DE3904292A1 - Hochreines tantalpentoxid sowie verfahren zu dessen herstellung - Google Patents
Hochreines tantalpentoxid sowie verfahren zu dessen herstellungInfo
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 5
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 28
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 8
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- ZIRLXLUNCURZTP-UHFFFAOYSA-I tantalum(5+);pentahydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[Ta+5] ZIRLXLUNCURZTP-UHFFFAOYSA-I 0.000 claims description 4
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100029360 Hematopoietic cell signal transducer Human genes 0.000 description 1
- 101000990188 Homo sapiens Hematopoietic cell signal transducer Proteins 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 238000004814 ceramic processing Methods 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910052845 zircon Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/10—Metal-oxide dielectrics
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G35/00—Compounds of tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/62—Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/20—Powder free flowing behaviour
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein hochreines
Tantalpentoxid sowie ein Verfahren zu dessen Her
stellung.
Tantalpentoxid (Ta2O5) ist ein wichtiger Grundwerkstoff
für die Herstellung elektronischer Komponenten (Dielek
trika, Piezoelektrika, optoelektronische Bauteile). Die
Anforderungen an die Reinheit von Tantalpentoxid sind
in diesem Anwendungsbereich besonders hoch. Reinheits
grade über 99,9% sind eine durchaus übliche Größen
ordnung.
Tantalpentoxid-Qualitäten mit einer Reinheit von größer
als 99,99% Ta2O5 können aufgrund der bekannten Herstel
lungsprozesse, wie z.B. in der EP-A 70 642 oder US-A
44 90 340 beschrieben, erhalten werden. Aufgrund ihrer
Grobkörnigkeit ist jedoch eine problemlose pulver
metallurgische und/oder keramische Verarbeitung nicht
gewährleistet. Im fein aufgemahlenen Zustand ist dagegen
ihr Fließverhalten so mangelhaft, daß bei der pulver
metallurgischen Verarbeitung Inhomogenitäten innerhalb
der Bauteile auftreten. Insbesondere beim Einsatz von
Tantalpentoxidpulvern als Bestandteil von Gemischen ver
schiedener Metalloxid-Sorten ergeben sich durch die be
schriebenen Eigenschaften der dem Stand der Technik an
gehörenden Tantalpentoxid-Pulver große Nachteile.
Aufgabe dieser Erfindung ist es somit, ein Tantal-
Pentoxid-Pulver zur Verfügung zu stellen, welches die
beschriebenen Nachteile nicht aufweist.
Es wurde nunmehr gefunden, daß diese Anforderungen in
hervorragender Weise erfüllt werden von einem Tantal
pentoxid-Pulver einer Reinheit von größer 99,99%,
welches eine Fließfähigkeit von weniger als 50 sec (nach
ISO-Standard 4490/1978) bei 5,08 mm Austrittsöffnung
aufweist, Ein solches Tantalpentoxid-Pulver ist Gegen
stand dieser Erfindung. In einer bevorzugten Aus
führungsform beträgt die Durchschnittsgröße des erfin
dungsgemäßen Tantalpentoxid-Pulvers weniger als 0,5 µm
(gemessen mit dem Raster-Elektronen-Mikroskop. "REM").
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform erfüllt
das erfindungsgemäße Tantalpentoxid-Pulver höchste An
forderungen an die Reinheit. So beträgt der Gesamtgehalt
an Verunreinigungen der Elemente Aluminium, Calcium,
Chrom, Kobalt, Kupfer, Eisen, Nickel, Niob, Silizium,
Titan, Wolfram, Zirkon, Fluor und Schwefel weniger als
50 ppm, sogar Gesamtgehalte der Verunreinigungen von
weniger als 30 ppm sind möglich.
Das erfindungsgemäße Tantalpentoxid-Pulver ist weiterhin
durch seinen sehr geringen Fluor-Gehalt gekennzeichnet.
So weist es bevorzugt Fluor-Gehalte von maximal 20 ppm,
bevorzugt 10 ppm, besonders bevorzugt 5 ppm, auf.
Ein weiteres Kennzeichen des erfindungsgemäßen Tantal
pentoxid-Pulvers ist seine spezifische BET-Oberfläche
(gemessen nach DIN 66 131, Stickstoff-1-Punkt-Methode)
von größer als 4 m2/g.
Gegenstand dieser Erfindung ist auch ein Verfahren zur
Herstellung des erfindungsgemäßen Tantalpentoxid-
Pulvers. Dieses besteht im wesentlichen aus bekannten
Teilschritten, wobei die Fällung von Tantalhydroxid, wie
allgemein üblich, mit Ammoniakwasser erfolgt. Im Gegen
satz zum allgemeinen Stand der Technik werden jedoch die
ausgewaschenen Hydroxide nicht bei Temperaturen von
900°C oder darüber (EP-A 70 264) calciniert, sondern
bevorzugt zwischen 700 und 800°C. Gegenstand dieser Er
findung ist somit ein Verfahren zur Herstellung des er
findungsgemäßen Tantalpentoxid-Pulvers, wonach durch
Ammoniak gefälltes Tantalhydroxid bei Temperaturen
zwischen 700 und 800°C geglüht wird. Hierbei sollte eine
Verweilzeit des Produktes im Calcinierofen von minde
stens 3,5 Stunden gewährleistet sein.
Weiterhin sollte die Feinmahlung der zusammengesinterten
Tantalpentoxid-Partikel in einer mit inertem Material,
vorzugsweise Tantalblech, ausgekleideten Kugelmühle
durchgeführt werden, die mit gesinterten Tantalpellets
(Tantal-Tabletten), also zylindrisch geformten Tantal
metallkörpern betrieben wird. In einer bevorzugten
Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens weisen
die zylindrischen Tantalmetallkörper einen Durchmesser
von 5 bis 50 mm und eine Länge von 5 bis 50 mm auf.
Das ausgebrachte Mahlgut entspricht bereits dem erfin
dungsgemäßen Tantalpentoxid-Pulver. Eine Feinsiebung
kann sich im Bedarfsfall anschließen.
Im folgenden wird die Erfindung beispielhaft erläutert,
ohne das darin eine Einschränkung der Erfindung zu sehen
ist.
5 kg Tantalhydroxid, das durch Ammoniak-Fällung aus
einer sauren Heptafluorotantalatlösung gefällt und salz
frei gewaschen worden war, wurde in einem Calcinierofen
bei 750°C 10 Stunden lang geglüht. Die Analyse einer
Durchschnittsprobe ergab als Summe aller metallischen
und nichtmetallischen Verunreinigungen < 50 ppm, wobei
der Fluorgehalt unterhalb 2 ppm lag.
Die Durchschnittskorngröße nach REM betrug ca. 2 µm. Das
Röstprodukt wurde nun zusammen mit den Mahlkörpern aus
Tantalmetallpellets in eine Laborkugelmühle eingefüllt,
wobei der Mahlbehälter mit einem Bruttovolumen von 4
Litern innen mit Tantalblech ausgekleidet war. Das Röst
gut wurde 20 min lang auf einer Rollenbank gemahlen. Der
Besatz der Kugelmühle war mit 4 kg Mahlkörpern und 1 kg
Tantalpentoxid festgelegt worden.
Die Analyse des Mahlgutes ergab eine Abnahme der Durch
schnittskorngröße auf 0,4 µm (nach REM), eine spezi
fische Oberfläche von 6,2 m2 pro Gramm und einen
Fluorgehalt < 2 ppm. Die Messung der Fließfähigkeit mit
dem "Hall-Flowmeter" nach ISO 4490 ergab bei 2,5 mm
Austrittsöffnung für die 50 g-Probe einen Hall-Flow-
Index von 105 sec, für die 5 mm-Öffnung einen Wert von
20 sec.
Die Untersuchung des so gewonnenen Tantalpentoxidpulvers
unter dem Raster-Elektronenmikroskop zeigte eine ausge
zeichnete Uniformität und Isometrie der Pulverpartikel.
In der Tabelle sind die Analysenergebnisse der
Tantalpentoxidpulver nach dem Calcinieren und dem Mahlen
zusammengefaßt. Als Vergleichsproben wurden ein Tantal
pentoxid-Pulver des Typs "HPO-Ta2O5" der Firma HCST
(HPO) gegenübergestellt.
Claims (11)
1. Tantalpentoxid-Pulver einer Reinheit von <99,99%,
dadurch gekennzeichnet, daß es eine Fließfähigkeit
von weniger als 50 sec (nach ISO-Standard
4490/1978) bei 5,08 mm Austrittsöffnung aufweist.
2. Tantalpentoxid-Pulver gemäß Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß die Durchschnittskorngröße des
Tantalpentoxid-Pulvers weniger als 0,5 µm (gemessen
mit dem Raster-Elektronen-Mikroskop) beträgt.
3. Tantalpentoxid-Pulver gemäß einem der Ansprüche 1
oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Gesamt
gehalt an Verunreinigungen der Elemente Al, Ca, Cr,
Co, Cu, Fe, Ni, Nb, Si, Ti, W, Zr, F, S weniger als
50 ppm beträgt.
4. Tantalpentoxid-Pulver gemäß Anspruch 3, dadurch
gekennzeichnet, daß der Gesamtgehalt der Verun
reinigungen weniger als 30 ppm beträgt.
5. Tantalpentoxid-Pulver gemäß einem oder mehrerer der
Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es
einen Gehalt von <99,99% Ta2O5 mit einem maximalen
Gehalt an Fluor von 20 ppm aufweist.
6. Tantalpentoxid-Pulver gemäß Anspruch 5, dadurch
gekennzeichnet, daß der Fluorgehalt maximal 10 ppm
beträgt.
7. Tantalpentoxid-Pulver gemäß Anspruch 6, dadurch
gekennzeichnet, daß der Fluorgehalt maximal 5 ppm
beträgt.
8. Tantalpentoxid-Pulver gemäß einem oder mehrerer der
Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es
eine spezifische BET-Oberfläche (nach DIN 66 131)
von größer als 4 m2/g aufweist.
9. Verfahren zur Herstellung des Tantalpentoxid-
Pulvers gemäß einem oder mehrerer der Ansprüche 1
bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß durch Ammoniak
gefälltes Tantalhydroxid bei Temperaturen zwischen
700 und 800°C geglüht wird.
10. Verfahren gemäß Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß das calcinierte Tantalpentoxid in einer mit
Inertmaterial ausgekleideten Kugelmühle mit zylin
drisch geformten Tantalmetallkörpern ausgemahlen
wird.
11. Verfahren gemäß Anspruch 10, dadurch gekennzeich
net, daß die zylindrischen Tantalmetallkörper einen
Durchmesser von 5 bis 50 mm und eine Länge von 5
bis 50 mm aufweisen.
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3904292A DE3904292A1 (de) | 1989-02-14 | 1989-02-14 | Hochreines tantalpentoxid sowie verfahren zu dessen herstellung |
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JP2029743A JPH02248325A (ja) | 1989-02-14 | 1990-02-13 | 高純度五酸化タンタル |
AU49785/90A AU633047B2 (en) | 1989-02-14 | 1990-02-14 | Highly pure tantalum pentoxide and a process for its preparation |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3904292A DE3904292A1 (de) | 1989-02-14 | 1989-02-14 | Hochreines tantalpentoxid sowie verfahren zu dessen herstellung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3904292A1 true DE3904292A1 (de) | 1990-08-16 |
DE3904292C2 DE3904292C2 (de) | 1991-01-17 |
Family
ID=6373989
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3904292A Granted DE3904292A1 (de) | 1989-02-14 | 1989-02-14 | Hochreines tantalpentoxid sowie verfahren zu dessen herstellung |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5068097A (de) |
JP (1) | JPH02248325A (de) |
AU (1) | AU633047B2 (de) |
BE (1) | BE1002754A3 (de) |
BR (1) | BR9000642A (de) |
DD (1) | DD291978A5 (de) |
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