JPH11510965A - 流体コンテナ内で基板を処理する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 流体コンテナ（１）内で複数の基板（５）を処理する装置において、流体を導入するために複数のノズル（７）から成るノズル系を設けることによって、高い流動速度で流体を急速に流入させる場合でも、特に均等な層流状の流動挙動が、流体コンテナの全領域にわたって得られる。

Description

【発明の詳細な説明】 流体コンテナ内で基板を処理する装置 本発明は、流体コンテナ内で基板を処理する装置に関する。 前記形式の装置は、例えば米国特許第５２７５１８４号明細書に基づいて又は 同一出願人によるドイツ連邦共和国特許出願公開第４４１３０７７号明細書に基 づいて公知であり、その場合流体は入口ポートもしくはディフューザを介して流 体コンテナ内へ導入され、上端のオーバーフロー部を介して該流体コンテナから 流出するようになっている。流体コンテナの底部で単一の流入ポートを使用する 場合、単位時間当りに流入する流体量並びに流入流体速度が制限されている。従 って特に、流体コンテナ内で処理すべき基板又はウェハに、基板の全幅又は基板 の全面積にわたって流体を供給するため又は洗浄するために、流体コンテナ内に 均等な流動状態を得ることは不可能である。ディフューザを使用する場合、流入 する流体を流体コンテナ内で流体コンテナ全面にわたってより良好に分配するこ とが可能にはなるが、単位時間当りに流入する流体量、とりわけ流体の流入速度 は、ディフューザの使用によって、著しく制限されている。 そこで本発明の課題は、流体コンテナ内で基板を処 理する装置を改良して、流体コンテナ内における流動条件を最適化し、かつ大き な循環速度もしくは流動速度を可能にすることである。 前記課題は本発明によれば、流体を流入させる複数のノズルから成るノズル系 を設けることによって解決される。複数のノズルに基づいて、流体を所期の流動 条件で流入させること、もしくは流体コンテナ内に所期の流動条件を得させるよ うに流体を流入させることが可能であるので、処理すべき基板全域に均等に流体 が注がれ、もしくは供給される。また流体を導入するために複数のノズルを使用 することによって、単位時間当り高い流入速度並びに単位時間当り高い通流量で 流体を流体コンテナ内へ給送すること、かつ、層流を維持して極度に高い流動速 度を得るように流体コンテナ内を流動させることも可能になる。これによって基 板の処理が改善されるばかりでなく、処理プロセスも短縮されるので、装置の生 産能が向上される。 本発明の特に有利な構成では、少なくとも若干のノズルが異なった出射角度を 有している。ノズルの出射形態は円錐形であるのが有利であるが、扇形であって もよく、従って個々の事例の事情及びノズルの位置に応じて、流体コンテナ内に 均等な層流並びに流体による基板の均等な負荷を生ぜしめるように流体の導入を 最適化することが可能である。 ノズルは流体コンテナの底部に配置されており、特 に有利な実施形態ではマトリックス状に配分して流体コンテナの底部に配置され ている。斯くして流体コンテナの全面にわたって流体の均等な供給分配が得られ 、かつ特にまた、縁域に最適の流動条件を形成することが可能である。 ノズルは、流体コンテナの種々異なった底部域毎に配置されたノズル群に纏め られているのが有利である。その場合、中央領域に１つのノズル群を設け、両方 の外側領域にそれぞれ１つのノズル群を設けるのが有利であり、しかもノズル密 度とノズル数は個々の領域において相違させて選ぶことができる。また個々のノ ズル及び／又はノズル群は、相互に分離した流体供給装置を有しており、斯くし てノズルを異なった流体圧で負荷できるようにするのが有利である。 本発明の極めて有利な実施形態では、流体コンテナの底部の下に流体供給室が 設けられており、該流体供給室にノズルが連通している。この場合、本発明の別 の実施形態によれば前記流体供給室は、個々のノズルのため及び／又は個々のノ ズル群のために複数の流体部分室に分割されている。 流体コンテナ底部の下の流体供給室は、二重底間の中間スペースによって形成 されているのが有利である。 本発明の特に有利な構成によれば、ノズルに付加的に、ノズルを自由洗浄する ために複数の自由洗浄オリ フィスが設けられており、該自由洗浄オリフィスもノズル同様にマトリックス状 に配置されて前記ノズル間に位置しているのが有利である。このように構成すれ ば、ノズル間の間隙及び死角も自由洗浄することが可能である。その場合、自由 洗浄オリフィスはノズル同様に、その下に位置している流体供給室と連通してい るのが有利である。 本発明の極めて有利な実施形態によれば、流体コンテナの底部が傾斜しており 、殊に該底部は中心へ向かって、例えば流体コンテナの中心線又は中点へ向かっ て下り勾配を成している。このようにすれば流体を下方へ向かって放出する際に 流体コンテナを迅速かつ完全に空にすることが可能になる。 流体コンテナから流体を迅速に放出するために、該流体コンテナには、特にそ の中心に、もしくは中心線上に、大きな口径を有する閉塞可能な吐出ポートが設 けられている。このように構成すれば、停電発生の場合又は目下進行中の処理工 程との関連においてその他の不測の事態が発生した場合でも、流体コンテナ内に 位置している基板を、処理媒体、例えばエッチング剤から迅速に解放することが 可能である。急速に放出された流体を有利に収容するために流体コンテナの下位 に捕集タンクが設けられている。 本発明の別の実施形態では、コンテナ底部に設けたノズルに加えて、又は該ノ ズルに代えて、流体コンテ ナの側壁に複数のノズルを設け、この構成によって流体を側面から、或いは流体 コンテナ底部と側壁との移行域から流体コンテナ内へ導入することも可能であり 、これによって流動条件が一層改善され、或いは循環容積が高められる。 本発明の有利な実施形態ではノズル及び／又はノズル群が、種々異なった流体 のために設けられている。その場合、異なった流体のために設けられた個々のノ ズル及び／又は個々のノズル群は、供給導管及びポンプに関しても、互いに分離 されており、従って異なった流体、例えば異なった化学薬剤は、該化学薬剤に対 応して配設されたノズル及び／又はノズル群によって導入される。斯くして流体 の変換が迅速に、かつ混合の恐れなく可能である。それというのは各ノズルには 、当該ノズルに対応した流体だけが常に到達するからである。 本発明の極めて有利な実施形態では、ノズルを介して導入される流体に加えて 、別の流体、例えば付加的な化学薬剤、ガス、オゾン、水などが流体コンテナ内 へ導入される。化学薬剤、ガス、オゾン又は水を付加的に導入するために特に、 流体コンテナ内には少なくとも１つのディフューザが設けられている。 また流体コンテナの上部域の例えば側壁に複数のスプレーノズルを配置してお くのも極めて有利である。この場合前記スプレーノズルは、流体コンテナを浄化 するため及び／又は、同一の流体コンテナにおいて経過する処理プロセス間、例 えばエッチングプロセスとクリーニングプロセスと乾燥プロセスとの間で基板に 給湿するため、もしくは該基板を湿潤状態に保つために使用される。このために は殊にエアゾール、水、その他の化学薬剤蒸気が、或いは下から流体コンテナ内 へ導入される流体もスプレーされる。 前記の設定課題は、前記の第１の解決手段との関連においても、また前記第１ の解決手段から独立しても次のようにして解決される。すなわち第２の解決手段 では流体コンテナは、基板を保持するための３つの保持域から成る基板受容装置 を有している。３点で基板を保持することによって、流体コンテナ内にガイドを 必要とすることなしに基板の特定位置が保証されている。基板受容装置は有利に 昇降可能である。その場合少なくとも１つの保持域がナイフ状ウェブであり、該 ナイフ状ウェブが、基板周縁域を受容するために前記ナイフ状ウェブの長手方向 に対して直角な横方向の複数のスリットを有しているのが有利である。少なくと も１つの保持域は、少なくとも１つの別の保持域に対して相対的に垂直方向に可 動であるのが有利である。この構成手段に関しては、説明の重複を避けるために 、同一出願人によるドイツ連邦共和国特許出願第１９６１５１０８号及び第１９ ５４６９９０号の未公開明細書を参照されたい。 本発明の殊に有利な実施形態によれば、基板受容装置がただ１つの保持域を有 し、かつ流体コンテナの少なくとも１つの側壁の内面に基板用のガイドが設けら れている。この実施形態は、流体コンテナ内には基板受容装置のための所要空間 が全く又は僅かしか存在せず、従ってコンテナ容積ひいては化学薬剤容積が小さ く、かつ化学薬剤の消費量に著しく関連したプロセス経費を低く抑えることがで きるという利点を有している。前記ガイドはスリットによって形成され、しかし 殊に有利にはウェブ、ピン及び／又は凸部によって形成され、これらはスリット に対比して、より簡単、より迅速に清掃可能かつ（必要ならば）乾燥可能である という利点を有している。ある種の流体を別種の流体に置換する際、或いは流体 コンテナを充填変換する際に、スリット内には比較的多量の流体が付着し、かつ 次いで導入される流体を汚染することになる。 本発明の有利な実施形態によれば流体コンテナの側壁の内面が、ガイドのない 領域を有している。流体コンテナ内における基板の確実な案内と保持を損なうこ とのないように、ガイドのない内面領域は、ガイドを有する内面領域に対してず らして配置されている。例えば内面の１領域にガイドが設けられている場合には 、これに対向する内面にはガイドの必要はない。それというのは一方の側のガイ ドで事足りるからである。ガイドのない内面領域には、入口オリフィス、スプレ ーノズル、ディフューザ、紫外線光源及び／又はメガソニック発射装置が設けら れているのが有利である。 本発明の有利な実施形態では、流体コンテナに被せ可能なフードが使用され、 該フードは、特にマランゴニの原理に従って動作する乾燥プロセスのための流体 を流入させる少なくとも１つの流体入口オリフィスを有している。この実施形態 に就いての重複説明を避けるために、特にドイツ連邦共和国特許出願公開第４４ １３０７７号明細書並びに、同一出願人によるドイツ連邦共和国特許出願第１９ ５００２３９号、第１９６１５１０８号及び第１９６１５９７０号（１９９６年 ４月２２日付け出願）の各未公開明細書を参照されたい。 更に流体コンテナ内で流体を加熱及び／又は冷却するための加熱装置及び／又 は冷却装置を使用し、該装置によって流体温度を、選択可能な最適値に調整でき るようにするのが有利である。また紫外線光源の使用も有利であり、該紫外線光 源は、流体コンテナの底部及び／又は側壁に配置されている。 本発明の有利な構成によれば、基板の上縁域に載設可能な例えば基板保持条片 として形成された基板押さえが設けられている。これに就いての重複説明を避け るために、同一出願人による前掲のドイツ連邦共和国特許出願第１９６１５９７ ０号の未公開明細書（１９９６年４月２２日付け出願）を参照されたい。 更にまた、流体コンテナ内にメガソニック変換器の形で組込まれたメガソニッ ク発射装置が設けられているのが有利である。このための有利な装着場所は、流 体コンテナの、底部と側壁とによって形成された角隅であり、しかも該メガソニ ック発射装置の発射方向は水平線に対して４５°であるのが有利である。 本発明の装置を用いれば流体コンテナに著しく迅速に充填することができ、か つ流体コンテナ内への流体の流入時に強いノズル作用が生じるので、特に流体コ ンテナをカバーする装置を設けるのが有利である。該カバー装置は、殊に乾燥プ ロセスのために使用される既存のフード内へ飛沫の形で流体が到達するのを防止 する。 本発明の装置は、流体又は流体混合物を捕集して調製する流体調整装置と接続 されているのが有利であり、こうして流体又は流体混合物は再使用可能であり、 有利に流体コンテナへ戻される。 更にまた、排気中に含有されたアルカリ性及び酸性蒸気を分離するための分離 装置を設けておくのが有利である。 特に処理プロセス及び洗浄プロセスのためには、流体コンテナ内で基板を回動 できるようにするのが有利である。このために本発明では流体コンテナ内で基板 を回動する装置が設けられている。 流体混合物を使用する場合には、流体コンテナ内へ 流入させる前に流体を予混合するのが有利である。 次に図面に基づいて本発明の実施例を詳説する。 第１図は本発明の装置の１実施例の横断面図である。 第２図は第１図に示した装置の流体コンテナ内を上から見た平面図である。 第３図は第１図に示した図示横断面に対して９０°回動された１横断面に沿っ て示した横断面図である。 図面から判るように本発明の装置の流体コンテナ１は底部２と複数の側壁３を 有している。第１図において相互に対向し合った側壁３には複数のガイドスリッ ト４が穿設されており、かつ基板受容装置６上に直立している基板ディスク又は ウェハ５が前記ガイドスリット４内を案内されている。前記基板受容装置６は、 図示を省いた駆動装置によって鉛直方向に昇降運動可能であり、かつ基板ディス ク又はウェハ５を流体コンテナ１内へ降下させ、かつ該流体コンテナから搬出す る。基板受容装置６は、図示の実施例では複数のスリット又はノッチを有するナ イフ状ウェブから成っており、前記複数のスリット又はノッチ相互は、対向し合 った側壁３内に穿設した前記複数のガイドスリット４の相互間隔に相応した間隔 を有している。 第１図から良く判るように底部２は中心線の両側で内向きに傾斜されているの で、流体コンテナ１を空にする際に流体は中心で下向きに流出する。 底部２は、第２図から良く判るようにマトリックス状に配置された多数のノズ ル７を有している。これらのノズルは、第１図に示したように異なったノズル出 口角度もしくは出射角度８，９を有している。異なった出射角度に基づいて、又 は異なった出射形態に基づいて、流体コンテナの全断面形状にわたって充分均等 な層流が得られ、かつ基板ディスク５は全幅にわたって均等に、ノズル７から噴 出する流体によって負荷される。 第１図から判るように、底部２の下には複数の中空室１２，１３，１４，１５ が形成されており、該中空室は下方に向かって閉鎖板１６によって密閉されてい る。前記中空室１２〜１５を介して流体は、各中空室に連通しているノズル７に 供給される。 ノズル７間で底部２内には多数の自由洗浄オリフィス１８が設けられており、 該自由洗浄オリフィスは、第２図に示したように矢張りマトリックス状に流体コ ンテナ１の底部２に配分されている。自由洗浄オリフィス１８は、ノズル７間の 底部２の領域を自由洗浄し、かつ矢張り流体供給のために、底部２の下の対応し た中空室１２〜１５と連通している。 第１図に示したように、底部２の中心には、流体コンテナ１内に存在している 流体を迅速に放出するための吐出ポート１９が設けられている。流体の迅速な放 出を行なうのは、例えば停電が生じた場合、及び／又 は流体コンテナ内に位置している基板ディスク５を流体雰囲気から、例えばエッ チング剤から迅速に解放する必要がある場合である。閉塞栓２０を抜くと流体は 、流体コンテナ１の下位に配置された捕集タンク（図示せず）内へ短時間で排出 される。 基板受容装置６は閉鎖栓２０の上位域において部分的に底部２の内部に位置し 、かつ該基板受容装置の極く僅かな部分が、ノズルオリフィスを超えて上向きに 突出しているにすぎない。これによって流体コンテナ１の内部では、基板受容装 置６を配置するための付加的な空間がごく僅かに必要とされるにすぎないので、 流体コンテナ１内の流体容積を小さく維持することができる。 各側壁３の上側には、オーバーフロー開口２１が設けられており、該オーバー フロー開口を介して、下から流入する流体は流出する。 以上のように１つの有利な実施例に基づいて本発明を説明したが、当業者なら ば、本発明の思想を逸脱しない範囲内で、幾多の変化実施形態を構成することが 可能である。例えば流体コンテナ１の上にフードを装着することが可能であり、 或いは流体コンテナを掃除するため、又は個々の工程間及び処理プロセス間に基 板ディスク５に洗浄処理を施すためのスプレーノズルを、流体コンテナ１の側壁 ３の、例えば上部域に設けておくことが可能である。すでに前述したことではあ るが、またメガソニック変換器、紫外線光源又は流体コンテナ１内でウェハ５を 回動する装置を使用することも可能である。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９８年７月１５日 【補正内容】 請求の範囲 １．コンテナ側壁（３）の上側に複数のオーバーフロー開口（２１）を有しか つ流体を導入するためにコンテナ底部（２）内に複数のノズル（７）から成るノ ズル系を備えた流体コンテナ（１）内で基板（５）を処理する装置において、コ ンテナ底部（２）内のノズル（７）間に、該ノズル（７）間の領域を自由洗浄す るために複数の自由洗浄オリフィス（１８）が設けられていることを特徴とする 、流体コンテナ内で基板を処理する装置。 ２．自由洗浄オリフィス（１８）がマトリックス状に配分して流体コンテナ（ １）のコンテナ底部（２）に配置されている、請求項１記載の装置。 ３．自由洗浄オリフィス（１８）が、その下位に位置している流体供給室（１ ２，１３，１４，１５）と連通している、請求項１又は２記載の装置。 ４．複数のノズル（７）及び／又は複数のノズル群が異種の流体を導入するた めに設けられている、請求項１から３までのいずれか１項記載の装置。 ５．異種の流体のために設けられているノズル（７）及び／又はノズル群に通 じる供給導管が、夫々互いに分離して配設されている、請求項４記載の装置。 ６．個々のノズル（７）及び／又は個々のノズル群が、互いに分離した別個の 流体供給装置を有している 、請求項４又は５記載の装置。 ７．流体供給室が、個々のノズル（７）及び／又は個々のノズル群のための流 体部分室（１２，１３，１４，１５）に分割されている、請求項１から６までの いずれか１項記載の装置。 ８．流体供給室（１２，１３，１４，１５）が、二重底（２，１６）間の中間 スペースによって形成されている、請求項８又は９記載の装置。 ９．複数のノズル（７）を有する流体コンテナ（１）と、該流体コンテナ内で 基板（５）を保持するための保持域を有する基板受容装置（６）と、前記流体コ ンテナ（１）の少なくとも１つの側壁（３）の内面にか又は内面に沿って前記基 板（５）のためのガイド（４）を備えた形式の、流体コンテナ（１）内で基板（ ５）を処理する装置において、流体コンテナ（１）の側壁（３）の内面が、ガイ ドのない内面領域を有し、かつこのガイドのない内面領域が、複数の入口ポート 、スプレーノズル、ディフューザ、紫外線光源及び／又はメガソニック発射装置 を有していることを特徴とする、流体コンテナ内で基板を処理する装置。 １０．ガイド（４）が、スリット、ウェブ、ピン及び／又は凸部によって形成 されている、請求項９記載の装置。 １１．側壁（３）のガイドのない内面領域が、ガイドを有する内面領域に対向 して配置されている、請求 項９又は１０記載の装置。 １２．少なくとも若干のノズル（７）が、異なった出射角度（８，９）を有し ている、請求項９から１１までのいずれか１項記載の装置。 １３．少なくとも１つのノズル（７）が、扇形の出射形態を有している、請求 項９から１２までのいずれか１項記載の装置。 １４．少なくとも１つのノズル（７）が、円錐形の出射形態を有している、請 求項９から１２までのいずれか１項記載の装置。 １５．ノズル（７）が流体コンテナ（１）の底部（２）上に配置されている、 請求項９から１４までのいずれか１項記載の装置。 １６．ノズル（７）がマトリックス状に配分して流体コンテナの底部（２）上 に配置されている、請求項９から１５までのいずれか１項記載の装置。 １７．複数のノズル（７）が複数のノズル群に纏められている、請求項９から １６までのいずれか１項記載の装置。 １８．複数のノズル群が、流体コンテナ（１）の種々異なった底部域に配置さ れている、請求項９から１７までのいずれか１項記載の装置。 １９．１つのノズル群が底部（２）の中央域に配設され、かつ夫々１つのノズ ル群が前記底部（２）の両外側域に配設されている、請求項１８記載の装置。 ２０．流体コンテナ（１）の底部（２）が傾斜されている、請求項９から１９ までのいずれか１項記載の装置。 ２１．底部（２）が、流体コンテナ（１）の中心へ向かって下り勾配を成して いる、請求項２０記載の装置。 ２２．流体コンテナ（１）から流体を迅速に放出させるための吐出ポート（１ ９）が設けられている、請求項９から２１までのいずれか１項記載の装置。 ２３．流体を迅速に放出させるために流体コンテナ（１）の下位に捕集タンク が設けられている、請求項２２記載の装置。 ２４．流体コンテナ（１）の側壁（３）に複数のノズル（７）が配設されてい る、請求項９から２３までのいずれか１項記載の装置。 ２５．流体コンテナ（１）内へ付加的な流体が導入可能である、請求項９から ２４までのいずれか１項記載の装置。 ２６．付加的な流体が化学薬剤、ガス、オゾン及び／又は水である、請求項２ ５記載の装置。 ２７．付加的な流体を導入するために少なくとも１つのディフューザが設けら れている、請求項２５又は２６記載の装置。 ２８．複数のスプレーノズルが、流体コンテナ（１）の上部域の側壁（３）に 配設されている、請求項９ から２７までのいずれか１項記載の装置。 ２９．スプレーノズルが、化学薬剤を噴入するために設けられている、請求項 ２８記載の装置。 ３０．流体コンテナ（１）をカバーするための装置が設けられている、請求項 ９から２９までのいずれか１項記載の装置。 ３１．上縁域で基板（５）の上に載る少なくとも１本の基板保持条片が設けら れている、請求項９から３０までのいずれか１項記載の装置。 ３２．流体コンテナ（１）に被せ可能なフードが設けられている、請求項９か ら３１までのいずれか１項記載の装置。 ３３．フードが少なくとも１つの流体用入口ポートを有している、請求項３２ 記載の装置。 ３４．流体コンテナ（１）内の流体を加熱及び／又は冷却するための加熱装置 及び／又は冷却装置が設けられている、請求項９から３３までのいずれか１項記 載の装置。 ３５．流体調製装置が設けられている、請求項９から３４までのいずれか１項 記載の装置。 ３６．排気中に含有されているアルカリ性蒸気及び酸性蒸気を分離するための 分離装置が設けられている、請求項９から３５までのいずれか１項記載の装置。 ３７．紫外線光源が、流体コンテナ（１）の底部（２）及び／又は側壁（３） に配置されている、請求項 ９から３６までのいずれか１項記載の装置。 ３８．少なくとも１つのメガソニック発射装置が配設されている、請求項９か ら３７までのいずれか１項記載の装置。 ３９．メガソニック発射装置が、底部（２）と側壁（３）とによって形成され る流体コンテナ（１）の角隅部に配置されている、請求項３８記載の装置。 ４０．流体コンテナ（１）内で基板（５）を回動する装置が設けられている、 請求項９から３９までのいずれか１項記載の装置。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ // Ｂ０８Ｂ 3/02 Ｂ０８Ｂ 3/02 Ａ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．流体を導入するために複数のノズル（７）から成るノズル系が設けられて いることを特徴とする、流体コンテナ（１）内で基板（５）を処理する装置。 ２．少なくとも若干のノズル（７）が異なった出射角度（８，９）を有してい る（第１図）、請求項１記載の装置。 ３．少なくとも１つのノズル（７）が扇形の出射形態を有している、請求項１ 又は２記載の装置。 ４．少なくとも１つのノズル（７）が円錐形の出射形態を有している、請求項 １から３までのいずれか１項記載の装置。 ５．ノズル（７）が流体コンテナ（１）の底部（２）上に配置されている（第 １図）、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。 ６．ノズル（７）が、マトリックス状に配分して流体コンテナ（１）の底部（ ２）上に配置されている（第１図）、請求項１から５までのいずれか１項記載の 装置。 ７．ノズル（７）が複数のノズル群に纏められている、請求項１から６までの いずれか１項記載の装置。 ８．複数のノズル群が、流体コンテナ（１）の種々異なった底部域に配置され ている、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。 ９．１つのノズル群が底部（２）の中央域に設けられており、かつそれぞれ１ つのノズル群が、前記底部（２）の両外側域に設けられている（第２図）、請求 項１から８までのいずれか１項記載の装置。 １０．個々のノズル（７）及び／又は個々のノズル群が、相互に分離した流体 供給装置を有している、請求項１から９までのいずれか１項記載の装置。 １１．流体コンテナ（１）の底部（２）の下に流体供給室（１２，１３，１４ ，１５）が設けられており、該流体供給室にノズル（７）が連通している（第１ 図）、請求項１から１０までのいずれか１項記載の装置。 １２．流体供給室が、個々のノズル（７）のため及び／又は個々のノズル群の ために複数の流体部分室（１２，１３，１４，１５）に分割されている（第１図 ）、請求項１１記載の装置。 １３．流体供給室（１２，１３，１４，１５）が、二重底（２，１６）間の中 間スペースによって形成されている（第１図）、請求項１１又は１２記載の装置 。 １４．ノズル（７）を自由洗浄するために複数の自由洗浄オリフィス（１８） が設けられている（第１図）、請求項１から１３までのいずれか１項記載の装置 。 １５．自由洗浄オリフィス（１８）がマトリックス 状に配分して流体コンテナ（１）の底部（２）上に配置されている（第１図）、 請求項１４記載の装置。 １６．自由洗浄オリフィス（１８）がノズル（７）間に配置されている（第１ 図）、請求項１４又は１５記載の装置。 １７．自由洗浄オリフィス（１８）が、その下に位置している流体供給室（１ ２，１３，１４，１５）と連通している（第１図）、請求項１４から１６までの いずれか１項記載の装置。 １８．流体コンテナ（１）の底部（２）が傾斜している（第１図）、請求項１ から１７までのいずれか１項記載の装置。 １９．底部（２）が、流体コンテナ（１）の中心へ向かって下り勾配を成して いる（第１図）、請求項１８記載の装置。 ２０．流体コンテナ（１）から流体を迅速に放出するための吐出ポート（１９ ）が設けられている（第１図）、請求項１から１９までのいずれか１項記載の装 置。 ２１．流体コンテナ（１）の下位に、流体を迅速に放出するための捕集タンク が設けられている、請求項２０記載の装置。 ２２．複数のノズル（７）が流体コンテナ（１）の側壁（３）に設けられてい る、請求項１から２１までのいずれか１項記載の装置。 ２３．ノズル（７）及び／又はノズル群が、種々異なった流体のために設けら れている、請求項１から２２までのいずれか１項記載の装置。 ２４．異なった流体のために設けられたノズル（７）及び／又はノズル群に通 じる供給導管が夫々相互に分離して設けられている、請求項１３記載の装置。 ２５．付加的な流体が、流体コンテナ（１）内へ導入される、請求項１から２ ４までのいずれか１項記載の装置。 ２６．付加的な流体が化学薬剤、ガス、オゾン及び／又は水である、請求項２ ５記載の装置。 ２７．付加的な流体が少なくとも１つのディフューザを介して導入される、請 求項２５又は２６記載の装置。 ２８．複数のスプレーノズルが、流体コンテナ（１）の上部域の側壁に配置さ れている、請求項１から２７までのいずれか１項記載の装置。 ２９．スプレーノズルが、個々の処理プロセス間で化学薬剤を噴入するために 設けられている、請求項２８記載の装置。 ３０．基板受容装置（６）を有する流体コンテナ（１）内で基板（３）を処理 する装置において、基板受容装置（６）が、基板（５）を保持するための３つの 保持域を有していることを特徴とする、流体コンテナ内で基板を処理する装置。 ３１．基板受容装置（６）が昇降可能である、請求項３０記載の装置。 ３２．少なくとも１つの保持域がナイフ状ウェブであり、該ナイフ状ウェブが 、基板周縁域を受容するために前記ナイフ状ウェブの長手方向に対して直角な横 方向の複数のスリットを有している、請求項３０又は３１記載の装置。 ３３．少なくとも１つの保持域が、少なくとも１つの別の保持域に対して相対 的に垂直方向に可動である、請求項３０から３２までのいずれか１項記載の装置 。 ３４．１つの基板受容装置（６）を有する流体コンテナ（１）内で基板（３） を処理する装置において、基板受容装置（６）が１つの保持域を有し、かつ流体 コンテナ（１）の少なくとも１つの側壁（３）の内面に基板（５）用のガイド（ ４）が設けられていること（第１図）を特徴とする、流体コンテナ内で基板を処 理する装置。 ３５．ガイドがスリット、ウェブ、ピン及び／又は凸部によって形成されてい る、請求項３４記載の装置。 ３６．流体コンテナ（１）の側壁の内面が、ガイドのない領域を有している、 請求項３４又は３５記載の装置。 ３７．ガイドのない内面領域が、ガイドを有する内 面領域に対してずらして配置されている、請求項３４から３６までのいずれか１ 項記載の装置。 ３８．ガイドのない内面領域が、入口オリフィス、スプレーノズル、ディフュ ーザ、紫外線光源及び／又はメガソニック発射装置を有している、請求項３４か ら３７までのいずれか１項記載の装置。 ３９．流体コンテナ（１）をカバーする装置が設けられている、請求項３４か ら３８までのいずれか１項記載の装置。 ４０．基板（５）の上縁域に載設される少なくとも１つの基板保持条片が設け られている、請求項３４から３９までのいずれか１項記載の装置。 ４１．流体コンテナ（１）上に被せ可能なフードが設けられている、請求項３ ４から４０までのいずれか１項記載の装置。 ４２．フードが少なくとも１つの流体入口オリフィスを有している、請求項４ １記載の装置。 ４３．フードを介して流入される流体が、マランゴニの原理に従って動作する 乾燥プロセスのために設けられている、請求項４１又は４２記載の装置。 ４４．流体コンテナ（１）内で流体を加熱及び／又は冷却するための加熱装置 及び／又は冷却装置が設けられている、請求項３４から４３までのいずれか１項 記載の装置。 ４５．流体調製装置が設けられている、請求項３４ から４４までのいずれか１項記載の装置。 ４６．排気中に含有されたアルカリ性及び酸性蒸気を分離するための分離装置 が設けられている、請求項３４から４５までのいずれか１項記載の装置。 ４７．紫外線源が、流体コンテナ（１）の底部（２）及び／又は側壁（３）に 配置されている、請求項３４から４６までのいずれか１項記載の装置。 ４８．少なくとも１つのメガソニック発射装置が設けられている、請求項３４ から４７までのいずれか１項記載の装置。 ４９．メガソニック発射装置が、流体コンテナ（１）の、底部（２）と側壁（ ３）とによって形成された角隅に配置されている、請求項４８記載の装置。 ５０．流体コンテナ（１）内で基板（５）を回動する装置が設けられている、 請求項３４から４９までのいずれか１項記載の装置。