JP2002129113A - 光ディスク用接着剤組成物 - Google Patents

光ディスク用接着剤組成物

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JP2002129113A JP2001119882A JP2001119882A JP2002129113A JP 2002129113 A JP2002129113 A JP 2002129113A JP 2001119882 A JP2001119882 A JP 2001119882A JP 2001119882 A JP2001119882 A JP 2001119882A JP 2002129113 A JP2002129113 A JP 2002129113A
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Abstract

(57)【要約】 【解決手段】 次の成分(A)〜(D); (A)ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物お
よび水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反応させ
て得られるウレタン(メタ)アクリレート、(B)ジア
ルキルアミノ安息香酸エステル、(C)ヒドロキシアル
キル(メタ)アクリレート、(D)2,2−ジメトキシ
−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトンからな
る群から選択される少なくとも1種の化合物を含有する
光ディスク用接着剤組成物。 【効果】 本発明の光ディスク用接着剤組成物は、速硬
化性とくにディスク端面における硬化性、優れた耐湿熱
性、アルミニウム等の金属との良好な密着性を有してい
るので光ディスクの製造に於いて従来の接着剤組成物と
比較して極めて有用である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光硬化型の光ディ
スク用接着剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、コンピューター装置技術、コンピ
ューターソフトウエア技術、通信技術等をはじめとする
情報技術の発展により、より多くの情報を高速に伝達す
ることが可能となってきている。これに伴いより多くの
情報を高密度に記録することができる記録媒体が望まれ
開発が進められつつある。このような高密度記録媒体と
してDVD(デジタルビデオディスクまたはデジタルバ
ーサタイルディスク)が次世代の汎用の記録媒体として
開発されている。DVDは従来のCD(コンパクトディ
スク)と異なり、2枚のディスクを張り合わせて製造さ
れるために張り合わせのための接着剤が必要となり、ホ
ットメルト接着剤、熱硬化型接着剤、嫌気硬化型接着剤
等を用いる試みがなされている。しかし、ホットメルト
接着剤では熱安定性や耐候性が十分ではなく高温環境下
で軟化するため接着強度が低下して貼り合わせたディス
クが剥がれたり変形したりする問題がある。また、透明
性が高くないため記録膜として金などの薄膜を有する二
層構造のDVDでは使用が困難である。熱硬化型接着剤
では硬化するときの熱によりディスクを構成する基材が
変形したり、硬化に要する時間が長い等の問題がある。
嫌気型接着剤も硬化に時間がかかるため生産性が低いと
いう問題がある。このような問題を解決する方法として
光硬化型の接着剤が提案されている。例えば、特開昭6
1−142545号公報および特開平6−89462号
公報にはウレタンアクリレートを主成分とする紫外線硬
化型樹脂接着剤が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の紫外線硬化型樹脂接着剤も、ディスクの端面における
硬化性、アルミニウム等の金属などとの接着性、耐湿熱
性等の点で未だ充分満足できるものではなかった。従っ
て、本発明が解決しようとする課題は、光ディスク用の
紫外線硬化型樹脂接着剤組成物であって、従来のものよ
りもディスクの端面における優れた硬化性、アルミニウ
ム等の金属との優れた接着性、および優れた耐湿熱性を
有する光ディスク用接着剤組成物を提供することにあ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、鋭意検討
した結果、ウレタン(メタ)アクリレートに以下の特定
の成分(B)〜(D)を組み合せることにより前記課題
を解決できることを見いだした。
【0005】すなわち、本発明は、次の成分(A)〜
(D); (A)ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物お
よび水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反応させ
て得られるウレタン(メタ)アクリレート、(B)ジア
ルキルアミノ安息香酸エステル、(C)ヒドロキシアル
キル(メタ)アクリレート、(D)2,2−ジメトキシ
−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロキ
シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン及び
1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトンからな
る群から選択される少なくとも1種の化合物を含有する
光ディスク用接着剤組成物を提供するものである。
【0006】
【発明の実施の形態】成分(A)のウレタン(メタ)ア
クリレートは、前記のとおりポリオール化合物、ポリイ
ソシアネート化合物および水酸基含有(メタ)アクリレ
ート化合物を反応させて得られる。
【0007】用いられるポリオール化合物としては、ポ
リエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリ
カーボネートポリオール、ポリカプロラクトンポリオー
ル、分子中に2個以上の水酸基を有する脂肪族炭化水
素、分子中に2個以上の水酸基を有する脂環式炭化水
素、分子中に2個以上の水酸基を有する不飽和炭化水素
等が用いられる。これらのポリオールは単独で用いるこ
とも、2種類以上併用することもできる。
【0008】上記ポリエーテルポリオールとしては、脂
肪族ポリエーテルポリオール、脂環式ポリエーテルポリ
オール、芳香族ポリエーテルポリオールを挙げることが
できる。
【0009】ここで、脂肪族ポリエーテルポリオールと
しては、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレ
ングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘ
キサメチレングリコール、ポリヘプタメチレングリコー
ル、ポリデカメチレングリコール、ペンタエリスリトー
ル、ジペンタエリスリトール、トリメチロールプロパ
ン、およびトリメチロールプロパンのエチレンオキサイ
ド付加トリオール、トリメチロールプロパンのプロピレ
ンオキサイド付加トリオール、トリメチロールプロパン
のエチレンオキサイドとプロピレンオキサイド付加トリ
オール、ペンタエリスリトールのエチレンオキサイド付
加テトラオール、ジペンタエリスリトールのエチレンオ
キサイド付加ヘキサオール等のアルキレンオキサイド付
加ポリオール等の多価アルコール、あるいは2種類以上
のイオン重合性環状化合物を開環重合させて得られるポ
リエーテルポリオール等が挙げられる。
【0010】なお、イオン重合性環状化合物としては、
例えばエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブテン
−1−オキシド、イソブテンオキシド、3,3−ビス
(クロロメチル)オキセタン、テトラヒドロフラン、2
−メチルテトラヒドロフラン、ジオキサン、トリオキサ
ン、テトラオキサン、シクロヘキセンオキシド、スチレ
ンオキシド、エピクロルヒドリン、グリシジルエーテ
ル、アリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルカー
ボネート、ブタジエンモノオキシド、イソプレンモノオ
キシド、ビニルオキセタン、ビニルテトラヒドロフラ
ン、ビニルシクロヘキセンオキシド、フェニルグリシジ
ルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、安息香酸グリ
シジルエステル等の環状エーテル類が挙げられる。上記
二種類以上のイオン重合性環状化合物の具体的な組み合
わせとしては、テトラヒドロフランとエチレンオキシ
ド、テトラヒドロフランとプロピレンオキシド、テトラ
ヒドロフランと2−メチルテトラヒドロフラン、テトラ
ヒドロフランと3−メチルテトラヒドロフラン、エチレ
ンオキシドとプロピレンオキシド、ブテン−1−オキシ
ドとエチレンオキシド、テトラヒドロフランとブテン−
1−オキシドとエチレンオキシド等を挙げることができ
る。
【0011】また、上記イオン重合性環状化合物と、エ
チレンイミン等の環状イミン類、β−プロピオラクト
ン、グリコール酸ラクチド等の環状ラクトン酸、あるい
はジメチルシクロポリシロキサン類とを開環共重合させ
たポリエーテルポリオールを使用することもできる。
【0012】脂環式ポリエーテルポリオールとしては、
例えば水添ビスフェノールAのアルキレンオキシド付加
ジオール、水添ビスフェノールFのアルキレンオキシド
付加ジオール、1,4−シクロヘキサンジオールのアル
キレンオキシド付加ジオール等が挙げられる。
【0013】芳香族ポリエーテルポリオールとしては、
例えばビスフェノールAのアルキレンオキシド付加ジオ
ール、ビスフェノールFのアルキレンオキシド付加ジオ
ール、ハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジオー
ル、ナフトハイドロキノンのアルキレンオキシド付加ジ
オール、アントラハイドロキノンのアルキレンオキシド
付加ジオール等が挙げられる。
【0014】上記ポリエーテルポリオールの市販品とし
ては、例えば脂肪族ポリエーテルポリオールとしては、
PTMG650、PTMG1000、PTMG2000
(以上、三菱化学(株)製)、PPG1000、EXC
ENOL1020、EXCENOL2020、EXCE
NOL3020、EXCENOL4020(以上、旭硝
子(株)製)、PEG1000、ユニセーフDC110
0、ユニセーフDC1800、ユニセーフDCB110
0、ユニセーフDCB1800(以上、日本油脂(株)
製)、PPTG1000、PPTG2000、PPTG
4000、PTG400、PTG650、PTG200
0、PTG3000、PTGL1000、PTGL20
00(以上、保土谷化学工業(株)製)、PPG40
0、PBG400、Z−3001−4、Z−3001−
5、PBG2000、PBG2000B(以上、第一工
業製薬(株)製)、TMP30、PNT4グリコール、
EDA P4、 EDA P8(以上、日本乳化剤
(株)製)、クオドロール(旭電化(株)製)が挙げら
れる。芳香族ポリエーテルポリオールとしてはユニオー
ルDA400、DA700、DA1000、DB400
(以上、日本油脂(株)製)等を挙げることができる。
【0015】また、上記ポリエステルポリオールは、多
価アルコールと多塩基酸とを反応させて得られる。ここ
で、多価アルコールとしては、エチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ポリ
テトラメチレングリコール、1,4−ブタンジオール、
1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオー
ル、1,7−ヘプタンジオール、1,8−オクタンジオ
ール、ネオペンチルグリコール、1,4−シクロヘキサ
ンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、
1,2−ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、
2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、3−メ
チル−1,5−ペンタンジオール、1,9−ノナンジオ
ール、2−メチル−1,8−オクタンジオール、グリセ
リン、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパ
ンのエチレンオキシド付加体、トリメチロールプロパン
のプロピレンオキシド付加体、トリメチロールプロパン
のエチレンオキシドとプロピレンオキシドの付加体、ソ
ルビトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリ
トール、アルキレンオキシド付加ポリオール等が挙げら
れる。また、多塩基酸としては、例えばフタル酸、イソ
フタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、フマル酸、アジ
ピン酸、セバシン酸等を挙げることができる。これらの
ポリエステルポリオールの市販品としては、クラポール
P1010、クラポールP2010、PMIPA、PK
A−A、PKA−A2、PNA−2000(以上、
(株)クラレ製)等を使用することができる。
【0016】また、上記ポリカーボネートポリオールと
しては、例えば式(1)で示されるポリカーボネートジ
オールが挙げられる。
【0017】
【化1】
【0018】(式中、R1は、炭素数2〜20のアルキ
レン基、(ポリ)エチレングリコール残基、(ポリ)プ
ロピレングリコール残基または(ポリ)テトラメチレン
グリコール残基を示し、mは1〜30の整数である。)
【0019】R1の具体例としては、次の化合物から両
末端水酸基を除いた残基、すなわち1,4−ブタンジオ
ール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキ
サンジメタノール、1、7−ヘプタンジオール、1,8
−オクタンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレ
ングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレング
リコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリ
コール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリ
コール、テトラプロピレングリコール等から水酸基を除
いた残基が挙げられる。これらのポリカーボネートポリ
オールの市販品としては、DN−980、DN−98
1、DN−982、DN−983(以上、日本ポリウレ
タン工業(株)製)、PC−8000(PPG社製)、
PNOC1000、PNOC2000、PMC100、
PMC2000(以上、(株)クラレ製)、プラクセル
CD−205、CD−208、CD−210、CD−
220、CD−205PL、CD−208PL、CD−
210PL、CD−220PL、CD−205HL、C
D−208HL、CD−210HL、CD−220H
L、CD−210T、CD−221T(以上、ダイセル
化学工業(株)製)等を使用することができる。
【0020】上記ポリカプロラクトンポリオールとして
は、εーカプロラクトンを例えば、エチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、
ポリプロピレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ポリテトラメチレングリコール、1,2−ポリブチ
レングリコール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペン
チルグリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノー
ル、1,4−ブタンジオール等のジオールに付加反応さ
せて得られるポリカプロラクトンジオールが挙げられ
る。これらの市販品としては、プラクセル 205、2
05AL、212、212AL、220、220AL
(以上、ダイセル化学工業(株)製)等を使用すること
ができる。
【0021】分子中に2個以上の水酸基を有する脂肪族
炭化水素としては、エチレングリコール、プロピレング
リコール、テトラメチレングリコール、1,4−ブタン
ジオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1、7−ヘプタンジオール、1,8−オク
タンジオール、1,9−ノナンジオール、ネオペンチル
グリコール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオ
ール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、2−メ
チル−1,8−オクタンジオール、ヒドロキシ末端水添
ポリブタジエン、グリセリン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ソルビトール等が挙げられ
る。
【0022】分子中に2個以上の水酸基を有する脂環式
炭化水素としては、例えば1,4−シクロヘキサンジオ
ール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、1,2−
ビス(ヒドロキシエチル)シクロヘキサン、ジシクロペ
ンタジエンのジメチロール化合物、トリシクロデカンジ
メタノール等が挙げられる。
【0023】分子中に2個以上の水酸基を有する不飽和
炭化水素としては、例えばヒドロキシ末端ポリブタジエ
ン、ヒドロキシ末端ポリイソプレン等が挙げられる。
【0024】さらにまた、上記以外のポリオールとして
は、例えばβ−メチル−δ−バレロラクトンジオール、
ひまし油変性ジオール、ポリジメチルシロキサンの末端
ジオール化合物、ポリジメチルシロキサンカルビトール
変性ジオール等が挙げられる。
【0025】これらのポリオール化合物の好ましい数平
均分子量は50〜15000、特に好ましくは250〜
800である。数平均分子量はゲルパーミエーションク
ロマトグラフ法(GPC)によるポリスチレン換算分子
量である。
【0026】また、上記ポリイソシアネート化合物とし
てはジイソシアネート化合物が好ましく、例えば2,4
−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイソ
シアネート、1,3−キシリレンジイソシアネート、
1,4−キシリレンジイソシアネート、1,5−ナフタ
レンジイソシアネート、m−フェニレンジイソシアネー
ト、p−フェニレンジイソシアネート、3,3′−ジメ
チル−4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、
4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、3,
3′−ジメチルフェニレンジイソシアネート、4,4′
−ビフェニレンジイソシアネート、1,6−ヘキサンジ
イソシアネート、イソホロンジイソシアネート、2,
2,4−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、
ビス(2−イソシアネートエチル)フマレート、6−イ
ソプロピル−1,3−フェニルジイソシアネート、4−
ジフェニルプロパンジイソシアネート、リジンジイソシ
アネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、水
添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレ
ンジイソシアネート等が挙げられる。これらのうち、特
に2,4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレ
ンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、水添ジフェニルメタ
ンジイソシアネート等が好ましい。これらのジイソシア
ネートは単独または2種類以上を組み合わせて用いるこ
とができる。
【0027】水酸基含有(メタ)アクリレートはエステ
ル残基に水酸基を有する(メタ)アクリレートであり、
例えば2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒド
ロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−
3−フェニルオキシプロピル(メタ)アクリレート、
1,4−ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、2
−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリロイルホスフェー
ト、4−ヒドロキシシクロヘキシル(メタ)アクリレー
ト、1,6−ヘキサンジオールモノ(メタ)アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールモノ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、
トリメチロールエタンジ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタ(メタ)アクリレート、あるいは下
記構造式(2)で表される(メタ)アクリレート等が挙
げられ、
【0028】
【化2】
【0029】〔式中、R2は水素原子またはメチル基を
示し、nは1〜15、好ましくは1〜4の整数を示
す〕、さらにアルキルグリシジルエーテル、アリルグリ
シジルエーテル、グリシジル(メタ)アクリレート等の
グリシジル基含有化合物と(メタ)アクリル酸との付加
反応により得られる化合物も挙げることができる。これ
らのうち、特に2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、
4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロ
キシアルキル(メタ)アクリレートが好ましい。
【0030】ウレタン(メタ)アクリレートの合成方法
は特に制限されないが、例えば次の(i)〜(iii)の
方法に従って行われる。 (i)(b)ポリイソシアネートおよび(c)水酸基含
有(メタ)アクリレートを反応させ、次いで(a)ポリ
オールの順に反応させる方法。 (ii)(a)ポリオール、(b)ポリイソシアネート、
(c)水酸基含有(メタ)アクリレートを一括に仕込ん
で反応させる方法。 (iii)(a)ポリオールおよび(b)ポリイソシアネ
ートを反応させ、次いで(c)水酸基含有(メタ)アク
リレートを反応させる方法。
【0031】本発明で用いるウレタン(メタ)アクリレ
ートの合成においては通常、ナフテン酸銅、ナフテン酸
コバルト、ナフテン酸亜鉛、ジラウリル酸ジ−n−ブチ
ルスズ、トリエチルアミン、1,4−ジアザビシクロ
〔2.2.2〕オクタン、1,4−ジアザ−2−メチル
ビシクロ〔2.2.2〕オクタン等のウレタン化触媒
を、反応物の総量100重量部に対して0.01〜1重
量部用いて反応を行うのが好ましい。この反応における
反応温度は、通常0〜90℃、好ましくは10〜80℃
である。
【0032】本発明で用いるウレタン(メタ)アクリレ
ートの好ましい数平均分子量は、400〜20000で
あり、特に700〜5000であることが好ましい。
【0033】本発明で用いる成分(A)のウレタン(メ
タ)アクリレートは、基材に対する密着力と組成物の粘
度の点から、組成物中20〜80重量%含まれるのが好
ましい。
【0034】本発明で用いる(B)成分としてはジアル
キルアミノ安息香酸のメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、イソアミル等のジアルキルアミノ安息香酸アルキル
エステルを挙げることができる。ここで、ジアルキルア
ミノ基のアルキル基としては炭素数1〜6のものが好ま
しい。エステル残基としては炭素数1〜6のアルキル基
が好ましい。またジアルキルアミノ基とカルボキシレー
ト基とはベンゼン環上のパラ位に結合しているのが好ま
しい。(B)成分はディスクを貼り合わせて硬化した
際、端面のタックをなくし、端面の硬化性を向上させる
のに役立つが、中でもp−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ルが好ましい。
【0035】これらの市販品としては、カヤキュアEP
A、カヤキュアDMBI(以上、日本化薬(株)製)等
が挙げられる。
【0036】本発明で用いる成分(B)のジアルキルア
ミノ安息香酸エステルの含有量は、端面の硬化性と耐湿
熱性の点から、組成物中0.05〜5重量%であるのが
好ましく、より好ましくは0.1〜3重量%、特に好ま
しくは0.2〜1重量%である。
【0037】本発明で用いる(C)成分としては2−ヒ
ドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ
プロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル
(メタ)アクリレートのヒドロキシC1−C6 アルキル
(メタ)アクリレートを挙げることができる。(B)成
分は耐湿熱性を向上させるのに役立つが、中でも4−ヒ
ドロキシブチル(メタ)アクリレートが好ましい。
【0038】これらの市販品としては、HEA、HP
A、4HBA(以上、大阪有機化学工業(株)製)、ラ
イトエステルHOA、ライトエステルHOP−A、ライ
トエステルHO、ライトエステルHOP、ライトエステ
ルHOB(以上、共栄社化学(株)製)等が挙げられ
る。
【0039】(C)成分であるヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレートの含有量は、耐湿熱性向上効果の点か
ら、組成物中5〜70重量%であるのが好ましく、より
好ましくは10〜50重量%である。
【0040】光重合開始剤である(D)成分は、2,2
−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン
−1−オン及び1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニ
ルケトンからなる群より選択される少なくとも1種の化
合物であるが、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニ
ルエタン−1−オンと2−ヒドロキシ−2−メチル−1
−フェニル、プロパン−1−オンを組み合わせて用いる
のがより好ましい。(D)成分の含有量は、耐湿熱性お
よび硬化性の点から、組成物中0.01〜15重量%で
あるのが好ましく、特に好ましくは0.1〜10重量%
である。
【0041】市販品としては、イルガキュア184、同
500、同651、ダロキュア1173、同4265
(以上チバ・スペシャルティー・ケミカルズ(株)製)
等が挙げられる。
【0042】本発明の光ディスク用接着剤組成物には、
成分(E)としてメトキシシリル基を有するチオール化
合物を含有させるのが、金との密着性を向上させる上で
好ましい。当該メトキシシリル基を有するチオール化合
物としては、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルメチルモノメトキシシラ
ン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン等
のメルカプトアルキル−モノ、ジまたはトリ−メトキシ
シランが挙げられる。(E)成分の含有量は、金との密
着性の点から、組成物中0.1〜5重量%であるのが好
ましく、より好ましくは0.3〜3重量%である。
【0043】これらの市販品としては、SH6062、
AY43−062(東レ・ダウコーニングシリコーン
(株)製)、サイラエースS810(チッソ(株)
製)、KBM803(信越化学工業(株)製)等が挙げ
られる。
【0044】本発明の光ディスク用接着剤組成物には、
成分(E)に加えてさらに成分(F)として芳香族チオ
ール化合物を含有させるのが、銀、シリコンアロイを用
いた場合の耐湿熱性を向上させる上で好ましい。当該芳
香族チオール化合物としては、メルカプト基を有する芳
香族複素環化合物が好ましく、具体例としてメルカプト
ベンズオキサゾール、メルカプトベンゾチアゾール、1
−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール等が
挙げられる。(F)成分の含有量は、銀、シリコンアロ
イとの耐湿熱性の点から、組成物中0.01〜5重量%
であるのが好ましく、より好ましくは0.05〜4重量
%である。
【0045】これらの市販品としては、ノクセラー
M、ノクセラー M−P、ノクラックMB、ノクラック
MMB(大内新興化学製)、アクセル M、アンテージ
MB(川口化学製)、サンセラー M、サンセラー M−
G(三新化学製)、ソクシノール M、スミライザー M
B(住友化学工業製)等が挙げられる。
【0046】本発明の組成物には、(A)〜(F)成分
の他に一分子中に(メタ)アクリロイル基を少なくとも
一個有する(C)成分以外の(メタ)アクリレート化合
物を含有させることができる。(メタ)アクリロイル基
を一つだけ有する単官能化合物と二つ以上有する多官能
化合物の何れの化合物を用いてもよく、適当な比率で併
用してもよい。
【0047】上記単官能化合物としては、例えばメチル
(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、
プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)
アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル
(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレー
ト、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メ
タ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、
ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アク
リレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチ
ル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)
アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル
(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレー
ト、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メ
タ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、オ
クタデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)
アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリ
レート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキ
シジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ベンジ
ル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アク
リレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ポ
リエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリ
プロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メト
キシエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エ
トキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエトキシ
エチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレング
リコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレ
ングリコール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジ
エニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリ
レート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ボ
ルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)ア
クリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、ジメ
チルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミ
ノエチル(メタ)アクリレート、7−アミノ−3,7−
ジメチルオクチル(メタ)アクリレート、(メタ)アク
リロイルモルホリン、2−(メタ)アクリロイルオキシ
エチルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキシエチ
ルヘキサヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオ
キシプロピルフタル酸、2−(メタ)アクリロイルオキ
シプロピルテトラヒドロフタル酸、2−(メタ)アクリ
ロイルオキシプロピルヘキサヒドロフタル酸、2−(メ
タ)アクリロイルオキシエチルコハク酸、トリフルオロ
エチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル
(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロプロピル(メ
タ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)ア
クリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリ
レート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチ
ル〕ホスフェート、モノ〔2−(メタ)アクリロイルオ
キシエチル〕ジフェニルホスフェート、モノ〔2−(メ
タ)アクリロイルオキシプロピル〕ホスフェート、下記
式(3)〜(5)で表される化合物を挙げることができ
る。
【0048】
【化3】
【0049】〔式中、R3は炭素数2〜6のアルキレン
基またはヒドロキシアルキレン基を示し、R4は水素原
子またはメチル基を示し、R5は水素原子または炭素数
1〜12のアルキル基を示し、pは0〜20の整数を示
す。〕
【0050】
【化4】
【0051】〔式中、R6は水素原子またはメチル基を
示し、R7は炭素数2〜8のアルキレン基を示し、qは
0〜8の整数を示す。〕
【0052】
【化5】
【0053】〔式中、R8は水素原子またはメチル基を
示し、R9は炭素数2〜8のアルキレン基を示し、rは
0〜8の整数を示し、R10およびR11は水素原子、炭素
数1〜6のアルキル基を示す。〕
【0054】これらの市販品としては、アロニックス
M101、M102、M110、M111、M113、
M114、M117、M120、M152、M154、
M5300、M5400、M5500、M5600(以
上、東亞合成(株)製)、KAYARAD TC−11
0S、R−128H、R629、R644(以上、日本
化薬(株)製)、IPAA、AIB、SBAA、TB
A、IAAA、HEXA、CHA、NOAA、IOA
A、INAA、LA、TDA、MSAA、CAA、HD
AA、LTA、STA、ISAA−1、ODAA、ND
AA、IBXA、ADAA、TCDA、2−MTA、D
MA、ビスコート #150、#150D、#155、
#158、#160、#190、#190D、#19
2、#193、#220、#320、#2311HP、
#2000、#2100、#2150、#2180、M
TG(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステ
ル M−20G、M−40G、M−90G、M−230
G、CB−1、SA、S、AMP−10G、AMP−2
0G、AMP−60G、AMP−90G、A−SA、N
LA(以上、新中村化学工業(株)製)、ACMO
((株)興人製)、ライトアクリレート IA−A、L
−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、DP
M−A、PO−A、P−200A、THF−A、IB−
XA、HOA−MS、HOA−MPL、HOA−MP
E、HOA−HH、IO−A、BZ−A、NP−EA、
NP−10EA、HOB−A、FA−108、エポキシ
エステルM−600A、ライトエステルP−M(以上、
共栄社化学(株)製)、FA−511、FA−512
A、FA−513A(以上、日立化成工業(株)製)、
AR−100、MR−100、MR−200、MR−2
60(以上、大八化学(株)製)、JAMP−100、
JAMP−514、JPA−514(以上、城北化学
(株)製)等が挙げられる。
【0055】また、上記多官能化合物としては、例えば
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタン
ジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジ
オールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)
アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アク
リレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メ
タ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メ
タ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオ
キシエチル(メタ)アクリレート、トリメチロールプロ
パンポリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリオキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンポリオキシエチル(メタ)
アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシ
アヌレートジ(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒド
ロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレ
ート、エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メ
タ)アクリレート、エチレンオキシド付加ビスフェノー
ルFジ(メタ)アクリレート、プロピレンオキシド付加
ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロピレン
オキシド付加ビスフェノールFジ(メタ)アクリレー
ト、トリシクロデカンジメタノールジ(メタ)アクリレ
ート、ビスフェノールAジエポキシジ(メタ)アクリレ
ート、ビスフェノールFジエポキシジ(メタ)アクリレ
ート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシエチル〕
ホスフェート、ビス〔2−(メタ)アクリロイルオキシ
プロピル〕ホスフェート、トリス〔2−(メタ)アクリ
ロイルオキシエチル〕ホスフェート等が挙げられる。
【0056】これらの市販品としては、SA−100
2、SA−2006、SA−2007、SA−410
0、 SA−5001、SA−6000、SA−760
0、SA−8000、SA−9000(以上、三菱化学
(株)製)、ビスコート #195、#195D、#2
14HP、#215、#215D、#230、#230
D、#260、#295、#295D、#300、#3
10HP、#310HG、#312、#335HP、#
335D、#360、GPT、#400、V#540、
#700、GPT、ビスコート3PA (以上、大阪有
機化学工業(株)製)、カヤラッドMANDA、R−5
26、NPGDA、PEG400DA、R−167、H
X−220、HX−620、R−551、R−712、
R−604、R−684、GPO−303、TMPT
A、THE−330、TPA−320、TPA−33
0、PET−30、RP−1040、T−1420、D
PHA、D−310、D−330、DPCA−20、D
PCA−30、DPCA−60、DPCA−120(以
上、日本化薬(株)製)、アロニックス M−210、
M−208、M−215、M−220、M−225、M
−233、M−240、M−245、M−260、M−
270、M−305、M−309、M−310、M−3
15、M−320、M−350、M−360、M−40
0、M−408、M−450(以上、東亞合成(株)
製)、SR−212、SR−213、SR−355(以
上、サートマー社製)、SP−1506、SP−150
7、SP−1509、SP−1519−1、SP−15
63、SP−2500、VR60、VR77、VR90
(以上、昭和高分子(株)製)、ライトエステルP−2
M(以上、共栄社化学(株)製)、EB−169、EB
−179、EB−3603、R−DX63182(以
上、ダイセルUCB(株)製)等が挙げられる。
【0057】本発明の組成物には、(A)〜(F)成分
の他に(D)成分以外の光重合開始剤を含有させること
ができる。例えば、3−メチルアセトフェノン、2,2
−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサント
ン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、ア
ントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3
−メチルアセトフェノン、ベンゾフェノン、4−クロロ
ベンゾフェノン、4,4′−ジメトキシベンゾフェノ
ン、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインエ
チルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ミヒラー
ズケトン、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソ
プロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロ
パン−1−オン、1−(4−ドデシルフェニル)−2−
ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、4−(2
−ヒドロキシエトキシ)フェニル−(2−ヒドロキシ−
2−プロピル)ケトン、2−メチル−1−[4−(メチ
ルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−
オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルフォ
スフィネート、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルフォスフィンオキシド、2−ベンジル−2−ジメ
チルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタン
−1−オン、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−
2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、
メチルベンゾイルホルメート、チオキサントン、ジエチ
ルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、
2−クロロチオキサントン、オリゴ[2−ヒドロキシ−
2−メチル−1−[4−(1−メチルビニル)フェニ
ル]プロパノン]等が挙げられる。これらは、組成物の
表面硬化性、硬化速度を高めるために使用される。その
使用量は(D)成分の70重量%以内を置き換える形で
使用するのが好ましい。
【0058】これらの市販品としてはイルガキュア26
1、369、907、819、1700、1800、1
850、2959、CGI−403、ダロキュア95
3、1116、1664、2273(以上、チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ(株)製)、ルシリンTPO、
LR8728、LR8893(以上、BASF社製)、
ユベクリルP36(UCB社製)、ヴァイキュア55
(アクゾ社製)、エザキュアKIP100F、KIP1
50(以上、ランベルティ社製)、カヤキュアCTX、
DETX、BP−100、BMS、2−EAQ(以上、
日本化薬(株)製)等を挙げることができる。
【0059】本発明の組成物には、(A)〜(F)成分
の他に(E)成分以外のシランカップリング剤を含有さ
せることができる。例えば、γ−メルカプトプロピルモ
ノエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルジエトキシ
シラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、
β−メルカプトエチルモノエトキシシラン、β−メルカ
プトエチルトリエトキシシラン、β−メルカプトエチル
トリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−
アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−ア
ミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリ
シドキシルプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシド
キシルプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4
−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロ
イルオキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられ
る。これらの市販品としては、サイラエースS310、
S311、S320、S321、S330、S510、
S520、S530、S610、S620、S710、
(以上、(株)チッソ製)、SH6020、SZ602
3、SZ6030、SH6040、SH6076、SZ
6083(以上、東レ・ダウコーニングシリコーン
(株)製)、KBM403、KBM503、KBM60
2、KBM603、KBE903(以上、信越化学工業
(株)製)等が挙げられる。
【0060】本発明の組成物には、(A)〜(F)成分
の他にアクリル基を含む化合物以外のラジカル重合性化
合物を含有させることができる。このような化合物とし
ては、N−ビニルピロリドン、N−ビニルカプロラクタ
ム、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、スチレン、ジビ
ニルベンゼン、不飽和ポリエステル等を挙げることがで
きる。上記不飽和ポリエステルはラジカル重合性不飽和
二重結合を有するジカルボン酸とアルコール類のエステ
ルであり、ラジカル重合性不飽和二重結合を有するジカ
ルボン酸としては無水マレイン酸、イタコン酸、フマル
酸を挙げることができ、アルコール類としては、メタノ
ール、エタノール、n−プロピルアルコール、iso−
プロピルアルコール、n−ブチルアルコール、iso−
ブチルアルコール、sec−ブチルアルコール、ter
t−ブチルアルコール、n−ヘキサノール、シクロヘキ
サノール、2−エチルヘキシルアルコール等の一価アル
コール;エチレングリコール、ジエチレングリコール、
トリエチレングリコール等の(ポリ)エチレングリコー
ル類;プロピレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール等の(ポリ)プロピレン
グリコール類;1,6−ヘキサンジオール等の二価アル
コール;グリセリン、トリメチロールプロパン等の三価
アルコール等が挙げられる。
【0061】また、本発明の組成物には、その他の添加
剤として、エポキシ樹脂、ポリアミド、ポリアミドイミ
ド、ポリウレタン、ポリブタジエン、クロロプレン、ポ
リエーテル、ポリエステル、ペンタジエン誘導体、SB
S(スチレン/ブタジエン/スチレンブロック共重合
体)、SBSの水添物、SIS(スチレン/イソプレン
/スチレンブロック共重合体)、石油樹脂、キシレン樹
脂、ケトン樹脂、フッ素系オリゴマー、シリコーン系オ
リゴマー、ポリスルフィド系オリゴマー等を配合するこ
とができる。
【0062】さらに上記以外の各種塗料添加剤、例えば
酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、老化防止剤、消
泡剤、レベリング剤、帯電防止剤、界面活性剤、保存安
定剤、熱重合禁止剤、可塑剤、濡れ性改良剤等を必要に
応じて配合することもできる。例えば、酸化防止剤とし
ては、イルガノックス245、259、565、101
0、1035、1076、1081、1098、122
2、1330(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカル
ズ(株)製)等が挙げられる。
【0063】紫外線吸収剤としてはベンゾトリアゾール
系、トリアジン系の紫外線吸収剤が挙げられ、市販品と
してはチヌビンP、234、320、326、327、
328、213、400(以上、チバ・スペシャルティ
・ケミカルズ(株)製)、スミソーブ110、130、
140、220、250、300、320、340、3
50、400(以上、住友化学工業(株)製)等が挙げ
られる。
【0064】光安定剤としては、チヌビン144、29
2、622LD(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ(株)製)サノールLS440、LS770(以
上、三共(株)製)、スミソーブTM−061(住友化
学工業(株)製)等が挙げられ、組成物中、5重量%以
下配合するのが好ましい。
【0065】老化防止剤としてはフェノール系老化防止
剤、アリルアミン系老化防止剤、ケトンアミン系系老化
防止剤等が挙げられ、それらの市販品としてはアンチゲ
ンW、S、P、3C、6C、RD−G、FR、AW(以
上、住友化学工業(株)製)等が挙げられる。
【0066】消泡剤としては、フローレンAC−20
2、AC−300、AC−303、AC−326F、A
C−900、AC−1190、AC−2000(以上、
共栄社化学(株)製)を例とするSi原子やF原子を含
まない有機共重合体、フローレンAC−901、AC−
950、AC−1140、AO−3、AO−4OH(以
上、共栄社化学(株)製)、FS1265、SH20
0、SH5500、SC5540、SC5570、F−
1、SD5590(以上、東レ・ダウコーニング・シリ
コーン(株)製)等のシリコン系消泡剤、メガファック
F−142D、F−144D、F−178K、F−17
9、F−815(以上、大日本インキ化学工業(株)
製)等のフッ素原子含有消泡剤等が挙げられる。
【0067】レベリング剤としては、ポリフローNo.
7、No.38、No.50E、S、75、No.7
5、No.77、No.90、No.95、No.30
0、No.460、ATF、KL−245(以上、共栄
社化学(株)製)等が挙げられる。これらの添加剤の使
用量は、本発明の組成物の目的を阻害しない範囲で必要
に応じて決めることができる。
【0068】本発明の組成物の粘度は、好ましくは10
〜10000mPa・s、さらに好ましくは50〜50
00mPa・s、特に好ましくは150〜2000mP
a・sである。
【0069】また、得られる硬化物のガラス転移温度が
通常、−30〜200℃、好ましくは0〜120℃にな
るように各成分を配合することが好ましい。ガラス転移
温度が低すぎると夏場や日当たりの良い閉め切った室内
等で高温になった場合硬化物が軟化して接着力が低下し
て被着体が剥がれたりずれたりする場合がある。逆に硬
化物がガラス転移温度が高すぎると十分な接着力が得ら
れなかったり、接着したものを落下したり曲げたりする
と割れる場合がある。
【0070】なお、ここでいうガラス転移温度は動的粘
弾性測定装置により振動周波数10で測定した損失正接
(tanδ)の極大値を示す温度で定義される。
【0071】本発明の組成物は、通常の光硬化型樹脂組
成物の場合と同様に紫外線、可視光線、電子線などの照
射により硬化させることができる。例えば、本発明の組
成物を接着剤層の厚みが10〜100μmになるよう被
着体間に満たし、メタルハライドランプで50〜200
0mJ/cm2照射することで容易に硬化し被着体どう
しを接着することができる。
【0072】また、本発明の組成物の光硬化物は透明性
に優れることが望ましく、例えば厚さ60μmの硬化物
の600〜700nmでの光透過率が、通常90%以上
になることが望ましい。光透過率が90%未満であると
光ディスクの外観が悪化したり、ディスクに記録された
情報を読みとるための光が接着剤硬化物層で弱められる
ため読みとりに障害を生じる場合がある。したがって、
本発明の組成物を配合する場合には硬化物の光透過率が
上記範囲を満足するように各成分を配合することが望ま
しい。
【0073】さらに、本発明の組成物の光硬化物の屈折
率は25℃で通常1.51〜1.70の範囲内になるよ
う各成分を配合することが望ましい。この範囲外である
とディスクに記録された情報を読みとるときに障害を生
じる場合がある。
【0074】本発明の組成物はポリカーボネート(P
C)やポリメタクリル酸メチル(PMMA)等のプラス
チック、アルミニウム等の金属、ガラス等の無機化合物
等に良好な接着力を示し、光ディスク用接着剤として好
適である。
【0075】
【実施例】以下に本発明に関して実施例を挙げて説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら制限されるもの
ではない。
【0076】〔(A)成分であるウレタンアクリレート
の合成〕合成例1 撹拌機、温度計を備えた1リットルのセパラブルフラス
コに、イソホロンジイソシアネート209g、3,5−
ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシトルエンを0.2g、
ジラウリル酸ジ−n−ブチルスズ0.8gを仕込み撹拌
し、乾燥空気雰囲気下で冷水浴で10℃に冷却した後、
内容物が10〜35℃に保たれるよう2−ヒドロキシエ
チルアクリレート109gを1時間かけて少量づつ添加
し反応させた。その後、平均分子量650のポリテトラ
メチレングリコール(商品名:PTMG650、三菱化
学(株)製)305.5g添加し、40〜60℃で5時
間撹拌を継続し反応させた。その後、反応物を取り出し
数平均分子量が1300のウレタンアクリレート(A
1)を得た。
【0077】合成例2 合成例1のポリテトラメチレングリコールの代わりに平
均分子量1000のポリテトラメチレングリコール(商
品名:PTMG1000、三菱化学(株)製)480g
使用した以外は、合成例1と同様の操作を行い、数平均
分子量1650のウレタンアクリレート(A2)を得
た。
【0078】実施例1 攪拌機を備えた反応容器に、合成例1で合成したウレタ
ンアクリレート(A1)40g、4−ヒドロキシブチル
アクリレート(C1)(市販品:4HBA、大阪有機化
学工業(株)製)20g、エチレンオキシド付加ビスフ
ェノールAジアクリレート(F1)(市販品:VR7
7、昭和高分子(株)製)15g、エチレングリコール
ジアクリレート(F2)(市販品:ライトアクリレート
4EGA、共栄社化学(株)製)25g、2,2−ジメ
トキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(市販
品:イルガキュア651、チバ・スペシャルティ・ケミ
カルズ(株)製)3g、2−ヒドロキシー2−メチル−
1−フェニルプロパン−1−オン(市販品:ダロキュア
1173、チバスペシャルティケミカルズ(株)製)3
g、ジメチルアミノ安息香酸エチル(市販品:カヤキュ
アEPA、日本化薬(株)製)0.5g、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン(市販品:SH6062
東レ・ダウコーニングシリコーン(株)製)1g、2,
2−チオジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート(市販
品:イルガノックス1035、チバ・スペシャルティ・
ケミカルズ(株)製)0.3gを加えて、50℃で1時
間攪拌して実施例1の組成物を得た。
【0079】実施例および比較例 <放射線硬化性塗膜形成用組成物の調製>配合を変えた
他は実施例1と同様にして、実施例2〜8および比較例
1〜3の塗膜用組成物を調製した。表1における各成分
は以下の通りである。表中の成分の配合量は重量部であ
る。 (B)成分 B1:p−ジメチルアミノ安息香酸エチル(市販品:カ
ヤキュアEPA、日本化薬(株)製) B2:ジメチルアミノ安息香酸イソアミル(市販品:カ
ヤキュアDMBI、日本化薬(株)製) (C)成分 C1:4−ヒドロキシブチルアクリレート(市販品:4
-HBA、大阪有機化学工業(株)製) (D)成分 D1:2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン
−1−オン(市販品:イルガキュア651、チバ・スペ
シャルティ・ケミカルズ(株)製) D2:2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プ
ロパン−1−オン(市販品:ダロキュア1173、チバ
・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) (E)成分 E1:γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン(市
販品:SH6062(東レ・ダウコーニングシリコーン
(株)製) (その他の成分) ・エチレンオキシド付加ビスフェノールAジ(メタ)ア
クリレート(市販品:VR77、昭和高分子(株)製) ・エチレングリコールジアクリレート(市販品:ライト
アクリレート 4EGA、共栄社化学(株)製) ・フェノキシエチルアクリレート(市販品:ニューフロ
ンティアPHE、第一工業製薬(株)製) ・2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−
2−モルホリノ−プロパン−1−オン(市販品:イルガ
キュア907、チバ ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製) ・2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート
(市販品:イルガノックス1035、チバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ(株)製) ・2−メルカプトベンゾチアゾール(東京化成工業
(株)製) ・1−フェニル−5−メルカプト−1H−テトラゾール
(東京化成工業(株)製)
【0080】次に、上記のようにして調製された組成物
(実施例1〜8および比較例1〜3)を用いて、各組成
物の端面硬化性、耐湿熱性、ならびに基材との密着性を
以下のようにして測定、評価した。
【0081】端面硬化性 組成物の塗膜厚が約50μmになるように、PC基板側
もしくはPC基板にスパッタリングして作製した金、
銀、あるいはシリコンアロイ基板側からコンベア式メタ
ルハライドランプを用いて光量500mJ/cm2の光
を照射して2枚の基板を接着した。その接着したディス
クの端面部を指で触った時、タック(粘性)がある場合
を端面硬化性不良と判定し、×と表記した。また、タッ
クがない場合を端面硬化性良好と判定し、○と表記し
た。また、光量250mJ/cm2の光を照射して接着
した場合でもタックが無い場合を◎と表記した。
【0082】耐湿熱性 と同様にして、光量500mJ/cm2の光を照射し
て基板を接着した。その後、温度90℃、相対湿度98
%RHの恒温恒湿槽に96時間放置した時に、接着剤層
もしくは接着剤と基板との界面に水泡、腐食等の異常が
見られた場合を耐湿熱性不良と判定し×で表記した。ま
た異常が見られない場合を耐湿熱性良好と判定し○で表
記した。
【0083】基材との接着性 PC基板上にスパッタリング法により蒸着したアルミニ
ウム皮膜、金皮膜、銀皮膜またはシリコンアロイ皮膜
(以下、「アルミニウム皮膜等」という。)に前記組成
物を塗布し、光量100mJ/cm2の光を窒素雰囲気
下で照射して膜厚50μmの前記組成物の硬化皮膜を得
た。クロスカットセロテープ(登録商標)剥離試験を行
い、アルミニウム皮膜等がPC基板から剥がれない場合
を接着性良好と判定した。また、一部でも剥離が見られ
る場合を接着性不良と判定した。
【0084】上記の評価を行った結果について、PC基
板にスパッタリングして作製したアルミニウム皮膜等と
PC基板の組み合わせで貼り合わせたものの結果を表1
に示す。この結果から、必須成分である(A)成分〜
(D)成分を全て含有する実施例1〜8は、硬化性、耐
湿熱性ならびにアルミニウムとの密着性において良好な
結果を示した。(E)成分を含有していない実施例6と
比較して、(E)成分を含有する実施例1〜5、7およ
び8では金との密着性がさらに向上していた。さらに、
(F)成分を含有する実施例7および8では、銀、シリ
コンアロイとの耐湿熱性がさらに向上していた。一方、
本発明で必須な(B)成分を含有していない比較例1で
は硬化性が悪かった。また(C)成分または/および
(D)成分を併用していない比較例2、3ではいずれも
耐湿熱性が悪かった。
【0085】
【表1】
【0086】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光ディス
ク用接着剤組成物は、速硬化性とくにディスク端面にお
ける硬化性、優れた耐湿熱性、アルミニウム等の金属と
の良好な密着性を有しているので光ディスクの製造に於
いて従来の接着剤組成物と比較して極めて有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 右近 正克 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 田辺 隆喜 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 宇加地 孝志 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Fターム(参考) 4J011 PA36 PA43 PA45 PA47 PB39 PB40 QA03 QB24 SA16 SA61 TA02 TA04 TA08 TA10 UA01 UA03 UA06 VA01 VA09 WA06 4J027 AC03 AC04 AC06 AG02 AG03 AG04 AG06 AG09 AG13 AG14 AG23 AG24 AG27 BA07 BA08 BA10 BA11 BA12 BA19 BA20 BA21 BA24 BA25 BA26 BA27 BA28 4J040 FA141 FA291 GA05 HB19 HB33 HC01 HD03 JB08 LA06 LA07 MA02 NA17 5D029 RA30

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の成分(A)〜(D); (A)ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物お
    よび水酸基含有(メタ)アクリレート化合物を反応させ
    て得られるウレタン(メタ)アクリレート、(B)ジア
    ルキルアミノ安息香酸エステル、(C)ヒドロキシアル
    キル(メタ)アクリレート、(D)2,2−ジメトキシ
    −1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロキ
    シ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン及び
    1−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトンからな
    る群から選択される少なくとも1種の化合物を含有する
    光ディスク用接着剤組成物。
  2. 【請求項2】 さらに、(E)メトキシシリル基を有す
    るチオール化合物を含有する請求項1記載の光ディスク
    用接着剤組成物。
  3. 【請求項3】 さらに(F)芳香族チオール化合物を含
    有する請求項1または2記載の光ディスク用接着剤組成
    物。
  4. 【請求項4】 (A)成分のポリオール化合物の数平均
    分子量が250〜800である請求項1〜3のいずれか
    1項記載の光ディスク用接着剤組成物。
  5. 【請求項5】 (B)成分がp−ジメチルアミノ安息香
    酸エチルである請求項1〜4のいずれか1項記載の光デ
    ィスク用接着剤組成物。
  6. 【請求項6】 (C)成分が4−ヒドロキシブチル(メ
    タ)アクリレートである請求項1〜5のいずれか1項記
    載の光ディスク用接着剤組成物。
  7. 【請求項7】 (D)成分が2,2−ジメトキシ−1,
    2−ジフェニルエタン−1−オンと2−ヒドロキシ−2
    −メチル−1−フェニルプロパン−1−オンを組み合わ
    せである請求項1〜6のいずれか1項記載の光ディスク
    用接着剤組成物。
  8. 【請求項8】 (F)成分がメルカプトベンズオキサゾ
    ール、メルカプトベンゾチアゾール、メルカプトベンズ
    イミダゾール及び1−フェニル−5−メルカプト−1H
    −テトラゾールからなる群から選択される1または2以
    上の化合物である請求項3〜7のいずれか1項記載の光
    ディスク用接着剤組成物。
  9. 【請求項9】 (A)〜(E)成分の含有量が、組成物
    中、(A)成分20〜80重量%、(B)成分0.05
    〜5重量%、(C)成分5〜70重量%、(D)成分
    0.01〜15重量%、(E)成分0.1〜5重量%で
    ある請求項2〜8のいずれか1項記載の光ディスク用接
    着剤組成物。
  10. 【請求項10】 (F)成分の含有量が、組成物中、
    0.01〜5重量%である請求項9記載の光ディスク用
    接着剤組成物。
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