KR20000010575A - 유체 용기내의 기판처리 장치_ - Google Patents

유체 용기내의 기판처리 장치_ Download PDF

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Abstract

유체 용기(1)내의 기판을 처리하기 위한 장치에서, 높은 유속을 가진 유체의 빠른 유입에도 불구하고, 유체의 유입용 다수의 노즐(7)을 가진 노즐 시스템으로 특히 균일하고 층상 흐름거동을 전체 용기 영역에 거쳐서 일어나게 한다.

Description

유체 용기내의 기판처리 장치
이런 종류의 장치는 예를 들어 미국 특허 제 5,275,184 호로부터 또는 본 출원인 소유의 독일 특허출원 제 44 10 077 호로부터 알려져 있으며, 여기서 유체는 입구 개구, 즉 확산기를 통해서 유체 용기로 유입되어 상단부에 있는 배수로를 통해서 밖으로 흐른다. 유체 용기의 바닥에 있는 싱글 유입 개구를 사용하면, 단위시간당 유입 유체의 량 뿐만 아니라 유입 유체의 속도는 제한된다. 특히, 유체를 가진 유체 용기내에서 처리될 기판 또는 웨이퍼의 표면 또는 전체 기판 폭으로 균일하게 주변으로 순환하거나 공급할 수 있는, 유체 용기내에 균일한 흐름 상태를 얻을 수 없다. 확산기를 사용하면, 유체면을 보다 균일하게 가로질러 유체 용기내에 유입 유체를 분배하는 것이 가능하지만, 단위시간당 유입 유체의 량과 특히 유체의 유입 속도는 확산기가 사용되면 상당히 제한된다.
그러므로, 본 발명의 목적은 유체 용기내에 최적의 유체 상태를 허용하고 또한 큰 생산량, 즉 높은 유속을 허용하는 유체 용기내의 기판을 처리하기 위한 장치를 제공하는 것이다.
본 발명은 유체 용기내의 기판 처리를 위한 장치에 관한 것이다.
도 1은 본 발명의 한 실시예의 단면도.
도 2는 상부에서 유체 용기로 본 제 1 도의 평면도.
도 3은 도 1의 단면에 대해서 90도 회전한 단면도.
상기 목적은 유체를 유입하기 위한 다수의 노즐을 가진 노즐 시스템에 의해 해결된다. 유체 용기내에 바람직한 유체 상태를 얻어서 처리될 전체 기판 표면으로 유체를 균일하게 주변으로 순환시켜 처리하기 위해서, 다수의 노즐을 제공함으로서 바람직한 흐름 상태로 유체를 유입할 수 있다. 유체를 도입하기 위한 노즐을 사용함으로서, 유체 용기내에 단위시간당 높은 유입속도와 높은 생산 속도로 유체를 유입해서 흘려보낼 수 있고, 층상 흐름을 유지함으로서 최대로 높은 유속을 얻을 수 있다.
본 발명의 다른 양호한 실시예에 따라서, 적어도 약간의 노즐은 여러 스프레이 각도를 가진다. 노즐의 스프레이의 형상은 원추형상이거나 팬형상(fan-shaped)일 수 있으므로, 노즐의 개별 케이스와 위치의 요구조건에 따라서 유체의 유입을 유체 용기내의 균일, 층상 흐름에 대해서 최적화할 수 있어 유체로 기판의 균일한 처리를 할 수 있다.
노즐은 유체 용기의 바닥에 적합하게 배열되어 있고, 특히 양호한 실시예에 따라서, 용기의 바닥에 있는 매트릭스내에 분포되어 있다. 이 방법으로, 유체 용기의 전체면에 걸쳐서 균일한 분포의 유체 공급이 가능하고 특히, 에지 영역내의 최적의 흐름 상태를 제공할 수 있다.
노즐은 양호하게 용기의 여러 바닥 영역에 적합하게 배열되어 있는 노즐 그룹내에 조합될 수 있다. 양호하게, 한 노즐 그룹은 바닥의 중심 영역에 배열되어 있고, 추가로 각 그룹은 외부에 배열되어 있으므로 서, 개별 영역내의 노즐의 수와 밀도는 다르게 선택될 수 있다. 양호하게, 개별 노즐 및/또는 노즐 그룹에는 개별 유체 공급 시스템을 제공할 수 있으므로 노즐로 여러 유압을 공급할 수 있다.
본 발명의 다른 양호한 실시예에 따라서, 유체 용기의 바닥아래에 있는 유체 공급 챔버는 노즐과 연통해서 제공되어 있다. 본 발명의 추가의 실시예에 따른 유체 공급 챔버는 적합하게 개별 노즐 및/또는 노즐 그룹에 대해 유체 칸막이로 나누어진다.
용기의 바닥아래의 유체 공급 챔버는 양호하게 2중 바닥사이의 중간 공간의 형태이다.
본 발명의 또 다른 양호한 실시예에 따라서, 노즐외에, 노즐을 플러시(flush)하기 위한 플러싱 개구가 양호하게 매트릭스내에 배열되고 노즐사이에 위치설정되어 있다. 이 방법으로, 또한 노즐과 사각(dead angles)사이의 중간 공간을 내뿜을 수 있다. 플러싱 개구는 양호하게 또한 노즐과 동일한 방법으로 아래에 위치설정된 유체 공급 챔버와 연통한다.
본 발명의 또 다른 양호한 실시예에 따라서, 유체 용기의 바닥은 적합하게 경사져 있으며, 상기 바닥은 중심, 즉 중심선 또는 유체 용기의 중심점을 향해 아래로 경사져 있다. 이 방법으로, 유체를 방출할 때, 유체 용기는 아랫방향으로 빨리 완전하게 비워질 수 있다.
유체를 빨리 제거하기 위해서, 폐쇄가능한 개구가 중심, 즉 중심선에서 유체 용기내에 제공되어 있다. 상기 유체 출구 개구는 큰 직경을 가진다. 정전 또는 다른 결함의 경우와, 종래 방법 단계와 연결하는 경우에, 이 방법으로 유체 용기내의 기판을 처리 매개물, 예를 들어 에칭 물질로부터 신속하게 자유롭게 할 수 있다. 신속하게 제거된 유체를 수용하기 위해서, 유체 용기아래의 캐치용기(catch basin)를 제공하는 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 추가의 실시예는 용기 바닥에 있는 노즐외에 또는 대신에 유체 용기의 측벽에 제공된 노즐로 구성되어 있으며, 그러므로 유체를 측면으로 또는 유체 용기의 측면으로의 유체 바닥의 전이 영역내에 유입할 수 있어, 흐름 상태를 개선하거나 생산량을 증가한다.
본 발명의 또 다른 양호한 실시예에 따라서, 노즐 및/또는 노즐 그룹에 여러 유체가 제공되어 있다. 여러 유체용 개별 노즐 및/또는 노즐 그룹은 또한 공급관과 펌프에 대해서 개별적이므로, 여러 유체, 예를 들어 여러 화학품이 여러 화학품과 상호관련 있는 노즐 및/또는 노즐 그룹을 통해서 유입된다. 이 방법으로, 유체 교환은 각 유체가 각 관련 노즐에만 공급되기 때문에 서로 혼합될 위험 없이 빨리 이루어질 수 있다.
본 발명의 또 다른 양호한 실시예에 따라서, 노즐을 통해 유입된 유체 외에, 추가의 유체, 예를 들어, 추가의 화학품, 가스, 오존, 물 등을 유체 용기에 유입할 수 있다. 특히, 화학품, 가스, 오존 및/또는 물의 추가의 유입에 대해서, 적어도 하나의 확산기가 유체 용기내에 제공되어 있다.
본 발명의 실시예는 스프레이 노즐이 유체 용기의 상부 영역에, 적합하게 측벽에 배열되는 경우에 아주 적합하며, 유체 용기를 청소하고/ 또는 동일한 유체 용기내에서 수행된 여러 방법 단계사이, 예를 들어 에칭공정, 청소공정 및 건조공정사이의 기판을 젖히거나, 습기를 유지하는 작용을 한다. 이 목적을 위해서, 에어러졸, 물 및 다른 화학 기체 등이 적합하게 스프레이되지만, 유체는 또한 아래로부터 유체 용기로 유입될 수 있다.
본 발명의 목적은 추가로 상술한 특징과 연결해서 뿐만 아니라 이로부터의 독립적으로 해결되어지며, 여기서 유체 용기는 기판을 고정하기 위한 3개의 고정영역을 포함하는 기판 수용장치를 가진다. 3개의 다른 위치에서 기판을 고정함으로서, 기판의 정해진 위치는 유체 용기내의 가이드를 요하지 않고 보장된다. 기판 수용장치는 양호하게 상승 및 하강가능하다. 양호하게, 적어도 하나의 고정영역은 기판의 에지부분을 수용하기 위한 스테이(stay)의 길이방향에 대해서 수직인 슬롯이 제공된 칼형상 스테이이다. 적합하게, 적어도 하나의 고정영역은 적어도 다른 하나의 고정영역에 대해서 수직으로 이동가능하다. 이들 특징에 대해서 반복을 피하기 위해서, 본 출원인 소유의 독일 특허 출원 제 196 15 108 호와 제 195 46 990 호를 참조해주기 바라며, 이들의 주내용은 본 출원의 일부분을 형성한다.
본 발명의 또 다른 양호한 실시예에 따라서, 기판 수용장치는 단지 하나의 고정영역, 예를 들어 칼형상 스테이의 형태를 가지므로서, 유체 용기의 적어도 하나의 측벽내에, 즉 내부면에 기판용 가이드가 제공되어 있다. 이 실시예는 기판 수용장치를 위한 유체 용기내에 필요한 공간이 전혀 필요 없거나 최소한의 공간만을 필요로 하므로, 용기 체적과 그러므로 화학품 체적은 작고, 화학품의 사용에 상당히 의존하는 처리 비용은 낮게 된다. 가이드는 적합하게 슬롯에 의해 형성되지만, 더욱 양호하게, 스테이, 핀 및/또는 노브에 의해 형성된다. 후자들은 슬롯에 비해서 더 쉽고 더 빠르게 청소할 수 있고 필요시 건조할 수 있기 때문에 양호하다. 유체 용기내의 유체 변경시 또는 교환시, 슬롯은 많은 유체를 함유할 것이고 그러므로 계속해서 유입된 유체를 오염시킬 수 있다.
본 발명의 또 다른 양호한 실시예에 따라서, 유체 용기의 측벽의 내부면에는 가이드 없는 영역이 제공되어 있다. 유체 용기내에 기판의 고정가이드와 유지의 방해 없이, 가이드 없는 내부면의 영역은 가이드 있는 내부면의 영역에 대해서 엇갈려 있다. 예를 들어, 내부면의 한 영역상에, 가이드가 제공되면, 한 측면상의 가이드가 기판을 고정하는데 충분하면 대향해서 배치된 내부면상의 가이드는 필요치 않는다. 가이드 없는 내부면의 영역에서는, 입구 개구, 스프레이 노즐, 확산기, UV광원 및/또는 메가사운드 발생 장치가 양호하게 제공되어 있다.
본 발명의 추가의 양호한 실시예는 유체 용기위에 위치될 수 있는 후드를 포함한다. 후드에는 적합하게 특히 마랑고니원리에 따른 건조 방법을 위해 유체를 유입하기 위한 적어도 하나의 유체 입구 개구가 제공되어 있다. 이들 실시예의 반복을 피하기 위해서, 본 출원인 소유의 독일 특허출원 제 44 13 077 호 뿐만 아니라 비공개된 출원 제 195 00 239 호, 제 196 15 108 호 및 1996년 4월 22일자 출원된 제 196 15 970.9호를 참조해주기 바라며, 이들의 주내용은 본 출원의 일부분을 형성한다.
유체 용기내의 유체를 가열 및/또는 냉각하기 위한 가열 및/또는 냉각 장치를 사용하는 것은 유체 온도를 선택된 최적값으로 조정할 수 있을 경우에 양호하다. UV광원의 사용도 양호하다. 이들은 유체 용기의 바닥 및/또는 측벽에 배열될 수 있다.
본 발명의 또 다른 양호한 실시예는 기판 억제 장치, 예를 들어 기판의 상부에지상에 위치될 수 있는 고정 스테이의 형태를 포함한다. 반복설명을 피하기 위해서, 1996년 4월 22일자 출원된 제 196 15 970.9호를 참조해주기 바라며, 이들의 주내용은 본 출원의 일부분을 형성한다.
양호하게 메가사운드 변환기의 형태인 메가사운드 발생장치는 유체 용기와 일체로 되어 있다. 이 장치의 양호한 위치는 유체 용기의 바닥과 측벽에 의해 형성된 코너에 있으므로 서 방출방향은 적합하게 수평에 대해서 45도이다.
본 발명의 유체를 용기로 유입할 때 유체 용기가 빨리 채워질 수 있고 강한 노즐 효과를 가져오기 때문에, 특히 건조공정에 사용하기 적합한 후드상에 유체가 튀기지 못하게 유체 용기용 커버를 제공하는 것이 바람직하다.
본 발명은 적합하게 유체 또는 유체 혼합물이 수집되어 처리되는 유체 처리 장치에 연결되므로 유체들은 재사용가능하고 적합하게 유체 용기로 복귀된다.
양호하게, 개별 장치를 제공하여 배기가스로부터 알칼리 및 산성 기체를 제거할 수 있다.
처리 및 플러싱 단계에서 유체 용기내의 기판을 회전할 수 있는 것이 양호하다. 이 목적으로, 유체 용기내의 기판을 회전할 수 있는 장치를 제공하는 것이 바람직하다.
유체 혼합물 사용시 유체 용기로 이들을 유입하기 전에 유체를 미리 혼합하는 것이 바람직하다.
본 발명은 첨부도면을 참고로 아래에 설명되어질 것이다.
도면에서 알 수 있듯이, 본 발명의 유체 용기(1)는 바닥(2)과 측벽(3)을 포함한다. 양 측면(3)상에는 슬롯(4)이 제공되어 있어 기판 디스크(5)를 안내한다. 기판 디스크(5)는 기판 수용장치(6)상에 지탱되어 있고 도시하지 않은 구동력에 의해 수직방향으로 이동될 수 있고 유체 용기로부터 웨이퍼(5)를 하강 및 상승할 수 있다. 기판 수용장치(6)는 도시한 실시예에서 대향 배열된 측벽(3)내의 가이드 슬롯(4)사이의 거리와 일치하도록 이격된 슬롯 또는 노치를 가진 칼형상 스테이로 구성되어 있다.
도 1에 잘 도시되어 있는 바와 같이, 바닥(2)은 중심선을 중심으로 어느 측면으로부터도 내향으로 경사져 있으므로 유체 용기(1)를 비울 때 유체는 중심에서 하향으로 흐른다.
바닥(2)은 도 3에 잘 도시되어 있는 바와 같이, 매트릭스내에 배열되어 있는 다수의 노즐(7)을 포함한다. 노즐은 도 1에 도시한 바와 같이 여러 노즐 출구각도, 즉 스프레이 각도(8)를 가진다. 여러 스프레이 각도, 즉 여러 스프레이 형상에 의해, 우수한 균일한 층상 흐름은 전체 유체 용기 프로필에 거쳐서 일어나고 그러므로 기판(5)은 노즐(7)로부터 나온 유체에 의해 전체 폭에 대해 균일하게 장착된다.
도 1에 도시한 바와 같이, 바닥(2)아래에 중공 공간(12, 13, 14, 15)이 제공되고 폐쇄판(16)에 의해 하향으로 폐쇄된다. 유체는 각 중공 공간(12 내지 15)을 통해서 각 중공 공간에 연결된 노즐(7)에 안내된다.
노즐(7)사이에 있는 유출 개구(18)가 도 2에 도시한 바와 같이 바닥(2)내에 제공되어 있고 또한 유체 용기(1)의 바닥(2)에서 매트릭스내에 배열되어 있다. 유출 개구(18)는 노즐(7)사이의 바닥(2)의 영역과 동일한 높이이고 또한 유체를 공급하기 위해서 바닥(2)아래의 유체 공급 챔버(12 내지 15)와 연통한다.
도 1에 도시한 바와 같이, 바닥(2)의 중심에는 예를 들어, 정전이 일어나거나 또는 유체 용기내의 기판(5)이 유체 환경, 예를 들어 에칭 매개체로 급속히 개방되어야 할 때, 유체 용기(1)로부터 유체의 빠른 제거를 허용하기 위한 개구(19)가 제공되어 있다. 폐쇄체(20)의 개방시 유체는 유체 용기(1)의 아래에 위치설정된 도시하지 않은 캐치용기로 짧은 시간내에 비워진다.
기판 수용장치(6)는 바닥(2)내의 일부분에 있는 폐쇄체(20)위의 영역내에 위치설정되고 노즐 개구위로 상향방향으로 최소량으로만 연장한다. 그러므로, 유체 용기(1)내에 기판 수용장치용 추가의 공간은 최소량만 필요하므로 유체 용기(1)내의 유체 체적을 낮은 레벨로 유지할 수 있다.
측벽(3)의 상부영역에서 오버플루 개구(21)가 제공되어 있으며, 이것을 통해서 아래로부터 용기로 들어가는 유체를 밖으로 흘려보낼 수 있다.
본 발명은 양호한 실시예를 도움으로 설명되어 있다. 그러나 당업자라면 본 발명의 개념으로부터 벗어나지 않고 다른 변경 실시예를 실시할 수 있을 것이다. 예를 들면, 유체 용기(1)위에 후드를 제공하는 것이 가능하거나 또는 예를 들어 상부 영역에, 용기를 청소하거나 개별 방법단계와 처리 공정사이 기판(5)을 스프레이하기 위해 유체 용기(1)의 측벽에 노즐을 제공하는 것이 가능하다. 또한 메가사운드 변환기를 사용하면, 상술한 바와 같이, 유체 용기(1)내의 웨이퍼(5)를 회전하기 위한 장치 또는 UV광원이 가능하다.

Claims (50)

  1. 유체 용기(1)내의 기판(5)을 처리하기 위한 장치에 있어서,
    유체를 유입하기 위한 다수의 노즐(7)을 가진 노즐 시스템을 특징으로 하는 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 노즐(7)중 약간은 다른 스프레이 각도(8, 9)를 가지는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 노즐(7)중 하나 이상은 팬형상 스프레이를 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  4. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐(7)중 하나 이상은 원추형 스프레이를 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  5. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐(7)은 유체 용기(1)의 바닥(2)에 배열되어 있는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  6. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐(7)은 용기 바닥(2)에서 매트랙스내에 분포되어 있는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  7. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐(7)은 노즐 그룹으로 조합되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  8. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐 그룹은 유체 용기(1)의 여러 바닥영역에 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  9. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 한 노즐 그룹은 중심영역에 제공되어 있고 각 추가의 노즐 그룹은 바닥(2)의 두 외부 영역내에 제공되어 있는 것(도 2)을 특징으로 하는 장치.
  10. 전항중 어느 한 항에 있어서, 개별 노즐(7) 및/또는 개별 노즐 그룹은 개별 유체 공급 장치를 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  11. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)의 바닥(2)아래에, 유체 공급 챔버(12, 13, 14, 15)가 제공되어 노즐(7)과 연통하는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  12. 제 11 항에 있어서, 상기 유체 공급 챔버(12, 13, 14, 15)는 개별 노즐(7) 및/또는 노즐 그룹용 유체 칸막이로 나누어져 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  13. 제 11 항 또는 제 12 항에 있어서, 상기 유체 공급 챔버(12, 13, 14, 15)는 2중 바닥(2, 16)사이의 중간 공간에 의해 형성되어 있는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  14. 전항중 어느 한 항에 있어서, 노즐(7)을 플러시하기 위한 플러싱 개구(18)가 제공되어 있는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  15. 제 14 항에 있어서, 상기 플러싱 개구(18)는 유체 용기(1)의 바닥(2)에 있는 매트릭스내에 분포되어 있는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  16. 제 14 항 또는 제 15 항에 있어서, 상기 플러싱 개구(18)는 노즐(7)사이에 배열되어 있는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  17. 제 14 항 내지 제 16 항에 있어서, 상기 플러싱 개구(18)는 아래에 배열된 유체 공급 챔버(12, 13, 14, 15)와 연통하는 것을 특징으로 하는 장치.
  18. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)의 바닥은 경사져 있는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  19. 제 18 항에 있어서, 상기 바닥(2)은 제각기 유체 용기(1)의 중심을 향해 경사져 있는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  20. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)로부터 유체의 신속한 제거를 위한 개구(19)(도 1)를 특징으로 하는 장치.
  21. 제 20 항에 있어서, 상기 유체 용기(1) 아래에 있는 유체의 신속한 제거를 위한 캐치용기를 특징으로 하는 장치.
  22. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐은 유체 용기(1)의 측벽(3)에 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  23. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 노즐(7) 및/또는 노즐 그룹에는 다른 유체가 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  24. 제 13 항에 있어서, 여러 유체용 여러 노즐(7) 및/또는 노즐 그룹에 대한 공급선은 개별적으로 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  25. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)로 추가의 유체가 유입되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  26. 제 25 항에 있어서, 상기 추가의 유체는 화학품, 가스, 오존 및/또는 물인 것을 특징으로 하는 장치.
  27. 제 25 항 또는 제 26 항에 있어서, 상기 추가의 유체는 하나 이상의 확산기로 유입되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  28. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)의 상부영역의 측벽에 배열되어 있는 스프레이 노즐을 특징으로 하는 장치.
  29. 제 28 항에 있어서, 개별 처리단계사이 화학품을 스프레이하기 위한 스프레이 노즐이 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  30. 기판 수용장치(6)를 포함하는 유체 용기(1)내의 기판(5)을 처리하기 위한 장치에 있어서,
    상기 기판 수용장치(6)는 기판(5)을 고정하기 위한 3개의 고정영역을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  31. 제 30 항에 있어서, 상기 기판 고정장치(6)는 상승 및 하강될 수 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  32. 제 30 항 또는 제 31 항에 있어서, 하나 이상의 고정영역은 기판 에지 영역을 수용하기 위한 슬롯이 제공된 칼형상 스테이이며, 상기 슬롯은 스테이의 길이방향에 수직인 방향으로 연장하는 것을 특징으로 하는 장치.
  33. 제 30 항 내지 제 32 항중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 고정영역은 수직방향으로 적어도 서로 고정영역에 대해서 이동가능한 것을 특징으로 하는 장치.
  34. 기판 수용장치(6)를 포함하는 유체 용기(1)내의 기판(5)을 처리하기 위한 장치에 있어서,
    상기 기판 수용장치(6)는 고정영역을 포함하며, 유체 용기(1)의 하나 이상의 측벽(3)의 내부면에 기판(5)용 가이드(4)가 제공되어 있는 것(도 1)을 특징으로 하는 장치.
  35. 제 34 항에 있어서, 상기 가이드는 슬롯, 스테이, 핀 및/또는 노브에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 장치.
  36. 제 34 항 또는 제 35 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)의 측벽(3)의 내부면은 가이드 없는 영역을 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  37. 제 34 항 내지 제 36 항중 어느 한 항에 있어서, 상기 가이드 없는 내부면의 영역은 가이드 있는 내부면의 영역에 엇갈려 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  38. 제 34 항 내지 제 37 항중 어느 한 항에 있어서, 가이드 없는 내부면의 영역은 입구 개구, 스프레이 노즐, 확산기, UV광원 및/또는 메가사운드 방출장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 장치.
  39. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)를 커버하기 위한 장치를 특징으로 하는 장치.
  40. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 기판(5)의 상부 에지 영역상에 지탱하는 하나 이상의 기판 유지 스테이를 특징으로 하는 장치.
  41. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)위에 위치되어 있는 후드를 특징으로 하는 장치.
  42. 제 41 항에 있어서, 상기 후드는 하나 이상의 유체 입구 개구를 가지는 것을 특징으로 하는 장치.
  43. 제 41 항 또는 제 42 항에 있어서, 상기 후드를 통해 유입된 유체는 마랑고니원리에 따라서 건조공정에 제공되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  44. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)내의 유체를 가열 및/또는 냉각하기 위한 가열 및/또는 냉각 장치를 특징으로 하는 장치.
  45. 전항중 어느 한 항에 있어서, 유체 처리 장치를 특징으로 하는 장치.
  46. 전항중 어느 한 항에 있어서, 배기공기내에 함유된 알칼리 및 산성 기체를 분리하기 위한 분리 장치를 특징으로 하는 장치.
  47. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)의 바닥(2) 및/또는 측벽(3)에 배열된 UV광원을 특징으로 하는 장치.
  48. 전항중 어느 한 항에 있어서, 하나 이상의 메가사운드 방출 장치를 특징으로 하는 장치.
  49. 제 48 항에 있어서, 상기 메가사운드 방출 장치는 바닥(2)과 측벽(3)에 의해 형성된 유체 용기(1)의 코너내에 배열되어 있는 것을 특징으로 하는 장치.
  50. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 유체 용기(1)내의 기판(5)을 회전하기 위한 장치를 특징으로 하는 장치.
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