KR20220162944A - 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체 - Google Patents

표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체 Download PDF

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Abstract

퍼지과정에서 역방향 유동을 유도하는 와류영역의 발생은 최대한으로 줄이고, 특히 코너에서의 와류영역을 없애서 퍼지 효율을 높이는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체를 제시한다. 그 구조체는 기판의 양측에 배치되고 퍼지가스에 의하여 기판 표면에 존재하는 이물질을 제거하기 위한 디퓨저 구조체에 있어서, 디퓨저 구조체는 복수개의 디퓨저로 이루어지고 기판의 상부에 위치하여, 역방향 유동은 감소시키고 정방향 유동을 증가시킨다.

Description

표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체{Diffuser structure for purging substrate of display}
본 발명은 퍼지를 위한 디퓨저 구조체에 관한 것으로, 보다 상세하게는 표시장치에 적용되는 유리기판과 같은 기판의 표면에 존재하는 이물질을 제거하기 위하여 퍼지하는 디퓨저 구조체에 관한 것이다.
표시장치는 유리기판과 같은 기판이 활용되며, 성막, 노광, 에칭 등의 공정을 거쳐 제조된다. 하지만, 상기 기판 표면에는 각종 유기물이나 무기물 등으로 이루어지고, 크기가 1㎛ 이하인 이물질(particle)이 부착되는 오염이 발생한다. 이러한 이물질이 부착된 채로 공정을 수행하면, 성막에 핀홀(pin hole)이나 피트(pit), 배선의 단선이나 브릿지(bridge) 등을 발생시킨다. 미국공개특허 제2014-0118343호는 진공챔버의 일측에 배치된 디퓨저(diffuser)로 퍼지하여 이물질을 제거하는 방법을 제공하고 있다.
도 1은 종래의 디퓨저에 의해 기판을 퍼지하는 과정을 시뮬레이션한 도면이다. 이때, 도 1은 미국공개특허 제2014-0118343호와 같이 일측에 디퓨저가 배치된 방식이 채용된 것이다. 도 1에 의하면, 퍼지가 이루어지는 기판(110)은 진공챔버와 같은 수용부(100)에 수용된다. 기판(110)은 모서리(110a)가 존재하며, 기판(110)의 일측에 배치된 디퓨저(120)로부터 방출되는 퍼지가스로 기판(110) 표면의 이물질을 제거하는 퍼지과정이 수행된다. 퍼지과정을 수행한 퍼지가스는 수용부(100)에 존재하는 배출구(101)로 배출된다. 퍼지과정이 제대로 수행되기 위해서, 상기 퍼지가스는 기판(110)의 내측으로부터 모서리(101a)로 유동하는 정방향 유동을 해야 한다.
그런데, 일측의 디퓨저에 의한 퍼지 방법은 코너(CN) 및 내부(IN)에 와류가 발생한다. 이러한 와류영역(a1, b1)에서, 퍼지가스는 기판(110)의 모서리(110a)로부터 내측으로 유동하는 역방향 유동이 일어난다. 일측의 디퓨저에 의한 역방향 유동을 해소하기 위하여, 도 2와 같이 기판(110)의 양측에 디퓨저(120, 130)를 배치할 수 있다. 양측에 디퓨저(120, 130)를 배치함에도, 코너(CN) 및 내부(IN)에 와류영역(a2, b2)이 발생한다. 코너(CN) 및 내부(IN)에서, 와류영역(a1~a2, b1~b2)의 차이가 있을 뿐, 와류영역(a1~a2, b1~b2)의 발생은 피할 수 없다. 와류영역(a1~a2, b1~b2)이 발생하면, 상기 이물질이 기판(110)으로부터 제거되는 효율이 저하되고, 특히 코너(CN)에서의 와류영역(a1~a2)은 상기 이물질이 제거되는 효율은 급격하게 떨어뜨린다. 즉, 퍼지과정에서 와류영역의 발생은 최대한으로 줄이고, 특히 코너(CN)에서의 와류영역을 없애서 퍼지 효율을 높일 필요가 있다.
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 퍼지과정에서 역방향 유동을 유도하는 와류영역의 발생은 최대한으로 줄이고, 특히 코너에서의 와류영역을 없애서 퍼지 효율을 높이는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체를 제공하는 데 있다.
본 발명의 과제를 해결하기 위한 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체는 기판 및 상기 기판의 양측에 배치되고 퍼지가스에 의하여 상기 기판 표면에 존재하는 이물질을 제거하기 위한 디퓨저 구조체에 있어서, 상기 디퓨저 구조체는 복수개의 디퓨저로 이루어지고 상기 기판의 상부에 위치하여, 역방향 유동은 감소시키고 정방향 유동을 증가시킨다.
본 발명의 구조체에 있어서, 상기 디퓨저 구조체는 중심에는 1개 이상의 중심 디퓨저가 위치하고, 상기 중심 디퓨저의 양측에는 각각 1개의 측면 디퓨저가 배치될 수 있다. 상기 중심 디퓨저는 1개일 수 있다.
본 발명의 바람직한 구조체에 있어서, 상기 복수개의 디퓨저는 노즐을 포함하고, 상기 노즐의 전체 또는 일부는 x축 방향으로 제1 각도(θ1)를 이룰 수 있다. 상기 복수개의 디퓨저는 노즐을 포함하고, 상기 노즐의 전체 또는 일부는 z축 방향으로 제2 각도(θ2)를 이룰 수 있다. 상기 복수개의 디퓨저는 노즐을 포함하고, 상기 노즐의 전체 또는 일부는 x축 방향으로 제1 각도(θ1)를 이루고 z축 방향으로 제2 각도(θ2)를 이룰 수 있다. 상기 복수개의 디퓨저는 노즐을 포함하고, 상기 노즐은 y축 방향으로 몸체의 양측에 배치될 수 있다. 상기 복수개의 디퓨저의 몸체는 테이퍼진 사각 형태로 제3 각도(θ3)를 이룰 수 있다. 상기 몸체에는 노즐을 부착되고, 상기 노즐은 지그재그 형태로 배열될 수 있다.
본 발명의 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체에 의하면, 복수개의 디퓨저로 이루어지고 기판의 상부에 위치하는 디퓨저 구조체를 활용함으로써, 퍼지과정에서 역방향 유동을 유도하는 와류영역의 발생은 최대한으로 줄이고, 특히 코너에서의 와류영역을 없애서 퍼지 효율을 높인다.
도 1은 종래의 하나의 디퓨저에 의해 기판을 퍼지하는 과정을 시뮬레이션한 도면이다.
도 2는 종래의 다른 디퓨저에 의해 기판을 퍼지하는 과정을 시뮬레이션한 도면이다.
도 3은 본 발명에 의한 제1 디퓨저 구조체에 의해 기판을 퍼지하는 과정을 시뮬레이션한 도면이다.
도 4는 본 발명에 의한 제2 디퓨저 구조체에 의해 기판을 퍼지하는 과정을 시뮬레이션한 도면이다.
도 5는 본 발명의 제1 디퓨저 구조체 및 종래의 디퓨저에 의하여 제거되는 이물질을 설명하기 위한 그래프이다.
도 6은 본 발명에 의한 제1 디퓨저 구조체에 적용되는 중심 디퓨저의 변형 디퓨저를 정면 및 측면에서 바라본 도면이다.
도 7은 본 발명에 의한 제1 디퓨저 구조체에 적용되는 중심 디퓨저의 변형 디퓨저를 기판 방향에서 바라본 도면이다.
이하 첨부된 도면을 참조하면서 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다. 다음에서 설명되는 실시예는 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다. 본 발명의 실시예는 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위하여 제공되는 것이다. 도면에서는 설명의 편의를 위하여 과장되게 표현하였다. 한편, 상부, 하부, 정면 등과 같이 위치를 지적하는 용어들은 도면에 나타낸 것과 관련될 뿐이다. 실제로, 디퓨저는 임의의 선택적인 방향으로 사용될 수 있으며, 실제 사용할 때 공간적인 방향은 디퓨저의 방향 및 회전에 따라 변한다.
본 발명의 실시예는 복수개의 디퓨저로 이루어지고 기판의 상부에 위치하는 디퓨저 구조체를 활용함으로써, 퍼지과정에서 역방향 유동을 유도하는 와류영역의 발생은 최대한으로 줄이고, 특히 코너에서의 와류영역을 없애서 퍼지 효율을 높이는 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체를 제시한다. 이를 위해, 기판의 상부에 위치하는 디퓨저 구조체의 배열을 자세하게 알아보고, 상기 배열에 의한 퍼지하는 과정을 상세하게 설명하기로 한다. 상기 퍼지과정은 기판에서의 이물질을 제거하고 이물질이 침투하지 않도록 한다. 상기 퍼지과정을 명확하게 확인하기 위하여, 본 발명의 실시예에 의한 수용부는 도 1 및 도 2에서의 수용부(100)와 동일한 구조를 채택하여 동일한 조건으로 비교하였다.
도 3은 본 발명의 실시예에 의한 제1 디퓨저 구조체(30)에 의해 기판을 퍼지하는 과정을 시뮬레이션한 도면이다. 다만, 엄밀한 의미의 도면을 표현한 것이 아니며, 설명의 편의를 위하여 도면에 나타나지 않은 구성요소가 있을 수 있다.
도 3에 의하면, 퍼지가 이루어지는 기판(20)은 진공챔버와 같은 수용부(10)에 수용된다. 기판(20)은 모서리(20a)가 존재하며, 제1 디퓨저 구조체(30)로부터 방출되는 퍼지가스로 기판(20) 표면의 이물질을 제거하는 퍼지과정이 수행된다. 퍼지과정을 수행한 퍼지가스는 수용부(10)에 존재하는 배출구(11)로 배출된다. 제1 디퓨저 구조체(30)는 기판(20)의 양측에 배치되고, 기판(20)의 상부에 위치한다. 제1 디퓨저 구조체(30)의 중심에는 중심 디퓨저(32) 및 중심 디퓨저(32)의 양측에는 측면 디퓨저(31, 33)가 배치된다.
기판(20) 표면에는 각종 유기물이나 무기물 등으로 이루어지고, 크기가 1㎛ 이하의 이물질(particle)이 부착되는 오염이 일어날 수 있다. 상기 이물질이 부착된 채로 공정을 수행하면, 성막에 핀홀(pin hole)이나 피트(pit), 배선의 단선이나 브릿지(bridge) 등을 발생시킨다. 상기 이물질을 효율적으로 제거하기 위해서, 상기 퍼지가스가 기판(20)의 모서리(20a)로부터 내측으로 유동하는 역방향 유동을 최소한으로 하고, 기판(20)의 내측으로부터 모서리(20a)로 유동하는 정방향 유동을 최대한으로 높여야 한다. 중심 디퓨저(32)와 측면 디퓨저(31, 33)가 배치된 제1 디퓨저 구조체(30)로 시뮬레이션을 하면, 코너(CN)에서의 와류에 의한 역방향 유동은 사라지고, 내부(IN)에서는 와류가 발생하지만 전체적으로 정방향 유동이 유도된다. 코너(CN)에서의 역방향 유동이 사라지면, 종래에 비해 상기 이물질이 제거되는 효율이 크게 향상된다. 또한, 내부(IN)에서 전체적으로 정방향 유동을 유도되면, 종래에 비해 상기 이물질이 제거되는 효율이 높아진다.
한편, 중심 및 측면 디퓨저(31, 32, 33)의 주변에는 와류에 의한 역방향 유동영역(b3)이 발생한다. 특히, 도시된 바와 같이, 측면 디퓨저(31, 33)와 중심 디퓨저(32) 사이의 공간(a, b)에 와류가 발생한다. 다만, 코너(CN)에서, 측면 디퓨저(31) 근처에서는 와류가 발생하지만, 와류를 벗어나면 모서리(20a) 방향으로 정방향 유동이 일어난다. 다시 말해, 코너(CN)에서는 역방향 유동이 존재하지 않으므로, 상기 이물질을 제거하는 효율을 높인다. 공간(a, b)에서 역방향 유동영역(b3)이 발생하지만, 공간(a, b)의 중심에서의 정방향 유동에 의해 전체적으로는 정방향 유동이 형성된다. 이에 따라, 본 발명의 실시예에 의한 제1 디퓨저 구조체(30)는 역방향 유동영역(b3)은 최소로 하고, 정방향 유동을 최대한으로 높인다.
도 4는 본 발명의 실시예에 의한 제2 디퓨저 구조체(40)에 의해 기판을 퍼지하는 과정을 시뮬레이션한 도면이다. 이때, 제2 디퓨저 구조체(40)를 제외하고, 도 3에서 설명한 바와 같다.
도 4에 의하면, 제2 디퓨저 구조체(40)는 기판(20)의 양측에 배치되고, 기판(20)의 상부에 위치한다. 제2 디퓨저 구조체(40)의 중심에는 중심 디퓨저(42, 43) 및 중심 디퓨저(42, 43)의 양측에는 측면 디퓨저(41, 44)가 배치된다. 제2 디퓨저 구조체(40)에 의해, 코너(CN)에서의 역방향 유동은 사라진다. 다만, 중심 및 측면 디퓨저(41, 42, 43, 44)의 주변에는 와류에 의한 역방향 유동영역(b4)이 발생한다. 도시된 바와 같이, 측면 디퓨저(41, 44)와 중심 디퓨저(42, 43) 사이의 공간(d, e, f)에 와류가 발생한다. 공간(d, e, f)에서 역방향 유동영역(b4)이 발생하지만, 공간(d, e, f)의 중심에서의 정방향 유동에 의해 전체적으로는 정방향 유동이 형성된다. 이에 따라, 본 발명의 실시예에 의한 제2 디퓨저 구조체(40)는 역방향 유동영역(b4)은 최소로 하고, 정방향 유동을 최대한으로 높인다.
여기서, 제2 디퓨저 구조체(40)는 제1 디퓨저 구조체(30)에 비해 중심 디퓨저(42, 43) 및 측면 디퓨저(41, 44)에서의 유동은 강화되지만, 내부(IN)에서의 유동은 약화된다. 내부(IN)에서의 유동이 약화되면, 내부(IN)에 존재하는 이물질을 제거하는 동력이 떨어진다. 이와 같이, 제1 및 제2 디퓨저(30, 40)의 차이를 감안하면, 이물질을 제거하는 데에는 제1 디퓨저 구조체(30)가 유용하다. 그런데, 기판(20)의 크기, 수용부(10)의 형태 및 크기, 배출구(11)의 설계, 퍼지가스의 유량 및 압력, 디퓨저의 형상 등에 따라, 제2 디퓨저 구조체(40)가 보다 유용할 수 있다. 본 발명의 실시예는 복수개의 디퓨저로 이루어진 디퓨저 구조체(30, 40)를 기판(20)의 상부에 배치함으로써, 이물질이 제거되는 효율이 높아진다.
복수개의 디퓨저(31, 32, 33, 41, 42, 43, 44)로 이루어지고 기판(20)의 상부에 배치된 디퓨저 구조체(30, 40)는 본 발명의 범주 내에서 다양하게 변형될 수 있다. 구체적으로, 디퓨저 구조체(30, 40)는 중심에는 1개 이상의 중심 디퓨저가 위치하고, 상기 중심 디퓨저의 양측에는 각각 1개의 측면 디퓨저가 배치된다. 디퓨저 구조체(30, 40)를 구성하는 각각의 디퓨저(31, 32, 33, 41, 42, 43, 44)의 길이 및 간격, 기판(20)과 이격된 간격은 기판(20)의 크기, 수용부(10)의 형태 및 크기, 배출구(11)의 설계, 퍼지가스의 유량 및 압력, 디퓨저의 형상 등에 따라 조절될 수 있다. 여기서는, 역방향 유동은 최소로 하고, 정방향 유동을 최대한으로 높이는 본 발명의 기술적 사상이 얻어진다.
도 5는 본 발명의 실시예에 의한 제1 디퓨저 구조체(30) 및 종래의 디퓨저(120, 130)에 의하여 제거되는 이물질을 설명하기 위한 그래프이다. 이때, 제1 디퓨저 구조체(30)는 도 3을 참조하고, 종래의 디퓨저(120, 130)를 참조하기로 한다.
도 5를 참조하면, 본 발명의 제1 디퓨저 구조체(30)에 의한 8.5세대 기판 당 이물질의 개수는 30개 이었으나, 종래의 디퓨저(120, 130)는 이물질의 개수가 74개 이었다. 이때, 이물질의 개수는 광학카메라를 이용한 자동광학검사장비로 측정하였다. 상기 퍼지가스는 질소이었다. 본 발명의 제1 디퓨저 구조체(30)는 이물질 제거 효율을 획기적으로 개선하였다. 본 발명의 실시예와 같이, 복수개의 디퓨저로 이루어진 제1 디퓨저 구조체(30)를 기판(20)의 상부에 배치하면, 역방향 유동은 최소로 되고 정방향 유동은 최대가 되는 것을 확인하였다.
도 6은 본 발명의 실시예에 의한 제1 디퓨저 구조체(30)에 적용되는 중심 디퓨저의 변형 디퓨저(32a)를 정면(a) 및 측면(b)에서 바라본 도면이다. 이때, 제1 디퓨저 구조체(30)는 도 3을 참조하고, 변형 디퓨저(32a)의 개념은 제2 디퓨저 구조체(40)의 중심 디퓨저(42, 43)에도 적용될 수 있다. 경우에 따라, 변형 디퓨저(32a)의 개념은 제1 디퓨저 구조체(30)의 측면 디퓨저(31, 33) 및 제2 디퓨저 구조체(40)의 측면 디퓨저(41, 44)에도 적용될 수 있다.
도 6에 의하면, 변형 디퓨저(32a)는 몸체(35) 및 기판(20) 방향으로 연장된 복수개의 노즐(36)을 포함한다. 노즐(36)은 x축 방향으로 몸체(35)에 복수개가 배치되고, y축 방향으로 몸체(35)의 양측에 배치된다. 도면에서는 y축 방향으로 보아 몸체(35)의 양측에 배치된 2개의 노즐(36)이 존재하는 것으로 표현하였으나, 하나의 노즐(36)로부터 분기될 수도 있다. 노즐(36)의 전체 또는 일부는 x축 방향으로 제1 각도(θ1)를 이루는 경사노즐(36a)일 수 있다. 노즐(36)이 제1 각도(θ1)를 이루지 않으면, 퍼지가스는 기판(20)으로 수직낙하한다. 경사노즐(36a)이 제1 각도(θ1)를 이루면, 상기 퍼지가스는 기판(20)에 대하여 제1 각도(θ1)로 분사되고, 상기 퍼지가스는 기판(20)의 표면을 스윕(sweep)한다.
경사노즐(36a)은 x축 방향으로 제1 각도(θ1)를 이루면, 공간(a, b) 및 각각 디퓨저(31, 32, 33)의 외측(c)에서의 와류가 줄어든다. 예컨대, x축 방향에서의 노즐(36) 중에서 모서리(20a) 근처의 경사노즐(36a)이 도시된 바와 같이 제1 각도(θ1)를 이루면, 상기 퍼지가스는 경사노즐(36a)에 의하여 제1 각도(θ1)를 이루지 않는 노즐(36)보다 빠른 속도로 스윕한다. 상기 퍼지가스가 빠른 속도로 스윕하면, 그 부분은 주변의 퍼지가스가 메우게 된다. 이렇게 되면, 측면 디퓨저(31, 33)와 중심 디퓨저(32) 사이의 공간(a, b)에서의 정방향 유동이 증가하게 된다. 이에 따라, 경사노즐(36a)은 역방향 유동은 최소로 되고 정방향 유동은 최대가 되도록 한다.
경사노즐(36b)은 z축 방향으로 제2 각도(θ2)를 이룰 수 있다. 이를 위해, 노즐(36)이 제2 각도(θ2)를 이루지 않으면, 퍼지가스는 기판(20)으로 수직낙하한다. 경사노즐(36b)이 제2 각도(θ2)를 이루면, 상기 퍼지가스는 기판(20)에 대하여 제2 각도(θ2)로 분사되고, 상기 퍼지가스는 기판(20)의 표면을 스윕한다. 상기 퍼지가스가 기판(20)으로 수직낙하하면, 제2 각도(θ2)를 이루는 경사노즐(36b)에 비해, 기판(20)의 표면을 스윕하는 힘이 부족하다. 이렇게 되면, 경사노즐(36b)에 비해 퍼지가스에 의한 이물질 제거효과가 저하된다. 이에 따라, 경사노즐(36b)은 역방향 유동은 최소로 되고 정방향 유동은 최대가 되도록 한다.
경사노즐(36a, 36b)은 본 발명의 범주 내에서 다양하게 변형될 수 있다. 예컨대, 경사노즐(36a, 36b)의 개수 및 배치는 기판(20)의 크기, 수용부(10)의 형태 및 크기, 배출구(11)의 설계, 퍼지가스의 유량 및 압력, 디퓨저의 형상 등에 따라 조절될 수 있다. 여기서는, 역방향 유동은 최소로 하고, 정방향 유동을 최대한으로 높이는 본 발명의 기술적 사상이 얻어진다.
도 7은 본 발명의 실시예에 의한 제1 디퓨저 구조체(30)에 적용되는 중심 디퓨저의 변형 디퓨저(32b)를 기판(20) 방향에서 바라본 도면이다. 이때, 제1 디퓨저 구조체(30)는 도 3을 참조하고, 변형 디퓨저(32b)의 개념은 제2 디퓨저 구조체(40)의 중심 디퓨저(42, 43)에도 적용될 수 있다. 경우에 따라, 변형 디퓨저(32b)의 개념은 제1 디퓨저 구조체(30)의 측면 디퓨저(31, 33) 및 제2 디퓨저 구조체(40)의 측면 디퓨저(41, 44)에도 적용될 수 있다.
도 7에 의하면, 변형 디퓨저(32b)는 몸체(37) 및 복수개의 노즐(38)을 포함한다. 노즐(38)은 앞에서 설명한 경사노즐(36a, 36b)이 적용될 수 있다. 몸체(37)는 테이퍼진 사각 형태로써, 모서리(20a)로부터 내부(IN)로 갈수록 폭이 넓어진다. 몸체(37)는 제3 각도(θ3)를 이룬다. 몸체(37)가 제3 각도(θ3)를 이루면, 노즐(38)로부터 방출되는 퍼지가스가 모서리(20a) 방향으로 유동하도록 유도한다. 상기 퍼지가스의 유동이 모서리(20a) 방향으로 유도되면, 기판(20)의 내측으로부터 모서리(20a)로 유동하는 정방향 유동을 높인다. 또한, 노즐(38)에서 폭이 넓은 부위는 양측에 배치되도록 설계될 수 있고, 노즐(38)은 지그재그 형태로 배열되는 것이 바람직하다.
제3 각도(θ3), 및 노즐(38)의 개수, 배열 형태는 본 발명의 범주 내에서 다양하게 변형될 수 있다. 예컨대, 제3 각도(θ3), 및 노즐(38)의 개수, 배열 형태는 기판(20)의 크기, 수용부(10)의 형태 및 크기, 배출구(11)의 설계, 퍼지가스의 유량 및 압력, 디퓨저의 형상 등에 따라 조절될 수 있다. 여기서는, 역방향 유동은 최소로 하고, 정방향 유동을 최대한으로 높이는 본 발명의 기술적 사상이 얻어진다.
이상, 본 발명은 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.
10; 수용부 11; 배출구
20; 기판 20a; 모서리
30, 40; 제1 및 제2 디퓨저 구조체
32a, 32b; 변형 디퓨저
35, 37; 몸체
36, 38; 노즐
36a, 36b; 경사노즐
b3, b4; 역방향 유동영역

Claims (9)

  1. 기판; 및
    상기 기판의 양측에 배치되고, 퍼지가스에 의하여 상기 기판 표면에 존재하는 이물질을 제거하기 위한 디퓨저 구조체에 있어서,
    상기 디퓨저 구조체는 복수개의 디퓨저로 이루어지고 상기 기판의 상부에 위치하여, 역방향 유동은 감소시키고 정방향 유동을 증가시키는 것을 특징으로 하는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체.
  2. 제1항에 있어서, 상기 디퓨저 구조체는 중심에는 1개 이상의 중심 디퓨저가 위치하고, 상기 중심 디퓨저의 양측에는 각각 1개의 측면 디퓨저가 배치되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체.
  3. 제2항에 있어서, 상기 중심 디퓨저는 1개인 것을 특징으로 하는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체.
  4. 제1항에 있어서, 상기 복수개의 디퓨저는 노즐을 포함하고, 상기 노즐의 전체 또는 일부는 x축 방향으로 제1 각도(θ1)를 이루는 것을 특징으로 하는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체.
  5. 제1항에 있어서, 상기 복수개의 디퓨저는 노즐을 포함하고, 상기 노즐의 전체 또는 일부는 z축 방향으로 제2 각도(θ2)를 이루는 것을 특징으로 하는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체.
  6. 제1항에 있어서, 상기 복수개의 디퓨저는 노즐을 포함하고, 상기 노즐의 전체 또는 일부는 x축 방향으로 제1 각도(θ1)를 이루고 z축 방향으로 제2 각도(θ2)를 이루는 것을 특징으로 하는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체.
  7. 제1항에 있어서, 상기 복수개의 디퓨저는 노즐을 포함하고, 상기 노즐은 y축 방향으로 몸체의 양측에 배치된 것을 특징으로 하는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체.
  8. 제1항에 있어서, 상기 복수개의 디퓨저의 몸체는 테이퍼진 사각 형태로 제3 각도(θ3)를 이루는 것을 특징으로 하는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체.
  9. 제8항에 있어서, 상기 몸체에는 노즐을 부착되고, 상기 노즐은 지그재그 형태로 배열되는 것을 특징으로 하는 표시장치의 기판을 퍼지하기 위한 디퓨저 구조체.
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KR20000010575A (ko) * 1996-04-24 2000-02-15 옐리히, 핑크 유체 용기내의 기판처리 장치_
KR20100124198A (ko) * 2008-02-20 2010-11-26 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 가스 공급 장치
KR20110058654A (ko) * 2009-11-25 2011-06-01 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 및 감압 건조 장치

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