JPH05170445A - 弗化ジルコニウムの製造方法 - Google Patents
弗化ジルコニウムの製造方法Info
- Publication number
- JPH05170445A JPH05170445A JP35560491A JP35560491A JPH05170445A JP H05170445 A JPH05170445 A JP H05170445A JP 35560491 A JP35560491 A JP 35560491A JP 35560491 A JP35560491 A JP 35560491A JP H05170445 A JPH05170445 A JP H05170445A
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- JP
- Japan
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- zirconium
- fluoride
- ammonium
- inert gas
- hydrogen fluoride
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G25/00—Compounds of zirconium
- C01G25/04—Halides
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、弗化ジルコニウムの製造に関する
ものである。 【構成】 弗化水素アンモニウム及び又は弗化アンモニ
ウムと四塩化ジルコニウムを、水分のないかつ不活性雰
囲気中で混合し、ついで不活性雰囲気で350℃以上に
加熱する弗化ジルコニウムの製造方法。 【効果】 酸素や水分を含まない高純度の四弗化ジルコ
ニウムを、容易に得ることができる。
ものである。 【構成】 弗化水素アンモニウム及び又は弗化アンモニ
ウムと四塩化ジルコニウムを、水分のないかつ不活性雰
囲気中で混合し、ついで不活性雰囲気で350℃以上に
加熱する弗化ジルコニウムの製造方法。 【効果】 酸素や水分を含まない高純度の四弗化ジルコ
ニウムを、容易に得ることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は弗化ジルコニウムの製造
に関するものであり、特に光ファイバ−の添加剤あるい
は、原子炉用ジルコニウム製造のための電解還元用中間
原料として重要である。
に関するものであり、特に光ファイバ−の添加剤あるい
は、原子炉用ジルコニウム製造のための電解還元用中間
原料として重要である。
【0002】本発明による弗化ジルコニウムは、光ファ
イバ−への添加や電解還元に有害な作用を与える水分又
は酸素が極微量まで低減されており、前述の添加剤又は
還元の中間原料として好適である。
イバ−への添加や電解還元に有害な作用を与える水分又
は酸素が極微量まで低減されており、前述の添加剤又は
還元の中間原料として好適である。
【0003】
【従来技術】弗化ジルコニウムの製造方法としては従
来、乾式法、湿式法がある。
来、乾式法、湿式法がある。
【0004】乾式法については、(1)ジルコニウムメ
タルとフッ素ガスとを反応させる方法、(2)酸化ジル
コニウムとフッ素ガスを反応させる方法、(3)酸化ジ
ルコニウムとフッ化水素ガスを反応させる方法、(4)
ケイ酸ジルコニウムと弗化水素ガスを反応させる方法、
(5)四塩化ジルコニウムと弗化水素ガスを反応させる
方法、(6)6弗化ジルコニウムアンモニウムを熱分解
する方法等がある。
タルとフッ素ガスとを反応させる方法、(2)酸化ジル
コニウムとフッ素ガスを反応させる方法、(3)酸化ジ
ルコニウムとフッ化水素ガスを反応させる方法、(4)
ケイ酸ジルコニウムと弗化水素ガスを反応させる方法、
(5)四塩化ジルコニウムと弗化水素ガスを反応させる
方法、(6)6弗化ジルコニウムアンモニウムを熱分解
する方法等がある。
【0005】しかし、これらの方法は(6)を除いては
フッ素ガス又は弗化水素ガスを用いる反応で、反応温度
は200℃付近から赤熱状態になるまで行なうため、反
応容器の腐食による問題があり、これによる不純物の混
入も避けられない。また、6弗化ジルコニウムアンモニ
ウムの熱分解においては、6弗化ジルコニウムアンモニ
ウムの合成が、通常は湿式処理で作るため、水分が混入
しており、熱分解の結果は、生成した弗化ジルコニウム
中に、多少のオキシ弗化ジルコニウムの混入は避けられ
ない。また、乾式法全体が取り扱いガスによる危険性が
高く、設備の耐食性を考えると経済的には問題がある。
フッ素ガス又は弗化水素ガスを用いる反応で、反応温度
は200℃付近から赤熱状態になるまで行なうため、反
応容器の腐食による問題があり、これによる不純物の混
入も避けられない。また、6弗化ジルコニウムアンモニ
ウムの熱分解においては、6弗化ジルコニウムアンモニ
ウムの合成が、通常は湿式処理で作るため、水分が混入
しており、熱分解の結果は、生成した弗化ジルコニウム
中に、多少のオキシ弗化ジルコニウムの混入は避けられ
ない。また、乾式法全体が取り扱いガスによる危険性が
高く、設備の耐食性を考えると経済的には問題がある。
【0006】また、湿式法については、ジルコニウムの
水溶液例えば塩化ジルコニウムや硝酸ジルコニウムの水
溶液に弗化水素酸を加え、弗化水素酸の濃度を上げるか
又はこの溶液を濃縮してオキシ弗化ジルコニウムの含水
化合物の結晶を析出させ、これを乾燥した後500℃〜
600℃で弗化水素ガスで弗化、脱水して弗化ジルコニ
ウムとする。この方法も多少のオキシ弗化ジルコニウム
が残り、前述の乾式法の問題も残る。
水溶液例えば塩化ジルコニウムや硝酸ジルコニウムの水
溶液に弗化水素酸を加え、弗化水素酸の濃度を上げるか
又はこの溶液を濃縮してオキシ弗化ジルコニウムの含水
化合物の結晶を析出させ、これを乾燥した後500℃〜
600℃で弗化水素ガスで弗化、脱水して弗化ジルコニ
ウムとする。この方法も多少のオキシ弗化ジルコニウム
が残り、前述の乾式法の問題も残る。
【0007】一般にジルコニウムは酸素との結合力が強
いため、湿式法で弗化ジルコニウムを合成することは困
難である。従ってこの酸素を除くため、前述のように、
比較的高温でフッ素や弗化水素ガスと接触させ、脱酸
素、脱水を計るのが常法である。このため、反応容器や
その周辺機器の材質の選択が難しく、反応ガスと接触す
る器壁からの汚染、これに係る安全性、経済性の問題が
派生する。
いため、湿式法で弗化ジルコニウムを合成することは困
難である。従ってこの酸素を除くため、前述のように、
比較的高温でフッ素や弗化水素ガスと接触させ、脱酸
素、脱水を計るのが常法である。このため、反応容器や
その周辺機器の材質の選択が難しく、反応ガスと接触す
る器壁からの汚染、これに係る安全性、経済性の問題が
派生する。
【0008】
【発明の構成】即ち、本発明は、弗化水素アンモニウム
及び又は弗化アンモニウムと、四塩化ジルコニウムを、
水分の無いかつ不活性雰囲気で混合し、続いて不活性雰
囲気中で350℃以上に加熱することを特色とする弗化
ジルコニウムの製造方法に関する。
及び又は弗化アンモニウムと、四塩化ジルコニウムを、
水分の無いかつ不活性雰囲気で混合し、続いて不活性雰
囲気中で350℃以上に加熱することを特色とする弗化
ジルコニウムの製造方法に関する。
【0009】
【発明の具体的説明】本発明は、四塩化ジルコニウムと
弗化水素アンモニウム及び又は、弗化アンモニウムと反
応させることによって直接四弗化ジルコニウムを生成す
る方法である。さらに塩化アンモニウムを副生する。そ
の生成温度は350℃以上と比較的低い温度で可能であ
る。上限の温度は、1000℃でも良いがこれ以上で
は、反応炉の材質が塩化アンモニウムに浸食され好まし
くない。従って好ましい上限は、600℃である。反応
設備は、直接弗化物が触れる容器だけ弗化物に対して耐
食性のある材料、例えばグラファイトなどを使用すれば
良い。前記の反応は1段反応である。この点が、好まし
い点の一つである。反応雰囲気は、湿度の極めて低い不
活性雰囲気にする。これにより、酸素や水分の含まない
四弗化ジルコニウムを得る。
弗化水素アンモニウム及び又は、弗化アンモニウムと反
応させることによって直接四弗化ジルコニウムを生成す
る方法である。さらに塩化アンモニウムを副生する。そ
の生成温度は350℃以上と比較的低い温度で可能であ
る。上限の温度は、1000℃でも良いがこれ以上で
は、反応炉の材質が塩化アンモニウムに浸食され好まし
くない。従って好ましい上限は、600℃である。反応
設備は、直接弗化物が触れる容器だけ弗化物に対して耐
食性のある材料、例えばグラファイトなどを使用すれば
良い。前記の反応は1段反応である。この点が、好まし
い点の一つである。反応雰囲気は、湿度の極めて低い不
活性雰囲気にする。これにより、酸素や水分の含まない
四弗化ジルコニウムを得る。
【0010】反応には、十分に乾燥した弗化水素アンモ
ニウム及びまたは弗化アンモニウムを用いる。通常の市
販の弗化水素アンモニウム及び又は弗化アンモニウムは
湿式で製造するため、数%、時には10%近い水を含ん
でいる。このため、市販の弗化水素アンモニウム等を直
接反応に用いると、四塩化ジルコニウムと混合すると、
中に含まれる水分と激しい反応が起こり、塩化水素ガス
を発生し、ジルコニウムはフッ素と結合すると同時に酸
素とも結合し、一部オキシ化合物を生成することにな
る。
ニウム及びまたは弗化アンモニウムを用いる。通常の市
販の弗化水素アンモニウム及び又は弗化アンモニウムは
湿式で製造するため、数%、時には10%近い水を含ん
でいる。このため、市販の弗化水素アンモニウム等を直
接反応に用いると、四塩化ジルコニウムと混合すると、
中に含まれる水分と激しい反応が起こり、塩化水素ガス
を発生し、ジルコニウムはフッ素と結合すると同時に酸
素とも結合し、一部オキシ化合物を生成することにな
る。
【0011】弗化水素アンモニウムと四塩化ジルコニウ
ムとの反応は、モル比で2:1以上となることが好まし
い。反応を好ましく行えるからである。この比で両者を
湿度の十分に低い不活性雰囲気中でグラファイトルツボ
のようなフッ素、弗化水素、塩化アンモニウム、塩化水
素等に犯され難い容器中で混合する。これを不活性雰囲
気で350℃以上の温度に加熱し、2時間保持する。こ
れにより、弗化水素アンモニウム中のフッ素は、全て四
塩化ジルコニウムの塩素と置換し、弗化ジルコニウムと
塩化アンモニウムを生成する。副生した塩化アンモニウ
ムは、揮散し、弗化ジルコニウムだけが残る。
ムとの反応は、モル比で2:1以上となることが好まし
い。反応を好ましく行えるからである。この比で両者を
湿度の十分に低い不活性雰囲気中でグラファイトルツボ
のようなフッ素、弗化水素、塩化アンモニウム、塩化水
素等に犯され難い容器中で混合する。これを不活性雰囲
気で350℃以上の温度に加熱し、2時間保持する。こ
れにより、弗化水素アンモニウム中のフッ素は、全て四
塩化ジルコニウムの塩素と置換し、弗化ジルコニウムと
塩化アンモニウムを生成する。副生した塩化アンモニウ
ムは、揮散し、弗化ジルコニウムだけが残る。
【0012】弗化アンモニウムと四塩化ジルコニウムと
の場合は、モル比で4:1である。これも、反応を好ま
しく行うためである。弗化水素アンモニウムと弗化アン
モニウムとを併用する場合も上記を考慮して配合する。
の場合は、モル比で4:1である。これも、反応を好ま
しく行うためである。弗化水素アンモニウムと弗化アン
モニウムとを併用する場合も上記を考慮して配合する。
【0013】
【実施例1】110℃で乾燥した弗化水素アンモニウム
6.8gと四塩化ジルコニウム11.7g(モル比で
2.4:1)を室温、湿度1%以下、アルゴンガス中
で、十分に乾燥したグラファイトルツボ中で混合し、こ
れを電気炉中でアルゴン雰囲気にして100℃/hrの
昇温スピ−ドで、350℃で2時間保持した後冷却し
て、弗化ジルコニウム8.3gを得た。生成物のX線回
折結果は、ほとんどZrF4のピ−クを示し、その他わ
ずかに塩化アンモニウムが共存していた。化学分析の結
果は、Zr54.0%,F44.1%で、ほぼZrF4
の組成と一致した。
6.8gと四塩化ジルコニウム11.7g(モル比で
2.4:1)を室温、湿度1%以下、アルゴンガス中
で、十分に乾燥したグラファイトルツボ中で混合し、こ
れを電気炉中でアルゴン雰囲気にして100℃/hrの
昇温スピ−ドで、350℃で2時間保持した後冷却し
て、弗化ジルコニウム8.3gを得た。生成物のX線回
折結果は、ほとんどZrF4のピ−クを示し、その他わ
ずかに塩化アンモニウムが共存していた。化学分析の結
果は、Zr54.0%,F44.1%で、ほぼZrF4
の組成と一致した。
【0014】
【実施例2】110℃で乾燥した弗化水素アンモニウム
6.2gと四塩化ジルコニウム12.0g(モル比で
2.1:1)を実施例1に従って混合し、これを電気炉
中アルゴン雰囲気で、実施例1の昇温スピ−ドで500
℃まで昇温し、500℃で2時間保持した後冷却して、
弗化ジルコニウム8.6gを得た。生成した弗化ジルコ
ニウムのX線回折結果は、ZrF4のみのピ−クを示し
た。化学分析の結果は、Zr54.3%,F45.5%
でほぼZrF4の組成と一致した。
6.2gと四塩化ジルコニウム12.0g(モル比で
2.1:1)を実施例1に従って混合し、これを電気炉
中アルゴン雰囲気で、実施例1の昇温スピ−ドで500
℃まで昇温し、500℃で2時間保持した後冷却して、
弗化ジルコニウム8.6gを得た。生成した弗化ジルコ
ニウムのX線回折結果は、ZrF4のみのピ−クを示し
た。化学分析の結果は、Zr54.3%,F45.5%
でほぼZrF4の組成と一致した。
【0015】
【実施例3】110℃で乾燥した弗化水素アンモニウム
3.1gと弗化アンモニウム3.9gと四塩化ジルコニ
ウム12.2g(モル比で1:2:1)を実施例1に従
って混合し、これを電気炉中アルゴン雰囲気で、実施例
1の昇温スピ−ドで400℃まで昇温し、400℃で2
時間保持した後冷却して、生成物8.7gを得た。生成
物のX線回折結果は、ZrF4のみのピ−クを示した。
化学分析の結果は、Zr55.3%,F44.5%でほ
ぼZrF4の組成と一致した。
3.1gと弗化アンモニウム3.9gと四塩化ジルコニ
ウム12.2g(モル比で1:2:1)を実施例1に従
って混合し、これを電気炉中アルゴン雰囲気で、実施例
1の昇温スピ−ドで400℃まで昇温し、400℃で2
時間保持した後冷却して、生成物8.7gを得た。生成
物のX線回折結果は、ZrF4のみのピ−クを示した。
化学分析の結果は、Zr55.3%,F44.5%でほ
ぼZrF4の組成と一致した。
【0016】
【比較例1】110℃で乾燥した弗化水素アンモニウム
6.8gと四塩化ジルコニウム11.7gを実施例1に
従って混合し、これを電気炉中アルゴン雰囲気で300
℃、2時間保持し、冷却後生成物を取り出した。生成し
た化合物のX線回折は、通常の弗化ジルコニウム(Zr
F4)の他に、弗化ジルコニウムアンモニウム(NH4Z
rF5,N2H8ZrF6等)のピ−クが見られた。加熱温
度が350℃より低いため好ましい弗化ジルコニウム
は、得られなかった。
6.8gと四塩化ジルコニウム11.7gを実施例1に
従って混合し、これを電気炉中アルゴン雰囲気で300
℃、2時間保持し、冷却後生成物を取り出した。生成し
た化合物のX線回折は、通常の弗化ジルコニウム(Zr
F4)の他に、弗化ジルコニウムアンモニウム(NH4Z
rF5,N2H8ZrF6等)のピ−クが見られた。加熱温
度が350℃より低いため好ましい弗化ジルコニウム
は、得られなかった。
【0017】
【比較例2】110℃で乾燥した弗化水素アンモニウム
9.1gと四塩化ジルコニウム23.3g(NH4FH
F/ZrCl4のモル比1.6/1)を実施例1に従っ
て混合し、これを電気炉中アルゴン雰囲気で400℃、
2時間保持し、冷却後生成物を取り出した。化学分析の
結果は、Zrが38.9%,Fが32%であった。モル
比が低いため好ましいものは得られなかった。
9.1gと四塩化ジルコニウム23.3g(NH4FH
F/ZrCl4のモル比1.6/1)を実施例1に従っ
て混合し、これを電気炉中アルゴン雰囲気で400℃、
2時間保持し、冷却後生成物を取り出した。化学分析の
結果は、Zrが38.9%,Fが32%であった。モル
比が低いため好ましいものは得られなかった。
【0018】
【発明の効果】酸素や水分を含まない高純度の四弗化ジ
ルコニウムを、容易に得ることができる。
ルコニウムを、容易に得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 弗化水素アンモニウム及び又は弗化アン
モニウムと、四塩化ジルコニウムを、水分のないかつ不
活性雰囲気中で混合し、ついで不活性雰囲気で350℃
以上に加熱することを特徴とする弗化ジルコニウムの製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35560491A JPH05170445A (ja) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | 弗化ジルコニウムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP35560491A JPH05170445A (ja) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | 弗化ジルコニウムの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05170445A true JPH05170445A (ja) | 1993-07-09 |
Family
ID=18444835
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP35560491A Pending JPH05170445A (ja) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | 弗化ジルコニウムの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05170445A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103708549A (zh) * | 2014-01-06 | 2014-04-09 | 贵州万方铝化科技开发有限公司 | 纳米级ZrO2粉末的制备方法 |
CN103708550A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-04-09 | 贵州万方铝化科技开发有限公司 | 氟化锆的制备方法 |
CN113072096A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-07-06 | 刘明钢 | 应用于核裂变能钍基熔盐堆无氧四氟化锆的制备方法 |
-
1991
- 1991-12-24 JP JP35560491A patent/JPH05170445A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103708550A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-04-09 | 贵州万方铝化科技开发有限公司 | 氟化锆的制备方法 |
CN103708549A (zh) * | 2014-01-06 | 2014-04-09 | 贵州万方铝化科技开发有限公司 | 纳米级ZrO2粉末的制备方法 |
CN113072096A (zh) * | 2021-03-18 | 2021-07-06 | 刘明钢 | 应用于核裂变能钍基熔盐堆无氧四氟化锆的制备方法 |
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