JP2017069383A - 基板液処理装置及び基板液処理方法並びに基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】複数の基板を配列させた状態で処理液に浸漬させて処理する液処理部と、前記処理液を供給する処理液供給部と、前記処理液の濃度を調節するための濃度調節液を供給する濃度調節液供給部と、を備え、前記濃度調節液供給部は、前記配列させた複数の基板のうちの少なくとも1つの対向する基板間に配置された濃度調節液供給ノズルから流量調節器で調節された流量の前記濃度調節液を供給する。
【選択図】図2
Description
7 制御部
8 基板
38 液処理部
39 処理液供給部
40 純水供給部
54 濃度センサ(濃度計測部)
70 濃度調節液供給部
71 濃度調節液供給ノズル
73 流量調節器
Claims (9)
- 複数の基板を配列させた状態で処理液に浸漬させて処理する液処理部と、
前記処理液を供給する処理液供給部と、
前記処理液の濃度を調節するための濃度調節液を供給する濃度調節液供給部と、
を備え、
前記濃度調節液供給部は、前記配列させた複数の基板のうちの少なくとも1つの対向する基板間に配置された濃度調節液供給ノズルから流量調節器で調節された流量の前記濃度調節液を供給することを特徴とする基板液処理装置。 - 前記濃度調節液は、前記処理液を含み、前記処理液とは異なる濃度であることを特徴とする請求項1に記載の基板液処理装置。
- 前記濃度調節液供給ノズルは、前記複数の基板の配列方向に直交し水平方向に延びる筒形状を有し、前記筒形状の周面に穿設された吐出口を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の基板液処理装置。
- 前記濃度調節液供給部は、前記複数の基板の配列方向に直交し水平方向に2つ以上の前記濃度調節液供給ノズルが並べて配置されていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の基板液処理装置。
- 前記濃度調節液供給部は、複数の基板間に前記濃度調節液供給ノズルが配置され、各濃度調節液供給ノズルに前記流量調節器を接続し、各々の前記流量調節器で調節された流量の前記濃度調節液を前記濃度調節液供給ノズルから供給することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の基板液処理装置。
- 前記濃度調節液供給部は、複数の基板間に前記濃度調節液供給ノズルが配置され、2つ以上の前記濃度調節液供給ノズルに1つの前記流量調節器を接続し、前記流量調節器で調節された流量の前記濃度調節液を前記濃度調節液供給ノズルから供給することを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれかに記載の基板液処理装置。
- 複数の基板を配列させた状態で処理液に浸漬させて処理し、前記複数の基板の処理中に前記配列させた複数の基板のうち少なくとも1つの対向する基板間に前記処理液の濃度を調節するための濃度調節液を供給することを特徴とする基板液処理方法。
- 前記濃度調節液は、前記処理液を含み、前記処理液とは異なる濃度であることを特徴とする請求項7に記載の基板液処理方法。
- 複数の基板を配列させた状態で処理液に浸漬させて処理する液処理部と、
前記処理液を供給する処理液供給部と、
前記処理液を希釈するための濃度調節液を供給する濃度調節液供給部と、
を有する基板液処理装置を用いて基板液処理方法を実行させる基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体において、
前記液処理部で前記処理液を用いて前記複数枚の基板を処理し、前記複数の基板の処理中に前記配列させた複数の基板のうちの少なくとも1つの対向する基板間に前記処理液の濃度を調節するための濃度調節液を供給することを特徴とする基板液処理プログラムを記憶したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体。
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