ現像水溶液に可溶であるかまたは少な
くとも分散可能な皮膜形成性混合物からなる。
重合可能な記録層は、 a)高分子量結合剤としての前記種類のグリシジル(メ
タコアクリレートで部分エステル化された少なくとも1
つの共重合体40〜90重量%、 b)光重合可能の低分子量のエチレン性不飽和化合物が
高分子量結合剤と相容性でなければならないという条件
下に、2個またはそれ以上の重合可能な二重結合1個す
る光重合可能の低分子量の少なくとも1つのエチレン性
不飽和化合物またはこの化合物と、光重合可能な二重結
合1個のみt亙する光重合可能の低分子量のエチレン性
不飽和化合物の従属的含量との混合物8〜55重量%、 C) 少なくとも1つの光重合開始剤ないしは光重合
開始剤系0.001〜10重量%ならびにd)感光性記
録素子の一般的性質ないしはこれから得られた印刷版ま
たはレジストパターンの一般的性質を改善するかないし
は改質する他の添凋剤および/または助剤0〜30重量
%、例えば0.5〜5重量%、殊に1〜3重世%の量の
常用の可塑剤 の均質でアルカリ現像水溶液に可溶であるかまたは少な
くとも分散可能な皮膜形成性混合物からなる。
光重合可能な記録層のだめの支持体としては、当該形式
の感光性記録素子に常用の自体公知で寸法安定性の剛性
または待に可撓性の層支持体がこれに該当し、この場合
この層支持体の種類は、感光性記録素子の使用目的によ
って決定されろ。丁なわち、印刷版を製造するためには
、寸法安定性の支持体としては、殊にプラスチックフィ
ルムまたは−シート、例えばポリエステルノート、なら
びに金属の層支持体、例えば鋼−またはアルミニウムD
板が当てはまる。フォトレジスト皮膜および層転移材料
には支持材料として、将に光重合可能な記録層に対して
適度の付着力7有しかつ光重合可能な記録層乞支持体上
に積層するかないしは貼り合せた後にこの記録層から化
学線での露光前または露光後に剥離することができるグ
ラスチックフィルムまたは一シート、殊にポリエステル
シートが使用される。レジストパターンを製造するには
、光重合可能な記録層は、保護丁べきならびに場合によ
っては耐久的に改質すべき基材上に直接設けることもで
き、この場合この基材は、光重合可能な記録層のための
支持体として使用される。
の感光性記録素子に常用の自体公知で寸法安定性の剛性
または待に可撓性の層支持体がこれに該当し、この場合
この層支持体の種類は、感光性記録素子の使用目的によ
って決定されろ。丁なわち、印刷版を製造するためには
、寸法安定性の支持体としては、殊にプラスチックフィ
ルムまたは−シート、例えばポリエステルノート、なら
びに金属の層支持体、例えば鋼−またはアルミニウムD
板が当てはまる。フォトレジスト皮膜および層転移材料
には支持材料として、将に光重合可能な記録層に対して
適度の付着力7有しかつ光重合可能な記録層乞支持体上
に積層するかないしは貼り合せた後にこの記録層から化
学線での露光前または露光後に剥離することができるグ
ラスチックフィルムまたは一シート、殊にポリエステル
シートが使用される。レジストパターンを製造するには
、光重合可能な記録層は、保護丁べきならびに場合によ
っては耐久的に改質すべき基材上に直接設けることもで
き、この場合この基材は、光重合可能な記録層のための
支持体として使用される。
フォトレジスト層のための基材としては、例えば銅薄板
、銅張りした基材、金属または金属酸化物層で被覆すれ
たセラミック基材、半導体素子、シリコーンウニ7アー
および類似物がこれに該当する。光重合可能な記録層の
ための支持材料は、場合によっては自体公知の方法で、
例えば機械的、化学的、電気化学的に前処理されていて
もよくおよび/または付着下塗剤ビ備えさせることによ
って前処理されていてもよい。同様に、光重合可能な記
録層と支持体との間にはなお1つまたはそれ以上の中間
層が配置されていてもよく、この中間層は、印刷版乞製
造するための感光性記録素子の場合、例えば付着層およ
び/またはハレーション防止層として構成させることが
できろ。
、銅張りした基材、金属または金属酸化物層で被覆すれ
たセラミック基材、半導体素子、シリコーンウニ7アー
および類似物がこれに該当する。光重合可能な記録層の
ための支持材料は、場合によっては自体公知の方法で、
例えば機械的、化学的、電気化学的に前処理されていて
もよくおよび/または付着下塗剤ビ備えさせることによ
って前処理されていてもよい。同様に、光重合可能な記
録層と支持体との間にはなお1つまたはそれ以上の中間
層が配置されていてもよく、この中間層は、印刷版乞製
造するための感光性記録素子の場合、例えば付着層およ
び/またはハレーション防止層として構成させることが
できろ。
全く同様に、光重合可能な記録層の支持体から離れた表
面上には、■利に光重合可能な記録層と同様に現像溶剤
に可溶であるかまたはこの記録層から現像前に剥離可能
である被覆層または被覆シートがなお配置されていても
よい。この被覆層もしくは被覆シートは、なかんずく感
光性記録材料を貯蔵しかつ取扱う際に光重合可能な記録
層?保護することに使用され、また光重合可能な記録層
のための酸素遮断層として使用されろ。例えば、ホリヒ
ニルアルコールまたfエポリビニルアルフール誘導体か
らなる被覆層ないしは殊にフォトレジストフィルムの場
合にポリオレフィン、例えばポリエチレンまたはポリプ
ロピレンからなる被蓑シートは、特に好適であることが
判明した。
面上には、■利に光重合可能な記録層と同様に現像溶剤
に可溶であるかまたはこの記録層から現像前に剥離可能
である被覆層または被覆シートがなお配置されていても
よい。この被覆層もしくは被覆シートは、なかんずく感
光性記録材料を貯蔵しかつ取扱う際に光重合可能な記録
層?保護することに使用され、また光重合可能な記録層
のための酸素遮断層として使用されろ。例えば、ホリヒ
ニルアルコールまたfエポリビニルアルフール誘導体か
らなる被覆層ないしは殊にフォトレジストフィルムの場
合にポリオレフィン、例えばポリエチレンまたはポリプ
ロピレンからなる被蓑シートは、特に好適であることが
判明した。
本発明による感光性記録素子を製造することは、常用の
自体公知の方法で光重合可能な記録層乞形成する成分の
均質混合物乞製造しかつこの混合物を場合によっては中
間層を■する寸法安定性の支持体上に層状に設けること
によって行なうことができる。感光性記録素子は、光重
合可能な記録層の成分ケ適当な溶剤または溶剤混合物に
溶解し、かつこの溶液を注型、浸漬、噴霧または別の公
知の塗布技術によって所望の層厚で支持体上に設けろこ
とにより得るのが好ましい。引続き、溶剤は、常法で除
去され、光重合可能な記録Nは乾燥されろ。成分を混合
しかつ光重合可能な記録層乞支持体上に設けるのに適当
な溶剤は、なかんずく低級アルコール、ケトンまたはエ
ステル、例えばメタノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、エチルアセテートおよび類似物、ならびにこれら
の混合物である。
自体公知の方法で光重合可能な記録層乞形成する成分の
均質混合物乞製造しかつこの混合物を場合によっては中
間層を■する寸法安定性の支持体上に層状に設けること
によって行なうことができる。感光性記録素子は、光重
合可能な記録層の成分ケ適当な溶剤または溶剤混合物に
溶解し、かつこの溶液を注型、浸漬、噴霧または別の公
知の塗布技術によって所望の層厚で支持体上に設けろこ
とにより得るのが好ましい。引続き、溶剤は、常法で除
去され、光重合可能な記録Nは乾燥されろ。成分を混合
しかつ光重合可能な記録層乞支持体上に設けるのに適当
な溶剤は、なかんずく低級アルコール、ケトンまたはエ
ステル、例えばメタノール、アセトン、メチルエチルケ
トン、エチルアセテートおよび類似物、ならびにこれら
の混合物である。
引続き、光重合可能な記録層上には、必要に応じてなお
被覆層または被覆シートを設けろことができろ。
被覆層または被覆シートを設けろことができろ。
本発明による感光性記録素子は、好ましくは印刷版また
はレジストパターン?常用の自体公知の方法により製造
するのに適当である。このために、光重合可能な記録層
は、フォトレジストフィルムおよび層転移材料の場合に
保護すべき基材上への層転移後に画像に応じて化学線で
露光され、この場合このために化学線の常用の光源、例
えばUV−螢光管、高圧水銀灯、中圧水銀灯または低圧
水銀灯、超化学線発光管、キセノン灯、またUV −レ
ーサー、アルゴンレーザーおよび類似物・は適当である
。光源から放射されろ波長は、一般に230〜450
nmの間、有利に300〜420 nmの間にあり、殊
に光重合可能な記録層中に含有されている光重合開始剤
の固有吸収に一致していなければならない。光重合は、
画像に応じて化学線で露光することによって記録層の露
光領域内で開始され、この光重合は、架橋、ひいては露
光した層領域と、未露光の層領域との間の溶解度の差を
導く。画像に応じての露光後、印刷版ないしはレジスト
パターンは、記録層の未露光の架橋されてない領域をア
ルカリ現像水溶液で洗浄除去することによって現像され
る。現像は、洗浄、噴霧、擦過、刷毛塗り等によって行
なうことができろ。この場合、本発明による記録素子は
、犬ぎい現像のゆとりおよび極めて僅かな過洗浄不安定
性を示す。現像液としては、一般に8〜14の範囲内、
特に約9〜13の範囲内の最も有利なpH値に調節する
ためにアルカリ性反応する物質、例えばポラツクス、燐
酸水素二ナトリウム、ソーダ、アルカリ金属水酸化物ま
たは■機塩基、例えば水に溶解したジーまたはトリエタ
ノールアミンを含有するアルカリ性水溶液がこれに該当
てろ。また、アルカリ現像水溶液は、g B塩、例えば
水溶性アルカリ金属燐酸塩、−珪酸塩、−硼酸塩、−酢
酸塩または一安息香酸塩を含有することかできろ。現像
液の他の成分としては、湿潤剤、特に陰イオン性湿潤剤
、及び場合によっては水溶性重合体、例えばナトリウム
カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、
ポリナトリウムアクリレートおよび類似物を一緒に使用
することかできる。本発明による記録素子が一般に純粋
なアルカリ現像水溶液で洗浄除去されるとしても、勿論
アルカリ現像水溶液がなお水溶性有機溶剤、例えば脂肪
族アルコールの僅かな添加量をπすることが不必要でも
あることは、原則的に可能である。
はレジストパターン?常用の自体公知の方法により製造
するのに適当である。このために、光重合可能な記録層
は、フォトレジストフィルムおよび層転移材料の場合に
保護すべき基材上への層転移後に画像に応じて化学線で
露光され、この場合このために化学線の常用の光源、例
えばUV−螢光管、高圧水銀灯、中圧水銀灯または低圧
水銀灯、超化学線発光管、キセノン灯、またUV −レ
ーサー、アルゴンレーザーおよび類似物・は適当である
。光源から放射されろ波長は、一般に230〜450
nmの間、有利に300〜420 nmの間にあり、殊
に光重合可能な記録層中に含有されている光重合開始剤
の固有吸収に一致していなければならない。光重合は、
画像に応じて化学線で露光することによって記録層の露
光領域内で開始され、この光重合は、架橋、ひいては露
光した層領域と、未露光の層領域との間の溶解度の差を
導く。画像に応じての露光後、印刷版ないしはレジスト
パターンは、記録層の未露光の架橋されてない領域をア
ルカリ現像水溶液で洗浄除去することによって現像され
る。現像は、洗浄、噴霧、擦過、刷毛塗り等によって行
なうことができろ。この場合、本発明による記録素子は
、犬ぎい現像のゆとりおよび極めて僅かな過洗浄不安定
性を示す。現像液としては、一般に8〜14の範囲内、
特に約9〜13の範囲内の最も有利なpH値に調節する
ためにアルカリ性反応する物質、例えばポラツクス、燐
酸水素二ナトリウム、ソーダ、アルカリ金属水酸化物ま
たは■機塩基、例えば水に溶解したジーまたはトリエタ
ノールアミンを含有するアルカリ性水溶液がこれに該当
てろ。また、アルカリ現像水溶液は、g B塩、例えば
水溶性アルカリ金属燐酸塩、−珪酸塩、−硼酸塩、−酢
酸塩または一安息香酸塩を含有することかできろ。現像
液の他の成分としては、湿潤剤、特に陰イオン性湿潤剤
、及び場合によっては水溶性重合体、例えばナトリウム
カルボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、
ポリナトリウムアクリレートおよび類似物を一緒に使用
することかできる。本発明による記録素子が一般に純粋
なアルカリ現像水溶液で洗浄除去されるとしても、勿論
アルカリ現像水溶液がなお水溶性有機溶剤、例えば脂肪
族アルコールの僅かな添加量をπすることが不必要でも
あることは、原則的に可能である。
本発明による感光性記録素子は、良好な露光特性および
アルカリ現像水溶液中での良好な現像可能性を示し、そ
れによって極めて微細な画像素子乞オリジナルに正確に
確実に再現させることも可能である。本発明による光重
合可能な記録層は、金属または金属酸化物素地上で、画
像に応じて露光した記録層乞現像する際に洗浄除去した
領域内での残a層の付着物の形成を生じろことなしに極
めて良好な付着力7有する。本発明による感光性記録材
料は、原則的に電子複写および光学的情報固定の全ての
使用分野、殊に印刷版およびレジストパターンの製造に
適当である。
アルカリ現像水溶液中での良好な現像可能性を示し、そ
れによって極めて微細な画像素子乞オリジナルに正確に
確実に再現させることも可能である。本発明による光重
合可能な記録層は、金属または金属酸化物素地上で、画
像に応じて露光した記録層乞現像する際に洗浄除去した
領域内での残a層の付着物の形成を生じろことなしに極
めて良好な付着力7有する。本発明による感光性記録材
料は、原則的に電子複写および光学的情報固定の全ての
使用分野、殊に印刷版およびレジストパターンの製造に
適当である。
本発明による感光性記録素子は、本質的に改善された感
光性を■する。それによって、PVAL +保護フィル
ムなしのプレセンシクイズされたオフセット板は、一部
公知技術水準に相当するものよりも迅速な露光時間を有
する。
光性を■する。それによって、PVAL +保護フィル
ムなしのプレセンシクイズされたオフセット板は、一部
公知技術水準に相当するものよりも迅速な露光時間を有
する。
結合剤の分子間架橋のために極端な分子量の増大が得ら
れ、このことは、オフセット層の安定性が改善されたこ
と7表わす。
れ、このことは、オフセット層の安定性が改善されたこ
と7表わす。
本発明による感光性記録票子を基礎とする、PMAL−
保護フィルムを有する感光性重合体のオフセット層は、
レーザーで書き込むことができ、かつ印刷版のコンピュ
ーターによる電気版製造に適当である。
保護フィルムを有する感光性重合体のオフセット層は、
レーザーで書き込むことができ、かつ印刷版のコンピュ
ーターによる電気版製造に適当である。
実施例
次に、本発明暑実施例によって詳説する。実施例中に記
載された「部」および「%」は、別記しない限り「重量
部」または「重量%」である。
載された「部」および「%」は、別記しない限り「重量
部」または「重量%」である。
グリシジル(メタノアクリレートでのカルボキンル基含
有共重合体の改質: 反応容器中でメタクリル酸メチルエステル65%、ヒド
ロキシプロピルアクリレート15%およびメタクリル酸
20%からなる共重合体(フイケンチャ=(Fiken
tscher )によるに値: 22 ) ’a?ジエ
チレングリコールジメチルエーテルに溶解し、シタがっ
て固体含量15%の溶液を生成させる。この溶液”%
110″Cに加熱し、この温度でこれにグリシジルメタ
クリレート30部、熱安定剤2部(例えば、キシリデン
(Xyligen■)kl)およびエステル化触媒2部
(例えば、ジメチルアミノピリジン、N−メチルイミダ
ゾールまたにテトラブチルアンモニウムヨージド)から
なろ溶M、’<2時間で均一に滴加する。反応は約3.
5時間後に終結する。冷却後、生じる反応混合Wを3%
の固体含量に希釈し、水中で沈殿させ、かつ沈殿した共
重合体り50°Cで油ポンプによる真空下で乾燥する。
有共重合体の改質: 反応容器中でメタクリル酸メチルエステル65%、ヒド
ロキシプロピルアクリレート15%およびメタクリル酸
20%からなる共重合体(フイケンチャ=(Fiken
tscher )によるに値: 22 ) ’a?ジエ
チレングリコールジメチルエーテルに溶解し、シタがっ
て固体含量15%の溶液を生成させる。この溶液”%
110″Cに加熱し、この温度でこれにグリシジルメタ
クリレート30部、熱安定剤2部(例えば、キシリデン
(Xyligen■)kl)およびエステル化触媒2部
(例えば、ジメチルアミノピリジン、N−メチルイミダ
ゾールまたにテトラブチルアンモニウムヨージド)から
なろ溶M、’<2時間で均一に滴加する。反応は約3.
5時間後に終結する。冷却後、生じる反応混合Wを3%
の固体含量に希釈し、水中で沈殿させ、かつ沈殿した共
重合体り50°Cで油ポンプによる真空下で乾燥する。
得られた共重合体(工、KOH25η/7の酸価に有す
る。
る。
実施例 1
上記のグリシジルメタクリレートで改質された力゛ルボ
キシル基含有共重合体(酸価:25)59%単量体(l
、4−ブタンジオールジグリシジルエーテルのジアクリ
レート)30% ミヒラーケトン 2%2−
(4’−メトキシナフチル−1’)−4,6−ビス−
(トリクロルメチル)−S−)リアジン6%プロムフエ
/−ルブルー 】%可塑剤1ペンゾー
ルスルホン酸−n−ブチルアミ ド ン
2 %をテトラヒドロフラン90部と酢酸エチル
エステル90部との溶剤混合物中で処理して5%の均質
溶液にし、この均質溶に!i、?:ドクターブレード(
注型間隙35μ、排出速度250fifi/分)2用い
て電気分解により粗面化されかつ陽極酸化された、平版
印刷板に典型的なアルミニウム支持薄板上に塗布した。
キシル基含有共重合体(酸価:25)59%単量体(l
、4−ブタンジオールジグリシジルエーテルのジアクリ
レート)30% ミヒラーケトン 2%2−
(4’−メトキシナフチル−1’)−4,6−ビス−
(トリクロルメチル)−S−)リアジン6%プロムフエ
/−ルブルー 】%可塑剤1ペンゾー
ルスルホン酸−n−ブチルアミ ド ン
2 %をテトラヒドロフラン90部と酢酸エチル
エステル90部との溶剤混合物中で処理して5%の均質
溶液にし、この均質溶に!i、?:ドクターブレード(
注型間隙35μ、排出速度250fifi/分)2用い
て電気分解により粗面化されかつ陽極酸化された、平版
印刷板に典型的なアルミニウム支持薄板上に塗布した。
それぞれ80°Cで10分間の乾・操後、2.5μ(約
2.75’/m’)の乾・操層厚を有する光重合可能な
層を生じた。こうして得られた平版印刷板(酸素遮断層
なし)は、差当り6日間閉じた袋の中に留めた。その後
に、この平版印刷板乞必要とされる最少露光時間馨測定
するためにフォグラ(FOGRA )FMS−試験ス)
IJツブ乞通じて化学線で露光した。
2.75’/m’)の乾・操層厚を有する光重合可能な
層を生じた。こうして得られた平版印刷板(酸素遮断層
なし)は、差当り6日間閉じた袋の中に留めた。その後
に、この平版印刷板乞必要とされる最少露光時間馨測定
するためにフォグラ(FOGRA )FMS−試験ス)
IJツブ乞通じて化学線で露光した。
露光後、この板乞1%のソーダ水溶液(pH値約11
)で45秒間現像した。
)で45秒間現像した。
記録禦千の性質:
露 光 時 間:30秒間+ 3 kWのHg灯で)分
解 能:に値(フオグラ(FOGRA )後ノロ
〜 8 μ 色 の 変 化 : 良好 オフセット化学桑品に対する安定性:公知技術水準と比
較可能印 刷 能 カニ ) 160000枚の印刷物
実施例1を繰り返したが、平版印刷板の光重合可能な層
の自由表面上に乾燥直後にポリビニルアルコール(鹸化
度約98%〕かもなる酸素遮断層′?:5μ(約677
m”)の層厚で設けた。この酸素遮断層を■する平版印
刷板につ(・て、酸素遮断層なしの板と同様に必要とさ
れる最少露光時間およびフオグラ[FOGRA ) F
MS−試験ストリップを通じての化学線での画像に応じ
ての露光によって達成可能な分解能を測定した。
解 能:に値(フオグラ(FOGRA )後ノロ
〜 8 μ 色 の 変 化 : 良好 オフセット化学桑品に対する安定性:公知技術水準と比
較可能印 刷 能 カニ ) 160000枚の印刷物
実施例1を繰り返したが、平版印刷板の光重合可能な層
の自由表面上に乾燥直後にポリビニルアルコール(鹸化
度約98%〕かもなる酸素遮断層′?:5μ(約677
m”)の層厚で設けた。この酸素遮断層を■する平版印
刷板につ(・て、酸素遮断層なしの板と同様に必要とさ
れる最少露光時間およびフオグラ[FOGRA ) F
MS−試験ストリップを通じての化学線での画像に応じ
ての露光によって達成可能な分解能を測定した。
性 質:
露光時間:1秒間(3kWのHg−灯で2分解能:に値
(フオグラ(FOGRA )後)10〜12μ 色の変化:良好 実施例 3 実施例1を繰り返したが、共重合体をグリシジルメタク
リレートの代りにグリシジルアクリレート(前記のよう
にして得た〕と反応させ、かつ結合剤として使用した。
(フオグラ(FOGRA )後)10〜12μ 色の変化:良好 実施例 3 実施例1を繰り返したが、共重合体をグリシジルメタク
リレートの代りにグリシジルアクリレート(前記のよう
にして得た〕と反応させ、かつ結合剤として使用した。
これから得られた記録素子の性質:
露光時間:32秒間(3kWのHg−灯で)分解能二に
値(フオグラ(FOQRA )後)10μ色の変化:良
好 実施例 4 実施例2に相応して実施するが、l、4−ブタンジオー
ルジグリシジルエーテルのジアクリレートの代りにトリ
メチロールプロパントリアクリレートを使用し、ブロム
7エ/−ルブルーをビクトリアブルーに代えた。
値(フオグラ(FOQRA )後)10μ色の変化:良
好 実施例 4 実施例2に相応して実施するが、l、4−ブタンジオー
ルジグリシジルエーテルのジアクリレートの代りにトリ
メチロールプロパントリアクリレートを使用し、ブロム
7エ/−ルブルーをビクトリアブルーに代えた。
性 質:
露光時間:2秒間
Claims (11)
- (1)寸法安定性の支持体上に設けられた、高分子量結
合剤を含有する、アルカリ性水溶液で現像可能の光重合
可能な記録層を有し、印刷版またはレジストパターンを
製造するのに適当である感光性記録素子において、光重
合可能な記録層中に高分子量結合剤として、少なくとも
1つのヒドロキシアルキル−(メタ)アクリレート10
〜50重量%、アクリル酸および/またはメタクリル酸
8〜30重量%ならびにアルキルアクリレート、アルキ
ルメタクリレートおよびビニル芳香族化合物の群からの
少なくとも1つの単量体30〜80重量%からなる、水
に不溶でアルカリ性水溶液に可溶であるかまたは少なく
とも分散可能の少なくとも1つの皮膜形成性共重合体が
含有されており、この場合この共重合体のカルボキシル
基は部分的にグリシジル(メタ)アクリレートとの反応
によつてエステル化されていることを特徴とする、感光
性記録素子。 - (2)共重合体のカルボキシル基の10〜60%がグリ
シジル(メタ)アクリレートでエステル化されている、
特許請求の範囲第1項記載の感光性記録素子。 - (3)カルボキシル基が部分的にグリシジル(メタ)ア
クリレートとの反応によつてエステル化されている共重
合体がKOH20〜100mg/gの酸価を有する、特
許請求の範囲第1項記載の感光性記録素子。 - (4)光重合可能な記録層中に高分子量結合剤として含
有されている共重合体が2〜4個のC原子を有する脂肪
族ジオールのモノアクリレートおよび/またはモノメタ
クリレートをヒドロキシアルキル−(メタ)アクリレー
トとして重合導入して含有する、特許請求の範囲第1項
から第3項までのいずれか1項に記載の感光性記録素子
。 - (5)光重合可能な記録層中に高分子量結合剤として含
有されている共重合体が1〜4個のC原子を有するモノ
アルカノールのアクリレートおよび/またはメタクリレ
ートをアルキル(メタ)アクリレート−コモノマーとし
て重合導入して含有する、特許請求の範囲第1項から第
4項までのいずれか1項に記載の感光性記録素子。 - (6)光重合可能な記録層中にヒドロキシプロピルアク
リレート/メタクリル酸/メチルメタクリレート共重合
体が高分子量結合剤として含有されており、この場合こ
の共重合体のカルボキシル基の10〜60%はグリシジ
ル(メタ)アクリレートでエステル化されている、特許
請求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に記載
の感光性記録素子。 - (7)光重合可能な記録層中にヒドロキシプロピルアク
リレート/アクリル酸/メチルメタクリレート共重合体
が高分子量結合剤として含有されており、この場合この
共重合体のカルボキシル基の10〜60%はグリシジル
(メタ)アクリレートでエステル化されている、特許請
求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に記載の
感光性記録素子。 - (8)光重合可能な記録層中にヒドロキシエチルメタク
リレート/メタクリル酸/メチルメタクリレート共重合
体が高分子量結合剤として含有されており、この場合こ
の共重合体のカルボキシル基の10〜60重量%はグリ
シジル(メタ)アクリレートでエステル化されている、
特許請求の範囲第1項から第5項までのいずれか1項に
記載の感光性記録素子。 - (9)光重合可能な記録層中に高分子量結合剤として含
有されている共重合体が少なくとも1つのヒドロキシア
ルキル−(メタ)アクリレート15〜45重量%、アク
リル酸および/またはメタクリル酸10〜20重量%な
らびに少なくとも1つのアルキル(メタ)アクリレート
40〜70重量%を重合導入して含有し、この場合百分
率の記載はそれぞれ共重合体に対するものであり、かつ
共重合体のカルボキシル基の10〜60%はグリシジル
(メタ)アクリレートでエステル化されている、特許請
求の範囲第1項から第8項までのいずれか1項に記載の
感光性記録素子。 - (10)光重合可能な記録層が高分子量結合剤とともに
少なくとも1つの光重合可能の低分子量のエチレン性不
飽和化合物、少なくとも1つの光重合開始剤もしくは光
重合開始剤系ならびに場合によつては他の添加剤および
/または助剤を含有する、特許請求の範囲第1項から第
9項までのいずれか1項に記載の感光性記録素子。 - (11)光重合可能な記録層が2個またはそれ以上のア
クリロイル基および/またはメタクリロイル基を有する
単量体および/またはオリゴマーを光重合可能の低分子
量のエチレン性不飽和化合物として含有する、特許請求
の範囲第10項記載の感光性記録素子。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19863619130 DE3619130A1 (de) | 1986-06-06 | 1986-06-06 | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3619130.2 | 1986-06-06 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6340141A true JPS6340141A (ja) | 1988-02-20 |
JP2579637B2 JP2579637B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=6302464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62138348A Expired - Lifetime JP2579637B2 (ja) | 1986-06-06 | 1987-06-03 | 感光性記録素子 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4806450A (ja) |
EP (1) | EP0248424B1 (ja) |
JP (1) | JP2579637B2 (ja) |
AT (1) | ATE64477T1 (ja) |
DE (2) | DE3619130A1 (ja) |
ES (1) | ES2022204B3 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7041416B2 (en) | 2001-10-22 | 2006-05-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, transfer material, image forming method, color filter and producing method thereof and photomask and producing method thereof |
JP2015521752A (ja) * | 2012-06-15 | 2015-07-30 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | ネガ型厚膜フォトレジスト |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0721633B2 (ja) * | 1987-07-10 | 1995-03-08 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料 |
US5024935A (en) * | 1987-12-18 | 1991-06-18 | Eastman Kodak Company | Dye-providing composition, diagnostic test kit and their use in method for ligand determination using peroxidase labeled-receptor |
US5182187A (en) * | 1988-02-24 | 1993-01-26 | Hoechst Aktiengesellschaft | Radiation-polymerizable composition and recording material prepared from this composition |
US5070002A (en) * | 1988-09-13 | 1991-12-03 | Amp-Akzo Corporation | Photoimageable permanent resist |
US5236809A (en) * | 1988-10-24 | 1993-08-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photopolymerizable resin composition employing (meth)acrylonitrile in the linear copolymer to impart additional flexibility of the composition |
DE3924811A1 (de) * | 1989-07-27 | 1991-01-31 | Hoechst Ag | Pfropfpolymerisat mit ungesaettigten seitenketten, dieses enthaltendes lichtempfindliches gemisch sowie daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
JPH0389353A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-15 | Nippon Paint Co Ltd | ポジ型感光性樹脂組成物 |
US5723261A (en) * | 1989-11-30 | 1998-03-03 | Tamura Kaken Co., Ltd. | Photopolymerizable composition |
US5153102A (en) * | 1990-08-10 | 1992-10-06 | Industrial Technology Research Institute | Alkalline-solution-developable liquid photographic composition |
US5736298A (en) * | 1992-10-02 | 1998-04-07 | Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. | Water developable photosensitive resin composition |
US5773194A (en) * | 1995-09-08 | 1998-06-30 | Konica Corporation | Light sensitive composition, presensitized lithographic printing plate and image forming method employing the printing plate |
US5955242A (en) * | 1996-09-23 | 1999-09-21 | International Business Machines Corporation | High sensitivity, photo-active polymer and developers for high resolution resist applications |
US5976763A (en) * | 1997-03-05 | 1999-11-02 | Roberts; David H. | Highly sensitive water-developable photoreactive resin compositions and printing plates prepared therefrom |
JP3611955B2 (ja) * | 1997-10-15 | 2005-01-19 | パイオニア株式会社 | 光ディスク原盤の製造方法 |
IL133355A (en) * | 1999-12-07 | 2003-10-31 | Creo Il Ltd | Method and plate for digitally-imaged offset printing |
JP2002029173A (ja) * | 2000-07-18 | 2002-01-29 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版包装構造 |
CN1294167C (zh) * | 2002-03-28 | 2007-01-10 | 亨斯迈先进材料(瑞士)有限公司 | 可聚合的组合物 |
JP2011221463A (ja) * | 2010-04-14 | 2011-11-04 | Samsung Electronics Co Ltd | 感光性樹脂組成物 |
US9012126B2 (en) | 2012-06-15 | 2015-04-21 | Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. | Positive photosensitive material |
EP2735365A1 (en) | 2012-11-21 | 2014-05-28 | Allnex Belgium, S.A. | Process for the preparation of colloidal polymerized particles. |
TWI731961B (zh) | 2016-04-19 | 2021-07-01 | 德商馬克專利公司 | 正向感光材料及形成正向凸紋影像之方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4917874A (ja) * | 1972-06-09 | 1974-02-16 | ||
JPS4934041A (ja) * | 1972-08-01 | 1974-03-29 | ||
JPS516561A (ja) * | 1974-07-04 | 1976-01-20 | Yamamoto Kagaku Gosei Kk | |
JPS60186837A (ja) * | 1984-03-07 | 1985-09-24 | Somar Corp | 感光性組成物 |
JPS61200536A (ja) * | 1985-03-01 | 1986-09-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3469982A (en) * | 1968-09-11 | 1969-09-30 | Jack Richard Celeste | Process for making photoresists |
US3796578A (en) * | 1970-12-26 | 1974-03-12 | Asahi Chemical Ind | Photopolymerizable compositions and elements containing addition polymerizable polymeric compounds |
US3833384A (en) * | 1972-04-26 | 1974-09-03 | Eastman Kodak Co | Photopolymerizable compositions and elements and uses thereof |
JPS5911096B2 (ja) * | 1974-03-06 | 1984-03-13 | 富士写真フイルム株式会社 | 樹脂凸版用感光性組成物 |
GB1507664A (en) * | 1975-05-01 | 1978-04-19 | Kodak Ltd | Photopolymerisable compositions |
US4273857A (en) * | 1976-01-30 | 1981-06-16 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Polymeric binders for aqueous processable photopolymer compositions |
US4239849A (en) * | 1978-06-19 | 1980-12-16 | Dynachem Corporation | Polymers for aqueous processed photoresists |
JPS57204032A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Somar Corp | Photosensitive material |
JPS5971048A (ja) * | 1982-10-18 | 1984-04-21 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 光重合系感光性組成物 |
JPS6051833A (ja) * | 1983-07-01 | 1985-03-23 | Toray Ind Inc | 感光性樹脂組成物 |
DE3560654D1 (en) * | 1984-02-18 | 1987-10-22 | Basf Ag | Photosensitive recording material |
DE3504254A1 (de) * | 1985-02-08 | 1986-08-14 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
US4688056A (en) * | 1985-07-13 | 1987-08-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid jet recording head having a layer of a resin composition curable with an active energy ray |
-
1986
- 1986-06-06 DE DE19863619130 patent/DE3619130A1/de not_active Withdrawn
-
1987
- 1987-05-28 US US07/054,993 patent/US4806450A/en not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-03 JP JP62138348A patent/JP2579637B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-04 DE DE8787108067T patent/DE3770698D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-04 ES ES87108067T patent/ES2022204B3/es not_active Expired - Lifetime
- 1987-06-04 AT AT87108067T patent/ATE64477T1/de not_active IP Right Cessation
- 1987-06-04 EP EP87108067A patent/EP0248424B1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4917874A (ja) * | 1972-06-09 | 1974-02-16 | ||
JPS4934041A (ja) * | 1972-08-01 | 1974-03-29 | ||
JPS516561A (ja) * | 1974-07-04 | 1976-01-20 | Yamamoto Kagaku Gosei Kk | |
JPS60186837A (ja) * | 1984-03-07 | 1985-09-24 | Somar Corp | 感光性組成物 |
JPS61200536A (ja) * | 1985-03-01 | 1986-09-05 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7041416B2 (en) | 2001-10-22 | 2006-05-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, transfer material, image forming method, color filter and producing method thereof and photomask and producing method thereof |
JP2015521752A (ja) * | 2012-06-15 | 2015-07-30 | アーゼッド・エレクトロニック・マテリアルズ(ルクセンブルグ)ソシエテ・ア・レスポンサビリテ・リミテ | ネガ型厚膜フォトレジスト |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3770698D1 (de) | 1991-07-18 |
EP0248424A3 (en) | 1988-11-30 |
JP2579637B2 (ja) | 1997-02-05 |
EP0248424A2 (de) | 1987-12-09 |
ATE64477T1 (de) | 1991-06-15 |
ES2022204B3 (es) | 1991-12-01 |
DE3619130A1 (de) | 1987-12-10 |
EP0248424B1 (de) | 1991-06-12 |
US4806450A (en) | 1989-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPS6340141A (ja) | 感光性記録素子 | |
US4537855A (en) | Photopolymerizable photosensitive composition | |
US4632897A (en) | Photopolymerizable recording material suitable for the production of photoresist layers | |
US5061602A (en) | Photosensitive recording material of enhanced flexibility | |
JP2792889B2 (ja) | 印刷版体製造に適する光重合性印刷板 | |
AU631731B2 (en) | Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom | |
JPH0550738B2 (ja) | ||
US4842987A (en) | Photosensitive element for producing printing plates or resist images | |
US4042386A (en) | Photosensitive compositions | |
JP2792890B2 (ja) | 感光性、光重合可能の印刷板 | |
JPS61159416A (ja) | 架橋性樹脂、該架橋性樹脂をベースとする感光性記録材料及び該感光性記録材料を用いて平版印刷版を製造する方法 | |
JP2592454B2 (ja) | 感光性記録素子 | |
US4606993A (en) | Water developable photosensitive resin composition | |
JPS6331484B2 (ja) | ||
JPH03179447A (ja) | 感光性組成物及びこれを使用するフォトレジスト及び印刷版体の製造方法 | |
JPS61156116A (ja) | 感光記録素子 | |
US4643963A (en) | Photopolymerizable recording materials containing cyclic pentadienes for the production of printing plates, and the production of printing plates using these recording materials | |
JP2826329B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
US5114831A (en) | Photopolymerizable laminating material | |
JPH03188445A (ja) | 不飽和側鎖を有するグラフト重合体、そのグラフト重合体を含む感光性混合物およびそれから製造される記録材料 | |
US4101327A (en) | Light-sensitive copying compositions and photoinitiators contained therein | |
EP0194440B1 (de) | Lichtempfindliches Aufzeichnungselement | |
JP2826330B2 (ja) | 光重合性組成物 | |
JPH025062A (ja) | ネガ型の感光性記録層 | |
JPH02219059A (ja) | 感光性記録エレメント |