JPS60186837A - 感光性組成物 - Google Patents
感光性組成物Info
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- JPS60186837A JPS60186837A JP59041874A JP4187484A JPS60186837A JP S60186837 A JPS60186837 A JP S60186837A JP 59041874 A JP59041874 A JP 59041874A JP 4187484 A JP4187484 A JP 4187484A JP S60186837 A JPS60186837 A JP S60186837A
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- compound
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
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- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
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- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/106—Binder containing
- Y10S430/111—Polymer of unsaturated acid or ester
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、感光性ジアゾ化合物、高分子化合物及び工,
I?キ/樹脂を含イjする感光性組成物に関するもので
ある。
I?キ/樹脂を含イjする感光性組成物に関するもので
ある。
従来より感光性組成物として感光性ジアゾ化合物が広く
使用されていて、大別して光照射により照射i;Bが現
像液に可溶化する醪ソ型と)し照射により不俗化するネ
ガ型とがある。本発明は光照射により不m化ずる不ガ型
の感5Y、性組成物の改良に関するものである。
使用されていて、大別して光照射により照射i;Bが現
像液に可溶化する醪ソ型と)し照射により不俗化するネ
ガ型とがある。本発明は光照射により不m化ずる不ガ型
の感5Y、性組成物の改良に関するものである。
不ガ型感元性ソアゾ化合物としては、4−ノーj′グノ
フエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物が古くか
ら知られ、又、多l4に使用さシ1。
フエニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合物が古くか
ら知られ、又、多l4に使用さシ1。
ているが、との縮合物tま水溶性であって、平版印刷版
等に使用するには親油性、lliI1摩耗性、保存性の
点で問題があり、このため種々改良が加えられている。
等に使用するには親油性、lliI1摩耗性、保存性の
点で問題があり、このため種々改良が加えられている。
平版印刷では、周知のように版面にまず水が供給され、
ついで油性のインキが供給される。このためインキの刺
着すべき画像部は、水の存在下でも十分な親油性を持つ
ものでなければならない。
ついで油性のインキが供給される。このためインキの刺
着すべき画像部は、水の存在下でも十分な親油性を持つ
ものでなければならない。
従来、この親油性が劣っていたために、1同体部に短時
間でインキが何着せず、十敬枚はなはだしくは数十枚近
くもむだな印刷(試し刷り)を行って画像部を良好なイ
ンキ受容部にした」二で印刷物を作製していた。当該業
界では、このむたム印刷に要する時間及ひ材料等の損失
を少なくするために画像部の親油性向」二がめられてい
る。
間でインキが何着せず、十敬枚はなはだしくは数十枚近
くもむだな印刷(試し刷り)を行って画像部を良好なイ
ンキ受容部にした」二で印刷物を作製していた。当該業
界では、このむたム印刷に要する時間及ひ材料等の損失
を少なくするために画像部の親油性向」二がめられてい
る。
一方、多I11−の印刷物を作る際には画像部の強1隻
が要求さ)t、iljl摩耗性の優れた感光性材料が一
安求されている。
が要求さ)t、iljl摩耗性の優れた感光性材料が一
安求されている。
これ等の』請求を/lata足するため、水溶性の感光
性ジアゾ化合物を4−1・ルエンスルホン醒寺の芳香族
酸化合物の塩として、有機浴媒司箔性とし、これをlj
一独であるいは他の高分子化合物と混合して使用するこ
とによって動性を高めようとした。
性ジアゾ化合物を4−1・ルエンスルホン醒寺の芳香族
酸化合物の塩として、有機浴媒司箔性とし、これをlj
一独であるいは他の高分子化合物と混合して使用するこ
とによって動性を高めようとした。
しかし、単独で使用した場合にンま、十分な親油性及び
耐摩耗性がrlられす、このため平版印刷分野でよく知
られている1ノイポン(Wipe−on )版のように
、画像を形成した後に親油性及び111II摩耗性を高
めるべく樹脂溶液により補強する必要があった。又、ジ
アゾ化合物を樹脂と混合して使用する例は特開昭50−
118802号や米国喝許第4,299,905号によ
り知られている。前記特開昭50−118802号公報
記載の感光性組成物にあっては、ジアゾ化合物との相溶
性及び画像形成性が良好なものの、平版印刷分野で要求
される十分な親油性は得られず、又アクリロニトリルあ
るいはメタクリロニトリルを共重合することで現像時の
膨潤を少なくして耐摩耗性の向上をはかつている関係で
、この共重合体自体が十分な強度を有しない以上、印刷
分野で要求される高1lllj刷性が満足されるもので
はなかった。さらに、前記米国特W1第4,299,9
05号明細?I4記載の組成物は、面1摩耗性を向上さ
せる目的でエポキシ樹11¥¥を混合使用しているが、
水浴性にするために常温で散状の樹脂を使用している関
係で、高温多湿という作業環境においては、感光層が不
都合に粘ノ1°’f l’l ’4:偶びたり、感光性
が不女定となったり、数1−1で現像できなくなったり
する欠点があった。加えて、粘着性を防止するにはジア
ゾ化合物を多11::に使用する必要があり必然的に感
光速度が劣るものであった。
耐摩耗性がrlられす、このため平版印刷分野でよく知
られている1ノイポン(Wipe−on )版のように
、画像を形成した後に親油性及び111II摩耗性を高
めるべく樹脂溶液により補強する必要があった。又、ジ
アゾ化合物を樹脂と混合して使用する例は特開昭50−
118802号や米国喝許第4,299,905号によ
り知られている。前記特開昭50−118802号公報
記載の感光性組成物にあっては、ジアゾ化合物との相溶
性及び画像形成性が良好なものの、平版印刷分野で要求
される十分な親油性は得られず、又アクリロニトリルあ
るいはメタクリロニトリルを共重合することで現像時の
膨潤を少なくして耐摩耗性の向上をはかつている関係で
、この共重合体自体が十分な強度を有しない以上、印刷
分野で要求される高1lllj刷性が満足されるもので
はなかった。さらに、前記米国特W1第4,299,9
05号明細?I4記載の組成物は、面1摩耗性を向上さ
せる目的でエポキシ樹11¥¥を混合使用しているが、
水浴性にするために常温で散状の樹脂を使用している関
係で、高温多湿という作業環境においては、感光層が不
都合に粘ノ1°’f l’l ’4:偶びたり、感光性
が不女定となったり、数1−1で現像できなくなったり
する欠点があった。加えて、粘着性を防止するにはジア
ゾ化合物を多11::に使用する必要があり必然的に感
光速度が劣るものであった。
本発明は、これらの欠点を除去し、親油性及び耐摩耗性
が良好で、かつ耐刷性、保存安定性が優れた弱アルカリ
性水溶液司溶の感光性組成物を提供するものである。
が良好で、かつ耐刷性、保存安定性が優れた弱アルカリ
性水溶液司溶の感光性組成物を提供するものである。
すなわち、本発明tJ1、(A)感光性ジアゾ化合物、
(B)高分子化合物及び(0工d?ギシ樹脂を含有する
感光性組成物であって、該高分子化合物が下記(B−1
)の高分子化合物と(B−2)の高分子化合物との組合
せであることを特徴とする感光性組成物である。
(B)高分子化合物及び(0工d?ギシ樹脂を含有する
感光性組成物であって、該高分子化合物が下記(B−1
)の高分子化合物と(B−2)の高分子化合物との組合
せであることを特徴とする感光性組成物である。
(B−1):下記式(+)、 (lil及び(iii)
で示される各構造単位を同時に有する高分子化合物 −CH2−C−−一 ・・・・・・(1)0OR2 R’ −C1,2−C□ ・・・・・・輸) Coo−CI、、−CHOH 」 13 R’ −CH2−C□ ・・・・・・罰) 0OH (B−2)ニド記式(iv)、 (v)及び(vl)で
示される各t?17造単位全単位にイイする高分子化合
物 Iえ1 −CH2−C−□ ・・・・・(1■)COO]t4 1え1 −CH2−C□ ・・・・・・(V) coo+t5 R’ CH2C□・曲(Vl ) OOH 本発明における(A)感光性ジアゾ化合物としては、4
−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合
物の4−トルエンスルホン酸塩や、同縮合物の2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホンI
’R塩等公知のものがあげられ、これらは市販品として
容易に入手し得る。
で示される各構造単位を同時に有する高分子化合物 −CH2−C−−一 ・・・・・・(1)0OR2 R’ −C1,2−C□ ・・・・・・輸) Coo−CI、、−CHOH 」 13 R’ −CH2−C□ ・・・・・・罰) 0OH (B−2)ニド記式(iv)、 (v)及び(vl)で
示される各t?17造単位全単位にイイする高分子化合
物 Iえ1 −CH2−C−□ ・・・・・(1■)COO]t4 1え1 −CH2−C□ ・・・・・・(V) coo+t5 R’ CH2C□・曲(Vl ) OOH 本発明における(A)感光性ジアゾ化合物としては、4
−ジアゾジフェニルアミンとホルムアルデヒドとの縮合
物の4−トルエンスルホン酸塩や、同縮合物の2−ヒド
ロキシ−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホンI
’R塩等公知のものがあげられ、これらは市販品として
容易に入手し得る。
本発明における(B)高分子化合物、すなわち(13−
1)及び(B−2)の高分子化合物は、基体−にの感光
層における非露光部が弱アルカリ性水浴液により俗解除
去されるよう遊離力ルポギ/ル基をイ〕−することが必
−安である。
1)及び(B−2)の高分子化合物は、基体−にの感光
層における非露光部が弱アルカリ性水浴液により俗解除
去されるよう遊離力ルポギ/ル基をイ〕−することが必
−安である。
(B−1)の高分子化合物は、上記式(1)。
(11)及び(lli)で示される構造単位を同時に有
するものであって、式中のR1は水素原子又tよメチル
基(H1R2は非[(換もしくは置換のベンノル基、低
級アルキル基又はハ「1ケ゛ン置換低級アルキ# &
f: a bす。iIM換ベンツル基はフェニル環にお
いてこの種芳香環の通常のj61換基によってut 侠
されたものである。低級アルキル基としては、メチル基
、エチル基、70ロピル基、ブチル基等があげられ、又
、・・ロケ゛ン置換低級アルキル基としては、水素原子
の一部又は全部が塩素原子等のハ[Jケゝン原子で置換
された低級アルキル基があげられる。R3のうち低級ア
ルキル基及びハロダン置換低級アルキル基としては前す
己と同じものがあげられる。
するものであって、式中のR1は水素原子又tよメチル
基(H1R2は非[(換もしくは置換のベンノル基、低
級アルキル基又はハ「1ケ゛ン置換低級アルキ# &
f: a bす。iIM換ベンツル基はフェニル環にお
いてこの種芳香環の通常のj61換基によってut 侠
されたものである。低級アルキル基としては、メチル基
、エチル基、70ロピル基、ブチル基等があげられ、又
、・・ロケ゛ン置換低級アルキル基としては、水素原子
の一部又は全部が塩素原子等のハ[Jケゝン原子で置換
された低級アルキル基があげられる。R3のうち低級ア
ルキル基及びハロダン置換低級アルキル基としては前す
己と同じものがあげられる。
(B−1)の高分子化合物は、例えば次の(1)〜(3
)に示される単量体を各1棟類ずつ選択して後記合成例
で示すような条件で重合させて製造することができる。
)に示される単量体を各1棟類ずつ選択して後記合成例
で示すような条件で重合させて製造することができる。
(1) メタクリルr′j12ベンノル、メタクリル酸
−4−メチルベンジル、メタクリル酸−3−メチルヘン
ツル、メタクリルil −4−クロルベンノル、メタク
リル醒−4−7トキ/ベンノル、メタクリル酸−4−エ
チルベンノル、メタクリルf!11−4−1so−フロ
ビルベンノル、メタクリルfp −1so−ブチル、メ
タクリル酸−tert−ブチル、メタクリル酸−1so
−70[ノピル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸トリフルオロエチル、メタクリル酸
トリフルオロプロピル又はアクリル酸ベンジルのような
アクリル酸同構体 (2) メタクリル酸−2−ヒドロキシブチル、メタク
リル酸−2−ヒドロキシ7”oピル、メタクリル1y−
2−ヒドロキシブチル、メククリル酸−3−クロルー2
−ヒドロキシプロピル、又はアクリル酸−2−ヒドロキ
シブチルのようなアクリル酸同構体 (3) メタクリル酸、アクリル酸 (l3−1. )の高分子化合物は(i)、 (ii)
及び(iii)の各+71を造単位を分子中に同時に有
することが必要であって、これらの構造単位は規則的、
よい。
−4−メチルベンジル、メタクリル酸−3−メチルヘン
ツル、メタクリルil −4−クロルベンノル、メタク
リル醒−4−7トキ/ベンノル、メタクリル酸−4−エ
チルベンノル、メタクリルf!11−4−1so−フロ
ビルベンノル、メタクリルfp −1so−ブチル、メ
タクリル酸−tert−ブチル、メタクリル酸−1so
−70[ノピル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エ
チル、メタクリル酸トリフルオロエチル、メタクリル酸
トリフルオロプロピル又はアクリル酸ベンジルのような
アクリル酸同構体 (2) メタクリル酸−2−ヒドロキシブチル、メタク
リル酸−2−ヒドロキシ7”oピル、メタクリル1y−
2−ヒドロキシブチル、メククリル酸−3−クロルー2
−ヒドロキシプロピル、又はアクリル酸−2−ヒドロキ
シブチルのようなアクリル酸同構体 (3) メタクリル酸、アクリル酸 (l3−1. )の高分子化合物は(i)、 (ii)
及び(iii)の各+71を造単位を分子中に同時に有
することが必要であって、これらの構造単位は規則的、
よい。
(B−1)の高分子化合物は、前記(1)〜(3)の単
侶一体のほかに必要に応じ他の重合性化合物を添加して
重合させて得たものであってもよい。
侶一体のほかに必要に応じ他の重合性化合物を添加して
重合させて得たものであってもよい。
前述したようにCB−1)の高分子化合物中には遊離カ
ルボキシル基が含寸れることが必要であるが、一般にそ
の含有率は、過大になると現像時において膨潤を起して
魚Y鋭な画像が得られ難く、かつ親油性に劣るようにな
り、逆に過小になると現像時において時間がかかり、か
つ微細な残渣を生じて酊鋭な画像が得られなくなる。具
体的には、前記(1)〜(3)の中州体のモル比を各m
l 、 〜2 、 In3で表わすと(nll +m2
)/m3−約1.5〜9好ましくは約2〜6とした場
合に好適な遊離力ルボギシル基含有率をもつ(B−1)
の高分子化合物が(4fられる。カルボキシル基含イj
率は酸1111IV′Cよって判定されるが、通常、ば
価約10〜80、特に約20〜50のものが望捷しい。
ルボキシル基が含寸れることが必要であるが、一般にそ
の含有率は、過大になると現像時において膨潤を起して
魚Y鋭な画像が得られ難く、かつ親油性に劣るようにな
り、逆に過小になると現像時において時間がかかり、か
つ微細な残渣を生じて酊鋭な画像が得られなくなる。具
体的には、前記(1)〜(3)の中州体のモル比を各m
l 、 〜2 、 In3で表わすと(nll +m2
)/m3−約1.5〜9好ましくは約2〜6とした場
合に好適な遊離力ルボギシル基含有率をもつ(B−1)
の高分子化合物が(4fられる。カルボキシル基含イj
率は酸1111IV′Cよって判定されるが、通常、ば
価約10〜80、特に約20〜50のものが望捷しい。
前記(1)〜(3)の単量体のモル比に関する(m+
+mt )/m3=約1.5〜9は、(B −1)の高
分子化合物の式(1)〜(iii )で示した構造単位
の存在比に関する((i)+(ii)しく1il)−約
1.5〜9と対応する。
+mt )/m3=約1.5〜9は、(B −1)の高
分子化合物の式(1)〜(iii )で示した構造単位
の存在比に関する((i)+(ii)しく1il)−約
1.5〜9と対応する。
(B〜1)の高分子化合物tま、通常、分子量約5.C
) 00〜100.OOQ 好ましくは約20,000
〜so、ooo のものである。分子量が5,000未
満のときは画像の機械的強度が劣り、ネ晴耐刷性も劣り
、逆に100,000を超えるときは現像性が省人。
) 00〜100.OOQ 好ましくは約20,000
〜so、ooo のものである。分子量が5,000未
満のときは画像の機械的強度が劣り、ネ晴耐刷性も劣り
、逆に100,000を超えるときは現像性が省人。
す、性現像時に残渣を生じ鮮鋭な画像がイIIられなく
なる。
なる。
(B−1)の高分子化合物は、(A)感光性ジアゾ化谷
物との相溶性がよく、両者のみの組合せでも画像形成は
oJ能であるが、この組合せの感光性組成物でtま削摩
耗性が劣り、かつ親油性も十分なものではない。そこで
、親油性を改善すると同時に、基体との接着性を良好に
して創LAX粍性を向」二させるため、(B−2)の高
分子化合物全含有させる必要がある。
物との相溶性がよく、両者のみの組合せでも画像形成は
oJ能であるが、この組合せの感光性組成物でtま削摩
耗性が劣り、かつ親油性も十分なものではない。そこで
、親油性を改善すると同時に、基体との接着性を良好に
して創LAX粍性を向」二させるため、(B−2)の高
分子化合物全含有させる必要がある。
(B−2)の高分子化合物は」肥厚式(1い、(■)及
び(vl)で示される構造単位を同時に有するものであ
って、式中のitl は前記と同じものを、R4はte
rt−又は1so−ブチル基ヲ、R5は低級アルキル基
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を
表わす。
び(vl)で示される構造単位を同時に有するものであ
って、式中のitl は前記と同じものを、R4はte
rt−又は1so−ブチル基ヲ、R5は低級アルキル基
例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等を
表わす。
(B−2)の高分子化合物は、例えば次の(1)〜(3
)に示される単量体を各1種類ずつ選択して後記合成例
で示すような条件で重合させて製造することができる。
)に示される単量体を各1種類ずつ選択して後記合成例
で示すような条件で重合させて製造することができる。
(1) メタクリル酸tert−ブチル、メタクリル酸
−1so−ブチル、アクリル酸−tert−ブチル、ア
クリル酸−1so−ブチル (2) メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸−n−プロピル、メタクリル酸−ISO−プ
ロピル、又はアクリル酸メチルのようなアクリル酸同構
体 (3) メタクリル酸、アクリル酸 (B−2)の高分子化合物における各構造単位の結合状
態は、(B−1)の高分子化合物に又 おけるそれと同様である。ζ4、(B−2)の高分子化
合物も、必要に応じ他の重合性化合物を添加して重合さ
せたものであってもよい。
−1so−ブチル、アクリル酸−tert−ブチル、ア
クリル酸−1so−ブチル (2) メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸−n−プロピル、メタクリル酸−ISO−プ
ロピル、又はアクリル酸メチルのようなアクリル酸同構
体 (3) メタクリル酸、アクリル酸 (B−2)の高分子化合物における各構造単位の結合状
態は、(B−1)の高分子化合物に又 おけるそれと同様である。ζ4、(B−2)の高分子化
合物も、必要に応じ他の重合性化合物を添加して重合さ
せたものであってもよい。
(B−2)の高分子化合物中における前記(1)10が
望ましい。この値が1未満のときは現像時にアルカリ水
溶液によシ膨潤が起り、−4=k 20を超えるときは
現像しにくく残渣を生じて鮮鋭な な画像が得られセい。前記(1)〜(3)の単量体のモ
ル比に関する(m、 十m2)/m3 約1〜20 i
j、(B−2)の高分子化合物の式(1v)・〜(vl
)で示した構造単位の存在比に関する((1v)+(V
)しくvl)=約1〜20と対応する。
望ましい。この値が1未満のときは現像時にアルカリ水
溶液によシ膨潤が起り、−4=k 20を超えるときは
現像しにくく残渣を生じて鮮鋭な な画像が得られセい。前記(1)〜(3)の単量体のモ
ル比に関する(m、 十m2)/m3 約1〜20 i
j、(B−2)の高分子化合物の式(1v)・〜(vl
)で示した構造単位の存在比に関する((1v)+(V
)しくvl)=約1〜20と対応する。
(B−2)の高分子化合物は、通常、分子最終50,0
00〜500,000好ましくは約100,000〜−
300.000のものである。分子量が下限より小さい
と画像の機械的強度が劣り、又面1摩耗性も劣り、逆に
」二限より太きいと現像が不可能vCfJ、る。
00〜500,000好ましくは約100,000〜−
300.000のものである。分子量が下限より小さい
と画像の機械的強度が劣り、又面1摩耗性も劣り、逆に
」二限より太きいと現像が不可能vCfJ、る。
(I(−2)の高分子化合物は前述のように親油性に優
れているが、感光性ジアゾ化合物との相溶性はさほど良
好でないので、(B−1)の高分子化合物との併用が必
要なのである。
れているが、感光性ジアゾ化合物との相溶性はさほど良
好でないので、(B−1)の高分子化合物との併用が必
要なのである。
(・工月?キシ樹脂としては、各種のものが使用され、
とりわけエポキシ当量が約150〜2,000好ましく
は約200〜1,500 で、かつ盾温で固体状を呈す
るものが好適である。例えばビスフェノールA型、ノボ
ラック型等に属するもので、市販品としてエビヨー1−
1000シリーズ(油化シェルエポキシ社i ) 、Y
DCN 220 シリーズ(東部化成社製)、EOC’
N 100 シリーズ(日島 本化薬社製)に属するものが檄げられる。ニーキシ当量
とは1グラム当量の工月ソキシ基を含む樹脂のグラム数
であって、エポキシ当量が150未満のときは、そのよ
うなエポキシ当量を含む2.000を超えるときは、現
像しにくく鮮鋭な画像が得られない。
とりわけエポキシ当量が約150〜2,000好ましく
は約200〜1,500 で、かつ盾温で固体状を呈す
るものが好適である。例えばビスフェノールA型、ノボ
ラック型等に属するもので、市販品としてエビヨー1−
1000シリーズ(油化シェルエポキシ社i ) 、Y
DCN 220 シリーズ(東部化成社製)、EOC’
N 100 シリーズ(日島 本化薬社製)に属するものが檄げられる。ニーキシ当量
とは1グラム当量の工月ソキシ基を含む樹脂のグラム数
であって、エポキシ当量が150未満のときは、そのよ
うなエポキシ当量を含む2.000を超えるときは、現
像しにくく鮮鋭な画像が得られない。
感光性組成物VCエポキシ樹脂を含有させると11ti
t 摩耗性が著しく向上し、特にボスi・ベーキング(
画像形成後の加熱処理)を行う用途に有利とされ゛る。
t 摩耗性が著しく向上し、特にボスi・ベーキング(
画像形成後の加熱処理)を行う用途に有利とされ゛る。
本発明の感光性組成物における(A)感光性ノ゛アゾ化
合物、(13)高分子化合物及び(Qエポキ:/ 4(
jJ脂の含有割合は、使用目的により佳々の組合せが可
能である。ジアゾ化合物の含有量が多くなると感光速度
が低下したり親油性、耐摩耗性が低下して不都合である
。ジアゾ化合物は通常、感光性組成物中にFJ1〜40
、好−ましくは約5〜;35重量係の範囲で含有きせる
。(H−」−)のIW]分子化合物は、ジアゾ化合物J
:の良好なA’11m性により画像形成を有効に行わせ
るため通常約30〜75重M%、好′ましくけ約35〜
70jロ量%の範囲で含有させる。(B −2)の高分
子化合物tま、親油性を有効に向−1ニさせるため通常
約0.1〜20.i!li、%、好ましくは約1〜15
重量俤の範囲で含有させる。エポキシ樹脂は、lll1
1摩耗や劇刷性をイ1−効に向上させるため通常約5〜
50重量%、好捷しくは約10〜40重用チの範囲で含
有させる。エポキシ樹脂の含W fi−が多くなると1
tlIl摩耗性等の強度は高まる反面、現像性が劣るよ
うになるから、特に高い解像性を吸水きれるような用途
にはエポキシ樹脂の含イ了[号音1戊目にするのがよい
。
合物、(13)高分子化合物及び(Qエポキ:/ 4(
jJ脂の含有割合は、使用目的により佳々の組合せが可
能である。ジアゾ化合物の含有量が多くなると感光速度
が低下したり親油性、耐摩耗性が低下して不都合である
。ジアゾ化合物は通常、感光性組成物中にFJ1〜40
、好−ましくは約5〜;35重量係の範囲で含有きせる
。(H−」−)のIW]分子化合物は、ジアゾ化合物J
:の良好なA’11m性により画像形成を有効に行わせ
るため通常約30〜75重M%、好′ましくけ約35〜
70jロ量%の範囲で含有させる。(B −2)の高分
子化合物tま、親油性を有効に向−1ニさせるため通常
約0.1〜20.i!li、%、好ましくは約1〜15
重量俤の範囲で含有させる。エポキシ樹脂は、lll1
1摩耗や劇刷性をイ1−効に向上させるため通常約5〜
50重量%、好捷しくは約10〜40重用チの範囲で含
有させる。エポキシ樹脂の含W fi−が多くなると1
tlIl摩耗性等の強度は高まる反面、現像性が劣るよ
うになるから、特に高い解像性を吸水きれるような用途
にはエポキシ樹脂の含イ了[号音1戊目にするのがよい
。
本発明の感光性組成物には、前記の(A)感光性ジアゾ
化合物、(B)高分子化合物及び(Oエフ+c!キン樹
脂のほかに、適宜他のものを含イ1させることができる
。例えば、画像を見易くする目的の染料、顔料や、塗イ
li I’l’−能を向上させる目的の界面活性剤等を
含イコさせる。
化合物、(B)高分子化合物及び(Oエフ+c!キン樹
脂のほかに、適宜他のものを含イ1させることができる
。例えば、画像を見易くする目的の染料、顔料や、塗イ
li I’l’−能を向上させる目的の界面活性剤等を
含イコさせる。
本発明の感光性+1’:lf成放物、浴液にしてロール
コータ−、バーコーター、回転塗布機等で基体上に塗布
される。この際防用される有+・Ai剤とシテハ、エチ
1/′ングリコールモノメチルエーテル(このものtよ
1・1へ光性ジアゾ化合物の溶解に特に適シている。)
、エチンングリコールモノエチルエーテル、エチレング
リコールモノメチルエーテルアセゾート、メチルエチル
ケトン、ツメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等
の単独又は混合の浴剤ケあげることができる。
コータ−、バーコーター、回転塗布機等で基体上に塗布
される。この際防用される有+・Ai剤とシテハ、エチ
1/′ングリコールモノメチルエーテル(このものtよ
1・1へ光性ジアゾ化合物の溶解に特に適シている。)
、エチンングリコールモノエチルエーテル、エチレング
リコールモノメチルエーテルアセゾート、メチルエチル
ケトン、ツメチルホルムアミド、テトラヒドロフラン等
の単独又は混合の浴剤ケあげることができる。
以下、本発明を実施例により説明する。「部」は重量部
を意味する。
を意味する。
実施例1
(])[’(B −1)の合成例〕、]?す(メタクリ
ル酸ベンツルーCO−メタクリルf[−2−ヒト0キシ
エチル−CO−アクリル酸)の合成窒素樽入管及び攪拌
装置を・I!i!iえた反応容器に、窒素雰囲気下でメ
チルエチルケトン5002、メタクリル酸ベンジル17
09、メククリル酸−2−ヒドロギシエチル60’i、
”j”クリルtav 12 y及び過酸化ベンゾイル0
.7yを仕込みV:1!、度70〜75℃で10時間反
応させたところ、粘稠液が得られた。この粘稠液を20
tの水中に激しく攪拌しながら性別した。
ル酸ベンツルーCO−メタクリルf[−2−ヒト0キシ
エチル−CO−アクリル酸)の合成窒素樽入管及び攪拌
装置を・I!i!iえた反応容器に、窒素雰囲気下でメ
チルエチルケトン5002、メタクリル酸ベンジル17
09、メククリル酸−2−ヒドロギシエチル60’i、
”j”クリルtav 12 y及び過酸化ベンゾイル0
.7yを仕込みV:1!、度70〜75℃で10時間反
応させたところ、粘稠液が得られた。この粘稠液を20
tの水中に激しく攪拌しながら性別した。
(IIられた白色411出物をr過、水洗、乾燥してm
11Ti 2 s、極限粘度〔η几。= 0.135
(MC:エチレンクリコールモノメチルエーテル)ノ
標記の共重合物2009を得た。
11Ti 2 s、極限粘度〔η几。= 0.135
(MC:エチレンクリコールモノメチルエーテル)ノ
標記の共重合物2009を得た。
(2) ((B −2)の合成例〕ぼり(メタクリル酸
−tert−ブチル−CO−メタクリル酸メチル−co
−メタクリル酸)の合成 前記と同じ反応容器を使用して屋素雰囲気1丁で、水5
35g、メタクリル酸−tert−ブチル80g、メタ
クリル酸メチル159、メタクリル酸139、過酸化ベ
ンゾイル1′?及びポリエチレンオキシド(米国U、
C,C,社[Po1yox 、 WSRN 、80 、
分子量200,000 )242を混合し、攪拌速度7
00〜800 rpmで6時間反応させた。反応終了後
、p過、水洗、乾燥して標記のビーズ状共重合物952
を得た。このものの酸価は45.〔η〕7.。は0゜3
58であった。
−tert−ブチル−CO−メタクリル酸メチル−co
−メタクリル酸)の合成 前記と同じ反応容器を使用して屋素雰囲気1丁で、水5
35g、メタクリル酸−tert−ブチル80g、メタ
クリル酸メチル159、メタクリル酸139、過酸化ベ
ンゾイル1′?及びポリエチレンオキシド(米国U、
C,C,社[Po1yox 、 WSRN 、80 、
分子量200,000 )242を混合し、攪拌速度7
00〜800 rpmで6時間反応させた。反応終了後
、p過、水洗、乾燥して標記のビーズ状共重合物952
を得た。このものの酸価は45.〔η〕7.。は0゜3
58であった。
(3)〔感光性組成物の調製例〕
CA) 4−シアシソフェニルアミンと 10部ホルム
アルラ′ヒトとの縮合物の 4−トルエンスルホン酸塩 CB−1) dPす(メタクリル酸ベンジ 60 部ル
ーco−メククリル酸−2−ヒ ドロキシエチルーQO−アクリル酸) (B−2)ポリ(メタクリル酸−tcrt S 部ブチ
ルーCO−メタクリル酸メチル −co−メタクリル酸) (C’)エピコー1−1003(エポキシ当量 25
都700、 ?lil化シエルエデキシ社製)(?#t
)。−2、<yn(C11,泌炒2部 #V i o I e t 10 ) 以」二の成分を混合して感光性組成物を調製した。
アルラ′ヒトとの縮合物の 4−トルエンスルホン酸塩 CB−1) dPす(メタクリル酸ベンジ 60 部ル
ーco−メククリル酸−2−ヒ ドロキシエチルーQO−アクリル酸) (B−2)ポリ(メタクリル酸−tcrt S 部ブチ
ルーCO−メタクリル酸メチル −co−メタクリル酸) (C’)エピコー1−1003(エポキシ当量 25
都700、 ?lil化シエルエデキシ社製)(?#t
)。−2、<yn(C11,泌炒2部 #V i o I e t 10 ) 以」二の成分を混合して感光性組成物を調製した。
このものをエチレングリコールモノメチルエーテル30
0部に溶解して、粘度140 cps(25℃)の感光
液を作製した。
0部に溶解して、粘度140 cps(25℃)の感光
液を作製した。
(4)〔使用例〕
この感光液を、ブラシ研磨後陽極酸化処理したアルミニ
ウム板(0,3tmn厚)JJこロールコータ−で塗布
し、90℃の温風にて3分間乾燥して、■、5yAイ(
固形分換算)の感光層を有するPS版を得た。このPS
版にネガ原稿を重ね、2KWの超高圧水銀灯から距IN
II′1m(光強度1.5 mW/cr;l )で紫外
光を40秒間照射した。照射後ベンジルアルコール20
2、珪酸すトリウム2g、トーホールN230 (界面
活性剤、東邦化学工業社製)及び水762からなる現像
液音用いて現像したところ、鮮鋭なパターンの印刷版が
得られた。
ウム板(0,3tmn厚)JJこロールコータ−で塗布
し、90℃の温風にて3分間乾燥して、■、5yAイ(
固形分換算)の感光層を有するPS版を得た。このPS
版にネガ原稿を重ね、2KWの超高圧水銀灯から距IN
II′1m(光強度1.5 mW/cr;l )で紫外
光を40秒間照射した。照射後ベンジルアルコール20
2、珪酸すトリウム2g、トーホールN230 (界面
活性剤、東邦化学工業社製)及び水762からなる現像
液音用いて現像したところ、鮮鋭なパターンの印刷版が
得られた。
この印刷版をオフセット輪転印刷機にて印刷して15万
部の印刷物を得た。15万部印刷後も、」肥厚版e」、
損傷もなく、なお印刷がFjJ能であった。
部の印刷物を得た。15万部印刷後も、」肥厚版e」、
損傷もなく、なお印刷がFjJ能であった。
又、画像のインキ刺着性がよく、数回転するのみで良好
な印刷物を得ることができた。
な印刷物を得ることができた。
上記印刷版を200〜220℃に加熱したメーブン中で
10分間ポストベーキングし、オフセット輪転印刷機に
て50万部の印刷を行った。
10分間ポストベーキングし、オフセット輪転印刷機に
て50万部の印刷を行った。
この版はアルミニウム基板に一部損傷がみられたが、画
像部は全く損傷がなく非常に高い耐摩耗性をもっている
ことが認められた。
像部は全く損傷がなく非常に高い耐摩耗性をもっている
ことが認められた。
一方、得られたps版を室温下で6ケ月間保管した後の
現像性、印刷性等ヲ」肥厚と同様にして調−べたところ
、同様の結果が(Oられ、十分な保存安定性をイイして
いることが確認された。
現像性、印刷性等ヲ」肥厚と同様にして調−べたところ
、同様の結果が(Oられ、十分な保存安定性をイイして
いることが確認された。
天施例2
(11[I(B −1)の合成例〕目?す(メタクリル
敵−tert−ブチル−co−メタクリル酸−2−ヒド
ロキシエチル−co−メタクリル酸)の合成 窒素導入管及び攪拌装置を備えた反応容器に、メチルエ
チルケトン5oo9、メタクリル酸−Lert−ブチル
15o2、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル70g
、メタクリル酸152及び過酸化ベンゾイル0.7 g
を入ノ11窒素気流中攪拌しながら70〜75℃下9〜
10時間反応させた。得られた粘稠液を20tの水中に
投入し、p過、乾燥して、酸価32、〔43Mo−0,
165の標記共重合物210r??4)た。
敵−tert−ブチル−co−メタクリル酸−2−ヒド
ロキシエチル−co−メタクリル酸)の合成 窒素導入管及び攪拌装置を備えた反応容器に、メチルエ
チルケトン5oo9、メタクリル酸−Lert−ブチル
15o2、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル70g
、メタクリル酸152及び過酸化ベンゾイル0.7 g
を入ノ11窒素気流中攪拌しながら70〜75℃下9〜
10時間反応させた。得られた粘稠液を20tの水中に
投入し、p過、乾燥して、酸価32、〔43Mo−0,
165の標記共重合物210r??4)た。
(2)[(B−2)の合成物〕ポリ(メタクリル酸−1
so−ブチル−CO−メタクリル酸メチル−eo−アク
リル酸) 前記と同じ反応容器を使用して望素雰囲気下で水535
ノ、メタクリルfp−iso−ブチル80g、メタクリ
ル酸メチル20g、アクリル酸132、過酸化ベンゾイ
ル12、ポリエチレンオキノド(前記と同じ)2.4y
4加え攪n速U 700〜800 rpmで6時間反応
きせた。
so−ブチル−CO−メタクリル酸メチル−eo−アク
リル酸) 前記と同じ反応容器を使用して望素雰囲気下で水535
ノ、メタクリルfp−iso−ブチル80g、メタクリ
ル酸メチル20g、アクリル酸132、過酸化ベンゾイ
ル12、ポリエチレンオキノド(前記と同じ)2.4y
4加え攪n速U 700〜800 rpmで6時間反応
きせた。
反応終了後、p過、水洗、乾燥して標記のビーズ状の共
重合物90?f得た。このものは (酸価45、〔η〕
や。=0.305 であった。
重合物90?f得た。このものは (酸価45、〔η〕
や。=0.305 であった。
(3)〔感光性組成物の調製例〕
(A) 4−ジアゾジフェニルアミント10部ホルトア
ルデヒドとの縮合Qhの 4−トルエンスルホン酸塩 (B−1)ポリ(メタクリル酸−tert 50部−プ
チル−co−メタクリル酸 −2−ヒドロキシエチル−co− メタクリル酸) (B−2) 、i?す(メタクリル酸−1so −10
部ブチル−co−メタクリル酸メチ ルーco−アクリル酸) (C)−[−ビニ1−1−1003 (前記ト同U)
311((染料)ローダミンB(前記と同じ) 2部以
上の成分を混合して感光性組成物を調製した。
ルデヒドとの縮合Qhの 4−トルエンスルホン酸塩 (B−1)ポリ(メタクリル酸−tert 50部−プ
チル−co−メタクリル酸 −2−ヒドロキシエチル−co− メタクリル酸) (B−2) 、i?す(メタクリル酸−1so −10
部ブチル−co−メタクリル酸メチ ルーco−アクリル酸) (C)−[−ビニ1−1−1003 (前記ト同U)
311((染料)ローダミンB(前記と同じ) 2部以
上の成分を混合して感光性組成物を調製した。
このものをエチレングリコールモノメチルエーテル4o
o 部に溶解して、粘U 80 cpsの感光液を作製
した。
o 部に溶解して、粘U 80 cpsの感光液を作製
した。
4)〔使用例〕
この感光液を、プラノ研磨後陽極酸化処理したアルミニ
ウム板< 0.3 mm 厚’ )にロールコータ−で
塗布し、80〜90℃の温風にて3分間乾燥し1.89
/n1′(固形分換H’−)の感光層を有する28版を
イ!事だ。この28版にネガ原稿をMtね、2KW超高
圧水銀灼から距離1m(′X、強度1.5 mW/al
)で紫外光を70秒間照射した。照射後ベンジルアル
コール20f、炭酸ナトリウム152、トーホールN2
30(前記と同じ)1.59及び水772からなる現像
液にて現像したところ、鮮鋭なノ′?ターンの印刷版が
ftIられた。
ウム板< 0.3 mm 厚’ )にロールコータ−で
塗布し、80〜90℃の温風にて3分間乾燥し1.89
/n1′(固形分換H’−)の感光層を有する28版を
イ!事だ。この28版にネガ原稿をMtね、2KW超高
圧水銀灼から距離1m(′X、強度1.5 mW/al
)で紫外光を70秒間照射した。照射後ベンジルアル
コール20f、炭酸ナトリウム152、トーホールN2
30(前記と同じ)1.59及び水772からなる現像
液にて現像したところ、鮮鋭なノ′?ターンの印刷版が
ftIられた。
1)11記でイ(jたI)S版は40℃下201」間作
イJ゛し2ても良好な現像性を示した。これは室温の状
!、i14で保存した場合2年以上の保イr匁定性をJ
、5゛つものである。
イJ゛し2ても良好な現像性を示した。これは室温の状
!、i14で保存した場合2年以上の保イr匁定性をJ
、5゛つものである。
比較のため、実施例2において(B−1)及び(B−2
)の高分子化合物の代りに、同様Vこして合成したポリ
(メタクリル酸−2−ヒドロギシエチルーCO−アクリ
IJニトリルーCO−メタクリル酸メチル−co−メタ
クリル酸)60部を使用して感光性組成物を作製した。
)の高分子化合物の代りに、同様Vこして合成したポリ
(メタクリル酸−2−ヒドロギシエチルーCO−アクリ
IJニトリルーCO−メタクリル酸メチル−co−メタ
クリル酸)60部を使用して感光性組成物を作製した。
このものを使用して実施例2と同様にして印刷版を作製
し、これについて西独・・イデルベルグ社製二色印刷機
にて印刷適性を試!’4にして調べた。
し、これについて西独・・イデルベルグ社製二色印刷機
にて印刷適性を試!’4にして調べた。
前記実施例2の印刷版とこの比較例の印刷版についてイ
↓1だ試・験結果は下表のとおりである。
↓1だ試・験結果は下表のとおりである。
第 1 表
@1表においτ、ヤレ紙とは、正常な印刷物が得られる
までに消費されるむだな印刷用紙、つまり試し刷り紙の
ことで、ヤレ紙の枚数が少いほど、版全面へのインキの
均一付着が良好なことを示し、したがって版のインキ受
容性(親油性)は良好ということになる。
までに消費されるむだな印刷用紙、つまり試し刷り紙の
ことで、ヤレ紙の枚数が少いほど、版全面へのインキの
均一付着が良好なことを示し、したがって版のインキ受
容性(親油性)は良好ということになる。
たかVこよつ−C判定され、印刷物の部数が多いほど1
li11刷性が良好ということになる。
li11刷性が良好ということになる。
第1表の結果によれば、本発明例の場合が実施例3
(1)〔感光性組成物の調製例〕
(A)実施例10ソアゾ化合物 18部(B−1)実施
例1の(B−1)共重 45部合物 (B−2)実施例2の(B−2)共重 5部合物 (C)EOCN 103(エボキ7当量215 30部
〜235. 日本化薬社製) (染料)アイゼンビクトリアブルー 2部BH(C,1
,[3astc、 Blue 26゜保土谷化学工業社
製) (界面活性剤) 、l? リオキシエチレ 0.1部ン
ンルビタンモノラウレート 以上の成分を混合して感光性組成物を調製した。
例1の(B−1)共重 45部合物 (B−2)実施例2の(B−2)共重 5部合物 (C)EOCN 103(エボキ7当量215 30部
〜235. 日本化薬社製) (染料)アイゼンビクトリアブルー 2部BH(C,1
,[3astc、 Blue 26゜保土谷化学工業社
製) (界面活性剤) 、l? リオキシエチレ 0.1部ン
ンルビタンモノラウレート 以上の成分を混合して感光性組成物を調製した。
このものをエチレングリコールモノメチルエーテル25
1B&びエチレングリコールモノエチルエーテル50部
の混合液に溶解し粘度130cpsの感光液を作製した
。
1B&びエチレングリコールモノエチルエーテル50部
の混合液に溶解し粘度130cpsの感光液を作製した
。
(2)〔使用例〕
鉄板(0,3mm厚)の両面に約3μ7nの銅を電着さ
せ片面に約2μmのクロムをメッキした上、このクロム
層を粗面化した基板にロールコータ−Vこて上記感光液
を塗布し、乾燥後1、59/nZ” (固形分換算)の
感光層を設けた。
せ片面に約2μmのクロムをメッキした上、このクロム
層を粗面化した基板にロールコータ−Vこて上記感光液
を塗布し、乾燥後1、59/nZ” (固形分換算)の
感光層を設けた。
得られた感)°C板にネガ原稿を密着させτ3rw超高
圧水銀灯から距F!jU 1771 (光強度3.5
+lZW/al )で紫外光を40秒間照射した後、実
施例2の現像液にて現像し、印刷版金得た。200’C
の温度で10分間加熱した後オフセット輪転印刷機にか
けて50万部の印刷を行った。印刷物は良好でこの版は
なお印刷を行い得るものであった。次に、上記感光層に
ポジ原稿を密着し同様に焼付、現像して反転画像を作製
した。これを塩化亜鉛80g、40重量%塩化カルシウ
ム故100+++7!、リン酸3 mlにてクロム層を
エツチングした。感光層は十分な間]性があり、感光層
を5重量製水酸化すトリウム水溶液で除去して良好な印
刷版を得た。
圧水銀灯から距F!jU 1771 (光強度3.5
+lZW/al )で紫外光を40秒間照射した後、実
施例2の現像液にて現像し、印刷版金得た。200’C
の温度で10分間加熱した後オフセット輪転印刷機にか
けて50万部の印刷を行った。印刷物は良好でこの版は
なお印刷を行い得るものであった。次に、上記感光層に
ポジ原稿を密着し同様に焼付、現像して反転画像を作製
した。これを塩化亜鉛80g、40重量%塩化カルシウ
ム故100+++7!、リン酸3 mlにてクロム層を
エツチングした。感光層は十分な間]性があり、感光層
を5重量製水酸化すトリウム水溶液で除去して良好な印
刷版を得た。
実施例4〜7
下記第2表に示す成分をそれぞれ混合して4独類の感光
性組成物を調製した。
性組成物を調製した。
各組成物をそれぞれエチレングリコール七ツメチルエー
テル900部に6解し感光液を作製した。
テル900部に6解し感光液を作製した。
a(12表
この感光液を、ブラシ研磨後陽極酸化処理したアルミニ
ウム基板(0,3mm厚)に回転塗布機を使用して塗布
、乾燥して159/n? (固形分換算)の感光層を有
する印刷用PS版を作製した。
ウム基板(0,3mm厚)に回転塗布機を使用して塗布
、乾燥して159/n? (固形分換算)の感光層を有
する印刷用PS版を作製した。
実施例1と同様に露光、現像して、印刷版を作製した。
このものの性能を試験した結果は後記第4表に示すとお
りであった。
りであった。
比較のため、トー記第3表に示す成分からなるII釜冗
性組成物、すなわち、(’B−1)、(B−2)及び(
Q成分のいずれか少くとも1つを欠く各感光性組成物を
同様に作製した。
性組成物、すなわち、(’B−1)、(B−2)及び(
Q成分のいずれか少くとも1つを欠く各感光性組成物を
同様に作製した。
第3表
第3表の比較例(イ)〜に)の感光性組成物から同様に
して感光族を作製し、このものを使用してそれぞれ同様
にして印刷版を作製した。このものの性能を試験した結
果を後記第4表に併記し7た。
して感光族を作製し、このものを使用してそれぞれ同様
にして印刷版を作製した。このものの性能を試験した結
果を後記第4表に併記し7た。
前記第1表及び後記第4表の試験結果によれば、本発明
のl修九性組成物を使用した場合は、比帳例の場合に比
し感光性、現f7:性、インキ受答性(親油性)及び1
llYl刷件の性能においで優れでおり、したがって本
発明の感光性に1[酸物(二[所期の優Iした効果を元
押することがわかる。
のl修九性組成物を使用した場合は、比帳例の場合に比
し感光性、現f7:性、インキ受答性(親油性)及び1
llYl刷件の性能においで優れでおり、したがって本
発明の感光性に1[酸物(二[所期の優Iした効果を元
押することがわかる。
第 4 表
第4表における優、良及び不ijJは、各試験項目につ
いて−F1尼の乙用定・へ周肴方法による糸吉果を干゛
記基準でπY価(7てつけられたものである。
いて−F1尼の乙用定・へ周肴方法による糸吉果を干゛
記基準でπY価(7てつけられたものである。
感光性:超高圧水銀灯(3KW) から距離17?7(
X強度3.51nW/al ) にて露光し1,2ステ
ツプ・タブレノL (Kodak 5tepTable
LN(L2 )の6段ペタになる寸での焼きイー]りに
堤する時間及び元硬化膜の強さを測定する。所要露光時
間か20 〜30秒のとき優、40〜90秒のと き良、120秒以上露冗しても)Y:、硬化膜の弱いも
のしか得られないとき不iiJと評1曲する。
X強度3.51nW/al ) にて露光し1,2ステ
ツプ・タブレノL (Kodak 5tepTable
LN(L2 )の6段ペタになる寸での焼きイー]りに
堤する時間及び元硬化膜の強さを測定する。所要露光時
間か20 〜30秒のとき優、40〜90秒のと き良、120秒以上露冗しても)Y:、硬化膜の弱いも
のしか得られないとき不iiJと評1曲する。
現像性:実施例1の現像液ケ使用し、所要現像時間をd
11]定する。所要現像時間が60秒以下のとき優、6
0秒を超え90秒 1でのとき良、90秒ケ超えるとき不 り丁と::゛r価する。
11]定する。所要現像時間が60秒以下のとき優、6
0秒を超え90秒 1でのとき良、90秒ケ超えるとき不 り丁と::゛r価する。
インキ受容性(親油性):印刷開始後のヤレ紙(試し刷
り紙)の枚数を調べる。ヤレ 紙が9枚以下のとき優、10〜20枚 のとき良、20枚を超えるとき不nJと評価する。
り紙)の枚数を調べる。ヤレ 紙が9枚以下のとき優、10〜20枚 のとき良、20枚を超えるとき不nJと評価する。
剛刷性:1制摩耗性試験機を使用して、版の画像その部
数を調べる。正常印刷物の部数 が20力を超えるとき優、20〜10 力のとき良、10力未満のとき不可と J゛r価する。
数を調べる。正常印刷物の部数 が20力を超えるとき優、20〜10 力のとき良、10力未満のとき不可と J゛r価する。
特許出願人 ノマール株式会社
代理人 弁理士 土 居 三 部
手続袖正書
昭和60年3月12日
特許庁長官 殿
】 事件の表示
昭和59年特旧願第(111874号
2、発明の名称
感光性組成物
;3 補正をする者品吐壬壬
事件との関係 4R+旧出願人
住 jツ1 東京都中火区銀座を丁目11拓2号名称ソ
マール工業株式会社 代表渚 平 !l!J 静 二 4代理人〒105 住 H■ 東y;(都港区西新橋1丁目10番8号5
補正命令の日刊 (自発補正) 6、補正の対象 7 補止の内容 (1111I細魯第17声第4行1’ (m、 + m
2) /m3約1〜20」とあるをr (n、 十n2
) /n3=約1〜20と補止する。
マール工業株式会社 代表渚 平 !l!J 静 二 4代理人〒105 住 H■ 東y;(都港区西新橋1丁目10番8号5
補正命令の日刊 (自発補正) 6、補正の対象 7 補止の内容 (1111I細魯第17声第4行1’ (m、 + m
2) /m3約1〜20」とあるをr (n、 十n2
) /n3=約1〜20と補止する。
(2) 同初第21負未イカ「u、c、c、Jとk・る
を[ユニオンカーバイド]と補止する。
を[ユニオンカーバイド]と補止する。
(3) 同瓢第25J8.I叱10斤〕「合成物」とあ
るを「合成例」と補正する。
るを「合成例」と補正する。
(4) 同i第25廁十からシル3行「700〜800
rpm で」とあるを「700〜80 (l r p
m−ドア5〜80 ”Cで」と補正する。
rpm で」とあるを「700〜80 (l r p
m−ドア5〜80 ”Cで」と補正する。
(!’il li、t :&第26負1から第3 ’(
−11’ c ps Jとあるをrcps(25℃)」
と補止する。
−11’ c ps Jとあるをrcps(25℃)」
と補止する。
(6) 同を第30貞刺!10行r cps Jとある
をrcps(zs℃)」と補正する。
をrcps(zs℃)」と補正する。
り上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (11 (A)感光性ソアゾ化合物、(B)高分子化合
物及び(C″llエポキシ樹脂有する感光性組成物であ
って、該高分子化合物が下記(13−1 )の高分子化
合物と(B−2)の高分子化合物との組合せであること
を特徴とする感光性組成物。 (B−1):下記式(i)、 (ii)及び010で示
される谷構造単位を同時にイーする高分子化合物1 ■ − CH2− C□ ・・・・・・(1)碁 OOR2 1 ■ − CH, − C □・・・・・(11)『 Coo CH2 CHOH 督 3 一CH2−C□ ・・・・・・(iii)OOH (B−2):下記式(iV) 、(V)及び(■1)で
示される各構造単位を同時に有する高分子化合物 1 (、:OOR′ −C1(2−C−・・−(Vi ) 1 0OH (2)感光性ジアゾ化合物が4−ジアゾジフェニルアミ
ンとホルム−γルデヒドとの縮合物の2−ヒト80キン
−4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン1412
塩である竹i’l請求の範囲(11のに1[放物。 (3+ It2 が非置換ベンジル基である特許請求の
範囲(1)の組成物。 (4) +4’ がtart−ブチル基である特許請求
の範囲(])の組成物。 (5) (B −1,)の篩分子化付物における(i)
、 (ii+(ill>の存在比(((i)−(11逝
1ii1 )が約1.5〜9であり、かつ該高分子化合
物の分子量が約5,000〜100,000である特許
請求の範囲(1)の組成物。 (6) (B−2)の高分子化合物における(iv)。 (v)、(vl)ノ存在比(切い−1(■)hVl))
が約1〜20であり、かつ核高分子化合物の分子−1[
(が約50,000〜500,000である特許請求の
範囲(1)の組成物。 (7) :r−s? キ/4il脂カー1−ボギ/当量
約150〜2,000で、かつ常61.1″1で固体状
を呈するものである特許請求の範囲(1)の組成物。 (8) エボギ/(酊脂が−1−、+j、rキノ当用、
約150〜2,000で、かつ常f11+Aで固体状の
ビスフェノールAのグリシツルエーテルである特許請求
の範囲(1)の組成物。 (9) エポキシ樹脂がエフjゼキ7当量約150〜2
,000で、かつ常温で固体状のフェノール又ハタレゾ
ールノボランクのグリシツルエーテルである特許請求の
範囲(1)の組成物。 (10)感光性組成物における高分子化合物及び工50
屯:1;チである特許請求の範囲
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59041874A JPS60186837A (ja) | 1984-03-07 | 1984-03-07 | 感光性組成物 |
US06/709,249 US4681833A (en) | 1984-03-07 | 1985-03-07 | Light-sensitive negative working composition with diazonium condensate, epoxy resin, and combination of polymers with acrylic groups |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59041874A JPS60186837A (ja) | 1984-03-07 | 1984-03-07 | 感光性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60186837A true JPS60186837A (ja) | 1985-09-24 |
JPH0262858B2 JPH0262858B2 (ja) | 1990-12-26 |
Family
ID=12620409
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59041874A Granted JPS60186837A (ja) | 1984-03-07 | 1984-03-07 | 感光性組成物 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4681833A (ja) |
JP (1) | JPS60186837A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS62276541A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-01 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 |
JPS6340141A (ja) * | 1986-06-06 | 1988-02-20 | バスフ アクチエンゲゼルシヤフト | 感光性記録素子 |
JPS63135936A (ja) * | 1986-11-27 | 1988-06-08 | Sekisui Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
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---|---|---|---|---|
FR2651337B1 (fr) * | 1989-08-31 | 1991-12-06 | Efi | Composition photosensible a base de condensat diazouique pour plaques offset. |
JP2623151B2 (ja) * | 1990-05-18 | 1997-06-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 電子写真感光体 |
US5698361A (en) * | 1991-10-07 | 1997-12-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
KR100219573B1 (ko) * | 1996-08-05 | 1999-09-01 | 윤종용 | 감광성 고분자 화합물 및 이를 포함하는 포토레지스트 조성물 |
US6127074A (en) * | 1997-12-30 | 2000-10-03 | Samsung Display Devices Co., Ltd. | Photoresist solution for phosphor slurry applied to color cathode ray tube |
KR100598176B1 (ko) * | 2004-07-06 | 2006-07-10 | 주식회사 하이닉스반도체 | 상부 반사방지막 중합체, 이의 제조방법 및 이를 함유하는상부 반사방지막 조성물 |
US8044148B2 (en) * | 2004-11-25 | 2011-10-25 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Modified styrene-maleic acid copolymer and use thereof |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL267931A (ja) * | 1960-08-05 | 1900-01-01 | ||
BE789196A (fr) * | 1971-09-25 | 1973-03-22 | Kalle Ag | Matiere a copier photosensible |
JPS527364B2 (ja) * | 1973-07-23 | 1977-03-02 | ||
US4123276A (en) * | 1974-02-28 | 1978-10-31 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition |
NL7506406A (nl) * | 1975-05-30 | 1976-12-02 | Oce Van Der Grinten Nv | Lichtgevoelig kopieermateriaal. |
CA1127340A (en) * | 1977-12-30 | 1982-07-06 | Kohtaro Nagasawa | Photocurable light-sensitive composition and material |
JPS55527A (en) * | 1978-06-16 | 1980-01-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive planographic plate |
DE3022473A1 (de) * | 1980-06-14 | 1981-12-24 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zu seiner herstellung |
JPS57204032A (en) * | 1981-06-10 | 1982-12-14 | Somar Corp | Photosensitive material |
US4539285A (en) * | 1984-03-14 | 1985-09-03 | American Hoechst Corporation | Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography |
-
1984
- 1984-03-07 JP JP59041874A patent/JPS60186837A/ja active Granted
-
1985
- 1985-03-07 US US06/709,249 patent/US4681833A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS62276541A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-01 | Mitsubishi Chem Ind Ltd | 感光性組成物及び感光性平版印刷版 |
JPS6340141A (ja) * | 1986-06-06 | 1988-02-20 | バスフ アクチエンゲゼルシヤフト | 感光性記録素子 |
JPS63135936A (ja) * | 1986-11-27 | 1988-06-08 | Sekisui Chem Co Ltd | 感光性組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0262858B2 (ja) | 1990-12-26 |
US4681833A (en) | 1987-07-21 |
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