JPH11100419A - 放射線硬化性樹脂組成物 - Google Patents
放射線硬化性樹脂組成物Info
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- JPH11100419A JPH11100419A JP9279655A JP27965597A JPH11100419A JP H11100419 A JPH11100419 A JP H11100419A JP 9279655 A JP9279655 A JP 9279655A JP 27965597 A JP27965597 A JP 27965597A JP H11100419 A JPH11100419 A JP H11100419A
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Abstract
などとの接着性、速硬化性ならびに得られる硬化物の耐
熱性および耐湿性に優れるとともに記録された情報を読
みだすための光に対して高い光透過性を有する、ディス
クの接着剤として有用な光硬化性樹脂組成物を提供する
こと。 【解決手段】(A)ウレタン(メタ)アクリレート、
(B)一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも
一個有するリン酸エステル化合物、(C)前記(A)成
分および(B)成分以外の、一分子中に(メタ)アクリ
ロイル基を少なくとも一個有する(メタ)アクリレート
化合物、(D)一分子中にメルカプト基と特定のオルガ
ノシリル基を有する化合物、ならびに(E)光重合開始
剤を含有する光硬化性樹脂組成物。
Description
組成物に関し、特に光ディスクの製造に於いて接着剤と
して有用である放射線硬化性樹脂組成物に関する。
ューターソフトウエア技術、通信技術等をはじめとする
情報技術の発展により、より多くの情報を高速に伝達す
ることが可能となってきている。これに伴いより多くの
情報を高密度に記録することができる記録媒体が望まれ
開発が進められつつある。このような高密度記録媒体と
してDVD(デジタルビデオディスクまたはデジタルバ
ーサタイルディスクと称する)が次世代の汎用の記録媒
体として開発されている。DVDは従来のCD(コンパ
クトディスク)と異なり、2枚のディスクを張り合わせ
て製造されるために張り合わせのための接着剤が必要と
なり、ホットメルト接着剤、熱硬化型接着剤、嫌気硬化
型接着剤等を用いる試みがなされている。しかし、ホッ
トメルト接着剤では熱安定性や耐候性が十分ではなく高
温環境下で軟化するため接着強度が低下して張り合わせ
たディスクが剥がれたり変形したりする問題がある。ま
た、該接着剤は透明性が高くないため、接着剤層を通し
て記録を読みとる方式では使用が困難である。このよう
な方式のDVDとしては、記録面にアルミニウムのよう
な光反射率が高い物質の薄膜をスパッタリングなどの蒸
着方法でポリカーボネートのような透明な樹脂からなる
ディスク上に形成した第一のディスクと、金あるいは窒
化珪素の薄膜などのような光を一部は透過し一部は反射
するような半透過膜を記録面にスパッタリングなどの蒸
着方法で透明な樹脂からなるディスク上に形成した第二
のディスクとを互いの記録面を内側にして接着剤で張り
合わせた構造のディスクが挙げられる。このようなDV
Dでは第二のディスクの記録面とは反対側から記録を読
みとるための光を入射させ第二のディスクと第一のディ
スクの両方の記録を読みとるように設計されている。し
かしながら、接着剤の透明性が低いと第一のディスクを
読みとることが困難である。熱硬化型接着剤では硬化す
るときの熱によりディスクを構成する基材が変形した
り、硬化に要する時間が長い等の問題がある。嫌気型硬
化型接着剤も硬化に時間がかかるため生産性が低いとい
う問題がある。このような問題を解決する方法として光
硬化型の接着剤が提案されている。例えば、特開昭61
−142545号公報および特開平6−89462号公
報にはウレタンアクリレートを主成分とする紫外線硬化
性樹脂接着剤が開示されている。しかし、この接着剤は
光硬化性、硬化により得られる硬化物の耐熱性、耐湿性
や被着体である樹脂、反射膜、半透過膜との接着性の点
で十分に満足する性能が得られていない。
しようとする課題はディスクを構成する樹脂、反射膜、
半透過膜などとの接着性、速硬化性ならびに得られる硬
化物の耐熱性および耐湿性に優れるとともに記録された
情報を読みだすための光に対して高い光透過性を有する
放射線硬化性樹脂組成物を提供することにある。
した結果、以下に示す特定の放射線硬化性樹脂組成物に
より前記課題を解決できることを見いだした。
合物、ポリイソシアネート化合物および水酸基含有(メ
タ)アクリレート化合物を反応させて得られるウレタン
(メタ)アクリレート、(B)一分子中に(メタ)アク
リロイル基を少なくとも一個有するリン酸エステル化合
物、(C)前記(A)成分および(B)成分以外の、一
分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも一個有す
る(メタ)アクリレート化合物、(D)一分子中に少な
くとも一個のメルカプト基と少なくとも一個の−SiR
aRbRc(ここで、 Ra、 Rbおよび Rcは独立にアル
キル基、アルコキシ基、フェニル基、フェニルオキシ
基、ハロゲン原子または水素原子を表す)で表される基
をもつ化合物、ならびに(E)放射線重合開始剤を含有
する放射線硬化性樹脂組成物を提供する。
ついて詳述する。なお、本明細書においては、数平均分
子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定さ
れるポリスチレン換算の数平均分子量を意味する。
ート(以下、ウレタン(メタ)アクリレート(A)とい
う)は、前記のとおり、(a)ポリオール化合物、
(b)ポリイソシアネート化合物および(c)水酸基含
有(メタ)アクリレート化合物を反応させて得られる。
オール化合物としては、ポリエーテルポリオール、ポリ
エステルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポ
リカプロラクトンポリオール、分子中に2個以上の水酸
基を有する脂肪族炭化水素、分子中に2個以上の水酸基
を有する脂環式炭化水素、分子中に2個以上の水酸基を
有する不飽和炭化水素等が用いられる。これらのポリオ
ール化合物は一種単独で用いることも、2種類以上併用
することもできる。上記ポリエーテルポリオールとして
は、脂肪族ポリエーテルポリオール、脂環式ポリエーテ
ルポリオール、芳香族ポリエーテルポリオール、を挙げ
ることができる。
しては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘ
キサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコー
ル、ポリデカメチレングリコール、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパ
ン、およびトリメチロールプロパンのエチレンオキシド
付加トリオール、トリメチロールプロパンのプロピレン
オキシド付加トリオール、トリメチロールプロパンのエ
チレンオキシドとプロピレンオキシド付加トリオール、
ペンタエリスリトールのエチレンオキシド付加テトラオ
ール、ジペンタエリスリトールのエチレンオキシド付加
ヘキサオール等のアルキレンオキシド付加ポリオール等
の多価アルコール、および2種類以上のイオン重合性環
状化合物を開環重合させて得られるポリエーテルポリオ
ール等が挙げられる。
例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブテン
−1−オキシド、イソブテンオキシド、3,3−ビスク
ロロメチルオキセタン、テトラヒドロフラン、2−メチ
ルテトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサン、テ
トラオキサン、シクロヘキセンオキシド、スチレンオキ
シド、エピクロルヒドリン、グリシジルエーテル、アリ
ルグリシジルエーテル、アリルグリシジルカーボネー
ト、ブタジエンモノオキシド、イソプレンモノオキシ
ド、ビニルオキセタン、ビニルテトラヒドロフラン、ビ
ニルシクロヘキセンオキシド、フェニルグリシジルエー
テル、ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリシジル
エステル等の環状エーテル類が挙げられる。上記二種類
以上のイオン重合性環状化合物の具体的な組み合わせと
しては、例えばテトラヒドロフランとエチレンオキシ
ド、テトラヒドロフランとプロピレンオキシド、テトラ
ヒドロフランと2−メチルテトラヒドロフラン、テトラ
ヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフラン、エチレ
ンオキシドとプロピレンオキシド、ブテン−1−オキシ
ドとエチレンオキシド、テトラヒドロフランとブテン−
1−オキシドとエチレンオキシド等を挙げることができ
る。
チレンイミン等の環状イミン類、β−プロピオラクト
ン、グリコール酸ラクチド等の環状ラクトン酸、および
ジメチルシクロポリシロキサン類とを開環共重合させた
ポリエーテルポリオールを使用することもできる。
例えば水添ビスフェノールAのアルキレンオキシド付加
ジオール、水添ビスフェノールFのアルキレンオキシド
付加ジオール、1,4−シクロヘキサンジオールのアル
キレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。
例えばビスフェノールAのアルキレンオキシド付加ジオ
ール、ビスフェノールFのアルキレンオキシド付加ジオ
ール、ハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオー
ル、ナフトハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジ
オール、アントラハイドロキノンのアルキレンオキシド
付加ジオール等が挙げられる。
名で市販されている。例えば脂肪族ポリエーテルポリオ
ールとしては、PTMG650、PTMG1000、P
TMG2000(以上、三菱化学(株)製)、PPG1
000、 EXCENOL1020、EXCENOL2
020、EXCENOL3020、 EXCENOL4
020(以上、旭硝子(株)製)、PEG1000、ユ
ニセーフ DC1100、ユニセーフDC1800、ユ
ニセーフDCB1100、ユニセーフDCB1800
(以上、日本油脂(株))、PPTG1000、 PP
TG2000、 PPTG4000、PTG400、P
TG650、PTG2000、 PTG3000、PT
GL1000、PTGL2000(以上、保土谷化学工
業(株)製)、Z−3001−4、 Z−3001−
5、PBG2000、PBG2000B(以上、第一工
業製薬(株)製)、TMP30、PNT4グリコール、
EDAP4、 EDA P8(以上、日本乳化剤(株)
製)、クオドロール(旭電化(株)製)、トーンポリオ
ール0200、トーンポリオール0221、トーンポリ
オール0301、トーンポリオール0310、トーンポ
リオール2201、トーンポリオール2221(以上、
ユニオンカーバイド社製)が挙げられる。芳香族ポリエ
ーテルポリオールとしてはユニオールDA400、DA
700、DA1000、DB400(以上、日本油脂
(株)製)等を挙げることができる。
価アルコールと多塩基酸とを反応させて得られる。ここ
で、多価アルコールとしては、エチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、
1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオー
ル、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサ
ンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、
1,2−ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、
2,2−ジエチルプロパン−1,3−ジオール、3−メ
チルペンタン−1,5−ジオール、ノナン−1,9−ジ
オール、2−メチルオクタン−1,8−ジオール、グリ
セリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロ
パンのエチレンオキシド付加体、トリメチロールプロパ
ンのプロピレンオキシド付加体、トリメチロールプロパ
ンのエチレンオキシドとプロピレンオキシドの付加体、
ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリス
リトール、アルキレンオキシド付加ポリオール〔例え
ば、TMP30、PNT4グリコール、EDA P4、
EDA P8(以上、日本乳化剤(株)製)、クオド
ロール(旭電化(株)製)、トーンポリオール020
0、トーンポリオール0221、トーンポリオール03
01、トーンポリオール0310、トーンポリオール2
201、トーンポリオール2221(以上、ユニオンカ
ーバイド社製)の商品名で入手することができる〕等が
挙げられる。また、多塩基酸としては、例えばフタル
酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル
酸、アジピン酸、セバシン酸等を挙げることができる。
これらのポリエステルポリオールの市販品としては、ク
ラポールP1010、クラポールP2010、PMIP
A、PKA−A、PKA−A2、PNA−2000(以
上、クラレ(株)製)等を使用することができる。ま
た、上記ポリカーボネートポリオールとしては、例えば
式(1)で示されるポリカーボネートジオールが挙げら
れる。
キレン基、(ポリ)エチレングリコールから両末端の水
酸基を除いた残基、(ポリ)プロピレングリコールから
両末端の水酸基を除いた残基、(ポリ)テトラメチレン
グリコールから両末端の水酸基を除いた残基を表し、具
体的には 1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタン
ジオール、ネオペンチルグリコール、1,6−ヘキサン
ジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1、
7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオール、
1,9−ノナンジオール、エチレングリコール、ジエチ
レングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチ
レングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレン
グリコール、トリプロピレングリコール、テトラプロピ
レングリコール等から両末端の水酸基を除いた残基が挙
げられ、mは1〜30の整数である)
980、 DN−981、 DN−982、 DN−98
3(以上、日本ポリウレタン工業(株)製)、PC−8
000(PPG社製)、PNOC1000、 PNOC
2000、PMC100、PMC2000(以上、
(株)クラレ製)、プラクセル CD−205、CD−
208、CD−210、CD−220、CD−205P
L、CD−208PL、CD−210PL、CD−22
0PL、CD−205HL、CD−208HL、CD−
210HL、CD−220HL、CD−210T、CD
−221T(以上、ダイセル化学工業(株)製)等の商
品名で市販されている。
は、例えば、εーカプロラクトンを、例えばエチレング
リコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコ
ール、ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリ
コール、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリ
ブチレングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノ
ール、1,4−ブタンジオール等のジオールに付加反応
させて得られるポリカプロラクトンジオールが挙げられ
る。これらはプラクセル 205、205AL、21
2、212AL、220、220AL(以上、ダイセル
化学工業(株)製)等の商品名で市販されている。
炭化水素としては、エチレングリコール、プロピレング
リコール、テトラメチレングリコール、1,4−ブタン
ジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オク
タンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチル
グリコール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオ
ール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メ
チル−1,8−オクタンジオール、ヒドロキシ末端水添
ポリブタジエン、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等が挙げられ
る。
炭化水素としては、例えば1,4−シクロヘキサンジオ
ール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,2−
ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、ジシクロペ
ンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジ
メタノール等が挙げられる。分子中に2個以上の水酸基
を有する不飽和炭化水素としては、例えばヒドロキシ末
端停止ポリブタジエン、ヒドロキシ末端停止ポリイソプ
レン等が挙げられる。
は、例えばβ−メチル−δ−バレロラクトンジオール、
ひまし油変性ジオール、ポリジメチルシロキサンの末端
ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンの末端カルビ
トール変性ジオール等が挙げられる。これらの(a)ポ
リオール化合物の好ましい数平均分子量は50〜150
00、特に好ましくは100〜8000である。
ン(メタ)アクリレート(A)の合成に使用される
(b)ポリイソシアネートとしては、例えば2,4−ト
リレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシア
ネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、1,4
−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジ
イソシアネート、m−フェニレンジイソシアネート、
p−フェニレンジイソシアネート、3,3´−ジメチル
−4,4´−ジフェニルメタンジイソシアネート、4,
4´−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,3´−
ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4´−ビフ
ェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジイソシ
アネート、イソホロンジイソシアネート、2,2,4−
トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ビス(2
−イソシアネートエチル)フマレート、6−イソプロピ
ル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−ジフェニ
ルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシアネー
ト、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水添キシ
リレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイ
ソシアネート等が挙げられる。これらのうち、2,4−
トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソシ
アネート、水添キシリレンジイソシアネート、イソホロ
ンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシア
ネート等が好ましい。これら(b)のポリイソシアネー
ト化合物は一種単独でまたは2種類以上を組み合わせて
用いることができる。
合物;ウレタン(メタ)アクリレート(A)の合成に使
用される第三の反応成分である、(c)の水酸基含有
(メタ)アクリレート化合物としては、例えば2−ヒド
ロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプ
ロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェニル
オキシプロピル(メタ)アクリレート、1,4−ブタン
ジオールモノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリロイルホスフェート、4−ヒドロ
キシシクロヘキシル(メタ)アクリレート、1,6−ヘ
キサンジオールモノ(メタ)アクリレート、ネオペンチ
ルグリコールモノ(メタ)アクリレート、トリメチロー
ルプロパンジ(メタ)アクリレート、、トリメチロール
エタンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトール
トリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ(メタ)アクリレート、および下記構造式(2)で
表される(メタ)アクリレート等が挙げられ、
示し、nは1〜15、好ましくは1〜4の整数を示
す〕、さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリ
シジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート等の
グリシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加
反応により得られる化合物も挙げることができる。これ
らのうち、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4
−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等が好まし
い。ウレタン(メタ)アクリレート(A)の合成方法は
特に制限されないが、例えば次の(i)〜(iii)の
方法に従って行われる。
よび(c)水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反
応させ、次いで得られた生成物に(a)ポリオール化合
物を反応させる方法。
ポリイソシアネート化合物、(c)水酸基含有(メタ)
アクリレート化合物を一括に仕込んで反応させる方法。
(b)ポリイソシアネート化合物を反応させ、次いで得
られた生成物に(c)水酸基含有(メタ)アクリレート
化合物を反応させる方法。
ート(A)の合成においては通常、ナフテン酸銅、ナフ
テン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛、ラウリル酸ジ−n−
ブチルスズ、トリエチルアミン、1,4−ジアザビシク
ロ〔2.2.2〕オクタン、1,4−ジアザ−2−メチ
ルビシクロ〔2.2.2〕オクタン等のウレタン化触媒
を、(a)ポリオール、(b)ポリイソシアネートおよ
び(c)水酸基含有(メタ)アクリレートの合計重量1
00重量部当り0.01〜1重量部用いて反応を行うの
が好ましい。この反応における反応温度は、通常0〜9
0℃、好ましくは10〜80℃で行う。本発明で用いる
ウレタン(メタ)アクリレートの好ましい数平均分子量
は、400〜20000であり、特に600〜1000
0であることが好ましい。
タ)アクリレート(A)の量は、通常、(A)成分と
(B)成分と(C)成分の合計重量100重量部当たり
5〜70重量部でよく、好ましくは30〜90重量部で
ある。ウレタン(メタ)アクリレート(A)が少なすぎ
ると得られる硬化物の基材に対する密着力が十分でな
く、多すぎると組成物の粘度が高くなりすぎて取り扱い
に支障を生じる場合がある。
(メタ)アクリロイル基を少なくとも一個有するリン酸
エステル化合物(以下、リン酸エステル化合物(B)と
いう)としては、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキ
シエチル〕ホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロ
イルオキシエチル〕ジフェニルホスフェート、モノ〔2
−(メタ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェー
ト、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕ホ
スフェート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシプ
ロピル〕ホスフェート、トリス〔2−(メタ)アクリロ
イルオキシエチル〕ホスフェート、および下記式(3)
で示される化合物が挙げられる。
(5)、式(6)、式(7)もしくは式(8)で示され
る基または水酸基を表し、但し R3、R4およびR5の内
少なくとも一つは式(4)、式(5)、式(6)もしく
は式(7)で表される基である。
はメチル基を表し、sは1〜5を表す)
でもリン原子と結合する水酸基を含まないリン酸エステ
ル化合物が好ましい。リン酸エステル化合物(B)は、
例えば、ライトエステルP−M、P−2M(以上、共栄
社化学(株)製)、ビスコート3PA(大阪有機化学工
業(株)製)、EB−169、EB−179、EB−3
603、R−DX63182(以上、ダイセルUCB
(株)製)、AR−100、MR−100、MR−20
0、MR−260(以上、大八化学(株)製)、JAM
P−100、JAMP−514、JPA−514(以
上、城北化学(株)製)等の商品名で市販されている。
これらのうち、前記のリン原子と結合する水酸基を含ま
ないリン酸エステル化合物としては例えばビスコート3
PAが挙げられる。
合物(B)の量は、(A)成分と(B)成分と(C)成
分の合計重量100重量部当り、通常、0.1〜30重
量部でよく、好ましくは0.2〜10重量部、特に好ま
しくは0.5〜5重量部である。(B)成分の配合量が
少なすぎると被接着基材、特に金属基材との接着が不十
分であり、多すぎると水分の吸収による金属基材の腐食
等が生じる場合がある。
成分および(B)成分以外の、一分子中に(メタ)アク
リロイル基を少なくとも一個有する(メタ)アクリレー
ト化合物(以下、(メタ)アクリレート化合物(C)と
いう)としては、(メタ)アクリロイル基を一つだけ有
する単官能化合物と二つ以上有する多官能化合物の何れ
の化合物を用いてもよく、適当な比率で併用してもよ
い。
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、
エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリ
レート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル
(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、
イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)
アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソア
ミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレ
ート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メ
タ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレー
ト、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル
(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、
イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)
アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリ
ル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリ
レート、ステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル
(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール
(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレー
ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェノキシ
エチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコール
モノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコー
ルモノ(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)
アクリレート、エトキシエトキシエチル(メタ)アクリ
レート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アク
リレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)
アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリ
レート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジ
シクロペンテニル(メタ)アクリレート、トリシクロデ
カニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリ
レート、イソボルニル(メタ)アクリレート、アダマン
チル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メ
タ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、7−アミノ−3,7−ジメチルオクチル(メ
タ)アクリレート、(メタ)アクリロイルモルホリン、
2−(メタ)アクリロイルオキシエチルフタル酸、2−
(メタ)アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル
酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルフタル
酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピルテトラヒ
ドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシプロピ
ルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオ
キシエチルコハク酸、トリフルオロエチル(メタ)アク
リレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレー
ト、ヘキサフルオロプロピル(メタ)アクリレート、オ
クタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデ
カフルオロデシル(メタ)アクリレート、下記式(3)
〜(5)で表される化合物を挙げることができる。
数2〜6のヒドロキシアルキレン基を示し、R14は水素
原子またはメチル基を示し、R15は水素原子または炭素
数1〜12のアルキル基を示し、pは0〜20の整数を
示す。〕
炭素数2〜8のアルキレン基を示し、qは0〜8の整数
を示す。〕
炭素数2〜8のアルキレン基を示し、rは0〜8の整数
を示し、R20およびR21は独立に水素原子または炭素数
1〜6のアルキル基を示す。〕
M101、M102、M110、M111、M113、
M114、M117、M120、M152、M154、
M5300、M5400、M5500、M5600(以
上、東亞合成(株)製)、KAYARAD TC−11
0S、R−128H、 R629、 R644(以上、日
本化薬(株)製)、IPAA、AIB、SBAA、TB
A、IAAA、HEXA、CHA、NOAA、IOA
A、INAA、LA、TDA、MSAA、CAA、HD
AA、LTA、STA、ISAA−1、ODAA、ND
AA、IBXA、ADAA、TCDA、2−MTA、D
MA、ビスコート #150、#150D、#155、
#158、#160、#190、#190D、#19
2、#193、#220、#320、#2311HP、
#2000、#2100、#2150、#2180、M
TG(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステ
ル M−20G、M−40G、M−90G、M−230
G、CB−1、SA、S、AMP−10G、AMP−2
0G、AMP−60G、AMP−90G、A−SA、N
LA(以上、新中村化学工業(株)製)、ACMO
((株)興人製)、ライトアクリレート IA−A、L
−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、DP
M−A、PO−A、P−200A、THF−A、IB−
XA、HOA−MS、HOA−MPL、HOA−MP
E、HOA−HH、IO−A、BZ−A、NP−EA、
NP−10EA、HOB−A、FA−108、エポキシ
エステルM−600A(以上、共栄社化学(株)製)、
FA−511、FA−512A、FA−513A(以
上、日立化成工業(株)製)等が挙げられる。
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタン
ジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジ
オールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオ
キシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パンポリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリオキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンポリオキシエチル(メタ)
アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシ
アヌレートジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレ
ート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メ
タ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノー
ルFジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加
ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロピレン
オキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレー
ト、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレ
ート、ビスフェノールAジエポキシジ(メタ)アクリレ
ート、ビスフェノールFジエポキシジ(メタ)アクリレ
ート等が挙げられる。
2、SA−2006、SA−2007、SA−410
0、 SA−5001、SA−6000、SA−760
0、SA−8000、SA−9000(以上、三菱化学
(株)製)、ビスコート #195、#195D、#2
14HP、#215、#215D、#230、#230
D、#260、#295、#295D、#300、#3
10HP、#310HG、#312、#335HP、#
335D、#360、GPT、#400、V#540、
#700、GPT(以上、大阪有機化学工業(株)
製)、KAYARADMANDA、R−526、NPG
DA、PEG400DA、R−167、HX−220、
HX−620、R−551、R−712、R−604、
R−684、GPO−303、TMPTA、THE−3
30、TPA−320、TPA−330、PET−3
0、RP−1040、T−1420、DPHA、D−3
10、D−330、DPCA−20、DPCA−30、
DPCA−60、DPCA−120(以上、日本化薬
(株)製)、アロニックス M−210、M−208、
M−215、M−220、M−225、M−233、M
−240、M−245、M−260、M−270、M−
305、M−309、M−310、M−315、M−3
20、M−350、M−360、M−400、M−40
8、M−450(以上、東亞合成(株)製)、SR−2
12、SR−213、SR−355(以上、サートマー
社製)、SP−1506、SP−1507、SP−15
09、SP−1519−1、SP−1563、SP−2
500、VR60、VR77、VR90(以上、昭和高
分子(株)製)等が挙げられる。
レート化合物(C)の配合量は、(A)成分と(B)成
分と(C)成分の合計重量100重量部当たり、通常、
10〜95重量部でよく、好ましくは30〜90重量部
である。
カプト基と少なくとも一個の、式:−SiRaRbR
c(ここで、 Ra、 Rbおよび Rcは独立にアルキル
基、アルコキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基、ハ
ロゲン原子または水素原子を表す)で表される基を有す
る化合物(以下、オルガノシリル基含有メルカプタン
(D)という)が使用される。上記において、 Ra、
Rbおよび Rcで表されるアルキル基としては、例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基およびヘキシル基が挙げられ、アルコキシ基として
は、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基およ
びブトキシ基が挙げられ、ハロゲン原子としてはフッ
素、塩素、臭素の原子が挙げられる。
(D)としては、例えば、γ−メルカプトプロピルメチ
ルモノメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルモノエトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルジエトキシシラン、γ−メ
ルカプトプロピルトリエトキシシラン、β−メルカプト
エチルモノエトキシシラン、β−メルカプトエチルトリ
エトキシシラン、β−メルカプトエチルトリエトキシシ
ラン等が挙げられる。 これらの化合物のうち、特にγ
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカ
プトプロピルメチルジメトキシシラン、β−メルカプト
エチルトリエトキシシランが好ましい。これらは一種単
独でも二種以上の組み合わせでも使用することができ
る。該オルガノシリル基含有メルカプタン(D)は、例
えば、SH6062、AY43−062(以上、東レ・
ダウ・コーニング・シリコーン(株)製)等が挙げられ
る。
基含有メルカプタン(D)の配合量は、通常、(A)成
分と(B)成分と(B)成分の合計重量100重量部当
たり0.01重量部以上であり、好ましくは0.05〜
20重量部、特に好ましくは0.1〜10重量部であ
る。配合量が少なすぎると被接着基材、特に金属基材と
の接着性が不十分となることがある。
は、公知の放射線硬化性樹脂組成物に使用されるもので
あれば特に制限無く使用することが可能であり、例え
ば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、3
−メチルアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フ
ェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、ベ
ンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフ
ェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノ
ン、ベンゾフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,
4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ジアミノ
ベンゾフェノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンプロピルエーテル、ミヒラーズケトン、ベンジルジメ
チルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2
−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒ
ドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−ヒドロキシ−
2−メチルプロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−2−プロピ
ル)ケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フ
ェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,
4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネー
ト、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホス
フィンオキシド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−
1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン、
ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−
トリメチルペンチルホスフィンオキシド、メチルベンゾ
イルホルメート、チオキサントン、ジエチルチオキサン
トン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチ
オキサントン、オリゴ[2−ヒドロキシ−2−メチル−
1−[4−(1−メチルビニル)フェニル]プロパノ
ン]等が挙げられる。これらの中で好ましいものは、1
−ヒドロキシシクロヘキシルケトン、2−ベンジル−2
−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−
ブタン−1−オン、2−メチル−1−[4−(メチルチ
オ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、
ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−
トリメチルペンチルホスフィンオキシド、2,4,6−
トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、
2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネ
ートである。
184、261、369、500、651、907、C
GI−403、819、1700、1800、1850
(以上、チバガイギー社製)、Lucirin TP
O、LR8728、LR8893(以上、BASF社
製)、Darocur 953、1116、1173、
1664、2273、2959、ZL1 3331(以
上、メルク社製)、ユベクリルP36(UCB社製)、
VICURE55(アクゾ社製)、ESACUREKI
P100F、KIP150(LAMBERTI社製)、
KAYACUREITX、QTX、DETX、BMS
(以上、日本化薬(株)製)等の商品名で入手すること
ができる。これらの放射線重合開始剤のうち、IRGA
CURE184、369、651、907、CGI−1
700、1800、1850、Lucirin TP
O、LR8728、 LR8893が好ましい。これら
は、単独で用いてもまたは二種以上組み合わせて用いて
もよい。
合量は、(A)成分と(B)成分と(C)成分の合計重
量100重量部当たり、通常、0.1〜20重量部でよ
く、好ましくは0.5〜15重量部、特に好ましくは1
〜10重量部である。
種々の成分を本発明の目的が損なわれない範囲のおいて
配合することができる。反応成分として、例えば、(メ
タ)アクリロイル基を含む化合物以外のラジカル重合性
化合物を含むことができる。このような化合物として
は、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタ
ム、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、ジビ
ニルベンゼン、不飽和ポリエステル等を挙げることがで
きる。不飽和ポリエステルはラジカル重合性不飽和二重
結合を有するジカルボン酸とアルコール類のエステルで
あり、ラジカル重合性不飽和二重結合を有するジカルボ
ン酸としては無水マレイン酸、イタコン酸、フマル酸を
挙げることができ、アルコール類としては、メタノー
ル、エタノール、n−プロピルアルコール、iso−プ
ロピルアルコール、n−ブチルアルコール、iso−ブ
チルアルコール、sec−ブチルアルコール、tert
−ブチルアルコール、n−ヘキサノール、シクロヘキサ
ノール、2−エチルヘキシルアルコール等の一価アルコ
ール; エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール等の(ポリ)エチレングリコー
ル類; プロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール等の(ポリ)プロピレン
グリコール類; 1,6−ヘキサンジオール等の二価ア
ルコール; グリセリン、トリメチロールプロパン等の
三価アルコール等が挙げられる。
て、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポ
リウレタン、ポリブタジエン、クロロプレン、ポリエー
テル、ポリエステル、ペンタジエン誘導体、SBS(ス
チレン/ブタジエン/スチレンブロック共重合体)、S
BSの水添物、SIS(スチレン/イソプレン/スチレ
ンブロック共重合体)、石油樹脂、キシレン樹脂、ケト
ン樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オリゴマ
ー、ポリスルフィド系オリゴマー等を配合することがで
きる。
ば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、老化防止剤、
シランカップリング剤、消泡剤、レベリング剤、帯電防
止剤、界面活性剤、保存安定剤、熱重合禁止剤、可塑
剤、濡れ性改良剤等を配合することもできる。酸化防止
剤としては、例えば、フェノール系、ビスフェノール
系、高分子型フェノール系、イオウ系およびリン系の酸
化防止剤が挙げられ、市販品としては例えばIrgan
ox 245、259、565、1010、1035、
1076、1081、1098、1222、1330
(以上、チバガイギー社製)等の商品名が挙げられる。
系、トリアジン系の紫外線吸収剤が挙げられ、市販品と
しては、Tinuvin P、234、320、32
6、327、328、213、400(以上、チバガイ
ギー社製)、Sumisorb110、130、14
0、220、250、300、320、340、35
0、400(以上、住友化学(株)製)等の商品名が挙
げられる。
4、292、622LD(以上、チバガイギー社製)サ
ノールLS440、LS770(以上、三共(株)
製)、Sumisorb TM−061(住友化学
(株)製)等の商品名が挙げられる。光安定剤は(A)
成分、(B)成分および(C)成分の合計重量を100
重量部としたとき、5重量部以下配合できる。
剤、アリルアミン系老化防止剤、ケトンアミン系系老化
防止剤等が挙げられ、それらの市販品としてはAnti
gene W、S、P、3C、6C、RD−G、FR、
AW(以上、住友化学(株)製)等が挙げられる。
−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキ
シシラン、 N−(2−アミノエチル)−3−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−グリシドキシルプロピルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシルプロピルメチルジメトキ
シシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エ
チルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジ
メトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシ
ラン等が挙げられる。これらの市販品としては、サイラ
エースS310、S311、S320、S321、S3
30、S510、S520、S530、S610、S6
20、S710、S810(以上、チッソ(株)製)、
SH6020、SZ6023、SZ6030、SH60
40、SH6076、SZ6083(以上、東レ・ダウ
コーニング・シリコーン(株)製)、KBM403、K
BM503、KBM602、KBM603、KBM80
3、KBE903(以上、信越化学工業(株)製)等が
挙げられる。
2、AC−300、AC−303、AC−326F、A
C−900、AC−1190、AC−2000(以上、
共栄社化学(株)製)等の商品名で市販されているケイ
素やフッ素を含まない有機共重合体、フローレンAC−
901、AC−950、AC−1140、AO−3、A
O−4OH(以上、共栄社化学(株)製)、FS126
5、SH200、SH5500、SC5540、SC5
570、F−1、SD5590(以上、東レ・ダウ・コ
ーニング・シリコーン(株)製)等の商品名で市販され
ているシリコーン系消泡剤、メガファックF−142
D、F−144D、F−178K、F−179、F−8
15(以上、大日本インキ化学工業(株)製)等の商品
名で市販されているフッ素系消泡剤等が挙げられる。
7、No.38、No.50E、S、75、No.7
5、No.77、No.90、No.95、No.30
0、No.460、ATF、KL−245(以上、共栄
社化学(株)製)等が挙げられる。
10〜10000mPa・s、さらに好ましくは50〜
5000mPa・s、特に好ましくは150〜2000
mPa・sである。
通常、−30〜200℃、好ましくは0〜150℃、更
に好ましくは30〜120℃になるように各成分を配合
することが好ましい。ガラス転移温度が低すぎると夏場
や日当たりの良い閉め切った室内等で高温になった場合
硬化物が軟化して接着力が低下して被着体が剥がれたり
ずれたりする場合がある。逆に硬化物がガラス転移温度
が高すぎると十分な接着力が得られなかったり、接着し
たものを落下したり曲げたりすると割れる場合がある。
なお、ここでいうガラス転移温度は動的粘弾性測定装置
により振動周波数10で測定した損失正接(tanδ)
の極大値を示す温度で定義される。
脂組成物の場合と同様に紫外線、可視光線、電子線など
の照射により硬化させることができる。例えば、本発明
の組成物を接着剤層の厚みが10〜100μmになるよ
う被着体間に満たし、メタルハライドランプで50〜2
000mJ/cm2照射することで容易に硬化させるこ
とができ、被着体同士を接着することができる。
優れることが望ましく、例えば厚さ60μmの硬化物の
600〜700nmでの光透過率が、通常90%以上に
なることが望ましい。光透過率が90%未満であると、
DVD等の光ディスクの接着剤として使用した場合に得
られる光ディスクの外観が悪化したり、ディスクに記録
された情報を読みとるための光が接着剤硬化物層で弱め
られるため読みとりに障害を生じる場合がある。したが
って、本発明の組成物を調製する場合には硬化物の光透
過率が上記範囲を満足するように各成分を配合すること
が望ましい。
屈折率は25℃で通常1.51〜1.70の範囲内にな
るよう各成分を配合することが望ましい。この範囲外で
あるとディスクに記録された情報を読みとるときに障害
を生じる場合がある。
クリル酸メチル(PMMA)、ノルボルネン系樹脂等の
透明樹脂;金、アルミニウム等の金属;ガラス等の無機
材料等に良好な接着力を示し、光ディスク用接着剤とし
て好適である。光ディスクとしては、例えば、金属、金
属酸化物、酸化珪素、窒化珪素、炭化珪素など無機物か
らなる反射膜、半透明膜、誘電体膜、光磁気記録膜、相
変化膜等の情報記録膜や、有機色素、有機フォトクロミ
ック化合物等の有機化合物などからなる情報記録薄膜が
透明樹脂に積層されたディスク基板を情報記録薄膜が内
側になるように2枚接着してなる光ディスク、或いは上
記情報記録薄膜が透明樹脂に積層されたディスク基板と
透明樹脂からなるディスク基板とを情報記録薄膜が内側
になるように接着してなる光ディスク、或いは上記情報
記録薄膜が透明樹脂に積層されたディスク基板と記録能
を持たない無機物または有機物からなる薄膜が透明樹脂
に積層されたディスク基板とを情報記録薄膜が内側にな
るように接着してなる光ディスクが挙げられる。
るが、本発明はこれら実施例により何ら制限されるもの
ではない。 〔(A)成分であるウレタンアクリレートの合成〕合成例1 攪拌機、温度計を備えた1リットルのセパラブルフラス
コに、イソホロンジイソシアネート209g、3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエンを0.2g、
ジラウリル酸ジ−n−ブチルスズ0.8gを仕込み攪拌
し、乾燥空気雰囲気下、冷水浴で10℃に冷却した後、
内容物が10〜35℃に保たれるよう2−ヒドロキシエ
チルアクリレート109gを1時間かけて少量づつ添加
し反応させた。その後、水酸基価109.7mgKOH
/gのポリテトラメチレングリコール(商品名:PTM
G1000、三菱化学(株)製)480g添加し、40
〜60℃で5時間攪拌を継続し反応させた。その後、反
応生成物を取り出し、数平均分子量1650のウレタン
アクリレート(A1)を得た。
わりに水酸基価111.7mgKOH/gのポリエステ
ルジオール(商品名:クラポールP1010、クラレ
(株)製)472g使用した以外は、合成例1と同様の
操作を行い、数平均分子量1530のウレタンアクリレ
ート(A2)を得た。
わりに水酸基価55.2mgKOH/gのポリエ−テル
ジオール(商品名:PTG−L2000、保土谷化学工
業(株)製)956g使用した以外は、合成例1と同様
の操作を行い、数平均分子量2570のウレタンアクリ
レート(A3)を得た。
いて、撹拌機を備えた反応容器に、表1に示す組成で各
成分を仕込み、撹拌混合して組成物を調製した。また、
各比較例においては、表2に示す組成で各成分を同様に
混合して組成物を調製した。表1および表2に示すA1
〜A3は合成例1〜3で合成したウレタンアクリレート
A1〜A3を示し、他の成分は以下の通りである。な
お、(G)成分は比較例において(D)成分の代わりに
使用したものである。
シエチル〕ホスフェート(商品名:ビスコート3PA、
大阪有機化学工業(株)製) (C)成分 C1 フェノキシエチルアクリレート(商品
名:ビスコート192、大阪有機化学工業(株)製) C2 アクリロイルモルホリン(商品名:AC
MO、興人(株)製) C3 ビスフェノールAエポキシアクリレート
(商品名:VR77、昭和高分子(株)製) C4 ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジアクリレート(商品名:KAYARAD MA
NDA、日本化薬(株)製) C5 トリプロピレングリコールジ(メタ)ア
クリレート(商品名:APG−200、新中村化学工業
(株)製) C6 エチレンオキシド付加トリメチロールプ
ロパントリアクリレート C7 トリス(アクリロイルオキシエチル)イ
ソシアヌレート(商品名:アロニックス M−315、
東亜合成(株)製) C8 1,6−ヘキサンジオールジアクリレー
ト(商品名:1・6−HX−A、共栄社化学(株)製) C9 テトラヒドロフルフリルアクリレート
(商品名:ビスコート#150)
ラン(商品名: SH6062、東レ・ダウ・コーニン
グ・シリコーン(株)製) D2 γ−メルカプトプロピルメチルジメトキ
シシラン(商品名:AY43−062、東レ・ダウ・コ
ーニング・シリコーン(株)製) (E)成分 E1 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル
ケトン(商品名:Irgacure184、チバガイギ
ー社製) E2 2−メチル−1−[4−(メチルチオ)
フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン(商
品名:Irgacure907、チバガイギー社製) E3 2,4,6−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド(商品名:Lucirin
TPO、BASF社製) E4 2,4,6−トリメチルベンゾイルフェ
ニルホスフィネート(商品名:Lucirin LR8
893、BASF社製) E5 ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイ
ル)−フェニルホスフィンオキシド(商品名:CGI−
819、チバガイギー社製) E6 2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1
−(4−モルホリノフェニル)−ブタン−1−オン(商
品名:Irgacure369、チバガイギー社製)
−210MC、東レ・ダウ・コーニング・シリコーン
(株)製) G2 セチルメルカプタン G3 γ−(2−アミノエチル)アミノプロピ
ルトリメトキシシラン(商品名: SH6020、東レ
・ダウ・コーニング・シリコーン(株)製) G4 γ−メタクリロキシプロピルトリメトキ
シシラン(商品名:SZ6030、東レ・ダウ・コーニ
ング・シリコーン(株)製) G5 γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン(商品名:SH6040、東レ・ダウ・コーニン
グ・シリコーン(株)製) 次に、上記のようにして調製された各実施例および各比
較例の組成物について、粘度、基材に対する密着性およ
び耐湿熱性を以下のようにして測定、評価した。
o.2を用いて試料温度25℃で測定した。
(商品名:パンライト、帝人化成(株)製)にスピンコ
ーターで組成物を塗布し、メタルハライドランプを装着
したアイグラフィックス(株)製のコンベア型紫外線硬
化装置を用い、紫外線及び可視光線を窒素雰囲気下で照
射して膜厚50μmの硬化皮膜を得る。この時、照射光
量はアイグラフィックス(株)製の紫外線積算強度計を
用いて測定したところ、100mJ/cm2であった。
該硬化皮膜にカッターナイフにて互いに中央で約90度
で交差する、各々長さ1cmの二本の傷をクロスカット
状(十字状)に付けた後、セロテープをその上に張り付け
た後に急激に該セロテープを引き剥がすクロスカットセ
ロテープ剥離試験(JIS K 5400)を行った。該セロテ
ープ剥離試験によって硬化皮膜が剥がれた場合には接着
性不良と判定し、表3、表4で×で示した。また、剥が
れない場合を接着性良好と判定し表3、表4で○で示し
た。
同様のPC基板上にスパッタリング法により蒸着したア
ルミニウム皮膜にスピンコーターにて組成物を塗布し、
メタルハライドランプを装着したアイグラフィックス
(株)製のコンベア型紫外線硬化装置を用いて光量10
0mJ/cm2の光を窒素雰囲気下で照射して膜厚50
μmの硬化皮膜を得た。前述のPC基板の場合と同様に
してクロスカットセロテープ剥離試験を行い、アルミニ
ウム皮膜が接着剤硬化皮膜に付着してPC基板から剥離
した場合には接着性良好と判定し表3、表4に○で示し
た。また、全く剥がれない場合を接着性不良と判定し表
3、表4に×で示した。
C基板上にスパッタリング法により蒸着した金皮膜にス
ピンコーターにて組成物を塗布し、メタルハライドラン
プを装着したアイグラフィックス(株)製のコンベア型
紫外線硬化装置を用いて光量100mJ/cm2の光を
窒素雰囲気下で照射して膜厚50μmの硬化皮膜を得
た。前述のPC基板の場合と同様にしてクロスカットセ
ロテープ剥離試験を行い、金皮膜が接着剤硬化皮膜に付
着してPC基板から剥離した場合には接着性良好と判定
し表3、表4に○で示した。また、剥がれない場合を接
着性不良と判定し表3、表4に×で示した。
した。無垢のPC基板、PC基板にスパッタリングでア
ルミニウム皮膜をコートした基板、およびPC基板にス
パッタリングで金被膜をコートした基板の各々の上に、
と同様の方法で組成物の硬化皮膜を形成したのち、各
基板を80℃、相対湿度85%RHの恒温恒湿槽に96
時間放置した。その後、試験片の水分を拭き取ったの
ち、と同様の方法、基準で硬化皮膜の基板に対する接
着性を評価した。また、上記の高温高湿下のエージング
でアルミニウム被覆基板のアルミニウム被膜に腐食が認
められた場合には防食性の点で耐湿熱性は不良と評価し
表3、表4に×と示し、腐食が認められなかった場合に
は良好と評価し表3、表4に○と示した。
化性樹脂組成物は、従来の接着剤と比べて、基材である
樹脂、樹脂上に設けられた反射層および半透過層等に対
し優れた接着性を示し、硬化物は優れた耐熱性と耐湿性
を有するとともに光透過性に優れているので、DVD等
の光ディスクの製造に極めて有用である。
施態様を以下に記す。 1.(A)成分のウレタン(メタ)アクリレートの数平
均分子量が600〜10000である前記組成物。 2.(A)成分と(B)成分と(C)成分の合計100
重量部当り、(A)成分が5〜70重量部含まれる前記
組成物。 3.(A)成分と(B)成分と(C)成分の合計100
重量部当り、(B)成分が30〜90重量部含まれる前
記組成物。 4.(B)成分としてリン原子と結合する水酸基を含ま
ない、一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも
一個有するリン酸エステル化合物を含有する前記組成
物。 5.(A)成分と(B)成分と(C)成分の合計100
重量部当り、(B)成分が0.2〜10重量部含まれる
前記組成物。 6.(A)成分と(B)成分と(C)成分の合計100
重量部当り、(D)成分が0.05〜20重量部含まれ
る前記組成物。 7.25℃での粘度が10〜10000mPa・sであ
る前記組成物。 8.組成物に紫外線を照射して得られる硬化物のガラス
転移温度が−30〜200℃である前記組成物。組成物
に紫外線を照射して得られる硬化物の25℃における屈
折率が1.51〜1.70である前記組成物。
Claims (1)
- 【請求項1】(A)ポリオール化合物、ポリイソシアネ
ート化合物および水酸基含有(メタ)アクリレート化合
物を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレー
ト、(B)一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なく
とも一個有するリン酸エステル化合物、(C)前記
(A)成分および(B)成分以外の、一分子中に(メ
タ)アクリロイル基を少なくとも一個有する(メタ)ア
クリレート化合物、(D)一分子中に少なくとも一個の
メルカプト基と少なくとも一個の−SiRaRbRc(こ
こで、 Ra、 Rbおよび Rcは独立にアルキル基、アル
コキシ基、フェニル基、フェニルオキシ基、ハロゲン原
子または水素原子を表す)で表される基をもつ化合物、
ならびに(E)放射線重合開始剤を含有する放射線硬化
性樹脂組成物。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9279655A JPH11100419A (ja) | 1997-09-26 | 1997-09-26 | 放射線硬化性樹脂組成物 |
US09/160,546 US6440519B1 (en) | 1997-02-13 | 1998-09-25 | Photocurable adhesive for optical disk |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9279655A JPH11100419A (ja) | 1997-09-26 | 1997-09-26 | 放射線硬化性樹脂組成物 |
Publications (1)
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JPH11100419A true JPH11100419A (ja) | 1999-04-13 |
Family
ID=17614017
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP9279655A Pending JPH11100419A (ja) | 1997-02-13 | 1997-09-26 | 放射線硬化性樹脂組成物 |
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