JPS63156013A - 金属化合物中に含有された微量フツ素の除去方法 - Google Patents
金属化合物中に含有された微量フツ素の除去方法Info
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- JPS63156013A JPS63156013A JP30255686A JP30255686A JPS63156013A JP S63156013 A JPS63156013 A JP S63156013A JP 30255686 A JP30255686 A JP 30255686A JP 30255686 A JP30255686 A JP 30255686A JP S63156013 A JPS63156013 A JP S63156013A
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- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、金属化合物中のフッ素の除去方法に関する。
更に詳シくは、タンタル、ニオブ、バナジウム及びタン
グステン等の水酸化物又は酸化物などを、水蒸気含有空
気の流通下に焼成することを特徴とするフッ素の効果的
な除去方法に関するものである@ 〈従来の技術〉 近年、セラミック構造材料、機能性材料或は触媒として
希有金属化合物の用途が大きく広がってきている0とシ
わけ半導体集積回路のキャバVター、共振子又はフィル
ター等に用いられている0酸化タンタル(T alog
) 、酸化ニオブ(Nb。
グステン等の水酸化物又は酸化物などを、水蒸気含有空
気の流通下に焼成することを特徴とするフッ素の効果的
な除去方法に関するものである@ 〈従来の技術〉 近年、セラミック構造材料、機能性材料或は触媒として
希有金属化合物の用途が大きく広がってきている0とシ
わけ半導体集積回路のキャバVター、共振子又はフィル
ター等に用いられている0酸化タンタル(T alog
) 、酸化ニオブ(Nb。
Os)等は99.999*(5N)程度の極めて高純度
のものが求められる0 しかして、その精製プ豐セスにおいて水酸化タンタル、
水酸化ニオブ等のアモルファス水和物よりe成して水分
や有機物を除去すると共に結晶化をすすめる際に、不純
物としてのアニオンとシわけフッ素の除去が難しく、高
温(> 1000℃)を要していたのが現状であった0 現在、希有金属酸化物は塩化物の加水分解又は、フッ化
物の加安分解と焼成によるのが普通である◇前者の場合
、フッ素の共析はなく焼成は700〜1000℃でよい
0しかし後者のg製法による場合、タンタルやニオブの
ツッ化物錯体を加安分解してアモルファス水和物を得た
後、焼成して結晶化をすすめながら水分や有機物或はフ
ッ化アンモニウムの形のフッ素を除去する際、水分や有
機物は500℃以下で分解又は揮散するが、フッ素は酸
化物粉体中に取込まれているためその除去には900℃
以上の高温を要していた〇 例えば、特公昭45−88126号公報では900℃又
はそれ以上の温度、望ましくは約1000℃以上の温度
に熱して水分を除去して、純酸化ニオブや酸化タンタル
の形になし得るとされている@ 然しながら、この方法ではフッ素等の不純物は十分除去
されず、除去効率が悪くて品質上の問題があシ、装置的
に流動床や通気等の方法をとったとしても900℃以下
にすることは困難であった〇 まして工業的に大量処理する場合には、粉体を充填して
単に加熱するか或は平行通気せしめるのが普通であシ、
側底900℃以下に下げるととはできなかっ九〇 〈発明が解決しようとする間即点〉 本発明の目的は、従来の技術で問題となっていた金属化
合物中の微量のフッ素及びタングステンから選ばれた金
属を低温短時間で容易に除去する方法を提供するもので
ある◎ 〈問題点を解決するための手段〉 本発明者らは、金属化合物中のフッ素を低温気せしめる
ことによシ焼成温度を大巾に下げることを見出し本発明
に至った〇 即ち、本発明は金属化合物中化含有される微量のフッ素
及びタングステンから選ばれた金属を除去するに際し、
水i*含含有空気流通知金属化合物を焼成することを特
徴とするフッ素及びタングステンから選ばれた金属の除
去方法に係るものである。
のものが求められる0 しかして、その精製プ豐セスにおいて水酸化タンタル、
水酸化ニオブ等のアモルファス水和物よりe成して水分
や有機物を除去すると共に結晶化をすすめる際に、不純
物としてのアニオンとシわけフッ素の除去が難しく、高
温(> 1000℃)を要していたのが現状であった0 現在、希有金属酸化物は塩化物の加水分解又は、フッ化
物の加安分解と焼成によるのが普通である◇前者の場合
、フッ素の共析はなく焼成は700〜1000℃でよい
0しかし後者のg製法による場合、タンタルやニオブの
ツッ化物錯体を加安分解してアモルファス水和物を得た
後、焼成して結晶化をすすめながら水分や有機物或はフ
ッ化アンモニウムの形のフッ素を除去する際、水分や有
機物は500℃以下で分解又は揮散するが、フッ素は酸
化物粉体中に取込まれているためその除去には900℃
以上の高温を要していた〇 例えば、特公昭45−88126号公報では900℃又
はそれ以上の温度、望ましくは約1000℃以上の温度
に熱して水分を除去して、純酸化ニオブや酸化タンタル
の形になし得るとされている@ 然しながら、この方法ではフッ素等の不純物は十分除去
されず、除去効率が悪くて品質上の問題があシ、装置的
に流動床や通気等の方法をとったとしても900℃以下
にすることは困難であった〇 まして工業的に大量処理する場合には、粉体を充填して
単に加熱するか或は平行通気せしめるのが普通であシ、
側底900℃以下に下げるととはできなかっ九〇 〈発明が解決しようとする間即点〉 本発明の目的は、従来の技術で問題となっていた金属化
合物中の微量のフッ素及びタングステンから選ばれた金
属を低温短時間で容易に除去する方法を提供するもので
ある◎ 〈問題点を解決するための手段〉 本発明者らは、金属化合物中のフッ素を低温気せしめる
ことによシ焼成温度を大巾に下げることを見出し本発明
に至った〇 即ち、本発明は金属化合物中化含有される微量のフッ素
及びタングステンから選ばれた金属を除去するに際し、
水i*含含有空気流通知金属化合物を焼成することを特
徴とするフッ素及びタングステンから選ばれた金属の除
去方法に係るものである。
水蒸気含有空気の流通下において何故フッ素の除去が効
率的に行なわれるか明らかではない〇通常の熱分解では
NH4P二MHI +HFに従って分解し、低温では分
解効率が悪い◎ しかしながら水蒸気含有空気を流通せしめる△ ことによシ、NH4F+H10→NH4OH+FHAN
H3+HF+H10という加水分解が容易に起シ、熱分
解の場合に比して低温短時間でフッ素及びタングステン
から選ばれた金属を除去することが可能となったのでは
ないかと推測される。この場合、水蒸気含有空気全圧は
金属化合物充填層に対する水蒸気含有空気の通気方法(
平行流、通気流、流動床通気等)に応じて適宜選ばれる
〇一方空気の絶対湿度は、フッ化物の加水分解の促進と
いう立場からは高い程良いが、一方余シに高すぎると過
剰の水分子が金属化合物粒子の表面層の開気孔を塞ぎア
ンモニアや弗化水素の揮散を妨げてしまう0又、空気流
通ライン内壁に水が凝縮する可能性もある。
率的に行なわれるか明らかではない〇通常の熱分解では
NH4P二MHI +HFに従って分解し、低温では分
解効率が悪い◎ しかしながら水蒸気含有空気を流通せしめる△ ことによシ、NH4F+H10→NH4OH+FHAN
H3+HF+H10という加水分解が容易に起シ、熱分
解の場合に比して低温短時間でフッ素及びタングステン
から選ばれた金属を除去することが可能となったのでは
ないかと推測される。この場合、水蒸気含有空気全圧は
金属化合物充填層に対する水蒸気含有空気の通気方法(
平行流、通気流、流動床通気等)に応じて適宜選ばれる
〇一方空気の絶対湿度は、フッ化物の加水分解の促進と
いう立場からは高い程良いが、一方余シに高すぎると過
剰の水分子が金属化合物粒子の表面層の開気孔を塞ぎア
ンモニアや弗化水素の揮散を妨げてしまう0又、空気流
通ライン内壁に水が凝縮する可能性もある。
そこで空気の絶対湿度は0.5 KfH,O/lk乾き
空9C〜2. OKtH,O/−乾き空気が好適に選ば
れる〇水蒸気含有空気の線流速は、遅すぎると生成した
アンモニア、弗化水素の除去効果が小さく、逆に速すぎ
ても金属化合物充填層の圧力損失が大きくなるため、適
切な線流速が選ばれる0又、焼成時間は1時間〜2時間
とれば十分(ippm以下)#ζフッ素を除去できる0 金属化合物として通常用いられる形態は、水酸化物、酸
化物等である0水酸化物も焼成によシ酸化物に変る。一
般に金属化合物の粒子の大きさは、なるべくに小さい粉
体を用いる方がフッ素及び/又はツーI素化合物の除去
効果が大きい。その粉体粒子の平均粒径は通常100μ
m以下であシ、好ましくは50μm以下、よシ好ましく
は0.5〜5μmであるO 〈実施例〉 以下具体的に実施例により本発明を説明するが、本発明
は、これらに限定されるものではない。
空9C〜2. OKtH,O/−乾き空気が好適に選ば
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アンモニア、弗化水素の除去効果が小さく、逆に速すぎ
ても金属化合物充填層の圧力損失が大きくなるため、適
切な線流速が選ばれる0又、焼成時間は1時間〜2時間
とれば十分(ippm以下)#ζフッ素を除去できる0 金属化合物として通常用いられる形態は、水酸化物、酸
化物等である0水酸化物も焼成によシ酸化物に変る。一
般に金属化合物の粒子の大きさは、なるべくに小さい粉
体を用いる方がフッ素及び/又はツーI素化合物の除去
効果が大きい。その粉体粒子の平均粒径は通常100μ
m以下であシ、好ましくは50μm以下、よシ好ましく
は0.5〜5μmであるO 〈実施例〉 以下具体的に実施例により本発明を説明するが、本発明
は、これらに限定されるものではない。
実施例1
白金ポート中に水酸化タンタル(平均F1.ff0.5
印)を200y坪量して石英反応管中に藏き、管状炉で
80分で所定渦度迄昇濡した後、水蒸気含有空気を線流
速5OOcrIVSで通風しながらその温度でlhr保
持したO空気の絶対湿度を1.0匂H!O/h乾き空気
とし7’iCo焼成彼の粉体中のフッ素をJIS H1
698に定めるフンタン・アリザリンコンブレクラン吸
光光度法によシ定景したC同じ実験を水蒸気含有空気流
通なしの系でも行い下表のような結果を得た0 実施例2 実施例1の方法によシ、水酸化タンタル(平均粒径1μ
m)を水蒸気発生温度を4通りかえ、絶対湿度をコント
ロールし、800℃、lhr保持した後の五酸化タンタ
ル中のフッ素含量を測定し下表のような結果を得た。
印)を200y坪量して石英反応管中に藏き、管状炉で
80分で所定渦度迄昇濡した後、水蒸気含有空気を線流
速5OOcrIVSで通風しながらその温度でlhr保
持したO空気の絶対湿度を1.0匂H!O/h乾き空気
とし7’iCo焼成彼の粉体中のフッ素をJIS H1
698に定めるフンタン・アリザリンコンブレクラン吸
光光度法によシ定景したC同じ実験を水蒸気含有空気流
通なしの系でも行い下表のような結果を得た0 実施例2 実施例1の方法によシ、水酸化タンタル(平均粒径1μ
m)を水蒸気発生温度を4通りかえ、絶対湿度をコント
ロールし、800℃、lhr保持した後の五酸化タンタ
ル中のフッ素含量を測定し下表のような結果を得た。
実施例8
実施例1の方法により水酸化ニオブ(平均粒径2μm)
を焼成した◇下表のような結果を得た0〈発明の効果〉 本発明によシ、従来法に比し簡易かつ効率のよいフッ素
含有金属化合物からのフッ素の除去方法が提供される。
を焼成した◇下表のような結果を得た0〈発明の効果〉 本発明によシ、従来法に比し簡易かつ効率のよいフッ素
含有金属化合物からのフッ素の除去方法が提供される。
Claims (4)
- (1)金属化合物中に含有される微量のフッ素及び/又
はフッ素化合物を除去するに際し、水蒸気含有空気流通
下に当該金属化合物を焼成することを特徴とするフッ素
及び/又は、フッ素化合物の除去方法。 - (2)金属化合物がタンタル、ニオブ、バナジウム及び
タングステンから選ばれた金属の水酸化物又は酸化物で
ある特許請求の範囲第1項記載のフッ素及び/又はフッ
素化合物の除去方法。 - (3)フッ素化合物がフッ化アンモニウム及び酸性フッ
化アンモニウムである特許請求の範囲第1項記載のフッ
素及び/又はフッ素化合物の除去方法。 - (4)空気の絶対湿度が0.5kgH_2O/kg乾き
空気〜2.0kgH_2O/kg乾き空気、焼成温度が
750℃〜900℃である特許請求の範囲第1項記載の
フッ素及び/又はフッ素化合物の除去方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30255686A JPS63156013A (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | 金属化合物中に含有された微量フツ素の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30255686A JPS63156013A (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | 金属化合物中に含有された微量フツ素の除去方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63156013A true JPS63156013A (ja) | 1988-06-29 |
Family
ID=17910398
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30255686A Pending JPS63156013A (ja) | 1986-12-17 | 1986-12-17 | 金属化合物中に含有された微量フツ素の除去方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS63156013A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02248325A (ja) * | 1989-02-14 | 1990-10-04 | Hermann C Starck Berlin Gmbh & Co Kg | 高純度五酸化タンタル |
JP2005001920A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 水酸化タンタル、水酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ニオブ、およびこれらの製造方法 |
JP2007277091A (ja) * | 2007-07-27 | 2007-10-25 | Dowa Holdings Co Ltd | 酸化タンタルおよびその製造方法 |
-
1986
- 1986-12-17 JP JP30255686A patent/JPS63156013A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02248325A (ja) * | 1989-02-14 | 1990-10-04 | Hermann C Starck Berlin Gmbh & Co Kg | 高純度五酸化タンタル |
JP2005001920A (ja) * | 2003-06-10 | 2005-01-06 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 水酸化タンタル、水酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化ニオブ、およびこれらの製造方法 |
JP2007277091A (ja) * | 2007-07-27 | 2007-10-25 | Dowa Holdings Co Ltd | 酸化タンタルおよびその製造方法 |
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