JPH11513652A - 五酸化ニオブ及びタンタル化合物 - Google Patents

五酸化ニオブ及びタンタル化合物

Info

Publication number
JPH11513652A
JPH11513652A JP9515130A JP51513097A JPH11513652A JP H11513652 A JPH11513652 A JP H11513652A JP 9515130 A JP9515130 A JP 9515130A JP 51513097 A JP51513097 A JP 51513097A JP H11513652 A JPH11513652 A JP H11513652A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pentoxide
valve metal
niobium
solution
surface area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9515130A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4105227B2 (ja
Inventor
エム. ブラウン,パトリック
アール. ウー,ロン−チェン
シー. ペディコーン,レイモンド
ジー. マダラ,マイケル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Cabot Corp
Original Assignee
Cabot Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=24163134&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH11513652(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Cabot Corp filed Critical Cabot Corp
Publication of JPH11513652A publication Critical patent/JPH11513652A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4105227B2 publication Critical patent/JP4105227B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G33/00Compounds of niobium
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02MSUPPLYING COMBUSTION ENGINES IN GENERAL WITH COMBUSTIBLE MIXTURES OR CONSTITUENTS THEREOF
    • F02M51/00Fuel-injection apparatus characterised by being operated electrically
    • F02M51/06Injectors peculiar thereto with means directly operating the valve needle
    • F02M51/061Injectors peculiar thereto with means directly operating the valve needle using electromagnetic operating means
    • F02M51/0625Injectors peculiar thereto with means directly operating the valve needle using electromagnetic operating means characterised by arrangement of mobile armatures
    • F02M51/0664Injectors peculiar thereto with means directly operating the valve needle using electromagnetic operating means characterised by arrangement of mobile armatures having a cylindrically or partly cylindrically shaped armature, e.g. entering the winding; having a plate-shaped or undulated armature entering the winding
    • F02M51/0671Injectors peculiar thereto with means directly operating the valve needle using electromagnetic operating means characterised by arrangement of mobile armatures having a cylindrically or partly cylindrically shaped armature, e.g. entering the winding; having a plate-shaped or undulated armature entering the winding the armature having an elongated valve body attached thereto
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G35/00Compounds of tantalum
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02MSUPPLYING COMBUSTION ENGINES IN GENERAL WITH COMBUSTIBLE MIXTURES OR CONSTITUENTS THEREOF
    • F02M61/00Fuel-injectors not provided for in groups F02M39/00 - F02M57/00 or F02M67/00
    • F02M61/16Details not provided for in, or of interest apart from, the apparatus of groups F02M61/02 - F02M61/14
    • F02M61/168Assembling; Disassembling; Manufacturing; Adjusting
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02MSUPPLYING COMBUSTION ENGINES IN GENERAL WITH COMBUSTIBLE MIXTURES OR CONSTITUENTS THEREOF
    • F02M61/00Fuel-injectors not provided for in groups F02M39/00 - F02M57/00 or F02M67/00
    • F02M61/16Details not provided for in, or of interest apart from, the apparatus of groups F02M61/02 - F02M61/14
    • F02M61/18Injection nozzles, e.g. having valve seats; Details of valve member seated ends, not otherwise provided for
    • F02M61/1853Orifice plates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G9/00Electrolytic capacitors, rectifiers, detectors, switching devices, light-sensitive or temperature-sensitive devices; Processes of their manufacture
    • H01G9/004Details
    • H01G9/04Electrodes or formation of dielectric layers thereon
    • H01G9/048Electrodes or formation of dielectric layers thereon characterised by their structure
    • H01G9/052Sintered electrodes
    • H01G9/0525Powder therefor
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/70Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data
    • C01P2002/72Crystal-structural characteristics defined by measured X-ray, neutron or electron diffraction data by d-values or two theta-values, e.g. as X-ray diagram
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/01Particle morphology depicted by an image
    • C01P2004/03Particle morphology depicted by an image obtained by SEM
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/10Particle morphology extending in one dimension, e.g. needle-like
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/30Particle morphology extending in three dimensions
    • C01P2004/32Spheres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/50Agglomerated particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/51Particles with a specific particle size distribution
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/62Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/10Solid density
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/11Powder tap density
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/12Surface area
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/40Electric properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/80Compositional purity
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F02COMBUSTION ENGINES; HOT-GAS OR COMBUSTION-PRODUCT ENGINE PLANTS
    • F02BINTERNAL-COMBUSTION PISTON ENGINES; COMBUSTION ENGINES IN GENERAL
    • F02B75/00Other engines
    • F02B75/12Other methods of operation
    • F02B2075/125Direct injection in the combustion chamber for spark ignition engines, i.e. not in pre-combustion chamber

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 所望の粒子サイズ範囲内に狭粒子サイズ分布を有する五酸化弁金属、例えば五酸化タンタル又は五酸化ニオブの製造方法。弁金属物質含有鉱石の温浸からの弁金属溶液を制御温度、pH及び滞留時間条件下で処理加工して、弁金属五酸化物及び五酸化物水和物を生成する。さらに、新規の五酸化タンタル及び五酸化ニオブ生成物、並びに新規の五酸化タンタル前駆体及び五酸化ニオブ前駆体を開示する。

Description

【発明の詳細な説明】 五酸化ニオブ及びタンタル化合物 本発明は、新規の弁金属化合物、特に新規の五酸化ニオブ、ニオブ水和物、五 酸化タンタルおよびタンタル水和物に、そしてこのような化合物の改良型製造方 法に関する。 発明の背景 弁金属は、金属を腐食から保護する傾向がある保護酸化物表面層を特徴とし、 その例としては、タンタル、ニオブ、アルミニウム、ジルコニウム、タングステ ン、チタン及びハフニウムが挙げられる。本明細書中で用いる場合、「弁金属」 とは、タンタル及びニオブを指す。商業的に有益な形態の「弁金属」は、弁金属 酸化物、例えば五酸化タンタル(Ta25)又は五酸化ニオブ(Nb25)であ る。タンタル及びニオブは、フッ化水素酸(HF)又はフッ化水素酸と硫酸(H F/H2SO4)の混合物により鉱石から慣用的に抽出され、典型的には溶媒抽出 により、例えばメチルイソブチルケトン(MIBK)を用いて分離されるヘプタ フルオロ錯体を形成して、弁金属のヘプタフルオロ錯体の水性溶液を提供する。 弁金属五酸化物は、アンモニアでヘプタフルオロ錯体を処理して沈殿され、濾過 により回収される。 米国特許第 5,068,097号に開示されているように、弁金属五酸化物は一般に、 バッチ法により生成される。従来のバッチ法では、このような前駆体はアンモニ アを溶液に付加するとpH範囲の変化の間ずっと沈殿されるため、粒子サイズお よび弁金属酸化物の粒子サイズ分布を制御するのは難しい、と考えられる。アン モニアを付加 すると、溶液のpHが上昇する。しかしながら、pHの上昇は、アンモニアが溶 液と反応する間起きる。弁金属五酸化物前駆体の沈殿は最初のpHで始まり、p Hが上昇中継続し、さらに高pHで終了する、と考えられる。沈殿が実際に起き るpHは沈殿物の粒子サイズに影響を及ぼし、したがって沈殿がpHの範囲に亘 って起きると、異なる粒子サイズが生成され、それにより酸化弁金属化合物の粒 子サイズ分布が増大される、と考えられる。バッチ法での広範囲のpHでの沈殿 はさらに、特定の粒子サイズの五酸化弁金属の生成を困難にする。 この問題は、例えば弁金属含有鉱石のHF温浸からの溶媒抽出弁金属ヘプタフ ルオロ錯体が温度、pH及び滞留時間制御条件下で処理加工される本発明の方法 により克服し得る、ということを本発明者は発見した。 発明の要旨 本発明は、弁金属五酸化物前駆体並びに均一粒子サイズ及び狭粒子サイズ分布 の弁金属五酸化物を提供する。一つの態様では、本発明は、粒子の大型高密度球 状凝集物で、相対的に低表面積及び高嵩密度特性を有し、特に五酸化タンタルの 場合にはBET表面積が3平方メートル/グラム(m2/g)未満、及び嵩密度が少 なくとも3グラム/立法センチメートル(g/cc)、そして五酸化ニオブに関して はBET表面積が2m2/g未満、及び嵩密度が 1.2g/c 以上の弁金属五酸化物を提 供する。本発明の別の態様は、相対的に高表面積および低嵩密度特性を有する微 細粒子、特に五酸化タンタルの場合にはBET表面積が3m2/g以上、及び嵩密度 が3g/cc未満、そして五酸化ニオブに関してはBET表面積が2m2/g以上、及び 嵩密度が 1.2g/c 未満の弁金属五酸化物を提供する。本発明はさらに、所望の粒 子サイズ範囲内に狭粒子サイズ分布を有する五酸化弁金属、例えば五酸化タンタ ル又は五酸化ニオブの製造方法を提供する。 本発明はさらに、弁金属酸化物、例えば五酸化タンタル又は五酸化ニオブの製 造方法を提供する。本発明の方法は、所望の粒子サイズ範囲内に狭粒子サイズ分 布を有する五酸化弁金属を生成するために用いると有益である。この方法は、1 つ又はそれ以上の攪拌反応器中で、温度、pH及び滞留時間制御条件下で弁金属 フルオロ錯体をアンモニアと反応させて、水和五酸化弁金属前駆体を沈殿させる 工程を包含する。本発明はさらに、X線分析でのライン拡大d値が6±0.3 、3 ±0.2 及び 1.8±0.1 であることを特徴とする弁金属前駆体を提供する。このよ うな前駆体は、低フッ化物含量、例えば500 ppm 未満であることを特徴とする水 和酸化物である。 図面の簡単な説明 図1は、本発明の好ましい方法を実施するための反応器系を示す。 図2a、2b、2c及び2dは、下記の実施例3に記載された方法で生成され た本発明の焼成五酸化ニオブ粉末の走査電子顕微鏡(SEM)写真である。 図3a、3b、3c及び3dは、下記の実施例5に記載された方法で生成され た本発明の焼成五酸化ニオブ粉末のSEM写真である。 図4a、4b、4c及び4dは、下記の実施例9に記載された方法で生成され た本発明の焼成五酸化タンタル粉末のSEM写真である。 図5a、5b、5c及び5dは、下記の実施例10に記載された方法で生成さ れた本発明の焼成五酸化タンタル粉末のSEM写真で ある。 発明の詳細な説明 本発明は、 (a)一次容器中で、水和弁金属五酸化物前駆体の沈殿を開始させる温度、p H及び滞留時間条件で、アンモニア溶液とフッ化物イオン及びフルオロタンタル 酸及びニオブオキシフルオリドから成る群から選択される弁金属フルオロ化合物 を包含する水性溶液との混合物を提供し; (b)水和弁金属五酸化物前駆体をさらに沈殿させる温度、pH及び滞留時間 条件で混合するために、上記混合物を少なくとも1つの他の容器に移し;そして (c)上記水和弁金属五酸化物前駆体を上記混合物から分離して、焼成により 上記水和弁金属五酸化物前駆体を弁金属五酸化物に転化する 工程から成る五酸化弁金属の新規の及び改良の型製造方法を提供する。生成物 純度は、反応器系中に供給される弁金属錯体の純度により制御し得る。錯生成剤 、例えばエチレンジアミン四酢酸(EDTA)等を水性フルオロ溶液に付加して 、溶液中の不純物の保持に役立て得る。 反応の温度、pH及び滞留時間を制御するための好ましい方法は、連続攪拌タ ンク反応器、例えば縦続接続吸出管反応器系を用いる方法であって、この場合、 弁金属フルオロ錯体とアンモニアとの間の反応は、一次反応容器中で、最初のp H及び温度で開始され、次に異なるpHおよび/または異なる温度に保持される 1つ又はそれ以上の付加的反応容器により継続する。この方法では、一次pH( 一次容器中)及び二次pH(二次容器中)は、実質的には同一であ るか又は異なってもよく、別々に制御され得る。さらに二次pHを制御するのが 望ましい場合、本方法はさらに、二次アンモニア溶液を二次容器中に導入して、 二次アンモニア溶液と一次混合物とを混合して二次pHで二次混合物を得て、一 次混合物及び二次アンモニア溶液を反応させて、弁金属五酸化物前駆体の沈殿を 継続させる。一次及び二次反応容器が記載されているが、付加的反応容器を用い て工程をさらに制御し得る。例えば、わずかに異なるpHに保持された2つの反 応容器を、一次および/または二次容器の代わりに用いて、それにより反応容器 の総数を4又は5つに増量し得る。好ましい実施態様では、本方法は、二次混合 物を三次温度に保持した第三容器に移して、二次混合物をさらに攪拌して、水和 弁金属五酸化物前駆体を弁金属五酸化物に転化する前に水和弁金属五酸化物前駆 体の沈殿を完了させる付加的工程を含む。本発明が所望の粒子サイズ範囲内で狭 粒子サイズ分布を有する五酸化弁金属を生成するための連続方法を提供すること は、さらに有益である。 水和弁金属五酸化物前駆体は一般に、五酸化弁金属水和物を包含する。水和五 酸化弁金属前駆体から弁金属五酸化物への転化は、焼成により、又は熱水法によ り成し遂げ得る。水和タンタル酸化物前駆体は、少なくとも790 ℃の温度で焼成 することにより五酸化タンタルに転化され得る。ニオブ酸化物前駆体は、少なく とも650 ℃の温度で焼成することにより五酸化ニオブに転化され得る。各容器中 での反応に関する滞留時間は、溶液が容器中に導入され、容器から移される速度 により制御し得る。滞留時間の制御は、粒子のサイズ及び密度に影響を及ぼす。 滞留時間を増大すると、粒子のサイズ及び密度が増大される。温度も粒子サイズ に影響を与え、温度が高ければ沈殿反応を加速し、より微細な粒子を生じる。 本発明の好ましい方法では、各容器のpH及び温度を制御すれば 、生成さるべき所望の粒子サイズ及び狭粒子サイズ分布を有する弁金属五酸化物 (例えば五酸化タンタル又はニオブ)が生成される。本発明の方法では、pHは アンモニアの付加を制御することにより制御し得る。一次pH(一次容器中のp H)は、五酸化タンタル又はニオブ生成物の沈殿を開始するのに十分なレベルに 保持される必要がある。一般に、一次pHは、凝集粒子に関しては6〜9.5, 好ましくは7〜8の範囲である。二次pH(二次容器中のpH)は、好ましくは 五酸化タンタル又はニオブ前駆体の沈殿を実質的に確実に完了させるに十分なレ ベルに保持されるべきである。一般に二次pHは、8〜9.5,好ましくは8〜 8.5の範囲である。一次反応容器中の一次pHが酸性側に傾いている場合、所 望のpHを選るには二次容器中に二次アンモニア溶液を付加する必要がある。本 発明の方法の好ましい3容器実施態様では、付加的アンモニアは三次容器に付加 されず、三次容器のpHは実質的には二次容器のpHと同じか、又はわずかに低 く、したがって沈殿反応が実質的完了に進行することを確証する。 各容器に関するpHの選択は、本方法により生成される五酸化物生成物の粒子 サイズを一部確定する。概して、極端なpH、即ち一次容器中が約6〜9.5の pHであれば、微細粒子サイズを生成するのに有益であり、中間pH範囲では、 即ちpH約7.5であれば、実質的に球状(粗い)粒子サイズを生成するのに有 益である。 本明細書に用いる場合、滞留時間とは、単数又は複数の反応が起きる時間期間 を指す。本方法に関する総又は全滞留時間は、各反応容器での滞留時間の合計で ある。本方法に関する最小滞留時間は、弁金属五酸化物前駆体を沈殿させるのに 十分な滞留時間である。本方法に関する最大滞留時間は、一般に、所望の生成物 質及び方法の経済面によって指図される。概して、与えられたpH及び温度に関 しては、総滞留時間が短いほど、微細粒子サイズを生成するには望ましく、総滞 留時間が長いほど、粗い実質的に球状の粒子サイズの生成には望ましい。さらに 、弁金属フルオロ化合物の弁金属五酸化物前駆体への転化を実質的に完了させる 与えられた温度及びpHに関しては、総滞留時間が短いほど有益である。長滞留 時間が固相の再循環により成し遂げ得ることは、当業者には理解される。 温度を上げて操作して、以下の反応を右に動かすと、水和弁金属酸化物前駆体 の生成における反応の完了が促進される: H2TaF7+7NH4OH→Ta(OH)5+7NH4F+2H2O H2NbOF5+5NH4OH→Nb(OH)5+5NH4F+H2O 反応容器の温度は、水ジャケット等を含めた従来の手段により制御し得る。一般 に、大規模製造のためには、各容器の温度は40〜95℃の範囲である。与えら れたpH及び滞留時間に関しては、高音であるほどより微細な粒子を生成し、低 温であるほどより粗い粒子を生成する。 2反応器系に関しては、pH、温度及び滞留時間の間の関係は、一般に以下の ように要約される: この表は、説明のために提示されただけであって、本発明の方法の範囲を限定す ることを意味しないし、そのように解釈されるべきでもない。 図1を参照すると、吸出管を伴う一連の反応容器及び循環(攪拌)手段から成 る本発明の好ましい実施態様の実施に適した縦続接続 吸出管反応器系の流れ図が示される。本発明の方法に用いるのに適したこのよう な反応容器、吸出管及び循環手段は商業的に公知であって、したがってここでは 詳細に説明はしない。さらに、本発明の方法は特定の装置により実行されること に限定されず、上記の及び下記の方法工程の実施に適した広範な異なる装置によ り実施し得る。 本発明の好ましい方法では、例えばニオブ含有鉱石の温浸及び分離からの弁金 属フルオロ錯体含有溶液2は、一次反応容器10の上部中央に付加される。弁金 属含有溶液2の付加速度は、反応容器のサイズ、容器内で起きる反応に関する所 望の滞留時間、及び一次混合物が容器から移される速度に依っている。これらの 変数は、所望の粒子の種類により調整される。 アンモニア溶液4は、吸出管12により限定される領域の外側の一次反応容器 10の底外周に付加される。アンモニア溶液4の付加速度も、反応容器のサイズ 、容器内で起きる反応に関する所望の滞留時間、及び一次混合物が容器から移さ れる速度に依る。さらに、アンモニア溶液4の付加速度は、最終生成物中の所望 の粒子サイズにより部分的に確定される一次混合物の所望のpH(pH1)に依 る。一般に、pH1は6〜9.5の範囲である。与えられた温度及び滞留時間に 関しては、範囲の両端近くのpH値(6又は9付近)は最終生成物中に微細粒子 サイズを生じ、一方範囲の中央近くのpH1値(7〜8)は最終生成物中に粗い 球状粒子サイズを生じる。 一次反応容器10は、最終生成物の所望の粒子サイズにより一部確定される一 次温度(T1)に保持される。一般に、T1は30〜95℃、好ましくは50〜7 0℃の範囲である。与えられたpH及び滞留時間に関しては、T1の値が高いほ ど、より微細な粒子サイズを有する最終生成物を生じる。熱伝達手段、例えば水 ジャケット (図1には示されていない)を用いて、反応容器を所望の温度に保持し得る。 循環手段14、例えば攪拌器又はポンプを用いて、反応容器10内の弁金属含 有溶液2及びアンモニア溶液4を循環又は混合して一次混合物を生成する。一次 反応容器内の一次混合物の流れの方向は、矢印で示した通りである。循環中、一 次混合物の一部は導管16を通って一次反応容器を出る。一次反応容器内で起き る反応のための滞留時間R1は、スループット率、及び/又は反応器のサイズを 変えることにより制御し得るし、最終生成物の密度を、一部確定する。ある種の 反応器サイズに関しては、R1は約2分〜2時間の範囲である。与えられたpH1 及びT1に関しては、R1値が高いほど、最終生成物は圧縮された嵩密度、例えば 1.2 g/cc又はそれ以上の嵩密度を有するようになる。 導管16を通って一次反応容器10を出る一次混合物の一部は、吸出管22に より限定される領域内の二次反応容器の内周中に導入される。二次反応容器20 中への一次混合物の付加速度は、一次混合物が一次反応容器10から移される速 度に依る。アンモニア溶液6は、吸出管22により限定される領域の外側の二次 反応容器の外周且つ底付近に付加される。アンモニア溶液6の付加速度は、二次 反応容器のサイズ、二次反応容器内で起きる反応のための所望の滞留時間、及び 一次混合物が二次反応容器中に移される速度に依る。さらに、アンモニア溶液6 の付加速度は、最終生成物の所望の粒子サイズにより一部確定される二次混合物 の所望のpH(pH2)に依る。一般に、pH2は、一次反応器のpHに依って、 8〜9.5の範囲である。与えられた温度及び滞留時間に関しては、pH2値は 完全反応を確証するために選択されるが、一方消費されるアンモニアの量を限定 する。 二次反応容器20は、最終生成物中の粒子の所望の密度及び反応速度により一 部確定される二次温度T2に保持される。一般にT2は、30〜95℃、好ましく は60〜85℃の範囲である。与えられたpH及び滞留時間に関しては、T2に 関する値が高いほど、最終生成物の粒子サイズは微細になる。循環手段24を用 いて、二次反応容器に入る混合物及び反応容器20内のアンモニア溶液6を循環 および混合させて、二次混合物を作る。二次反応容器内の二次混合物の流れの方 向は矢印で示される。逆流は、所望の生成物に依って、粒子特性に影響を及ぼす 。 循環中、二次混合物の一部は導管26を通って二次反応容器を出る。二次反応 容器内で起きる反応のための滞留時間R2は、循環速度及び反応器のサイズを変 えることにより制御し得るし、二次容器内の反応の完了を一部確定する。ある程 度まで、それは粒子のさらに沈殿させ且つ高密度化させる。したがって、R2を 変えることにより、異なる粒子サイズの生成物が生成される。R2は2〜90分 の範囲である。与えられたpH2及びT2に関しては、R2値が高いほど、最終生 成物はより密な且つ粗い粒子を有するようになる。 導管26を通って二次反応容器20を出る二次混合物の一部は、吸出管32に より限定される領域内の三次反応容器30の内周中に導入される。三次反応容器 30中への二次混合物の付加速度は、二次混合物が二次反応容器20から移され る速度に依る。 循環手段34を用いて、三次反応容器内で二次混合物を循環させ、混合を継続 して、五酸化ニオブを沈殿させて、実質的完了に進行させる。三次反応容器内の 二次混合物の流れの方向は矢印で示されるが、反応の特性を限定しない。付加的 アンモニアを三次反応容器に付加しない場合、三次混合容器中の混合物のpH3 はアンモニア揮発化率とともに三次反応容器内の反応完了の程度によって、pH2 よりわずかに低い。 二次反応容器30は、容器中の所望の反応完了程度により一部確定される三次 温度T3に保持される。一般にT3は、40〜95℃、好ましくは60〜85℃の 範囲である。与えられたpH及び滞留時間に関しては、T3に関する値が高いほ ど、最終生成物反応が本質的に完了するようになる。循環中、混合物の一部は導 管36を通って三次反応容器を出る。三次反応容器中で起きる反応のための滞留 時間は、循環速度及び反応容器のサイズを変えることにより制御し得る。三次反 応容器中の混合物の滞留時間R3は、最終生成物の反応の完了を一部確定する。 したがって、R3を変えることにより、異なる程度の反応を生じ得る。R3は、2 〜90分の範囲である。与えられたpH3及びT3に関しては、R3に関する値が 高いほど、最終生成物はより高密度の粒子を有するようになる。 導管36を通って三次反応容器30を出る溶液は、沈殿弁金属五酸化物前駆体 固体が液体/固体分離工程40により溶液から回収される慣用的処理加工装置に 移動する。液体/固体分離工程は、当業界で公知のあらゆる方法で、例えば濾過 により実行される。好ましくは、液体/固体分離工程は、真空又は圧力フィルタ ーにより実行される。 当業者に理解されるように、全滞留時間、又は反応容器内の滞留時間は、各容 器を出る溶液および/または固体の全部又は一部をリサイクルさせることにより 増大される。特に、全滞留時間を増大する有効な方法は、本方法により生成され る沈殿固体の全部又は一部をリサイクルさせて最初の容器中に戻すことである。 リサイクルを用いる場合、各容器中の有効滞留時間、および/または有効全滞留 時間は、反応溶液の少なくとも一部に関して上記されたものより大きい。 五酸化ニオブ固体の分離後、リサイクルされなかった固体は、固体洗浄工程5 0により示されるように洗浄される。固体洗浄は、当業界での慣用的方法で、例 えば約9.0のpHのアンモニア処理水で洗浄することにより、成し遂げられる 。 洗浄後、乾燥工程60により示されるように、固体を乾燥させる。その結果生 じる生成物は、狭粒子サイズ分布及び所望の粒子サイズを有する水和弁金属五酸 化物粉末である。水和弁金属五酸化物の焼成は、水和物を五酸化弁金属、例えば 五酸化ニオブNb25又は五酸化タンタルTa25に転化する。 物質及び試薬の付加を反応容器の特定部分を参照しながら説明してきたが、異 なる特性を有する五酸化物生成物を生成するために、物質及び試薬は反応容器の 別の部分に付加し得る。例えば、一次反応容器内では、弁金属含有溶液2を容器 の外周に付加し、アンモニア溶液を容器の中央に付加し得る。さらに、前記の実 施態様は3反応容器を用いるが、本発明の方法は、最終生成物における所望の特 性に依って、それより少ないか又はそれより多い数の反応容器を用いて実行し得 る、と理解されるべきである。反応の前記実施態様は図に示すような混合及び流 れを用いるが、逆の流れも同様に用い得る。さらに、三次反応器から排出された 固体の一部は、所望の場合には粒子をより粗く且つ高密度にするためにリサイク ルし得る。 さらに、本発明は新規の弁金属五酸化物前駆体、特に新規の五酸化ニオブ水和 物及び新規の五酸化タンタル水和物を提供する。本発明の五酸化弁金属水和物を 処理加工して、有益な五酸化弁金属を生成し得る。本発明の五酸化弁金属水和物 は、X線分析下でのライン拡大d値が6±0.3 、3±0.2 及び 1.8±0.1 で、フ ッ化物含量が 500ppm 、好ましくは 150ppm 未満であることを特徴とする。本発 明の五酸化弁金属前駆体の実施態様はさらに: (a)BET表面積が2m2/g未満、好ましくは1m2/g未満、さらに好ましくは 0.5m2/g未満である五酸化ニオブ水和物; (b)BET表面積が2m2/g以上、好ましくは6m2/g以上、さらに好ましくは 50m2/g 以上である五酸化ニオブ水和物; (c)BET表面積が3m2/g未満、好ましくは2m2/g未満、さらに好ましくは 1m2/g未満である五酸化タンタル水和物;そして (d)BET表面積が3m2/g以上、好ましくは7m2/g以上、さらに好ましくは 11m2/g以上である五酸化タンタル水和物 であることを特徴とする。 本発明の五酸化弁金属前駆体は、前駆体を五酸化弁金属に転化する前に五酸化 弁金属前駆体を分離することによる本発明の方法により生成するのが有益である 。 本発明はさらに、五酸化弁金属前駆体を焼成することにより新規の五酸化弁金 属粉末を提供する。このような五酸化弁金属粉末の第一の実施態様は、低表面積 、高密度、BET表面積が2m2/g未満、好ましくは1m2/g未満、さらに好ましく は0.75m2/g未満又はそれ以下である焼成五酸化ニオブ粒子の実質的には球状の凝 集物、並びに1.8 g/cc以上、好ましくは1.9 g/cc以上、さらに好ましくは2g/cc 以上の高嵩密度を特徴とする。 五酸化弁金属の第二の実施態様は、BET表面積が2m2/g以上、好ましくは2. 5 m2/g以上、さらに好ましくは3m2/g以上、さらには4m2/g以上、いくつかの場 合には6m2/g以上でさえある、そして圧縮された嵩密度が1.8 g/cc未満、好まし くは1g/cc未満、いくつかの場合にはさらに好ましくは0.75 g/cc 未満である高 表面積、低嵩密度焼成五酸化ニオブ粒子を特徴とする。 五酸化弁金属の第三の実施態様は、BET表面積が3m2/g未満、好ましくは2 m2/g未満、さらに好ましくは1m2/g未満、いくつかの 場合には0.75m2/g未満、例えば0.4 m2/g又はそれ以下でさえある、そして圧縮さ れた嵩密度が3g/cc以上、好ましくは3.5 g/cc以上、さらに好ましくは3.8 g/cc 以上、いくつかの場合にはさらに好ましくは4g/cc以上である低表面積、高嵩密 度の、実質的には球状凝集物の焼成五酸化タンタル粒子を特徴とする。 五酸化弁金属の第四の実施態様は、BET表面積が3m2/g以上、好ましくは4 m2/g以上、さらに好ましくは5m2/g以上、さらにいくつかの場合には6m2/g以上 、あるいは少なくとも7又は11m2/gでさえある、そして圧縮された嵩密度が3.0 g/cc未満、好ましくは2.5 g/cc未満、さらに好ましくは2g/cc未満、いくつかの 場合にはさらに好ましくは1g/cc未満、例えば約0.75 g/cc である高表面積、低 嵩密度焼成五酸化タンタル粒子を特徴とする。 低密度、高表面積粉末の場合には、粒子の実質的に多数が5μ未満のサイズで ある。例えば、いくつかの物質は大型粒子に凝集するけれども、典型的には25 %又はそれ以上の粒子、例えば少なくとも30%で80%までの粒子が1μ未満 のサイズである。高密度、低表面積粉末の場合、粒子のほとんどが、典型的には 5μ以上の大型粒子に凝集される。 本発明の生成物は、本発明の方法により高純度で生成されると有益である。本 発明により生成される微細粒子は、例えばエレクトロニクス、セラミックのよう な種々の用途における微量添加物として、そして触媒としての使用に対しては高 反応性である。大型高密度球状凝集粒子は例外的流動学的特性を有し、テルミッ ト(活性金属、即ちアルミニウムによる熱還元法)又はガラス用途に用い得る。 大型球状粒子は、他のガラス形成成分と混合するに際しては、十分混合する。さ らに、大型高密度粒子は高気体流蒸気中では容易に空輸されず、したがって高融 解効率を生じる。テルミット処理に関す るその他の用途は、例えば、より大きいパッキング因子を提供する大型高密度球 状粒子を、したがってより大きなテルミットバッチ及びより大きい再現性を提供 する。さらに、大型高密度粒子はテルミット反応中に容易に空輸されず、したが ってより大きい生成物回収をもたらす。 BET表面積、嵩密度及び粒子サイズに関する本発明の生成物の特徴表示は、 当業界で普通に用いられる十分公知の手法により実行し得る。例えば、BET表 面積は、粒子の表面に吸着された単層の窒素ガスを測定することにより、確定さ れる。フッ化物含量は、硫酸溶液からシリコーン四フッ化物として揮発化するこ とによるアルカリ融解及び分離により確定される。フッ化物含量は、特定のイオ ン電極を用いて留出物中で確定される。粒子サイズは、レーザー光線散乱法を用 いて確定される。凝集物の嵩密度は公知の容量の試料を計量することにより確定 される一方、ピーク嵩密度は最大密度をもたらすよう機械的タッピング後に、例 えば5000タップ後に、確定される。試料の形態学的特性は、必要な場合には、走 査型電子顕微鏡を用いて目で検査することにより確定される。 本発明の種々の態様及び実施態様の有効性及び利点をさらに以下の実施例によ り説明するが、この場合、実質的には図1に示したような3反応容器を用いる連 続手法で、五酸化弁金属前駆体が生成された。3つの1500mlビーカーを一次、二 次及び三次反応容器として用いて、名目上の作業容量は 1000ml であった。ビー カーは二重ボイラー型セットアップで加熱され、各ビーカーを熱伝導液、例えば 水又はその他の熱伝導液の容器で取り囲んだ。吸出管セットアップを得るために 、羽根(又はそらせ板)を装備した内部管を各ビーカーの内側に用いた。可変速 度羽根車を、循環手段として各ビーカーの底に用いた。可変速度ぜん動ポンプを 用いて2つの一次ビーカー 反応器への弁金属−フルオロ溶液及びアンモニア溶液の供給速度を制御した。 実施例1 本実施例は、相対的に高表面積、低密度の本発明の五酸化ニオブ前駆体及び五 酸化ニオブ(Nb25)の製造のための本発明の方法を説明する。脱イオン(D I)水を充填した反応器浴二重ボイラーを98℃に設定した。ニオブ159 g/L の 濃度のニオブオキシフルオリドの溶液を約76℃に予熱して、18.5 ml/分で一次 反応器に付加した。5 N アンモニア(7.8 重量%)の溶液を80.5 ml/分で一次反 応器に付加した。反応体を一次反応器中で攪拌して、平均温度74℃、pH8. 5とした。その結果生じた懸濁液を二次及び三次反応器に流し込んで、さらに混 合した。反応を 330分実行した後、2Lの懸濁液を採集し、これを濾過し、4回以 上洗浄して、濾過し、ケーキを得て、これを85℃で6時間乾燥し、水分28% 及びフッ化物 200ppm を含有する水和五酸化ニオブケーキ187gを得た。水和ケー キを900 ℃で4時間焼成して、フッ化物100 ppm を含有する五酸化ニオブ粒子 9 7.5gを得たが、この場合、99.5%の物質が 1.5μ以下のサイズで(100%が24μ 以下)、2.82 m2/g の高BET表面積を有した。上記の並びにその他の手法条件 及び生成物特性を、下記の表1に示す。 実施例2 本実施例は、高密度、高粒子サイズ(低表面積)の本発明の五酸化ニオブ前駆 体及び五酸化ニオブ(Nb25)の製造のための本発明の方法を説明する。実施 例1の手法にしたがったが、但しニオブ溶液は13.1 ml/分で一次反応器に付加し 、アンモニア溶液は98.2 ml/分で一次反応器に付加して、平均温度61℃、pH 9.14の 溶液を得た。その結果生じた懸濁液を二次反応器に流し込んで、そこにさらにニ オブオキシフルオリド溶液を5.6 ml/ 分で攪拌しながら付加した。その結果二次 反応器溶液の平均温度及びpHはそれぞれ73℃及び8.28となった。その結 果生じた二次懸濁液を三次反応器に流し込んで、さらに混合した。反応を315 分 実行した後、2Lの懸濁液を採集し、これを実施例1と同様に濾過し、洗浄して、 再スラリー化し、濾過して、焼成した。非焼成ケーキは重量が223.5 g (水分4 4.3%)で、フッ化物 460 ppm を含有した。この場合、73.5%の物質が96μ 以上ののサイズであった。その他の手法条件及び生成物特性を表1に示す。 実施例3 本実施例は、低表面積、高密度の本発明の五酸化ニオブ前駆体及び五酸化ニオ ブ(Nb25)生成物の製造のための本発明の方法を説明する。実施例1の手法 にしたがったが、但しニオブ溶液は3.5 ml/ 分で、アンモニア溶液は7.8 ml/ 分 で一次反応器に付加して、平均温度76℃、pH7.78の溶液を得た。その結 果生じた懸濁液を二次反応器に流し込んで、そこにさらにアンモニア溶液を15.6 ml/分で攪拌しながら付加した。その結果二次反応器溶液の平均温度及びpHは それぞれ68℃及び8.48となった。その結果生じた二次懸濁液を三次反応器 に流し込んで、さらに混合した。反応を1100分実行した後、2Lの懸濁液を採集し 、これを実施例1と同様に濾過し、洗浄して、再スラリー化し、濾過して、焼成 した。非焼成ケーキは重量が143.1 g(水分29.07%)で、フッ化物 1400 ppmを含有した。焼成化ケーキは重量71.5 gで、フッ化物200 ppm を含有し、B ET表面積は0.5 m2/gであった。この場合、77.5%の物質が8〜32μのサイズで あった。その他詳細及び生成物特性を表1に示す。 実施例4 本実施例は、高表面積、低密度の本発明の五酸化ニオブ前駆体及び五酸化ニオ ブ(Nb25)生成物の製造のための本発明の方法を説明する。実施例1の手法 にしたがったが、但しニオブ溶液は19 ml/分で、アンモニア溶液は34.3 ml/分で 一次反応器に付加して、平均温度80℃、pH6.28の溶液を得た。その結果 生じた懸濁液を二次反応器に流し込んで、そこにさらにアンモニア溶液を20.9 m l/分で攪拌しながら付加した。その結果生じたpH8.46の二次懸濁液を三次 反応器に流し込んで、さらに混合した。反応を 375分実行した後、2Lの懸濁液を 採集し、これを実施例1と同様に濾過し、洗浄して、再スラリー化し、濾過して 、焼成した。非焼成ケーキは重量が 216.6 g(水分49.9%)で、フッ化物 3600ppm を含有した。焼成化ケーキは重量82.2 gで、フッ化物 300ppm を含有し 、BET表面積は2.18 m2/g であった。30.5%の物質が1μ以下ののサイズ であった。その他詳細及び生成物特性を表1に示す。 実施例5 本実施例は、高表面積、低密度の本発明の五酸化ニオブ前駆体及び五酸化ニオ ブ(Nb25)生成物の製造のための本発明の方法を説明する。実施例1の手法 にしたがったが、但しニオブ溶液は56.5 ml/分で、アンモニア溶液は210.4 ml/ 分で一次反応器に付加して、平均温度80℃、pH7.72の溶液を得た。その 結果生じた懸濁液を二次反応器に流し込んで、そこにさらにアンモニア溶液を攪 拌しながら付加して、pH8.49及び70℃の二次懸濁液を得て、これを三次 反応器に流し込んで、さらに混合した。2Lの懸濁液を採集し、これを実施例1と 同様に濾過し、洗浄して、再スラリー化し、濾過して、焼成した。焼成化ケーキ はフッ化物 100ppm を含 有し、圧縮嵩密度1,02 g/cc であった。28.4%の物質が1μ以下ののサイズ であった。その他詳細及び生成物特性を表1に示す。 実施例6 本実施例は、高表面積、低密度の本発明の五酸化タンタル前駆体及び五酸化タ ンタル(Ta25)の製造のための本発明の方法を説明する。60℃で熱伝達油 を反応器浴二重ボイラーに充填した。五酸化タンタル80 g/Lの濃度のフルオロタ ンタル酸の溶液を約67℃で、30 ml/分で、5 N(7.8 重量%)アンモニア溶液5 0 ml/分と一緒に一次反応器に付加した。溶液を一次反応器中で混合して、一次 容器懸濁液を温度67℃、pH9.01とし、これを二次反応器中にオーバーフ ローし、混合させて、72℃、pH8.73とした。懸濁液を三次反応器に流し 込んで、78℃、pH8.42でさらに混合した。反応を 180分実行した後、2L の懸濁液を採集し、これを濾過し、洗浄して、5Nアンモニア溶液 2 L で85℃ で再スラリー化した。その結果生じたスラリーを濾過し、さらに4回洗浄して、 濾過し、湿潤ケーキを得て、これを 100℃で6時間乾燥した。湿潤ケーキは重量 121.7 g(水分2.43%)で、フッ化物50 ppmを含有した。これを900 ℃で1 時間焼成して、フッ化物50 ppm未満を含有し、BET面積が6.7 m2/g、圧縮密度 1.81 g/cc のドライ焼成化ケーキ108 g を得た。この場合、78.6%の焼成化 ケーキが1μ以下のサイズであった。他の手法条件及び生成物特性を、下記の表 1に示す。 実施例7 本実施例は、低密度五酸化タンタル及び前駆体の調製を説明する。実施例6の 手法に従ったが、但しフルオロタンタル酸溶液は66℃で、30 ml/分で、アンモ ニア溶液は35 ml/分で一次反応器に付加して、平均温度74℃、pH8.42の 溶液を得た。その結果生じ た懸濁液を二次反応器に流し込んで、77℃、pH8.2でさらに混合し、次に 三次反応器に流し込んで、82℃、pH8.0で混合した。反応を 375分間実行 した後、懸濁液2L を採集した。湿潤ケーキ(水分11.9%)232 g は、フッ 化物310 ppm を含有した。他の詳細及び生成物特性を表1に示す。 実施例8 本実施例は、高表面積、低密度五酸化タンタル及び前駆体の生成を説明する。 実施例6の手法に従ったが、但しフルオロタンタル酸溶液は73℃で、25 ml/分 で、アンモニア溶液は25 ml/分で付加して、平均温度74℃、pH8.42の一 次懸濁液を得た。一次懸濁液を二次反応器に流し込んで、さらに50 ml/分のアン モニア溶液と混合して、二次懸濁液を60℃、pH9.5で得て。これを次に三 次反応器に流し込んで、71℃、pH9.08で混合した。反応を255 分間実行 した後、懸濁液6L を採集した。湿潤ケーキは、フッ化物50 ppm未満を含有した 。焼成化ケーキはBET表面積4.96 m2/g 、圧縮密度2.96 g/cc であった。 実施例9 本実施例は、本発明の低表面積、高密度の凝集化五酸化タンタル及び前駆体の 調製を説明する。本質的には実施例6の手法にしたがったが、但しフルオロタン タル酸溶液(87 g/LTa25。そして0.7%EDTA含有)は一定流速で一次 反応器に付加し、調整した流速で30%アンモニア溶液と混合して、pHを7. 49とした。一次懸濁液を64℃で二次反応器に流し込んで、さらにアンモニア 溶液と混合して、懸濁液を61.8℃、pH8.55で得て、これを次に三次反 応器に流し込んで、63.5℃、pH8.14で混合した。反応を240 分間実行 した後、懸濁液を採集し、これを濾過して、フッ化物90 ppmを含有する湿潤ケー キを得た。湿潤ケーキを 1050℃で1時間焼成して、BET表面積1.01 m2/g 、圧縮密度3.98g/ccの焼成粉 末を得た。他の手法条件及び生成物特性を表1に示す。 実施例10 本実施例は、本発明の高表面積、低密度五酸化タンタル及び前駆体の調製を説 明する。本質的には実施例9の手法にしたがったが、但し一次懸濁液は55.6 ℃、pH9.51であった。二次懸濁液は53.3℃、pH9.06、三次懸濁 液は55℃、pH8.84であった。反応を240 分間実行した後、懸濁液を採集 した。湿潤ケーキを900 で焼成して、BET表面積5.17 m2/g 、圧縮密度1.6 g/ ccの粉末を得た。 表1に記載した結果は、本発明の好ましい方法を用いて広範な五酸化ニオブ前 駆体、五酸化ニオブ(Nb25)粉末生成物、五酸化タンタル前駆体及び五酸化 タンタル(Ta25)粉末生成物を生成し得ることを示すが、これらは本発明の 範囲内である。 Rx.1 =一次反応容器中の反応 Rx.2 =二次反応容器中の反応 %<1μm =1μより小さい生成物の% 90%<μm=90%の粒子がそのサイズ以下である粒子サイズ Rx.1 =一次反応容器中の反応 Rx.2 =二次反応容器中の反応 %<1μm =1μより小さい生成物の% 90%<μm =90%の粒子がそのサイズ以下である粒子サイズ 表1に示した結果は、粒子熟成のための反応器中での沈殿の速度及び滞留時間 が生成物密度を増大し得ることを示す。滞留時間が115分及び12分のNb2 5に関する7.7の等電点付近で沈降した物質の走査型電子顕微鏡写真を、そ れぞれ図2及び3に示す。図2a、2b、2c及び2dは、異なる倍率での実施 例3で生成されたNb25の走査電子顕微鏡写真である。図3a、3b、3c及 び3dは、異なる倍率での実施例5で生成されたNb25の走査電子顕微鏡写真 である。図4a、4b、4c及び4dは、異なる倍率での実施例9で生成された Ta25の走査電子顕微鏡写真である。図5a、5b、5c及び5dは、異なる 倍率での実施例10で生成されたTa25の走査電子顕微鏡写真である。顕微鏡 写真「a」は、倍率 100倍での生成物粉末を示し、「b」は倍率500 倍での、「 c」は 1,000倍での、そして「d」は10,000倍の生成物粉末を示す。 図2a〜2d及び3a〜3dを参照すると、滞留時間12分で実施例5で生成 された低密度、高表面積粒子(図3a〜3dに示す)は、115分の滞留時間で 実施例3で生成された粒子(図2a〜2dに示す)よりも、目で見て有意に低密 度である。さらに図2a〜2dに示された非常に密に圧縮された結晶は、顕微鏡 写真で観察されるような結晶内成長及び濃密化を示す。図5a〜5dは、滞留時 間2時間で、pH9.5で生成されたTa25の微細焼成粒子を示し、一方図4 a〜4dは滞留時間120分でpH7.5で生成されたTa25の高密度粒子を 示す。これらの顕微鏡写真は、本発明の方法により生成され得る粒子の範囲を示 す。 本明細書中で考察した実施例は、本発明の方法がフッ化アンモニウム及び微細 結晶性五酸化弁金属水和物を生成し、容易に限定されるライン拡大X線回析パタ ーン及び焼成化五酸化物類似体を有する ことを示す。 フッ化アンモニウム存在下での五酸化物水和物のゼータ電位は、図6に示すよ うに、8又はそれ以上のpHで負であり、6又はそれ以下のpHでは正電位であ る。等電点又はゼロ変化の点は、pH7〜8の範囲である。等電点での沈殿は、 高密度で実質的に球状の粒子を凝集及び形成させる。本発明の方法のこの特徴は 、沈殿粒子サイズの制御を可能にする。等電点の上及び下のpHでは、荷電粒子 は互いにはじき合って凝集を防止し、微細粒子が沈殿する。 本明細書中に記載した本発明の形態は、本発明の説明のためのものであって、 本発明を限定するものではない、ということは明らかに理解されるべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,S Z,UG),UA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD ,RU,TJ,TM),AL,AM,AT,AU,AZ ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,CN, CZ,DE,DK,EE,ES,FI,GB,GE,H U,IL,IS,JP,KE,KG,KP,KR,KZ ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV,MD, MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,P T,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,TJ ,TM,TR,TT,UA,UG,UZ,VN (72)発明者 ペディコーン,レイモンド シー. アメリカ合衆国,ペンシルバニア 19464, ポッツタウン,ヒルサイド ドライブ 197 (72)発明者 マダラ,マイケル ジー. アメリカ合衆国,ペンシルバニア 19607, シリントン,コロニアル ドライブ 110 −ジェイ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.アンモニア溶液とフルオロタンタル酸又はニオブオキシフルオリドを含む フッ化物含有溶液との水性混合物を、一次容器中で、弁金属がタンタル又はニオ ブである水和弁金属五酸化物の沈殿を開始させる温度、pH及び滞留時間で混合 し; 前記混合物を少なくとも1つの別の容器に移して、同一又は異なる温度、pH 及び滞留時間で混合して、水和弁金属五酸化物の沈殿をさらに継続させる工程を 含む、弁金属酸化物化合物の製造方法。 2.前記混合物を少なくとも3つの容器に移して、同一又は異なる温度、pH 及び滞留時間条件で混合して水和弁金属五酸化物の沈殿をさらに継続させる工程 をさらに含む請求項1の方法。 3.付加的アンモニア溶液又はフッ化物含有溶液を、前記二次容器又は前記三 次溶液に、あるいは両方に付加する請求項2記載の方法。 4.少なくとも790 ℃以上の温度で焼成することにより前記水和弁金属五酸化 物を弁金属五酸化物に転化して、五酸化タンタルを提供するか、又は少なくとも 650 ℃以上の温度で五酸化ニオブを提供する請求項3の方法。 5.(a)BET表面積が2m2/g未満、及び圧縮嵩密度が1.8 g/cc以上である か、あるいは(b)BET表面積が2m2/g以上、及び圧縮嵩密度が1.8 g/cc未満 であることを特徴とする五酸化ニオブ粉末。 6.(a)BET表面積が3m2/g未満、及び圧縮嵩密度が3.0 g/cc以上である か、あるいは(b)BET表面積が3m2/g以上、及び圧縮嵩密度が3.0 g/cc未満 であることを特徴とする五酸化タンタル粉末。 7.X線分析下でのライン拡大化d値が6±0.3 、3±0.2 及び 1.8±0.1 で あることを特徴とする弁金属前駆体であって、弁金属がニオブ又はタンタルであ り、前駆体のフッ化物含量が500 ppm 未満である弁金属前駆体。
JP51513097A 1995-10-12 1996-10-08 五酸化ニオブ及びタンタル化合物 Expired - Fee Related JP4105227B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/542,286 1995-10-12
US08/542,286 US6338832B1 (en) 1995-10-12 1995-10-12 Process for producing niobium and tantalum compounds
PCT/US1996/016109 WO1997013724A1 (en) 1995-10-12 1996-10-08 Niobium and tantalum pentoxide compounds

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007335112A Division JP4843601B2 (ja) 1995-10-12 2007-12-26 五酸化ニオブ及びタンタル化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH11513652A true JPH11513652A (ja) 1999-11-24
JP4105227B2 JP4105227B2 (ja) 2008-06-25

Family

ID=24163134

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP51513097A Expired - Fee Related JP4105227B2 (ja) 1995-10-12 1996-10-08 五酸化ニオブ及びタンタル化合物
JP2007335112A Expired - Lifetime JP4843601B2 (ja) 1995-10-12 2007-12-26 五酸化ニオブ及びタンタル化合物
JP2011103176A Expired - Fee Related JP5250658B2 (ja) 1995-10-12 2011-05-02 五酸化ニオブ及びタンタル化合物

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007335112A Expired - Lifetime JP4843601B2 (ja) 1995-10-12 2007-12-26 五酸化ニオブ及びタンタル化合物
JP2011103176A Expired - Fee Related JP5250658B2 (ja) 1995-10-12 2011-05-02 五酸化ニオブ及びタンタル化合物

Country Status (13)

Country Link
US (3) US6338832B1 (ja)
EP (1) EP0854841B1 (ja)
JP (3) JP4105227B2 (ja)
KR (1) KR100442079B1 (ja)
CN (2) CN1106347C (ja)
AT (1) ATE201661T1 (ja)
AU (1) AU714039B2 (ja)
CA (1) CA2234672A1 (ja)
DE (1) DE69613135T2 (ja)
HK (1) HK1017661A1 (ja)
RU (1) RU2189359C2 (ja)
TW (1) TW425374B (ja)
WO (1) WO1997013724A1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001144272A (ja) * 1999-11-09 2001-05-25 Hyundai Electronics Ind Co Ltd 半導体素子のキャパシタ製造方法
JP2005001920A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 水酸化タンタル、水酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ニオブ、およびこれらの製造方法
JP2007505025A (ja) * 2003-09-12 2007-03-08 ハー ツェー シュタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング バルブ金属酸化物粉末及びその製造方法
JP2011144110A (ja) * 1995-10-12 2011-07-28 Cabot Corp 五酸化ニオブ及びタンタル化合物

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CZ303684B6 (cs) * 1998-05-06 2013-03-06 H. C. Starck Inc. Slitinový prásek, zpusob jeho výroby, anoda kondenzátoru z tohoto slitinového prásku a kondenzátor, a prásek slitiny niobu a tantalu
EP1144147B8 (en) 1998-05-06 2012-04-04 H.C. Starck GmbH METHOD FOR PRODUCING METAL POWDERS BY REDUCTION OF THE OXIDES, Nb AND Nb-Ta POWDERS AND CAPACITOR ANODE OBTAINED THEREWITH
US6416730B1 (en) * 1998-09-16 2002-07-09 Cabot Corporation Methods to partially reduce a niobium metal oxide oxygen reduced niobium oxides
JP3732199B2 (ja) * 2001-12-27 2006-01-05 三井金属鉱業株式会社 酸化タンタル粉末又は酸化ニオブ粉末の製造方法
JP4322122B2 (ja) * 2002-02-27 2009-08-26 ステラケミファ株式会社 高純度ニオブ化合物及び/又はタンタル化合物の精製方法
US6800259B2 (en) * 2002-03-04 2004-10-05 Cabot Corporation Methods to control H2S and arsine emissions
DE10307716B4 (de) 2002-03-12 2021-11-18 Taniobis Gmbh Ventilmetall-Pulver und Verfahren zu deren Herstellung
CN101676217A (zh) 2003-05-19 2010-03-24 卡伯特公司 生产铌金属氧化物的方法和氧还原的铌氧化物
DE10332033A1 (de) * 2003-07-15 2005-02-03 Chemetall Gmbh Verfahren zur Herstellung von Metallpulvern, bzw. von Metallhydridpulvern der Elemente Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta und Cr
JP2005255454A (ja) * 2004-03-11 2005-09-22 Stella Chemifa Corp 酸化タンタル及び/又は酸化ニオブ及びその製造方法
US20090007021A1 (en) * 2007-06-28 2009-01-01 Richard Hayton Methods and systems for dynamic generation of filters using a graphical user interface
JP4949960B2 (ja) * 2007-07-27 2012-06-13 Dowaホールディングス株式会社 酸化タンタルの製造方法
WO2009052007A1 (en) * 2007-10-15 2009-04-23 Hi-Temp Specialty Metals, Inc. Method for the production of tantalum powder using reclaimed scrap as source material
CN102465204B (zh) * 2010-11-16 2013-11-06 肇庆多罗山蓝宝石稀有金属有限公司 高松装密度五氧化二铌的制取方法
US8629080B2 (en) 2011-03-21 2014-01-14 Saudi Arabian Oil Company Hydrated niobium oxide nanoparticle containing catalysts for olefin hydration
CN102285687A (zh) * 2011-06-10 2011-12-21 江门富祥电子材料有限公司 超细氧化铌的制备方法及其装置
WO2013006600A1 (en) * 2011-07-05 2013-01-10 Orchard Material Technology, Llc Retrieval of high value refractory metals from alloys and mixtures
CN103274468B (zh) * 2013-05-29 2014-09-03 复旦大学 一种球形五氧化二钽的制备方法及应用
CN104310478B (zh) * 2014-10-10 2016-12-07 九江有色金属冶炼有限公司 一种大振实密度氧化铌的制备方法及其制备的大振实密度氧化铌
RU2611869C1 (ru) * 2015-11-26 2017-03-01 Закрытое Акционерное Общество "ТЕХНОИНВЕСТ АЛЬЯНС" (ЗАО) "ТЕХНОИНВЕСТ АЛЬЯНС" Способ получения высокочистого оксида тантала из танталсодержащих растворов
JP6269645B2 (ja) * 2015-12-04 2018-01-31 トヨタ自動車株式会社 活物質複合体の製造方法
CN105883919A (zh) * 2016-04-28 2016-08-24 宁夏东方钽业股份有限公司 一种球形氧化钽或球形氧化铌的制备方法
CN106348343B (zh) * 2016-08-19 2017-12-08 江门富祥电子材料有限公司 高松装密度五氧化二铌的制备方法
EP3847790B1 (en) * 2018-09-05 2023-07-26 Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) Lawful interception manifesto
EP4186866A4 (en) * 2020-07-22 2024-03-13 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. TANTALATE DISPERSION AND TANTALATE COMPOUND
CN111977690B (zh) * 2020-09-07 2021-08-10 江西拓泓新材料有限公司 一种制备钽铌氧化物的除铜及其他杂质的方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA556022A (en) * 1958-04-15 R. Ruhoff John Process for recovering tantalum values from mineral concentrates
US1802242A (en) 1926-05-20 1931-04-21 Intermetal Corp Production of oxy compounds of tantalum and columbium from the ores
US2819945A (en) 1955-02-15 1958-01-14 Mallinckrodt Chemical Works Method of separating values of columbium and/or tantalum from a concentrate also containing an element of group iv b
US3107976A (en) * 1957-11-29 1963-10-22 Ernest L Koerner Niobium-tantalum separation
US2953453A (en) 1958-06-20 1960-09-20 Nat Distillers Chem Corp Recovery of columbium values
US2950966A (en) 1958-06-20 1960-08-30 Nat Distillers Chem Corp Recovery of tantalum values
US3072459A (en) 1959-12-30 1963-01-08 Union Carbide Corp Process for producing fluoride-free columbium or tantalum pentoxide
US3112169A (en) 1960-11-01 1963-11-26 San Antonio Chemicals Inc Recovery of cesium values from pollucite ore
JPS4930354B1 (ja) * 1969-04-24 1974-08-12
US3658511A (en) 1969-12-22 1972-04-25 Kawecki Berylco Ind Upgrading the tantalum and columbium contents of oxidic metallurgical products
US3712939A (en) 1971-03-29 1973-01-23 Union Carbide Corp Method for recovering tantalum and/or columbium
JPS5110197A (en) * 1974-07-16 1976-01-27 Ishihara Sangyo Kaisha Suisankaniobu mataha suisankatantaruno seizohoho
JPS56114831A (en) 1980-02-15 1981-09-09 Toshiba Corp Recovery of tantalum from scrap containing tantalum
DE3428788C2 (de) 1983-08-11 1986-07-10 Günter J. 8510 Fürth Bauer Verfahren zum kontinuierlichen Herstellen von fluoridarmen Tantal- oder Niob-Pentoxiden
US4537750A (en) 1984-02-29 1985-08-27 Gte Products Corporation Process for producing high purity tantalum oxide
JPS61146717A (ja) 1984-12-18 1986-07-04 Sumitomo Chem Co Ltd タンタルの精製方法
US4741894A (en) 1986-06-03 1988-05-03 Morton Thiokol, Inc. Method of producing halide-free metal and hydroxides
JPH01115820A (ja) * 1987-10-30 1989-05-09 Central Glass Co Ltd 水酸化ニオブまたは水酸化タンタルの製造方法
JPH01176226A (ja) * 1987-12-28 1989-07-12 Central Glass Co Ltd 酸化ニオブまたは酸化タンタルの改質方法
JPH01313333A (ja) 1988-06-13 1989-12-18 Central Glass Co Ltd 高純度水酸化ニオブまたは水酸化タンタルの製造方法
DE3904292A1 (de) * 1989-02-14 1990-08-16 Starck Hermann C Fa Hochreines tantalpentoxid sowie verfahren zu dessen herstellung
DE3918691A1 (de) * 1989-06-08 1990-12-13 Starck Hermann C Fa Nioboxidpulver (nb(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts)o(pfeil abwaerts)5(pfeil abwaerts)) sowie verfahren zu dessen herstellung
US4948570A (en) 1989-07-11 1990-08-14 Teledyne Industries, Inc. Process for lowering residual tantalum values in niobium
DE4021207A1 (de) 1990-07-03 1992-01-16 Starck Hermann C Fa Verfahren zur gewinnung und trennung von tantal und niob
DE4030707A1 (de) 1990-09-28 1992-04-02 Starck Hermann C Fa Verfahren zur herstellung von fluoridarmen tantal-/niob-oxidhydraten bzw. oxiden
DE4102328A1 (de) * 1991-01-26 1992-07-30 Degussa Pyrogen hergestelltes nioboxid
JP3240643B2 (ja) 1991-09-26 2001-12-17 株式会社村田製作所 セラミック原料微粉の製造方法
JP3305832B2 (ja) 1993-10-07 2002-07-24 三井金属鉱業株式会社 粒状酸化タンタルの製造方法
EP0734354A1 (en) 1993-12-14 1996-10-02 E.I. Du Pont De Nemours And Company Recovery of spent catalyst
DE4422761C1 (de) 1994-06-29 1996-03-07 Starck H C Gmbh Co Kg Verfahren zur Herstellung von Tantal- und/oder Nioboxidhydrat sowie deren Verwendung
US6338832B1 (en) * 1995-10-12 2002-01-15 Cabot Corporation Process for producing niobium and tantalum compounds
US6165623A (en) * 1996-11-07 2000-12-26 Cabot Corporation Niobium powders and niobium electrolytic capacitors
US6391275B1 (en) * 1998-09-16 2002-05-21 Cabot Corporation Methods to partially reduce a niobium metal oxide and oxygen reduced niobium oxides

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011144110A (ja) * 1995-10-12 2011-07-28 Cabot Corp 五酸化ニオブ及びタンタル化合物
JP2001144272A (ja) * 1999-11-09 2001-05-25 Hyundai Electronics Ind Co Ltd 半導体素子のキャパシタ製造方法
JP2005001920A (ja) * 2003-06-10 2005-01-06 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 水酸化タンタル、水酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ニオブ、およびこれらの製造方法
JP2007505025A (ja) * 2003-09-12 2007-03-08 ハー ツェー シュタルク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング バルブ金属酸化物粉末及びその製造方法
JP2012126645A (ja) * 2003-09-12 2012-07-05 Hc Starck Gmbh バルブ金属酸化物粉末及びその製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO1997013724A1 (en) 1997-04-17
ATE201661T1 (de) 2001-06-15
US6984370B2 (en) 2006-01-10
CN1106347C (zh) 2003-04-23
CN1203567A (zh) 1998-12-30
DE69613135T2 (de) 2002-03-07
US7276225B2 (en) 2007-10-02
CA2234672A1 (en) 1997-04-17
AU714039B2 (en) 1999-12-16
JP2011144110A (ja) 2011-07-28
TW425374B (en) 2001-03-11
JP5250658B2 (ja) 2013-07-31
EP0854841B1 (en) 2001-05-30
CN1442370A (zh) 2003-09-17
JP4105227B2 (ja) 2008-06-25
EP0854841A1 (en) 1998-07-29
US20050232850A1 (en) 2005-10-20
US20030082097A1 (en) 2003-05-01
AU7515296A (en) 1997-04-30
CN1326779C (zh) 2007-07-18
RU2189359C2 (ru) 2002-09-20
KR19990064202A (ko) 1999-07-26
JP2008088055A (ja) 2008-04-17
HK1017661A1 (en) 1999-11-26
US6338832B1 (en) 2002-01-15
JP4843601B2 (ja) 2011-12-21
DE69613135D1 (de) 2001-07-05
KR100442079B1 (ko) 2004-09-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4843601B2 (ja) 五酸化ニオブ及びタンタル化合物
EP0435513B1 (en) Silica particles and process for producing the same
AU2011201793B2 (en) Reduction method
JPS61168529A (ja) 高品質二酸化チタンの製造方法
JPH0624977B2 (ja) 針状二酸化チタン及びその製造方法
JPH06294881A (ja) Uo2 スクラップの粉末とペレットを再生利用して高焼結密度のuo2 ペレットを得る方法
JPH0967125A (ja) 酸化チタン微粉末及びその製造法
JPH0251847B2 (ja)
JPH03141115A (ja) 酸化イットリウム微粉末の製造方法
JP5264037B2 (ja) 中空微粒子状酸化タンタル及び/又は酸化ニオブの製造方法
JP4183539B2 (ja) 酸化ニオブおよびその製造方法
JP2005001920A (ja) 水酸化タンタル、水酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ニオブ、およびこれらの製造方法
JP2709206B2 (ja) 球形多孔質アナターゼ型二酸化チタン微粒子及びその製造方法
JPS58213633A (ja) 酸化アルミニウムの製造方法
IL124046A (en) Process for producing niobium and tantalum pentoxide compounds
JP2000344519A (ja) チタン酸バリウム粉末の製造方法
JPS621581B2 (ja)
JPS5920631B2 (ja) 無定形チタン酸鉛から成るセラミツク基剤及びその製法
JPS5811363B2 (ja) 超微粉リン酸チタン及びその製造方法
JPH01270515A (ja) ジルコニア微粉の製造方法
JPH0717717A (ja) 二酸化ウラン粉末の製造方法
JPH0688791B2 (ja) タップ密度の低い酸化ジルコニウム微粉末の製造方法
EP0391448A2 (en) Method for production of powder of fine inorganic particles
JPS62209808A (ja) 磁気記録用バリウムフエライト微粒子の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070206

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20070507

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20070618

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070706

A524 Written submission of copy of amendment under article 19 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20070706

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20070828

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071226

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080221

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080304

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080327

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110404

Year of fee payment: 3

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20080327

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20080327

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120404

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404

Year of fee payment: 5

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404

Year of fee payment: 5

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404

Year of fee payment: 5

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130404

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140404

Year of fee payment: 6

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees