JPH0673271A - 帯電防止可塑製品 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 可塑性を示す表面により近い層が、式
【化１】
［式中、Ｒ1およびＲ2は、所定の基を表す］を有する構
造単位から作られているポリチオフェンとポリアニオン
との調製物を含んでおり、遠い方の層がフィルム形成ポ
リマーを含んでおり、そしてこの２つの層の少なくとも
１つが、式 【化２】 Ｘ4-m−Ｓｉ（ＯＲ3）m （ＩＩ） ［式中、Ｒ3およびＸは、所定の基を表し、ｍは、１か
ら３である］を有するシランを含んでいるところの、少
なくとも２つの層を、帯電防止処理すべき表面の上に支
持している帯電防止処理可塑成形品。 【効果】 本発明は、優れた帯電防止特性の他に、非常
に良好な層接着性を有する帯電防止処理可塑成形品を提
供する。
造単位から作られているポリチオフェンとポリアニオン
との調製物を含んでおり、遠い方の層がフィルム形成ポ
リマーを含んでおり、そしてこの２つの層の少なくとも
１つが、式 【化２】 Ｘ4-m−Ｓｉ（ＯＲ3）m （ＩＩ） ［式中、Ｒ3およびＸは、所定の基を表し、ｍは、１か
ら３である］を有するシランを含んでいるところの、少
なくとも２つの層を、帯電防止処理すべき表面の上に支
持している帯電防止処理可塑成形品。 【効果】 本発明は、優れた帯電防止特性の他に、非常
に良好な層接着性を有する帯電防止処理可塑成形品を提
供する。
Description
【０００１】本発明は、ポリチオフェン調製物を基とす
る可塑成形品（ｐｌａｓｔｉｃ ｆｏｒｍｅｄ ａｒｔ
ｉｃｌｅｓ）、例えば写真フィルム支持体のための、接
着性を示す帯電防止仕上げに関する。
る可塑成形品（ｐｌａｓｔｉｃ ｆｏｒｍｅｄ ａｒｔ
ｉｃｌｅｓ）、例えば写真フィルム支持体のための、接
着性を示す帯電防止仕上げに関する。
【０００２】可塑成形品、特に写真材料用支持体のため
の帯電防止仕上げを行う目的で、ポリアニオン類を含ん
でいるポリチオフェン類の調製物を用いることは公知で
ある（ＥＰ−４４０，９５７）。この帯電防止層は、そ
の帯電防止効果は優れているが、接着性の点で欠点を有
していることがここに明らかになってきた。
の帯電防止仕上げを行う目的で、ポリアニオン類を含ん
でいるポリチオフェン類の調製物を用いることは公知で
ある（ＥＰ−４４０，９５７）。この帯電防止層は、そ
の帯電防止効果は優れているが、接着性の点で欠点を有
していることがここに明らかになってきた。
【０００３】この帯電防止効果を悪化させることなく上
記欠点を取り除くのが本発明の課題であった。
記欠点を取り除くのが本発明の課題であった。
【０００４】この課題は、驚くべきことに、可塑性を示
す表面により近い層が、式
す表面により近い層が、式
【０００５】
【化４】
【０００６】［式中、Ｒ1およびＲ2は、互いに独立し
て、水素またはＣ1−Ｃ4−アルキル基を表すか、或は一
緒になって、任意に置換されていてもよいＣ1−Ｃ4−ア
ルキレン基、好適にはアルキル基で任意に置換されてい
てもよいメチレン基、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはフェ
ニル基で任意に置換されていてもよい１，２−エチレン
基、１，３−プロピレン基、或は１，２−シクロヘキシ
レン基を形成している］を有する構造単位から作られて
いるポリチオフェンとポリアニオンとの調製物を含んで
おり、遠い方の層がフィルム形成ポリマーを含んでお
り、そしてこの２つの層の少なくとも１つが、式（Ｉ
Ｉ）
て、水素またはＣ1−Ｃ4−アルキル基を表すか、或は一
緒になって、任意に置換されていてもよいＣ1−Ｃ4−ア
ルキレン基、好適にはアルキル基で任意に置換されてい
てもよいメチレン基、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはフェ
ニル基で任意に置換されていてもよい１，２−エチレン
基、１，３−プロピレン基、或は１，２−シクロヘキシ
レン基を形成している］を有する構造単位から作られて
いるポリチオフェンとポリアニオンとの調製物を含んで
おり、遠い方の層がフィルム形成ポリマーを含んでお
り、そしてこの２つの層の少なくとも１つが、式（Ｉ
Ｉ）
【０００７】
【化５】 Ｘ4-m−Ｓｉ（ＯＲ3）m （ＩＩ） ［式中、Ｒ3は、水素原子、１０個未満の炭素原子を有
する脂肪族炭化水素基、或は１０個未満の炭素原子を有
するアシル基を表し、Ｘは、
する脂肪族炭化水素基、或は１０個未満の炭素原子を有
するアシル基を表し、Ｘは、
【０００８】
【化６】
【０００９】を表し、Ｒは、１から２０個のＣ原子を有
するヒドロカルビル基を表し、そしてｍは、１から３で
ある］を有するシランを含んでいるところの、少なくと
も２つの層を、該可塑成形品の、帯電防止処理すべき表
面に塗布することによって解決される。
するヒドロカルビル基を表し、そしてｍは、１から３で
ある］を有するシランを含んでいるところの、少なくと
も２つの層を、該可塑成形品の、帯電防止処理すべき表
面に塗布することによって解決される。
【００１０】Ｒ1とＲ2が一緒になって生じ得る任意に置
換されていてもよいＣ1−Ｃ4−アルキレン基の代表とし
て、好適には、α−オレフィン類、例えばエチレン、１
−プロペン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセ
ン、１−ドデセンおよびスチレンなどの臭素化で入手可
能な１，２−ジブロモアルカン類から誘導される１，２
−アルキレン基が挙げられ、また１，２−シクロヘキシ
レン、２，３−ブチレン、２，３−ジメチル−２，３−
ブチレンおよび２，３−ペンチレン基が挙げられる。
換されていてもよいＣ1−Ｃ4−アルキレン基の代表とし
て、好適には、α−オレフィン類、例えばエチレン、１
−プロペン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセ
ン、１−ドデセンおよびスチレンなどの臭素化で入手可
能な１，２−ジブロモアルカン類から誘導される１，２
−アルキレン基が挙げられ、また１，２−シクロヘキシ
レン、２，３−ブチレン、２，３−ジメチル−２，３−
ブチレンおよび２，３−ペンチレン基が挙げられる。
【００１１】Ｒ1およびＲ2に好適な基は、一緒に、メチ
レン、１，２−エチレンおよび１，３−プロピレン基で
あり、１，２−エチレン基が特に好適である。
レン、１，２−エチレンおよび１，３−プロピレン基で
あり、１，２−エチレン基が特に好適である。
【００１２】該ポリチオフェンのためのポリアニオン類
として、ポリマー状カルボン酸、例えばポリアクリル
酸、ポリメタアクリル酸またはポリマレイン酸など、並
びにポリマー状スルホン酸、例えばポリスチレンスルホ
ン酸およびポリビニルスルホン酸などのアニオン類を用
いることが可能である。これらのポリカルボン酸および
ポリスルホン酸類はまた、ビニルカルボン酸およびビニ
ルスルホン酸と他の重合可能モノマー類、例えばアクリ
ル酸エステルおよびスチレンなどとのコポリマー類であ
ってもよい。
として、ポリマー状カルボン酸、例えばポリアクリル
酸、ポリメタアクリル酸またはポリマレイン酸など、並
びにポリマー状スルホン酸、例えばポリスチレンスルホ
ン酸およびポリビニルスルホン酸などのアニオン類を用
いることが可能である。これらのポリカルボン酸および
ポリスルホン酸類はまた、ビニルカルボン酸およびビニ
ルスルホン酸と他の重合可能モノマー類、例えばアクリ
ル酸エステルおよびスチレンなどとのコポリマー類であ
ってもよい。
【００１３】これらのポリアニオンを与えるポリ酸類の
分子量は、好適には１０００から２，０００，０００、
特に２０，０００から２００，０００である。ポリ酸類
またはそれらのアルカリ塩類は、市販されている、例え
ばポリスチレンスルホン酸類およびポリアクリル酸類で
あるか、或は公知方法によって製造され得る（例えば、
Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ
ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｂｄ．Ｅ ２
０ Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｌａｒｅ Ｓｔｏｆｆｅ、
Ｔｅｉｌ ２ （１９８７）参照）。
分子量は、好適には１０００から２，０００，０００、
特に２０，０００から２００，０００である。ポリ酸類
またはそれらのアルカリ塩類は、市販されている、例え
ばポリスチレンスルホン酸類およびポリアクリル酸類で
あるか、或は公知方法によって製造され得る（例えば、
Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ
ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｂｄ．Ｅ ２
０ Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｌａｒｅ Ｓｔｏｆｆｅ、
Ｔｅｉｌ ２ （１９８７）参照）。
【００１４】本発明に従う調製物のポリチオフェン類お
よびポリアニオン類からの形成に必要な遊離ポリ酸の代
わりに、これらのポリ酸と相当する量のモノ酸のアルカ
リ塩混合物も使用できる。
よびポリアニオン類からの形成に必要な遊離ポリ酸の代
わりに、これらのポリ酸と相当する量のモノ酸のアルカ
リ塩混合物も使用できる。
【００１５】これらの調製物は、真の溶液、コロイド状
の溶液、或は細かく分割した分散液であってもよい。
の溶液、或は細かく分割した分散液であってもよい。
【００１６】これらの調製物の製造はＥＰ−Ａ−０ ４
４０ ９５７に記述されている。
４０ ９５７に記述されている。
【００１７】これらのポリチオフェン調製物のための溶
媒として、水の他に、他のプロトン性溶媒、例えば低級
アルコール類、例えばメタノール、エタノールおよびイ
ソプロパノールなど、並びに水と低級アルコール類およ
び水混和性を示す他の有機溶媒、例えばアセトンなどと
の混合物も可能である。
媒として、水の他に、他のプロトン性溶媒、例えば低級
アルコール類、例えばメタノール、エタノールおよびイ
ソプロパノールなど、並びに水と低級アルコール類およ
び水混和性を示す他の有機溶媒、例えばアセトンなどと
の混合物も可能である。
【００１８】これらのポリチオフェン調製物は、更に、
アニオン系、カチオン系またはノニオン系界面活性剤を
含んでいてもよい。これらの薬剤は、該ポリチオフェン
調製物の製造以前、製造中、或は製造後に添加されても
よい。これらの界面活性剤は、該ポリチオフェン調製物
の全固体を基準にして０から２０重量％の量で添加され
る。好適な薬剤は、アルキルフェノールポリグリコール
エーテルであり、例えば４モルのエチレンオキサイドと
１モルのノニルフェノールとの付加生成物である。
アニオン系、カチオン系またはノニオン系界面活性剤を
含んでいてもよい。これらの薬剤は、該ポリチオフェン
調製物の製造以前、製造中、或は製造後に添加されても
よい。これらの界面活性剤は、該ポリチオフェン調製物
の全固体を基準にして０から２０重量％の量で添加され
る。好適な薬剤は、アルキルフェノールポリグリコール
エーテルであり、例えば４モルのエチレンオキサイドと
１モルのノニルフェノールとの付加生成物である。
【００１９】これらの可塑成形品およびフィルムの帯電
防止処理では、例えばディップコーティング、キャステ
ィング、噴霧、グラビア印刷、ナイフコーティング、延
展などによる公知方法を用いて、該ポリチオフェン調製
物をそれらに塗布することができる。溶媒、例えば水な
どを除去した後直ちに、大気中の水分とは関係なく、該
ポリチオフェンから、その処理された支持体の上に存在
している帯電防止層が生じる。
防止処理では、例えばディップコーティング、キャステ
ィング、噴霧、グラビア印刷、ナイフコーティング、延
展などによる公知方法を用いて、該ポリチオフェン調製
物をそれらに塗布することができる。溶媒、例えば水な
どを除去した後直ちに、大気中の水分とは関係なく、該
ポリチオフェンから、その処理された支持体の上に存在
している帯電防止層が生じる。
【００２０】良好な接着性と耐引っかき性を示すコーテ
ィング物を得る目的で、該ポリチオフェン塩調製物に加
えて、水の中に懸濁可能か或は溶解可能なポリマー状結
合剤、例えばポリビニルアルコールまたはポリ酢酸ビニ
ル分散剤もまた添加可能である。
ィング物を得る目的で、該ポリチオフェン塩調製物に加
えて、水の中に懸濁可能か或は溶解可能なポリマー状結
合剤、例えばポリビニルアルコールまたはポリ酢酸ビニ
ル分散剤もまた添加可能である。
【００２１】酸に敏感な可塑成形品を用いる場合、そし
て塗布で用いる装置を保護する目的で、その可塑性を示
す支持体に塗布するに先立って、アルカリまたはアルカ
リ土類金属の水酸化物、アンモニアまたはアミン類を添
加することにより、本発明に従うポリチオフェン塩調製
物中の過剰な遊離酸基を中和するのが有利であり得る。
て塗布で用いる装置を保護する目的で、その可塑性を示
す支持体に塗布するに先立って、アルカリまたはアルカ
リ土類金属の水酸化物、アンモニアまたはアミン類を添
加することにより、本発明に従うポリチオフェン塩調製
物中の過剰な遊離酸基を中和するのが有利であり得る。
【００２２】帯電防止処理すべき可塑成形品およびフィ
ルムに本発明に従うポリチオフェン分散液を塗布した層
の、乾燥後の厚さは、この成形品の所望伝導率およびこ
のコーティング物の所望透明性に応じて、０．００１か
ら１００μｍ、好適には０．００１から０．５μｍであ
る。
ルムに本発明に従うポリチオフェン分散液を塗布した層
の、乾燥後の厚さは、この成形品の所望伝導率およびこ
のコーティング物の所望透明性に応じて、０．００１か
ら１００μｍ、好適には０．００１から０．５μｍであ
る。
【００２３】これらの溶液を塗布した後、単に室温で蒸
発させることによって溶媒を除去することが可能であ
る。しかしながら、より高い加工速度を得るためには、
上昇させた温度、例えば２０から１５０℃、好適には４
０から１００℃の温度で溶媒を除去するのがより有利で
ある。
発させることによって溶媒を除去することが可能であ
る。しかしながら、より高い加工速度を得るためには、
上昇させた温度、例えば２０から１５０℃、好適には４
０から１００℃の温度で溶媒を除去するのがより有利で
ある。
【００２４】該ポリチオフェン分散液は、酸基（塩）、
例えば−ＳＯ3 -、−ＣＯＯ-または−ＰＯ3 2-などを有す
るポリマーラテックスまたはポリマー分散液の存在下で
調製され得る。これらの酸基の含有量は、好適には、こ
の分散液の充分な安定性を保証する目的で２重量％以上
である。これらの分散液が有する粒子の大きさは、５ｎ
ｍから１μｍの範囲、好適には５から１００ｎｍの範囲
である。
例えば−ＳＯ3 -、−ＣＯＯ-または−ＰＯ3 2-などを有す
るポリマーラテックスまたはポリマー分散液の存在下で
調製され得る。これらの酸基の含有量は、好適には、こ
の分散液の充分な安定性を保証する目的で２重量％以上
である。これらの分散液が有する粒子の大きさは、５ｎ
ｍから１μｍの範囲、好適には５から１００ｎｍの範囲
である。
【００２５】この目的に適切なポリマー類は、例えばＤ
Ｅ−Ａ ２５ ４１ ２３０、ＤＥ−Ａ ２５ ４１ ２７
４、ＤＥ−Ａ ２８ ３５ ８５６、ＥＰ−Ａ−０ ０１４
９２１、ＥＰ−Ａ−０ ０６９ ６７１、ＥＰ−Ａ−０
１３０ １１５およびＵＳ−Ａ−４ ２９１ １１３に記
述されている。
Ｅ−Ａ ２５ ４１ ２３０、ＤＥ−Ａ ２５ ４１ ２７
４、ＤＥ−Ａ ２８ ３５ ８５６、ＥＰ−Ａ−０ ０１４
９２１、ＥＰ−Ａ−０ ０６９ ６７１、ＥＰ−Ａ−０
１３０ １１５およびＵＳ−Ａ−４ ２９１ １１３に記
述されている。
【００２６】これらの分散液もしくはラテックスは、線
状、分枝もしくは架橋ポリマー類から成っていてもよ
い。高い含有量の酸基を有する架橋ポリマーラテックス
は水中で膨潤性を示し、ミクロゲルと表示される。上記
ミクロゲルは、例えばＵＳ ４３０１ ２４０、ＵＳ ４
６７７ ０５０およびＵＳ ４ １４７ ５５０に記述され
ている。
状、分枝もしくは架橋ポリマー類から成っていてもよ
い。高い含有量の酸基を有する架橋ポリマーラテックス
は水中で膨潤性を示し、ミクロゲルと表示される。上記
ミクロゲルは、例えばＵＳ ４３０１ ２４０、ＵＳ ４
６７７ ０５０およびＵＳ ４ １４７ ５５０に記述され
ている。
【００２７】本発明に従って帯電防止的に、即ち電気伝
導的に処理される基質として、予め成形した有機プラス
チック製品、特にポリカーボネート類、ポリアミド類、
ポリエチレン類、ポリプロピレン類、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル類、酢酸セルロースおよびセルロースが挙
げられるが、無機材料、例えばガラスまたは酸化アルミ
ニウムおよび／または二酸化ケイ素から作られたセラミ
ック材料もまた、本発明に従う方法で帯電防止処理され
得る。
導的に処理される基質として、予め成形した有機プラス
チック製品、特にポリカーボネート類、ポリアミド類、
ポリエチレン類、ポリプロピレン類、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル類、酢酸セルロースおよびセルロースが挙
げられるが、無機材料、例えばガラスまたは酸化アルミ
ニウムおよび／または二酸化ケイ素から作られたセラミ
ック材料もまた、本発明に従う方法で帯電防止処理され
得る。
【００２８】本発明に従うポリチオフェン分散液はま
た、加熱シール可能なフィルム、例えばＤＥ−Ａ−３８
３８ ６５２に記述されている如きフィルムの帯電防止
処理、および磁気記録材料の帯電防止処理を行う目的で
も用いられ得る。
た、加熱シール可能なフィルム、例えばＤＥ−Ａ−３８
３８ ６５２に記述されている如きフィルムの帯電防止
処理、および磁気記録材料の帯電防止処理を行う目的で
も用いられ得る。
【００２９】本発明に従って入手可能なコーティング物
は、それらが示す透明性のため、好適には黒色層の形
態、即ちハロゲン化銀エマルジョン層から遠く離れてい
るフィルムベースの側に塗布されている層の状態で、写
真材料、特にフィルム、例えば白黒、カラーネガおよび
スライド用フィルムを帯電防止処理するに特に適切であ
る。
は、それらが示す透明性のため、好適には黒色層の形
態、即ちハロゲン化銀エマルジョン層から遠く離れてい
るフィルムベースの側に塗布されている層の状態で、写
真材料、特にフィルム、例えば白黒、カラーネガおよび
スライド用フィルムを帯電防止処理するに特に適切であ
る。
【００３０】該ポリチオフェン分散液は、好適には、
０．００１から０．３ｇ／ｍ2、好ましくは１ｍ2当たり
０．００１から０．０３ｇの固体量で塗布される。
０．００１から０．３ｇ／ｍ2、好ましくは１ｍ2当たり
０．００１から０．０３ｇの固体量で塗布される。
【００３１】好適なシラン類は、式
【００３２】
【化７】
【００３３】［式中、Ｒ4およびＲ5は、互いに独立し
て、１から４個の炭素原子を有するアルキレン基を表
し、そしてＲ6は、水素原子を表すか、或は１から１０
個の炭素原子を有するアルキル基を表す］に相当してい
る。
て、１から４個の炭素原子を有するアルキレン基を表
し、そしてＲ6は、水素原子を表すか、或は１から１０
個の炭素原子を有するアルキル基を表す］に相当してい
る。
【００３４】これらのシラン類は、該ポリチオフェン調
製物が有する固体に対して１から３００重量％、好適に
は１０から１００重量％の量で、該２つの層の１つか或
は両方の層に添加される。
製物が有する固体に対して１から３００重量％、好適に
は１０から１００重量％の量で、該２つの層の１つか或
は両方の層に添加される。
【００３５】好適には、その遠い方の層に、少なくとも
４０重量％のシランを添加する。
４０重量％のシランを添加する。
【００３６】その遠い方の層の適切なフィルム形成ポリ
マー材料は、例えばセルロース誘導体、例えば二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロ
ース、メチルセルロースまたはエチルセルロース、特に
二酢酸セルロースである。
マー材料は、例えばセルロース誘導体、例えば二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロ
ース、メチルセルロースまたはエチルセルロース、特に
二酢酸セルロースである。
【００３７】また適切なものは、ポリアクリレート類、
ポリ（メタアクリル酸メチル）類、ポリウレタン類、イ
オン照射で硬化可能なラッカーシステム、ポリスチレ
ン、或は基礎的なモノマー類のコポリマー類である。
ポリ（メタアクリル酸メチル）類、ポリウレタン類、イ
オン照射で硬化可能なラッカーシステム、ポリスチレ
ン、或は基礎的なモノマー類のコポリマー類である。
【００３８】その遠い方の層に、更に一層の物質、例え
ば滑剤、例えばポリエチレン分散液、展着剤、例えばポ
リアクリレートビードまたは微粉砕した無機顔料などを
添加してもよい。
ば滑剤、例えばポリエチレン分散液、展着剤、例えばポ
リアクリレートビードまたは微粉砕した無機顔料などを
添加してもよい。
【００３９】この遠い方の層は、有機溶媒、例えばアル
コール類、ケトン類、炭化水素または塩素置換炭化水素
などの溶液としてか、或は水溶液もしくは分散液の形態
で塗布される。
コール類、ケトン類、炭化水素または塩素置換炭化水素
などの溶液としてか、或は水溶液もしくは分散液の形態
で塗布される。
【００４０】水および／または有機溶媒の溶媒混合物も
使用できる。
使用できる。
【００４１】該フィルム形成有機ポリマーは、好適には
０．００１から２ｇ／ｍ2、特に０．１から１ｇ／ｍ2の
量で用いられる。
０．００１から２ｇ／ｍ2、特に０．１から１ｇ／ｍ2の
量で用いられる。
【００４２】
【実施例】実施例１ 裏面に帯電防止保護コーティング物を塗布した後、接着
層と一緒に表面に与えられている、厚さが１２５μｍの
透明なトリアセテート支持体に関して、下記の実施例に
従い、下記の組成を有する感光性多層構造物を該表面の
上にキャスティングする。
層と一緒に表面に与えられている、厚さが１２５μｍの
透明なトリアセテート支持体に関して、下記の実施例に
従い、下記の組成を有する感光性多層構造物を該表面の
上にキャスティングする。
【００４３】量に関するデータは各場合共１ｍ2に対し
て表されており、ハロゲン化銀の塗布はＡｇＮＯ3の当
量に相当しており、そして全てのハロゲン化銀エマルジ
ョンは、１００ｇのＡｇＮＯ3当たり０．１ｇの４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザ
インデンで安定化されている。
て表されており、ハロゲン化銀の塗布はＡｇＮＯ3の当
量に相当しており、そして全てのハロゲン化銀エマルジ
ョンは、１００ｇのＡｇＮＯ3当たり０．１ｇの４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザ
インデンで安定化されている。
【００４４】層構造：（表面） 第一層：（ハレーション防止層） ０．２ｇのコロイド状黒色銀 １．２ｇのゼラチン ０．１ｇのＵＶ吸収剤ＵＶ１ ０．２ｇのＵＶ吸収剤ＵＶ２ ０．０２ｇのトリクレジルホスフェート ０．０３ｇのフタル酸ジブチル 第二層：（ミクレート（ｍｉｃｒａｔｅ）中間層） ０．２５ｇのＡｇＮＯ3［ミクレート−Ａｇ（Ｂｒ，
Ｉ）の］ エマルジョン：平均粒子直径＝０．０７μｍ、０．５モ
ル％のヨウ化物 １．０ｇのゼラチン ０．０５ｇの着色したカプラーＲＭ １ ０．１０ｇのトリクレジルホスフェート 第三層：（低感度の赤色感光層） ２．２ｇのＡｇＮＯ3、４モル％のヨウ化物、平均粒子
直径０．４５μｍ、赤色感光 ２．０ｇのゼラチン ０．６ｇの無色青−緑色カプラーＣ１ ［トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）０．５ｇ中に乳
化］ ５０ｍｇの着色した青−緑色カプラーＲＭ １、および
３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ １ ［２０ｍｇのＴＣＰ中に乳化］ 第四層：（高感度の赤色感光層） ２．８ｇのＡｇＮＯ3、８．５モル％のヨウ化物、平均
粒子直径０．８μｍ、赤色感光 １．８ｇのゼラチン ０．１５ｇの無色青−緑色カプラーＣ２ ［フタル酸ジブチル（ＤＢＰ）０．１５ｇで乳化］ 第五層：（分離層） ０．７ｇのゼラチン ０．２ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．１５ｇのＤＢＰで乳化］ 第六層：（低感度の緑色感光層） １．８ｇのＡｇＮＯ3 ［スペクトルの緑感光Ａｇ（Ｂｒ，Ｉ）エマルジョン
の］４．５モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．
４μｍ、緑色感光 １．６ｇのゼラチン ０．６ｇの紫色カプラーＭ１ ５０ｍｇのマスキングカプラーＹＭ１ ［５０ｍｇのＴＣＰで乳化］ ３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ２ ［２０ｍｇのＤＢＰ中に乳化］ ３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ３ ［６０ｍｇのＴＣＰ中に乳化］ 第七層：（高感度の緑色感光層） ２．２ｇのＡｇＮＯ3 ７モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．７μｍ、
緑色感光 １．４ｇのゼラチン ０．１５ｇの紫色カプラーＭ２ ［０．４５ｇのＴＣＰで乳化］ ３０ｍｇのマスキングカプラー［第六層に従う］ ［３０ｍｇのＴＣＰで乳化］ 第八層：（分離層） ０．５ｇのゼラチン ０．１ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．０８ｇのＤＢＰで乳化］ 第九層：（黄色フィルター層） ０．２ｇのＡｇ（コロイド状黄色銀ゾル） ０．９ｇのゼラチン ０．２ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．１６ｇのＤＢＰで乳化］ 第十層：（低感度の青色感光層） ０．６ｇのＡｇＮＯ3 ４．９モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．４５
μｍ、青色感光 ０．８５ｇのゼラチン ０．７ｇの黄色カプラーＹ１ ［０．７ｇのＴＣＰで乳化］ ０．５ｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ３ ［０．５ｇのＴＣＰで乳化］ 第十一層：（高感度の青色感光層） １．０ｇのＡｇＮＯ3 ９．０モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．９μ
ｍ、青色感光 ０．８５ｇのゼラチン ０．３ｇの黄色カプラー［第十層に従う］ ［０．３ｇのＴＣＰで乳化］ 第十二層：（抗摩耗および硬化層） ０．５ｇのＡｇＮＯ3［ミクレート−Ａｇ（Ｂｒ，Ｉ）
の］ エマルジョンの平均粒子直径０．０７μｍ、０．５モル
％のヨウ化物 １．２ｇのゼラチン ０．４ｇの硬化剤 ［式ＣＨ2＝ＣＨ−ＳＯ2−ＣＨ2−ＣＯＮＨ−ＣＨ2）2
−の］ １．０ｇのホルムアルデヒドトラップ ［式
Ｉ）の］ エマルジョン：平均粒子直径＝０．０７μｍ、０．５モ
ル％のヨウ化物 １．０ｇのゼラチン ０．０５ｇの着色したカプラーＲＭ １ ０．１０ｇのトリクレジルホスフェート 第三層：（低感度の赤色感光層） ２．２ｇのＡｇＮＯ3、４モル％のヨウ化物、平均粒子
直径０．４５μｍ、赤色感光 ２．０ｇのゼラチン ０．６ｇの無色青−緑色カプラーＣ１ ［トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）０．５ｇ中に乳
化］ ５０ｍｇの着色した青−緑色カプラーＲＭ １、および
３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ １ ［２０ｍｇのＴＣＰ中に乳化］ 第四層：（高感度の赤色感光層） ２．８ｇのＡｇＮＯ3、８．５モル％のヨウ化物、平均
粒子直径０．８μｍ、赤色感光 １．８ｇのゼラチン ０．１５ｇの無色青−緑色カプラーＣ２ ［フタル酸ジブチル（ＤＢＰ）０．１５ｇで乳化］ 第五層：（分離層） ０．７ｇのゼラチン ０．２ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．１５ｇのＤＢＰで乳化］ 第六層：（低感度の緑色感光層） １．８ｇのＡｇＮＯ3 ［スペクトルの緑感光Ａｇ（Ｂｒ，Ｉ）エマルジョン
の］４．５モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．
４μｍ、緑色感光 １．６ｇのゼラチン ０．６ｇの紫色カプラーＭ１ ５０ｍｇのマスキングカプラーＹＭ１ ［５０ｍｇのＴＣＰで乳化］ ３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ２ ［２０ｍｇのＤＢＰ中に乳化］ ３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ３ ［６０ｍｇのＴＣＰ中に乳化］ 第七層：（高感度の緑色感光層） ２．２ｇのＡｇＮＯ3 ７モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．７μｍ、
緑色感光 １．４ｇのゼラチン ０．１５ｇの紫色カプラーＭ２ ［０．４５ｇのＴＣＰで乳化］ ３０ｍｇのマスキングカプラー［第六層に従う］ ［３０ｍｇのＴＣＰで乳化］ 第八層：（分離層） ０．５ｇのゼラチン ０．１ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．０８ｇのＤＢＰで乳化］ 第九層：（黄色フィルター層） ０．２ｇのＡｇ（コロイド状黄色銀ゾル） ０．９ｇのゼラチン ０．２ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．１６ｇのＤＢＰで乳化］ 第十層：（低感度の青色感光層） ０．６ｇのＡｇＮＯ3 ４．９モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．４５
μｍ、青色感光 ０．８５ｇのゼラチン ０．７ｇの黄色カプラーＹ１ ［０．７ｇのＴＣＰで乳化］ ０．５ｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ３ ［０．５ｇのＴＣＰで乳化］ 第十一層：（高感度の青色感光層） １．０ｇのＡｇＮＯ3 ９．０モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．９μ
ｍ、青色感光 ０．８５ｇのゼラチン ０．３ｇの黄色カプラー［第十層に従う］ ［０．３ｇのＴＣＰで乳化］ 第十二層：（抗摩耗および硬化層） ０．５ｇのＡｇＮＯ3［ミクレート−Ａｇ（Ｂｒ，Ｉ）
の］ エマルジョンの平均粒子直径０．０７μｍ、０．５モル
％のヨウ化物 １．２ｇのゼラチン ０．４ｇの硬化剤 ［式ＣＨ2＝ＣＨ−ＳＯ2−ＣＨ2−ＣＯＮＨ−ＣＨ2）2
−の］ １．０ｇのホルムアルデヒドトラップ ［式
【００４５】
【化８】
【００４６】を有する］ このカラー構造物の最終層厚（乾燥）は２４μｍであ
る。
る。
【００４７】
【化９】
【００４８】
【化１０】
【００４９】
【化１１】
【００５０】３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン
−ポリスチレン−スルホネート溶液１（ＰＥＤＴ／ＰＳ
Ｓ−１）の製造 １１００ｍＬの脱イオン水中２０ｇのポリスチレンスル
ホン酸（Ｍｎ４０，０００）、５．６ｇの３，４−エチ
レンジオキシチオフェン、２．７ｇの過二硫酸カリウム
（＝１０ミリモル）および２５ｍｇの硫酸鉄（ＩＩＩ）
から成る溶液の中に撹拌しながら室温で２４時間空気を
通す。次に、この青色溶液を濾布で濾過したが、これは
２．１重量％の固体含有量を有している。
−ポリスチレン−スルホネート溶液１（ＰＥＤＴ／ＰＳ
Ｓ−１）の製造 １１００ｍＬの脱イオン水中２０ｇのポリスチレンスル
ホン酸（Ｍｎ４０，０００）、５．６ｇの３，４−エチ
レンジオキシチオフェン、２．７ｇの過二硫酸カリウム
（＝１０ミリモル）および２５ｍｇの硫酸鉄（ＩＩＩ）
から成る溶液の中に撹拌しながら室温で２４時間空気を
通す。次に、この青色溶液を濾布で濾過したが、これは
２．１重量％の固体含有量を有している。
【００５１】ポリチオフェン−ポリスチレンスルホネー
ト溶液２（ＰＥＤＴ／ＰＳＳ ２）の製造 ９６６ｍＬの脱イオン水中２０ｇのポリスチレンスルホ
ン酸（Ｍｎ４０，０００）、５．６ｇの３，４−エチレ
ンジオキシチオフェン、８．１ｇの過二硫酸カリウム
（３０ミリモル）および５０ｍｇの硫酸鉄（ＩＩＩ）
（鉄含有量２２重量％）から成る溶液を、室温で２４時
間撹拌する。固体含有量が３．２重量％の青色３，４−
ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液が得られる。
ト溶液２（ＰＥＤＴ／ＰＳＳ ２）の製造 ９６６ｍＬの脱イオン水中２０ｇのポリスチレンスルホ
ン酸（Ｍｎ４０，０００）、５．６ｇの３，４−エチレ
ンジオキシチオフェン、８．１ｇの過二硫酸カリウム
（３０ミリモル）および５０ｍｇの硫酸鉄（ＩＩＩ）
（鉄含有量２２重量％）から成る溶液を、室温で２４時
間撹拌する。固体含有量が３．２重量％の青色３，４−
ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液が得られる。
【００５２】イオン交換を用いた脱塩 ５００ｍＬの上記ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液２を２５０ｍＬ
の水で希釈する。４０ｇの弱塩基性イオン交換体および
４０ｇの強酸性イオン交換体を添加した後、この溶液を
室温で８時間撹拌する。次に、このイオン交換体を濾別
することで、固体含有量が１．６重量％の脱塩ＰＥＤＴ
／ＰＳＳ溶液が得られる。この溶液はまだ０．４ｇ／Ｌ
のカリウムイオンと５ｍｇ／Ｌの硫酸塩イオンを含んで
いる、即ち該イオン交換体はカリウムイオンの量を７４
％減少させており、そして硫酸塩イオンの量を９９％減
少させていた。
の水で希釈する。４０ｇの弱塩基性イオン交換体および
４０ｇの強酸性イオン交換体を添加した後、この溶液を
室温で８時間撹拌する。次に、このイオン交換体を濾別
することで、固体含有量が１．６重量％の脱塩ＰＥＤＴ
／ＰＳＳ溶液が得られる。この溶液はまだ０．４ｇ／Ｌ
のカリウムイオンと５ｍｇ／Ｌの硫酸塩イオンを含んで
いる、即ち該イオン交換体はカリウムイオンの量を７４
％減少させており、そして硫酸塩イオンの量を９９％減
少させていた。
【００５３】帯電防止層１−４の製造 表１に従い、ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液１および２と適当量
の水、メタノール、アセトンおよび必要ならばシランと
を混合することによって、上記帯電防止溶液を混合した
後、この溶液を、折り畳んだフィルターを通して濾過
し、ウオッシュ−オンロール（ｗａｓｈ−ｏｎ ｒｏｌ
ｌ）を用いて、ディップパン（ｄｉｐ ｐａｎ）から塗
布することで、基質になっていない（ｕｎｓｕｂｓｔｒ
ａｔｅｄ）三酢酸セルロース支持体を生じさせた後、６
０−７０℃で乾燥した。この浸潤塗布率は計算値で２５
ｍＬ／ｍ2である。
の水、メタノール、アセトンおよび必要ならばシランと
を混合することによって、上記帯電防止溶液を混合した
後、この溶液を、折り畳んだフィルターを通して濾過
し、ウオッシュ−オンロール（ｗａｓｈ−ｏｎ ｒｏｌ
ｌ）を用いて、ディップパン（ｄｉｐ ｐａｎ）から塗
布することで、基質になっていない（ｕｎｓｕｂｓｔｒ
ａｔｅｄ）三酢酸セルロース支持体を生じさせた後、６
０−７０℃で乾燥した。この浸潤塗布率は計算値で２５
ｍＬ／ｍ2である。
【００５４】カバー層１−３の製造 表２に従い、シランを用いる場合、最初にアセトンとグ
リシドキシプロピルトリメトキシシランとを混合した
後、アセトン中の二酢酸セルロース溶液を撹拌しながら
加える。次に、適当量のメタノール、そして最後に、指
示した水とＰＥ分散液との混合物を上記混合物に加え
る。該帯電防止溶液と同様に、この溶液を該帯電防止層
に塗布した後、それと同様に乾燥する。この浸潤塗布厚
は計算値で１５μである。
リシドキシプロピルトリメトキシシランとを混合した
後、アセトン中の二酢酸セルロース溶液を撹拌しながら
加える。次に、適当量のメタノール、そして最後に、指
示した水とＰＥ分散液との混合物を上記混合物に加え
る。該帯電防止溶液と同様に、この溶液を該帯電防止層
に塗布した後、それと同様に乾燥する。この浸潤塗布厚
は計算値で１５μである。
【００５５】
【表１】
【００５６】
【表２】
【００５７】
【表３】
【００５８】表３に挙げる配列に従って該帯電防止層１
−５と該カバー層１−３を組み合わせる場合、下記が観
察される：該カバー層にシランを添加すると、この層の
接着性が大きく上昇し、そして適当量を添加した場合、
層剥離がゼロにまで減少する（表３、試験３および９を
参照）。同時に、この層が有する伝導率はまた処理後も
残存している。他方、該カバー層ではなく該帯電防止層
のみに該シランを添加すると、この層の接着性が悪化す
る、即ち層剥離が増大する（表３、試験１および２に比
較した試験４）。更に該カバー層にも該シランを添加す
ると、この層の接着性が再び一度に改良されることが観
察される（表３、試験５）。
−５と該カバー層１−３を組み合わせる場合、下記が観
察される：該カバー層にシランを添加すると、この層の
接着性が大きく上昇し、そして適当量を添加した場合、
層剥離がゼロにまで減少する（表３、試験３および９を
参照）。同時に、この層が有する伝導率はまた処理後も
残存している。他方、該カバー層ではなく該帯電防止層
のみに該シランを添加すると、この層の接着性が悪化す
る、即ち層剥離が増大する（表３、試験１および２に比
較した試験４）。更に該カバー層にも該シランを添加す
ると、この層の接着性が再び一度に改良されることが観
察される（表３、試験５）。
【００５９】実施例２ トリアセテートの代わりにＰＥＴ支持体を用いる場合、
接着性を示すＰＥＤＴ／ＰＳＳ層を得る目的で下記の溶
液を用いた：ポリチオフェン−ポリスチレンスルホネート溶液（ＰＥ
ＤＴ−ＰＳＳ ３）の製造 全溶液が１リットルになるような量の脱イオン水中、２
０ｇのポリスチレンスルホン酸（Ｍｎ＝４０，００
０）、５．６ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェ
ン、１３ｇの過二硫酸カリウムおよび１００ｍｇの硫酸
鉄（ＩＩＩ）（９Ｈ2Ｏ）から成る溶液を、室温で２４
時間撹拌する。固体含有量が３．８重量％の青色３，４
−ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液が得られる。
接着性を示すＰＥＤＴ／ＰＳＳ層を得る目的で下記の溶
液を用いた：ポリチオフェン−ポリスチレンスルホネート溶液（ＰＥ
ＤＴ−ＰＳＳ ３）の製造 全溶液が１リットルになるような量の脱イオン水中、２
０ｇのポリスチレンスルホン酸（Ｍｎ＝４０，００
０）、５．６ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェ
ン、１３ｇの過二硫酸カリウムおよび１００ｍｇの硫酸
鉄（ＩＩＩ）（９Ｈ2Ｏ）から成る溶液を、室温で２４
時間撹拌する。固体含有量が３．８重量％の青色３，４
−ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液が得られる。
【００６０】イオン交換を用いた脱塩（ＰＥＤＴ／ＰＳ
Ｓ ４） １０００ｍＬの上記ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液を１００ｍＬ
の水で希釈する。１００ｇの弱塩基性イオン交換体およ
び１００ｇの強酸性イオン交換体を添加した後、この溶
液を室温で６時間撹拌する。その後、このイオン交換体
を濾別することで、固体含有量が１．２８重量％の脱塩
ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液が得られる。この溶液はまだ１リ
ットル当たり０．４ｇのカリウムイオンのみを含んでお
り、実質的に硫酸塩イオンを含んでいない。
Ｓ ４） １０００ｍＬの上記ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液を１００ｍＬ
の水で希釈する。１００ｇの弱塩基性イオン交換体およ
び１００ｇの強酸性イオン交換体を添加した後、この溶
液を室温で６時間撹拌する。その後、このイオン交換体
を濾別することで、固体含有量が１．２８重量％の脱塩
ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液が得られる。この溶液はまだ１リ
ットル当たり０．４ｇのカリウムイオンのみを含んでお
り、実質的に硫酸塩イオンを含んでいない。
【００６１】帯電防止層６−９の製造 ４３０ｇの上記ＰＥＤＴ／ＰＳＳ−４溶液と５０７０ｍ
Ｌの水とを混合する。この溶液を、副次的に分割した
後、表４に従い、この溶液の一部にグリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランを添加する。
Ｌの水とを混合する。この溶液を、副次的に分割した
後、表４に従い、この溶液の一部にグリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランを添加する。
【００６２】次に、塩化ビニリデン／メタアクリレート
／イタコン酸のターポリマーラテックスとコロイド状サ
リチル酸とから成る表面積が１００ｍ2／ｇの接着層が
備わっているポリエチレンテレフタレート支持体（ＰＥ
Ｔ）に、表４に従い、上記溶液の一部を塗布する。
／イタコン酸のターポリマーラテックスとコロイド状サ
リチル酸とから成る表面積が１００ｍ2／ｇの接着層が
備わっているポリエチレンテレフタレート支持体（ＰＥ
Ｔ）に、表４に従い、上記溶液の一部を塗布する。
【００６３】浸潤塗布率：２０ｍＬ／ｍ2 キャスティング速度：１０ｍ／分 乾燥温度：１００℃
【００６４】
【表４】 重量％で表したシラン値は、該層の固体に対してであ
る。
る。
【００６５】該帯電防止層溶液６−９に平行して、表５
に挙げるカバー層溶液４−６を調製する。これらは、８
０／２０のアセトン／メトキシプロパノール中のポリ
（メタアクリル酸メチル）溶液から成っており、０．５
ｇ／ｍ2の乾燥フィルム厚で塗布する。これらは更に、
表５に従う種々の量のグリシドキシプロピルトリメトキ
シシランを含んでいる。
に挙げるカバー層溶液４−６を調製する。これらは、８
０／２０のアセトン／メトキシプロパノール中のポリ
（メタアクリル酸メチル）溶液から成っており、０．５
ｇ／ｍ2の乾燥フィルム厚で塗布する。これらは更に、
表５に従う種々の量のグリシドキシプロピルトリメトキ
シシランを含んでいる。
【００６６】浸潤塗布率：２０ｍＬ／ｍ2 キャスティング速度：８ｍ／分 乾燥温度：１２０℃
【００６７】
【表５】 表６に従って、該帯電防止層６−９と該カバー層４−６
を組み合わせる場合、下記が観察される：該帯電防止層
のみに該エポキシシランを添加すると、カバー層が付い
ていない帯電防止層の層接着性のみが改良される。
を組み合わせる場合、下記が観察される：該帯電防止層
のみに該エポキシシランを添加すると、カバー層が付い
ていない帯電防止層の層接着性のみが改良される。
【００６８】該カバー層のみに該エポキシシランを添加
すると、該帯電防止層に対するこのカバー層の接着性が
改良される。
すると、該帯電防止層に対するこのカバー層の接着性が
改良される。
【００６９】該帯電防止層とカバー層にエポキシシラン
を添加したときの、帯電防止層とカバー層の浸潤接着性
は良好である。
を添加したときの、帯電防止層とカバー層の浸潤接着性
は良好である。
【００７０】以下の表６中、 Ａ．Ｌ．＝帯電防止層 Ｃ．Ｌ．＝カバー層 Ω／□＝抵抗／平方 τ＝放電時間 である。
【００７１】放電時間が短ければ短い程、関連したサン
プルの帯電防止特性が良好になる。
プルの帯電防止特性が良好になる。
【００７２】
【表６】
【００７３】本発明の特徴および態様は以下のとうりで
ある。
ある。
【００７４】１．可塑性を示す表面により近い層が、式
【００７５】
【化１２】
【００７６】［式中、Ｒ1およびＲ2は、互いに独立し
て、水素またはＣ1−Ｃ4−アルキル基を表すか、或は一
緒になって、任意に置換されていてもよいＣ1−Ｃ4−ア
ルキレン基、好適にはアルキル基で任意に置換されてい
てもよいメチレン基、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはフェ
ニル基で任意に置換されていてもよい１，２−エチレン
基、１，３−プロピレン基、或は１，２−シクロヘキシ
レン基を形成している］を有する構造単位から作られて
いるポリチオフェンとポリアニオンとの調製物を含んで
おり、遠い方の層がフィルム形成ポリマーを含んでお
り、そしてこの２つの層の少なくとも１つが、式（Ｉ
Ｉ）
て、水素またはＣ1−Ｃ4−アルキル基を表すか、或は一
緒になって、任意に置換されていてもよいＣ1−Ｃ4−ア
ルキレン基、好適にはアルキル基で任意に置換されてい
てもよいメチレン基、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはフェ
ニル基で任意に置換されていてもよい１，２−エチレン
基、１，３−プロピレン基、或は１，２−シクロヘキシ
レン基を形成している］を有する構造単位から作られて
いるポリチオフェンとポリアニオンとの調製物を含んで
おり、遠い方の層がフィルム形成ポリマーを含んでお
り、そしてこの２つの層の少なくとも１つが、式（Ｉ
Ｉ）
【００７７】
【化１３】 Ｘ4-m−Ｓｉ（ＯＲ3）m （ＩＩ） ［式中、Ｒ3は、水素原子、１０個未満の炭素原子を有
する脂肪族炭化水素基、或は１０個未満の炭素原子を有
するアシル基を表し、Ｘは、
する脂肪族炭化水素基、或は１０個未満の炭素原子を有
するアシル基を表し、Ｘは、
【００７８】
【化１４】
【００７９】を表し、Ｒは、１から２０個のＣ原子を有
するヒドロカルビル基を表し、そしてｍは、１から３で
ある］を有するシランを含んでいるところの、少なくと
も２つの層を、帯電防止処理すべき表面の上に支持して
いる帯電防止処理可塑成形品。
するヒドロカルビル基を表し、そしてｍは、１から３で
ある］を有するシランを含んでいるところの、少なくと
も２つの層を、帯電防止処理すべき表面の上に支持して
いる帯電防止処理可塑成形品。
【００８０】２．該エポキシシランが、式
【００８１】
【化１５】
【００８２】および
【００８３】
【化１６】
【００８４】［式中、Ｒ4およびＲ5は、互いに独立し
て、１から４個の炭素原子を有するアルキレン基を表
し、そしてＲ6は、水素原子を表すか、或は１から１０
個の炭素原子を有するアルキル基を表す］の１つを有す
ることを特徴とする、第１項記載の可塑成形品。
て、１から４個の炭素原子を有するアルキレン基を表
し、そしてＲ6は、水素原子を表すか、或は１から１０
個の炭素原子を有するアルキル基を表す］の１つを有す
ることを特徴とする、第１項記載の可塑成形品。
【００８５】３．一方の側に第１項記載の少なくとも２
つの層を含んでいることを特徴とする、もう１つの側に
少なくとも１種のハロゲン化銀エマルジョン層を含んで
いる可塑基材が備わっている写真材料。
つの層を含んでいることを特徴とする、もう１つの側に
少なくとも１種のハロゲン化銀エマルジョン層を含んで
いる可塑基材が備わっている写真材料。
【００８６】４．該可塑基材が透明な三酢酸セルロース
またはポリエステルフィルムであることを特徴とする、
第３項記載の写真材料。
またはポリエステルフィルムであることを特徴とする、
第３項記載の写真材料。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フリードリヒ・ヨナス ドイツ連邦共和国デー5100アーヘン・クル ゲンオーフエン15 (72)発明者 バボ・ムイス ベルギー・ビー−2640モルツエル・マール デリトイストラート32 (72)発明者 デイルク・クインテンス ベルギー・ビー−2500リール・ニーウボー ルトストラート22ツエー
Claims (2)
- 【請求項１】 可塑性を示す表面により近い層が、式 【化１】 ［式中、Ｒ1およびＲ2は、互いに独立して、水素または
Ｃ1−Ｃ4−アルキル基を表すか、或は一緒になって、任
意に置換されていてもよいＣ1−Ｃ4−アルキレン基、好
適にはアルキル基で任意に置換されていてもよいメチレ
ン基、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはフェニル基で任意に
置換されていてもよい１，２−エチレン基、１，３−プ
ロピレン基、或は１，２−シクロヘキシレン基を形成し
ている］を有する構造単位から作られているポリチオフ
ェンとポリアニオンとの調製物を含んでおり、遠い方の
層がフィルム形成ポリマーを含んでおり、そしてこの２
つの層の少なくとも１つが、式（ＩＩ） 【化２】 Ｘ4-m−Ｓｉ（ＯＲ3）m （ＩＩ） ［式中、Ｒ3は、水素原子、１０個未満の炭素原子を有
する脂肪族炭化水素基、或は１０個未満の炭素原子を有
するアシル基を表し、Ｘは、 【化３】 を表し、Ｒは、１から２０個のＣ原子を有するヒドロカ
ルビル基を表し、そしてｍは、１から３である］を有す
るシランを含んでいるところの、少なくとも２つの層
を、帯電防止処理すべき表面の上に支持している帯電防
止処理可塑成形品。 - 【請求項２】 一方の側に請求項１記載の少なくとも２
つの層を含んでいることを特徴とする、もう１つの側に
少なくとも１種のハロゲン化銀エマルジョン層を含んで
いる可塑基材が備わっている写真材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| DE4211461.6 | 1992-04-06 | ||
| DE4211461A DE4211461A1 (de) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | Antistatische Kunststoffteile |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
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| JPH0673271A true JPH0673271A (ja) | 1994-03-15 |
| JP3205640B2 JP3205640B2 (ja) | 2001-09-04 |
Family
ID=6456171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09840693A Expired - Lifetime JP3205640B2 (ja) | 1992-04-06 | 1993-04-02 | 帯電防止可塑製品 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5370981A (ja) |
| EP (1) | EP0564911B1 (ja) |
| JP (1) | JP3205640B2 (ja) |
| DE (2) | DE4211461A1 (ja) |
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| EP0564911A3 (ja) | 1994-03-23 |
| DE4211461A1 (de) | 1993-10-07 |
| DE59310176D1 (de) | 2001-07-26 |
| JP3205640B2 (ja) | 2001-09-04 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080629 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090629 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| S631 | Written request for registration of reclamation of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130629 Year of fee payment: 12 |