JP3205640B2 - 帯電防止可塑製品 - Google Patents
帯電防止可塑製品Info
- Publication number
- JP3205640B2 JP3205640B2 JP09840693A JP9840693A JP3205640B2 JP 3205640 B2 JP3205640 B2 JP 3205640B2 JP 09840693 A JP09840693 A JP 09840693A JP 9840693 A JP9840693 A JP 9840693A JP 3205640 B2 JP3205640 B2 JP 3205640B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- antistatic
- preparation
- solution
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
- C08G61/126—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one sulfur atom in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/0427—Coating with only one layer of a composition containing a polymer binder
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/043—Improving the adhesiveness of the coatings per se, e.g. forming primers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/044—Forming conductive coatings; Forming coatings having anti-static properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J7/00—Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
- C08J7/04—Coating
- C08J7/046—Forming abrasion-resistant coatings; Forming surface-hardening coatings
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
- G03C1/89—Macromolecular substances therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2481/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing sulfur with or without nitrogen, oxygen, or carbon only; Polysulfones; Derivatives of such polymers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/29—Coated or structually defined flake, particle, cell, strand, strand portion, rod, filament, macroscopic fiber or mass thereof
- Y10T428/2982—Particulate matter [e.g., sphere, flake, etc.]
- Y10T428/2991—Coated
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31—Surface property or characteristic of web, sheet or block
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
【０００１】本発明は、ポリチオフェン調製物を基とす
る可塑成形品（ｐｌａｓｔｉｃ ｆｏｒｍｅｄ ａｒｔ
ｉｃｌｅｓ）、例えば写真フィルム支持体のための、接
着性を示す帯電防止仕上げに関する。
る可塑成形品（ｐｌａｓｔｉｃ ｆｏｒｍｅｄ ａｒｔ
ｉｃｌｅｓ）、例えば写真フィルム支持体のための、接
着性を示す帯電防止仕上げに関する。
【０００２】可塑成形品、特に写真材料用支持体のため
の帯電防止仕上げを行う目的で、ポリアニオン類を含ん
でいるポリチオフェン類の調製物を用いることは公知で
ある（ＥＰ−４４０，９５７）。この帯電防止層は、そ
の帯電防止効果は優れているが、接着性の点で欠点を有
していることがここに明らかになってきた。
の帯電防止仕上げを行う目的で、ポリアニオン類を含ん
でいるポリチオフェン類の調製物を用いることは公知で
ある（ＥＰ−４４０，９５７）。この帯電防止層は、そ
の帯電防止効果は優れているが、接着性の点で欠点を有
していることがここに明らかになってきた。
【０００３】この帯電防止効果を悪化させることなく上
記欠点を取り除くのが本発明の課題であった。
記欠点を取り除くのが本発明の課題であった。
【０００４】この課題は、驚くべきことに、可塑性を示
す表面により近い層が、式
す表面により近い層が、式
【０００５】
【化４】
【０００６】［式中、Ｒ1およびＲ2は、互いに独立し
て、水素またはＣ1−Ｃ4−アルキル基を表すか、或は一
緒になって、任意に置換されていてもよいＣ1−Ｃ4−ア
ルキレン基、好適にはアルキル基で任意に置換されてい
てもよいメチレン基、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはフェ
ニル基で任意に置換されていてもよい１，２−エチレン
基、１，３−プロピレン基、或は１，２−シクロヘキシ
レン基を形成している］を有する構造単位から作られて
いるポリチオフェンとポリアニオンとの調製物を含んで
おり、遠い方の層がフィルム形成ポリマーを含んでお
り、そしてこの２つの層の少なくとも１つが、式（Ｉ
Ｉ）
て、水素またはＣ1−Ｃ4−アルキル基を表すか、或は一
緒になって、任意に置換されていてもよいＣ1−Ｃ4−ア
ルキレン基、好適にはアルキル基で任意に置換されてい
てもよいメチレン基、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはフェ
ニル基で任意に置換されていてもよい１，２−エチレン
基、１，３−プロピレン基、或は１，２−シクロヘキシ
レン基を形成している］を有する構造単位から作られて
いるポリチオフェンとポリアニオンとの調製物を含んで
おり、遠い方の層がフィルム形成ポリマーを含んでお
り、そしてこの２つの層の少なくとも１つが、式（Ｉ
Ｉ）
【０００７】
【化５】 Ｘ4-m−Ｓｉ（ＯＲ3）m （ＩＩ） ［式中、Ｒ3は、水素原子、１０個未満の炭素原子を有
する脂肪族炭化水素基、或は１０個未満の炭素原子を有
するアシル基を表し、Ｘは、
する脂肪族炭化水素基、或は１０個未満の炭素原子を有
するアシル基を表し、Ｘは、
【０００８】
【化６】
【０００９】を表し、Ｒは、１から２０個のＣ原子を有
するヒドロカルビル基を表し、そしてｍは、１から３で
ある］を有するシランを含んでいるところの、少なくと
も２つの層を、該可塑成形品の、帯電防止処理すべき表
面に塗布することによって解決される。
するヒドロカルビル基を表し、そしてｍは、１から３で
ある］を有するシランを含んでいるところの、少なくと
も２つの層を、該可塑成形品の、帯電防止処理すべき表
面に塗布することによって解決される。
【００１０】Ｒ1とＲ2が一緒になって生じ得る任意に置
換されていてもよいＣ1−Ｃ4−アルキレン基の代表とし
て、好適には、α−オレフィン類、例えばエチレン、１
−プロペン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセ
ン、１−ドデセンおよびスチレンなどの臭素化で入手可
能な１，２−ジブロモアルカン類から誘導される１，２
−アルキレン基が挙げられ、また１，２−シクロヘキシ
レン、２，３−ブチレン、２，３−ジメチル−２，３−
ブチレンおよび２，３−ペンチレン基が挙げられる。
換されていてもよいＣ1−Ｃ4−アルキレン基の代表とし
て、好適には、α−オレフィン類、例えばエチレン、１
−プロペン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセ
ン、１−ドデセンおよびスチレンなどの臭素化で入手可
能な１，２−ジブロモアルカン類から誘導される１，２
−アルキレン基が挙げられ、また１，２−シクロヘキシ
レン、２，３−ブチレン、２，３−ジメチル−２，３−
ブチレンおよび２，３−ペンチレン基が挙げられる。
【００１１】Ｒ1およびＲ2に好適な基は、一緒に、メチ
レン、１，２−エチレンおよび１，３−プロピレン基で
あり、１，２−エチレン基が特に好適である。
レン、１，２−エチレンおよび１，３−プロピレン基で
あり、１，２−エチレン基が特に好適である。
【００１２】該ポリチオフェンのためのポリアニオン類
として、ポリマー状カルボン酸、例えばポリアクリル
酸、ポリメタアクリル酸またはポリマレイン酸など、並
びにポリマー状スルホン酸、例えばポリスチレンスルホ
ン酸およびポリビニルスルホン酸などのアニオン類を用
いることが可能である。これらのポリカルボン酸および
ポリスルホン酸類はまた、ビニルカルボン酸およびビニ
ルスルホン酸と他の重合可能モノマー類、例えばアクリ
ル酸エステルおよびスチレンなどとのコポリマー類であ
ってもよい。
として、ポリマー状カルボン酸、例えばポリアクリル
酸、ポリメタアクリル酸またはポリマレイン酸など、並
びにポリマー状スルホン酸、例えばポリスチレンスルホ
ン酸およびポリビニルスルホン酸などのアニオン類を用
いることが可能である。これらのポリカルボン酸および
ポリスルホン酸類はまた、ビニルカルボン酸およびビニ
ルスルホン酸と他の重合可能モノマー類、例えばアクリ
ル酸エステルおよびスチレンなどとのコポリマー類であ
ってもよい。
【００１３】これらのポリアニオンを与えるポリ酸類の
分子量は、好適には１０００から２，０００，０００、
特に２０，０００から２００，０００である。ポリ酸類
またはそれらのアルカリ塩類は、市販されている、例え
ばポリスチレンスルホン酸類およびポリアクリル酸類で
あるか、或は公知方法によって製造され得る（例えば、
Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ
ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｂｄ．Ｅ ２
０ Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｌａｒｅ Ｓｔｏｆｆｅ、
Ｔｅｉｌ ２ （１９８７）参照）。
分子量は、好適には１０００から２，０００，０００、
特に２０，０００から２００，０００である。ポリ酸類
またはそれらのアルカリ塩類は、市販されている、例え
ばポリスチレンスルホン酸類およびポリアクリル酸類で
あるか、或は公知方法によって製造され得る（例えば、
Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ、Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ
ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ、Ｂｄ．Ｅ ２
０ Ｍａｋｒｏｍｏｌｅｋｕｌａｒｅ Ｓｔｏｆｆｅ、
Ｔｅｉｌ ２ （１９８７）参照）。
【００１４】本発明に従う調製物のポリチオフェン類お
よびポリアニオン類からの形成に必要な遊離ポリ酸の代
わりに、これらのポリ酸と相当する量のモノ酸のアルカ
リ塩混合物も使用できる。
よびポリアニオン類からの形成に必要な遊離ポリ酸の代
わりに、これらのポリ酸と相当する量のモノ酸のアルカ
リ塩混合物も使用できる。
【００１５】これらの調製物は、真の溶液、コロイド状
の溶液、或は細かく分割した分散液であってもよい。
の溶液、或は細かく分割した分散液であってもよい。
【００１６】これらの調製物の製造はＥＰ−Ａ−０ ４
４０ ９５７に記述されている。
４０ ９５７に記述されている。
【００１７】これらのポリチオフェン調製物のための溶
媒として、水の他に、他のプロトン性溶媒、例えば低級
アルコール類、例えばメタノール、エタノールおよびイ
ソプロパノールなど、並びに水と低級アルコール類およ
び水混和性を示す他の有機溶媒、例えばアセトンなどと
の混合物も可能である。
媒として、水の他に、他のプロトン性溶媒、例えば低級
アルコール類、例えばメタノール、エタノールおよびイ
ソプロパノールなど、並びに水と低級アルコール類およ
び水混和性を示す他の有機溶媒、例えばアセトンなどと
の混合物も可能である。
【００１８】これらのポリチオフェン調製物は、更に、
アニオン系、カチオン系またはノニオン系界面活性剤を
含んでいてもよい。これらの薬剤は、該ポリチオフェン
調製物の製造以前、製造中、或は製造後に添加されても
よい。これらの界面活性剤は、該ポリチオフェン調製物
の全固体を基準にして０から２０重量％の量で添加され
る。好適な薬剤は、アルキルフェノールポリグリコール
エーテルであり、例えば４モルのエチレンオキサイドと
１モルのノニルフェノールとの付加生成物である。
アニオン系、カチオン系またはノニオン系界面活性剤を
含んでいてもよい。これらの薬剤は、該ポリチオフェン
調製物の製造以前、製造中、或は製造後に添加されても
よい。これらの界面活性剤は、該ポリチオフェン調製物
の全固体を基準にして０から２０重量％の量で添加され
る。好適な薬剤は、アルキルフェノールポリグリコール
エーテルであり、例えば４モルのエチレンオキサイドと
１モルのノニルフェノールとの付加生成物である。
【００１９】これらの可塑成形品およびフィルムの帯電
防止処理では、例えばディップコーティング、キャステ
ィング、噴霧、グラビア印刷、ナイフコーティング、延
展などによる公知方法を用いて、該ポリチオフェン調製
物をそれらに塗布することができる。溶媒、例えば水な
どを除去した後直ちに、大気中の水分とは関係なく、該
ポリチオフェンから、その処理された支持体の上に存在
している帯電防止層が生じる。
防止処理では、例えばディップコーティング、キャステ
ィング、噴霧、グラビア印刷、ナイフコーティング、延
展などによる公知方法を用いて、該ポリチオフェン調製
物をそれらに塗布することができる。溶媒、例えば水な
どを除去した後直ちに、大気中の水分とは関係なく、該
ポリチオフェンから、その処理された支持体の上に存在
している帯電防止層が生じる。
【００２０】良好な接着性と耐引っかき性を示すコーテ
ィング物を得る目的で、該ポリチオフェン塩調製物に加
えて、水の中に懸濁可能か或は溶解可能なポリマー状結
合剤、例えばポリビニルアルコールまたはポリ酢酸ビニ
ル分散剤もまた添加可能である。
ィング物を得る目的で、該ポリチオフェン塩調製物に加
えて、水の中に懸濁可能か或は溶解可能なポリマー状結
合剤、例えばポリビニルアルコールまたはポリ酢酸ビニ
ル分散剤もまた添加可能である。
【００２１】酸に敏感な可塑成形品を用いる場合、そし
て塗布で用いる装置を保護する目的で、その可塑性を示
す支持体に塗布するに先立って、アルカリまたはアルカ
リ土類金属の水酸化物、アンモニアまたはアミン類を添
加することにより、本発明に従うポリチオフェン塩調製
物中の過剰な遊離酸基を中和するのが有利であり得る。
て塗布で用いる装置を保護する目的で、その可塑性を示
す支持体に塗布するに先立って、アルカリまたはアルカ
リ土類金属の水酸化物、アンモニアまたはアミン類を添
加することにより、本発明に従うポリチオフェン塩調製
物中の過剰な遊離酸基を中和するのが有利であり得る。
【００２２】帯電防止処理すべき可塑成形品およびフィ
ルムに本発明に従うポリチオフェン分散液を塗布した層
の、乾燥後の厚さは、この成形品の所望伝導率およびこ
のコーティング物の所望透明性に応じて、０．００１か
ら１００μｍ、好適には０．００１から０．５μｍであ
る。
ルムに本発明に従うポリチオフェン分散液を塗布した層
の、乾燥後の厚さは、この成形品の所望伝導率およびこ
のコーティング物の所望透明性に応じて、０．００１か
ら１００μｍ、好適には０．００１から０．５μｍであ
る。
【００２３】これらの溶液を塗布した後、単に室温で蒸
発させることによって溶媒を除去することが可能であ
る。しかしながら、より高い加工速度を得るためには、
上昇させた温度、例えば２０から１５０℃、好適には４
０から１００℃の温度で溶媒を除去するのがより有利で
ある。
発させることによって溶媒を除去することが可能であ
る。しかしながら、より高い加工速度を得るためには、
上昇させた温度、例えば２０から１５０℃、好適には４
０から１００℃の温度で溶媒を除去するのがより有利で
ある。
【００２４】該ポリチオフェン分散液は、酸基（塩）、
例えば−ＳＯ3 -、−ＣＯＯ-または−ＰＯ3 2-などを有す
るポリマーラテックスまたはポリマー分散液の存在下で
調製され得る。これらの酸基の含有量は、好適には、こ
の分散液の充分な安定性を保証する目的で２重量％以上
である。これらの分散液が有する粒子の大きさは、５ｎ
ｍから１μｍの範囲、好適には５から１００ｎｍの範囲
である。
例えば−ＳＯ3 -、−ＣＯＯ-または−ＰＯ3 2-などを有す
るポリマーラテックスまたはポリマー分散液の存在下で
調製され得る。これらの酸基の含有量は、好適には、こ
の分散液の充分な安定性を保証する目的で２重量％以上
である。これらの分散液が有する粒子の大きさは、５ｎ
ｍから１μｍの範囲、好適には５から１００ｎｍの範囲
である。
【００２５】この目的に適切なポリマー類は、例えばＤ
Ｅ−Ａ ２５ ４１ ２３０、ＤＥ−Ａ ２５ ４１ ２７
４、ＤＥ−Ａ ２８ ３５ ８５６、ＥＰ−Ａ−０ ０１４
９２１、ＥＰ−Ａ−０ ０６９ ６７１、ＥＰ−Ａ−０
１３０ １１５およびＵＳ−Ａ−４ ２９１ １１３に記
述されている。
Ｅ−Ａ ２５ ４１ ２３０、ＤＥ−Ａ ２５ ４１ ２７
４、ＤＥ−Ａ ２８ ３５ ８５６、ＥＰ−Ａ−０ ０１４
９２１、ＥＰ−Ａ−０ ０６９ ６７１、ＥＰ−Ａ−０
１３０ １１５およびＵＳ−Ａ−４ ２９１ １１３に記
述されている。
【００２６】これらの分散液もしくはラテックスは、線
状、分枝もしくは架橋ポリマー類から成っていてもよ
い。高い含有量の酸基を有する架橋ポリマーラテックス
は水中で膨潤性を示し、ミクロゲルと表示される。上記
ミクロゲルは、例えばＵＳ ４３０１ ２４０、ＵＳ ４
６７７ ０５０およびＵＳ ４ １４７ ５５０に記述され
ている。
状、分枝もしくは架橋ポリマー類から成っていてもよ
い。高い含有量の酸基を有する架橋ポリマーラテックス
は水中で膨潤性を示し、ミクロゲルと表示される。上記
ミクロゲルは、例えばＵＳ ４３０１ ２４０、ＵＳ ４
６７７ ０５０およびＵＳ ４ １４７ ５５０に記述され
ている。
【００２７】本発明に従って帯電防止的に、即ち電気伝
導的に処理される基質として、予め成形した有機プラス
チック製品、特にポリカーボネート類、ポリアミド類、
ポリエチレン類、ポリプロピレン類、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル類、酢酸セルロースおよびセルロースが挙
げられるが、無機材料、例えばガラスまたは酸化アルミ
ニウムおよび／または二酸化ケイ素から作られたセラミ
ック材料もまた、本発明に従う方法で帯電防止処理され
得る。
導的に処理される基質として、予め成形した有機プラス
チック製品、特にポリカーボネート類、ポリアミド類、
ポリエチレン類、ポリプロピレン類、ポリ塩化ビニル、
ポリエステル類、酢酸セルロースおよびセルロースが挙
げられるが、無機材料、例えばガラスまたは酸化アルミ
ニウムおよび／または二酸化ケイ素から作られたセラミ
ック材料もまた、本発明に従う方法で帯電防止処理され
得る。
【００２８】本発明に従うポリチオフェン分散液はま
た、加熱シール可能なフィルム、例えばＤＥ−Ａ−３８
３８ ６５２に記述されている如きフィルムの帯電防止
処理、および磁気記録材料の帯電防止処理を行う目的で
も用いられ得る。
た、加熱シール可能なフィルム、例えばＤＥ−Ａ−３８
３８ ６５２に記述されている如きフィルムの帯電防止
処理、および磁気記録材料の帯電防止処理を行う目的で
も用いられ得る。
【００２９】本発明に従って入手可能なコーティング物
は、それらが示す透明性のため、好適には黒色層の形
態、即ちハロゲン化銀エマルジョン層から遠く離れてい
るフィルムベースの側に塗布されている層の状態で、写
真材料、特にフィルム、例えば白黒、カラーネガおよび
スライド用フィルムを帯電防止処理するに特に適切であ
る。
は、それらが示す透明性のため、好適には黒色層の形
態、即ちハロゲン化銀エマルジョン層から遠く離れてい
るフィルムベースの側に塗布されている層の状態で、写
真材料、特にフィルム、例えば白黒、カラーネガおよび
スライド用フィルムを帯電防止処理するに特に適切であ
る。
【００３０】該ポリチオフェン分散液は、好適には、
０．００１から０．３ｇ／ｍ2、好ましくは１ｍ2当たり
０．００１から０．０３ｇの固体量で塗布される。
０．００１から０．３ｇ／ｍ2、好ましくは１ｍ2当たり
０．００１から０．０３ｇの固体量で塗布される。
【００３１】好適なシラン類は、式
【００３２】
【化７】
【００３３】［式中、Ｒ4およびＲ5は、互いに独立し
て、１から４個の炭素原子を有するアルキレン基を表
し、そしてＲ6は、水素原子を表すか、或は１から１０
個の炭素原子を有するアルキル基を表す］に相当してい
る。
て、１から４個の炭素原子を有するアルキレン基を表
し、そしてＲ6は、水素原子を表すか、或は１から１０
個の炭素原子を有するアルキル基を表す］に相当してい
る。
【００３４】これらのシラン類は、該ポリチオフェン調
製物が有する固体に対して１から３００重量％、好適に
は１０から１００重量％の量で、該２つの層の１つか或
は両方の層に添加される。
製物が有する固体に対して１から３００重量％、好適に
は１０から１００重量％の量で、該２つの層の１つか或
は両方の層に添加される。
【００３５】好適には、その遠い方の層に、少なくとも
４０重量％のシランを添加する。
４０重量％のシランを添加する。
【００３６】その遠い方の層の適切なフィルム形成ポリ
マー材料は、例えばセルロース誘導体、例えば二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロ
ース、メチルセルロースまたはエチルセルロース、特に
二酢酸セルロースである。
マー材料は、例えばセルロース誘導体、例えば二酢酸セ
ルロース、三酢酸セルロース、酢酸プロピオン酸セルロ
ース、メチルセルロースまたはエチルセルロース、特に
二酢酸セルロースである。
【００３７】また適切なものは、ポリアクリレート類、
ポリ（メタアクリル酸メチル）類、ポリウレタン類、イ
オン照射で硬化可能なラッカーシステム、ポリスチレ
ン、或は基礎的なモノマー類のコポリマー類である。
ポリ（メタアクリル酸メチル）類、ポリウレタン類、イ
オン照射で硬化可能なラッカーシステム、ポリスチレ
ン、或は基礎的なモノマー類のコポリマー類である。
【００３８】その遠い方の層に、更に一層の物質、例え
ば滑剤、例えばポリエチレン分散液、展着剤、例えばポ
リアクリレートビードまたは微粉砕した無機顔料などを
添加してもよい。
ば滑剤、例えばポリエチレン分散液、展着剤、例えばポ
リアクリレートビードまたは微粉砕した無機顔料などを
添加してもよい。
【００３９】この遠い方の層は、有機溶媒、例えばアル
コール類、ケトン類、炭化水素または塩素置換炭化水素
などの溶液としてか、或は水溶液もしくは分散液の形態
で塗布される。
コール類、ケトン類、炭化水素または塩素置換炭化水素
などの溶液としてか、或は水溶液もしくは分散液の形態
で塗布される。
【００４０】水および／または有機溶媒の溶媒混合物も
使用できる。
使用できる。
【００４１】該フィルム形成有機ポリマーは、好適には
０．００１から２ｇ／ｍ2、特に０．１から１ｇ／ｍ2の
量で用いられる。
０．００１から２ｇ／ｍ2、特に０．１から１ｇ／ｍ2の
量で用いられる。
【００４２】
【実施例】実施例１ 裏面に帯電防止・保護コーティング物を塗布した後、表
面に接着層が備わっている、厚さが１２５μｍの透明な
トリアセテート支持体に関して、下記の実施例に従い、
下記の組成を有する感光性多層構造物を該表面の上にキ
ャスティングする。
面に接着層が備わっている、厚さが１２５μｍの透明な
トリアセテート支持体に関して、下記の実施例に従い、
下記の組成を有する感光性多層構造物を該表面の上にキ
ャスティングする。
【００４３】量に関するデータは各場合共１ｍ2に対し
て表されており、ハロゲン化銀の塗布はＡｇＮＯ3の当
量に相当しており、そして全てのハロゲン化銀エマルジ
ョンは、１００ｇのＡｇＮＯ3当たり０．１ｇの４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザ
インデンで安定化されている。
て表されており、ハロゲン化銀の塗布はＡｇＮＯ3の当
量に相当しており、そして全てのハロゲン化銀エマルジ
ョンは、１００ｇのＡｇＮＯ3当たり０．１ｇの４−ヒ
ドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラアザ
インデンで安定化されている。
【００４４】層構造：（表面） 第一層：（ハレーション防止層） ０．２ｇのコロイド状黒色銀 １．２ｇのゼラチン ０．１ｇのＵＶ吸収剤ＵＶ１ ０．２ｇのＵＶ吸収剤ＵＶ２ ０．０２ｇのトリクレジルホスフェート ０．０３ｇのフタル酸ジブチル 第二層：（ミクレート（ｍｉｃｒａｔｅ）中間層） ０．２５ｇのＡｇＮＯ3［ミクレート−Ａｇ（Ｂｒ，
Ｉ）の］ エマルジョン：平均粒子直径＝０．０７μｍ、０．５モ
ル％のヨウ化物 １．０ｇのゼラチン ０．０５ｇの着色したカプラーＲＭ １ ０．１０ｇのトリクレジルホスフェート 第三層：（低感度の赤色感光層） ２．２ｇのＡｇＮＯ3、４モル％のヨウ化物、平均粒子
直径０．４５μｍ、赤色感光 ２．０ｇのゼラチン ０．６ｇの無色青−緑色カプラーＣ１ ［トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）０．５ｇ中に乳
化］ ５０ｍｇの着色した青−緑色カプラーＲＭ １、および
３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ １ ［２０ｍｇのＴＣＰ中に乳化］ 第四層：（高感度の赤色感光層） ２．８ｇのＡｇＮＯ3、８．５モル％のヨウ化物、平均
粒子直径０．８μｍ、赤色感光 １．８ｇのゼラチン ０．１５ｇの無色青−緑色カプラーＣ２ ［フタル酸ジブチル（ＤＢＰ）０．１５ｇで乳化］ 第五層：（分離層） ０．７ｇのゼラチン ０．２ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．１５ｇのＤＢＰで乳化］ 第六層：（低感度の緑色感光層） １．８ｇのＡｇＮＯ3 ［スペクトルの緑感光Ａｇ（Ｂｒ，Ｉ）エマルジョン
の］４．５モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．
４μｍ、緑色感光 １．６ｇのゼラチン ０．６ｇの紫色カプラーＭ１ ５０ｍｇのマスキングカプラーＹＭ１ ［５０ｍｇのＴＣＰで乳化］ ３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ２ ［２０ｍｇのＤＢＰ中に乳化］ ３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ３ ［６０ｍｇのＴＣＰ中に乳化］ 第七層：（高感度の緑色感光層） ２．２ｇのＡｇＮＯ3 ７モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．７μｍ、
緑色感光 １．４ｇのゼラチン ０．１５ｇの紫色カプラーＭ２ ［０．４５ｇのＴＣＰで乳化］ ３０ｍｇのマスキングカプラー［第六層に従う］ ［３０ｍｇのＴＣＰで乳化］ 第八層：（分離層） ０．５ｇのゼラチン ０．１ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．０８ｇのＤＢＰで乳化］ 第九層：（黄色フィルター層） ０．２ｇのＡｇ（コロイド状黄色銀ゾル） ０．９ｇのゼラチン ０．２ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．１６ｇのＤＢＰで乳化］ 第十層：（低感度の青色感光層） ０．６ｇのＡｇＮＯ3 ４．９モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．４５
μｍ、青色感光 ０．８５ｇのゼラチン ０．７ｇの黄色カプラーＹ１ ［０．７ｇのＴＣＰで乳化］ ０．５ｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ３ ［０．５ｇのＴＣＰで乳化］ 第十一層：（高感度の青色感光層） １．０ｇのＡｇＮＯ3 ９．０モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．９μ
ｍ、青色感光 ０．８５ｇのゼラチン ０．３ｇの黄色カプラー［第十層に従う］ ［０．３ｇのＴＣＰで乳化］ 第十二層：（抗摩耗および硬化層） ０．５ｇのＡｇＮＯ3［ミクレート−Ａｇ（Ｂｒ，Ｉ）
の］ エマルジョンの平均粒子直径０．０７μｍ、０．５モル
％のヨウ化物 １．２ｇのゼラチン ０．４ｇの硬化剤 ［式ＣＨ2＝ＣＨ−ＳＯ2−ＣＨ2−ＣＯＮＨ−ＣＨ2）2
−の］ １．０ｇのホルムアルデヒドトラップ ［式
Ｉ）の］ エマルジョン：平均粒子直径＝０．０７μｍ、０．５モ
ル％のヨウ化物 １．０ｇのゼラチン ０．０５ｇの着色したカプラーＲＭ １ ０．１０ｇのトリクレジルホスフェート 第三層：（低感度の赤色感光層） ２．２ｇのＡｇＮＯ3、４モル％のヨウ化物、平均粒子
直径０．４５μｍ、赤色感光 ２．０ｇのゼラチン ０．６ｇの無色青−緑色カプラーＣ１ ［トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）０．５ｇ中に乳
化］ ５０ｍｇの着色した青−緑色カプラーＲＭ １、および
３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ １ ［２０ｍｇのＴＣＰ中に乳化］ 第四層：（高感度の赤色感光層） ２．８ｇのＡｇＮＯ3、８．５モル％のヨウ化物、平均
粒子直径０．８μｍ、赤色感光 １．８ｇのゼラチン ０．１５ｇの無色青−緑色カプラーＣ２ ［フタル酸ジブチル（ＤＢＰ）０．１５ｇで乳化］ 第五層：（分離層） ０．７ｇのゼラチン ０．２ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．１５ｇのＤＢＰで乳化］ 第六層：（低感度の緑色感光層） １．８ｇのＡｇＮＯ3 ［スペクトルの緑感光Ａｇ（Ｂｒ，Ｉ）エマルジョン
の］４．５モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．
４μｍ、緑色感光 １．６ｇのゼラチン ０．６ｇの紫色カプラーＭ１ ５０ｍｇのマスキングカプラーＹＭ１ ［５０ｍｇのＴＣＰで乳化］ ３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ２ ［２０ｍｇのＤＢＰ中に乳化］ ３０ｍｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ３ ［６０ｍｇのＴＣＰ中に乳化］ 第七層：（高感度の緑色感光層） ２．２ｇのＡｇＮＯ3 ７モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．７μｍ、
緑色感光 １．４ｇのゼラチン ０．１５ｇの紫色カプラーＭ２ ［０．４５ｇのＴＣＰで乳化］ ３０ｍｇのマスキングカプラー［第六層に従う］ ［３０ｍｇのＴＣＰで乳化］ 第八層：（分離層） ０．５ｇのゼラチン ０．１ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．０８ｇのＤＢＰで乳化］ 第九層：（黄色フィルター層） ０．２ｇのＡｇ（コロイド状黄色銀ゾル） ０．９ｇのゼラチン ０．２ｇの２，５−ジイソオクチルヒドロキノン ［０．１６ｇのＤＢＰで乳化］ 第十層：（低感度の青色感光層） ０．６ｇのＡｇＮＯ3 ４．９モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．４５
μｍ、青色感光 ０．８５ｇのゼラチン ０．７ｇの黄色カプラーＹ１ ［０．７ｇのＴＣＰで乳化］ ０．５ｇのＤＩＲカプラーＤＩＲ３ ［０．５ｇのＴＣＰで乳化］ 第十一層：（高感度の青色感光層） １．０ｇのＡｇＮＯ3 ９．０モル％のヨウ化物、および平均粒子直径０．９μ
ｍ、青色感光 ０．８５ｇのゼラチン ０．３ｇの黄色カプラー［第十層に従う］ ［０．３ｇのＴＣＰで乳化］ 第十二層：（抗摩耗および硬化層） ０．５ｇのＡｇＮＯ3［ミクレート−Ａｇ（Ｂｒ，Ｉ）
の］ エマルジョンの平均粒子直径０．０７μｍ、０．５モル
％のヨウ化物 １．２ｇのゼラチン ０．４ｇの硬化剤 ［式ＣＨ2＝ＣＨ−ＳＯ2−ＣＨ2−ＣＯＮＨ−ＣＨ2）2
−の］ １．０ｇのホルムアルデヒドトラップ ［式
【００４５】
【化８】
【００４６】を有する］ このカラー構造物の最終層厚（乾燥）は２４μｍであ
る。
る。
【００４７】
【化９】
【００４８】
【化１０】
【００４９】
【化１１】
【００５０】３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン
−ポリスチレン−スルホネート溶液１（ＰＥＤＴ／ＰＳ
Ｓ−１）の製造 １１００ｍＬの脱イオン水中２０ｇのポリスチレンスル
ホン酸（Ｍｎ４０，０００）、５．６ｇの３，４−エチ
レンジオキシチオフェン、２．７ｇの過二硫酸カリウム
（＝１０ミリモル）および２５ｍｇの硫酸鉄（ＩＩＩ）
から成る溶液の中に撹拌しながら室温で２４時間空気を
通す。次に、この青色溶液を濾布で濾過したが、これは
２．１重量％の固体含有量を有している。
−ポリスチレン−スルホネート溶液１（ＰＥＤＴ／ＰＳ
Ｓ−１）の製造 １１００ｍＬの脱イオン水中２０ｇのポリスチレンスル
ホン酸（Ｍｎ４０，０００）、５．６ｇの３，４−エチ
レンジオキシチオフェン、２．７ｇの過二硫酸カリウム
（＝１０ミリモル）および２５ｍｇの硫酸鉄（ＩＩＩ）
から成る溶液の中に撹拌しながら室温で２４時間空気を
通す。次に、この青色溶液を濾布で濾過したが、これは
２．１重量％の固体含有量を有している。
【００５１】ポリチオフェン−ポリスチレンスルホネー
ト溶液２（ＰＥＤＴ／ＰＳＳ ２）の製造 ９６６ｍＬの脱イオン水中２０ｇのポリスチレンスルホ
ン酸（Ｍｎ４０，０００）、５．６ｇの３，４−エチレ
ンジオキシチオフェン、８．１ｇの過二硫酸カリウム
（３０ミリモル）および５０ｍｇの硫酸鉄（ＩＩＩ）
（鉄含有量２２重量％）から成る溶液を、室温で２４時
間撹拌する。固体含有量が３．２重量％の青色３，４−
ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液が得られる。
ト溶液２（ＰＥＤＴ／ＰＳＳ ２）の製造 ９６６ｍＬの脱イオン水中２０ｇのポリスチレンスルホ
ン酸（Ｍｎ４０，０００）、５．６ｇの３，４−エチレ
ンジオキシチオフェン、８．１ｇの過二硫酸カリウム
（３０ミリモル）および５０ｍｇの硫酸鉄（ＩＩＩ）
（鉄含有量２２重量％）から成る溶液を、室温で２４時
間撹拌する。固体含有量が３．２重量％の青色３，４−
ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液が得られる。
【００５２】イオン交換を用いた脱塩 ５００ｍＬの上記ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液２を２５０ｍＬ
の水で希釈する。４０ｇの弱塩基性イオン交換体および
４０ｇの強酸性イオン交換体を添加した後、この溶液を
室温で８時間撹拌する。次に、このイオン交換体を濾別
することで、固体含有量が１．６重量％の脱塩ＰＥＤＴ
／ＰＳＳ溶液が得られる。この溶液はまだ０．４ｇ／Ｌ
のカリウムイオンと５ｍｇ／Ｌの硫酸塩イオンを含んで
いる、即ち該イオン交換体はカリウムイオンの量を７４
％減少させており、そして硫酸塩イオンの量を９９％減
少させていた。
の水で希釈する。４０ｇの弱塩基性イオン交換体および
４０ｇの強酸性イオン交換体を添加した後、この溶液を
室温で８時間撹拌する。次に、このイオン交換体を濾別
することで、固体含有量が１．６重量％の脱塩ＰＥＤＴ
／ＰＳＳ溶液が得られる。この溶液はまだ０．４ｇ／Ｌ
のカリウムイオンと５ｍｇ／Ｌの硫酸塩イオンを含んで
いる、即ち該イオン交換体はカリウムイオンの量を７４
％減少させており、そして硫酸塩イオンの量を９９％減
少させていた。
【００５３】帯電防止層１−４の製造 表１に従い、ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液１および２と適当量
の水、メタノール、アセトンおよび必要ならばシランと
を混合することによって、上記帯電防止溶液を混合した
後、この溶液を、折り畳んだフィルターを通して濾過
し、ウオッシュ−オンロール（ｗａｓｈ−ｏｎ ｒｏｌ
ｌ）を用いて、ディップパン（ｄｉｐ ｐａｎ）から塗
布することで、基質になっていない（ｕｎｓｕｂｓｔｒ
ａｔｅｄ）三酢酸セルロース支持体を生じさせた後、６
０−７０℃で乾燥した。この浸潤塗布率は計算値で２５
ｍＬ／ｍ2である。
の水、メタノール、アセトンおよび必要ならばシランと
を混合することによって、上記帯電防止溶液を混合した
後、この溶液を、折り畳んだフィルターを通して濾過
し、ウオッシュ−オンロール（ｗａｓｈ−ｏｎ ｒｏｌ
ｌ）を用いて、ディップパン（ｄｉｐ ｐａｎ）から塗
布することで、基質になっていない（ｕｎｓｕｂｓｔｒ
ａｔｅｄ）三酢酸セルロース支持体を生じさせた後、６
０−７０℃で乾燥した。この浸潤塗布率は計算値で２５
ｍＬ／ｍ2である。
【００５４】カバー層１−３の製造 表２に従い、シランを用いる場合、最初にアセトンとグ
リシドキシプロピルトリメトキシシランとを混合した
後、アセトン中の二酢酸セルロース溶液を撹拌しながら
加える。次に、適当量のメタノール、そして最後に、指
示した水とＰＥ分散液との混合物を上記混合物に加え
る。該帯電防止溶液と同様に、この溶液を該帯電防止層
に塗布した後、それと同様に乾燥する。この浸潤塗布厚
は計算値で１５μである。
リシドキシプロピルトリメトキシシランとを混合した
後、アセトン中の二酢酸セルロース溶液を撹拌しながら
加える。次に、適当量のメタノール、そして最後に、指
示した水とＰＥ分散液との混合物を上記混合物に加え
る。該帯電防止溶液と同様に、この溶液を該帯電防止層
に塗布した後、それと同様に乾燥する。この浸潤塗布厚
は計算値で１５μである。
【００５５】
【表１】
【００５６】
【表２】
【００５７】
【表３】
【００５８】表３に挙げる配列に従って該帯電防止層１
−５と該カバー層１−３を組み合わせる場合、下記が観
察される：該カバー層にシランを添加すると、この層の
接着性が大きく上昇し、そして適当量を添加した場合、
層剥離がゼロにまで減少する（表３、試験３および９を
参照）。同時に、この層が有する伝導率はまた処理後も
残存している。他方、該カバー層ではなく該帯電防止層
のみに該シランを添加すると、この層の接着性が悪化す
る、即ち層剥離が増大する（表３、試験１および２に比
較した試験４）。更に該カバー層にも該シランを添加す
ると、この層の接着性が再び一度に改良されることが観
察される（表３、試験５）。
−５と該カバー層１−３を組み合わせる場合、下記が観
察される：該カバー層にシランを添加すると、この層の
接着性が大きく上昇し、そして適当量を添加した場合、
層剥離がゼロにまで減少する（表３、試験３および９を
参照）。同時に、この層が有する伝導率はまた処理後も
残存している。他方、該カバー層ではなく該帯電防止層
のみに該シランを添加すると、この層の接着性が悪化す
る、即ち層剥離が増大する（表３、試験１および２に比
較した試験４）。更に該カバー層にも該シランを添加す
ると、この層の接着性が再び一度に改良されることが観
察される（表３、試験５）。
【００５９】実施例２ トリアセテートの代わりにＰＥＴ支持体を用いる場合、
接着性を示すＰＥＤＴ／ＰＳＳ層を得る目的で下記の溶
液を用いた：ポリチオフェン−ポリスチレンスルホネート溶液（ＰＥ
ＤＴ−ＰＳＳ ３）の製造 全溶液が１リットルになるような量の脱イオン水中、２
０ｇのポリスチレンスルホン酸（Ｍｎ＝４０，００
０）、５．６ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェ
ン、１３ｇの過二硫酸カリウムおよび１００ｍｇの硫酸
鉄（ＩＩＩ）（９Ｈ2Ｏ）から成る溶液を、室温で２４
時間撹拌する。固体含有量が３．８重量％の青色３，４
−ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液が得られる。
接着性を示すＰＥＤＴ／ＰＳＳ層を得る目的で下記の溶
液を用いた：ポリチオフェン−ポリスチレンスルホネート溶液（ＰＥ
ＤＴ−ＰＳＳ ３）の製造 全溶液が１リットルになるような量の脱イオン水中、２
０ｇのポリスチレンスルホン酸（Ｍｎ＝４０，００
０）、５．６ｇの３，４−エチレンジオキシチオフェ
ン、１３ｇの過二硫酸カリウムおよび１００ｍｇの硫酸
鉄（ＩＩＩ）（９Ｈ2Ｏ）から成る溶液を、室温で２４
時間撹拌する。固体含有量が３．８重量％の青色３，４
−ポリエチレンジオキシチオフェン水溶液が得られる。
【００６０】イオン交換を用いた脱塩（ＰＥＤＴ／ＰＳ
Ｓ ４） １０００ｍＬの上記ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液を１００ｍＬ
の水で希釈する。１００ｇの弱塩基性イオン交換体およ
び１００ｇの強酸性イオン交換体を添加した後、この溶
液を室温で６時間撹拌する。その後、このイオン交換体
を濾別することで、固体含有量が１．２８重量％の脱塩
ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液が得られる。この溶液はまだ１リ
ットル当たり０．４ｇのカリウムイオンのみを含んでお
り、実質的に硫酸塩イオンを含んでいない。
Ｓ ４） １０００ｍＬの上記ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液を１００ｍＬ
の水で希釈する。１００ｇの弱塩基性イオン交換体およ
び１００ｇの強酸性イオン交換体を添加した後、この溶
液を室温で６時間撹拌する。その後、このイオン交換体
を濾別することで、固体含有量が１．２８重量％の脱塩
ＰＥＤＴ／ＰＳＳ溶液が得られる。この溶液はまだ１リ
ットル当たり０．４ｇのカリウムイオンのみを含んでお
り、実質的に硫酸塩イオンを含んでいない。
【００６１】帯電防止層６−９の製造 ４３０ｇの上記ＰＥＤＴ／ＰＳＳ−４溶液と５０７０ｍ
Ｌの水とを混合する。この溶液を、副次的に分割した
後、表４に従い、この溶液の一部にグリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランを添加する。
Ｌの水とを混合する。この溶液を、副次的に分割した
後、表４に従い、この溶液の一部にグリシドキシプロピ
ルトリメトキシシランを添加する。
【００６２】次に、塩化ビニリデン／メタアクリレート
／イタコン酸のターポリマーラテックスとコロイド状サ
リチル酸とから成る表面積が１００ｍ2／ｇの接着層が
備わっているポリエチレンテレフタレート支持体（ＰＥ
Ｔ）に、表４に従い、上記溶液の一部を塗布する。
／イタコン酸のターポリマーラテックスとコロイド状サ
リチル酸とから成る表面積が１００ｍ2／ｇの接着層が
備わっているポリエチレンテレフタレート支持体（ＰＥ
Ｔ）に、表４に従い、上記溶液の一部を塗布する。
【００６３】浸潤塗布率：２０ｍＬ／ｍ2 キャスティング速度：１０ｍ／分 乾燥温度：１００℃
【００６４】
【表４】 重量％で表したシラン値は、該層の固体に対してであ
る。
る。
【００６５】該帯電防止層溶液６−９に平行して、表５
に挙げるカバー層溶液４−６を調製する。これらは、８
０／２０のアセトン／メトキシプロパノール中のポリ
（メタアクリル酸メチル）溶液から成っており、０．５
ｇ／ｍ2の乾燥フィルム厚で塗布する。これらは更に、
表５に従う種々の量のグリシドキシプロピルトリメトキ
シシランを含んでいる。
に挙げるカバー層溶液４−６を調製する。これらは、８
０／２０のアセトン／メトキシプロパノール中のポリ
（メタアクリル酸メチル）溶液から成っており、０．５
ｇ／ｍ2の乾燥フィルム厚で塗布する。これらは更に、
表５に従う種々の量のグリシドキシプロピルトリメトキ
シシランを含んでいる。
【００６６】浸潤塗布率：２０ｍＬ／ｍ2 キャスティング速度：８ｍ／分 乾燥温度：１２０℃
【００６７】
【表５】 表６に従って、該帯電防止層６−９と該カバー層４−６
を組み合わせる場合、下記が観察される：該帯電防止層
のみに該エポキシシランを添加すると、カバー層が付い
ていない帯電防止層の層接着性のみが改良される。
を組み合わせる場合、下記が観察される：該帯電防止層
のみに該エポキシシランを添加すると、カバー層が付い
ていない帯電防止層の層接着性のみが改良される。
【００６８】該カバー層のみに該エポキシシランを添加
すると、該帯電防止層に対するこのカバー層の接着性が
改良される。
すると、該帯電防止層に対するこのカバー層の接着性が
改良される。
【００６９】該帯電防止層とカバー層にエポキシシラン
を添加したときの、帯電防止層とカバー層の浸潤接着性
は良好である。
を添加したときの、帯電防止層とカバー層の浸潤接着性
は良好である。
【００７０】以下の表６中、 Ａ．Ｌ．＝帯電防止層 Ｃ．Ｌ．＝カバー層 Ω／□＝抵抗／平方 τ＝放電時間 である。
【００７１】放電時間が短ければ短い程、関連したサン
プルの帯電防止特性が良好になる。
プルの帯電防止特性が良好になる。
【００７２】
【表６】
【００７３】本発明の特徴および態様は以下のとうりで
ある。
ある。
【００７４】１．可塑性を示す表面により近い層が、式
【００７５】
【化１２】
【００７６】［式中、Ｒ1およびＲ2は、互いに独立し
て、水素またはＣ1−Ｃ4−アルキル基を表すか、或は一
緒になって、任意に置換されていてもよいＣ1−Ｃ4−ア
ルキレン基、好適にはアルキル基で任意に置換されてい
てもよいメチレン基、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはフェ
ニル基で任意に置換されていてもよい１，２−エチレン
基、１，３−プロピレン基、或は１，２−シクロヘキシ
レン基を形成している］を有する構造単位から作られて
いるポリチオフェンとポリアニオンとの調製物を含んで
おり、遠い方の層がフィルム形成ポリマーを含んでお
り、そしてこの２つの層の少なくとも１つが、式（Ｉ
Ｉ）
て、水素またはＣ1−Ｃ4−アルキル基を表すか、或は一
緒になって、任意に置換されていてもよいＣ1−Ｃ4−ア
ルキレン基、好適にはアルキル基で任意に置換されてい
てもよいメチレン基、Ｃ1−Ｃ12−アルキルまたはフェ
ニル基で任意に置換されていてもよい１，２−エチレン
基、１，３−プロピレン基、或は１，２−シクロヘキシ
レン基を形成している］を有する構造単位から作られて
いるポリチオフェンとポリアニオンとの調製物を含んで
おり、遠い方の層がフィルム形成ポリマーを含んでお
り、そしてこの２つの層の少なくとも１つが、式（Ｉ
Ｉ）
【００７７】
【化１３】 Ｘ4-m−Ｓｉ（ＯＲ3）m （ＩＩ） ［式中、Ｒ3は、水素原子、１０個未満の炭素原子を有
する脂肪族炭化水素基、或は１０個未満の炭素原子を有
するアシル基を表し、Ｘは、
する脂肪族炭化水素基、或は１０個未満の炭素原子を有
するアシル基を表し、Ｘは、
【００７８】
【化１４】
【００７９】を表し、Ｒは、１から２０個のＣ原子を有
するヒドロカルビル基を表し、そしてｍは、１から３で
ある］を有するシランを含んでいるところの、少なくと
も２つの層を、帯電防止処理すべき表面の上に支持して
いる帯電防止処理可塑成形品。
するヒドロカルビル基を表し、そしてｍは、１から３で
ある］を有するシランを含んでいるところの、少なくと
も２つの層を、帯電防止処理すべき表面の上に支持して
いる帯電防止処理可塑成形品。
【００８０】２．該エポキシシランが、式
【００８１】
【化１５】
【００８２】および
【００８３】
【化１６】
【００８４】［式中、Ｒ4およびＲ5は、互いに独立し
て、１から４個の炭素原子を有するアルキレン基を表
し、そしてＲ6は、水素原子を表すか、或は１から１０
個の炭素原子を有するアルキル基を表す］の１つを有す
ることを特徴とする、第１項記載の可塑成形品。
て、１から４個の炭素原子を有するアルキレン基を表
し、そしてＲ6は、水素原子を表すか、或は１から１０
個の炭素原子を有するアルキル基を表す］の１つを有す
ることを特徴とする、第１項記載の可塑成形品。
【００８５】３．一方の側に第１項記載の少なくとも２
つの層を含んでいることを特徴とする、もう１つの側に
少なくとも１種のハロゲン化銀エマルジョン層を含んで
いる可塑基材が備わっている写真材料。
つの層を含んでいることを特徴とする、もう１つの側に
少なくとも１種のハロゲン化銀エマルジョン層を含んで
いる可塑基材が備わっている写真材料。
【００８６】４．該可塑基材が透明な三酢酸セルロース
またはポリエステルフィルムであることを特徴とする、
第３項記載の写真材料。
またはポリエステルフィルムであることを特徴とする、
第３項記載の写真材料。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 フリードリヒ・ヨナス ドイツ連邦共和国デー5100アーヘン・ク ルゲンオーフエン15 (72)発明者 バボ・ムイス ベルギー・ビー−2640モルツエル・マー ルデリトイストラート32 (72)発明者 デイルク・クインテンス ベルギー・ビー−2500リール・ニーウボ ールトストラート22ツエー (56)参考文献 米国特許4582782（ＵＳ，Ａ) 欧州特許出願公開440957（ＥＰ，Ａ ２) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B32B 27/00 - 27/42 C08L 65/00
Claims (2)
- 【請求項１】 可塑性を示す表面により近い帯電防止層
が、式 【化１】 ［式中、 Ｒ1およびＲ2は、互いに独立して、水素またはＣ1−Ｃ4
−アルキル基を表すか、或は一緒になって、任意に置換
されていてもよいＣ1−Ｃ4−アルキレン基または１，２
−シクロヘキシレン基を形成している］を有する構造単
位から作られているポリチオフェンとポリアニオンとの
調製物を含んでおり、ここで、この調製物は固体を含ん
でおり、 可塑性を示す表面に対して帯電防止層よりも遠くに位置
する保護 層がフィルム形成ポリマーを含んでおり、 この２つの層の少なくとも１つが、式 【化２】 ［式中、 Ｒ4およびＲ5は、互いに独立して、１〜４個の炭素原子
を有するアルキレン基を表し、そしてＲ6は、水素原子
を表すか、或は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル
基を表す］を有するシランを、該ポリチオフェンとポリ
アニリンとの調製物中の固体に対して１〜３００重量％
の量で含んでおり、そして 該２つの層の少なくとも１つ
に存在する全シランの少なくとも４０重量％が該保護層
に含まれる ことを特徴とする、表面上に少なくとも２つ
の層を有している帯電防止可塑成形品。 - 【請求項２】 一方の側に請求項１記載の少なくとも２
つの層を含んでいることを特徴とする、もう１つの側に
少なくとも１種のハロゲン化銀エマルジョン層を含んで
いる可塑基材が備わっている写真材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4211461.6 | 1992-04-06 | ||
| DE4211461A DE4211461A1 (de) | 1992-04-06 | 1992-04-06 | Antistatische Kunststoffteile |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0673271A JPH0673271A (ja) | 1994-03-15 |
| JP3205640B2 true JP3205640B2 (ja) | 2001-09-04 |
Family
ID=6456171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09840693A Expired - Lifetime JP3205640B2 (ja) | 1992-04-06 | 1993-04-02 | 帯電防止可塑製品 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5370981A (ja) |
| EP (1) | EP0564911B1 (ja) |
| JP (1) | JP3205640B2 (ja) |
| DE (2) | DE4211461A1 (ja) |
Families Citing this family (143)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4216762A1 (de) * | 1992-05-21 | 1993-11-25 | Agfa Gevaert Ag | Antistatische Kunststoffteile |
| US5443944A (en) * | 1992-11-16 | 1995-08-22 | Agta-Gevaert Ag | Photographic material |
| DE19507413A1 (de) * | 1994-05-06 | 1995-11-09 | Bayer Ag | Leitfähige Beschichtungen |
| ATE228545T1 (de) * | 1994-05-06 | 2002-12-15 | Bayer Ag | Leitfähige beschichtungen |
| US5529884A (en) | 1994-12-09 | 1996-06-25 | Eastman Kodak Company | Backing layer for laser ablative imaging |
| US5773150A (en) * | 1995-11-17 | 1998-06-30 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Polymeric antistatic coating for cathode ray tubes |
| DE59709822D1 (de) * | 1996-07-11 | 2003-05-22 | Bayer Ag | Flexible, tiefziehbare, elektrisch leitfähige Folien |
| DE19633311A1 (de) * | 1996-08-19 | 1998-02-26 | Bayer Ag | Kratzfeste leitfähige Beschichtungen |
| JP3807621B2 (ja) * | 1997-09-02 | 2006-08-09 | セイコーエプソン株式会社 | 有機ｅｌ素子の製造方法 |
| JP2004031362A (ja) * | 1997-09-02 | 2004-01-29 | Seiko Epson Corp | 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法 |
| JP2004031363A (ja) * | 1997-09-02 | 2004-01-29 | Seiko Epson Corp | 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法 |
| JP2004111367A (ja) * | 1997-09-02 | 2004-04-08 | Seiko Epson Corp | 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法 |
| JP2004031360A (ja) * | 1997-09-02 | 2004-01-29 | Seiko Epson Corp | 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法 |
| JP2004055555A (ja) * | 1997-09-02 | 2004-02-19 | Seiko Epson Corp | 正孔注入輸送層用組成物、有機ｅｌ素子及びその製造方法 |
| JP2000106278A (ja) * | 1997-09-02 | 2000-04-11 | Seiko Epson Corp | 有機ｅｌ素子の製造方法及び有機ｅｌ素子 |
| DE19757542A1 (de) * | 1997-12-23 | 1999-06-24 | Bayer Ag | Siebdruckpaste zur Herstellung elektrisch leitfähiger Beschichtungen |
| DE19917569A1 (de) * | 1999-04-19 | 2000-10-26 | Forschungszentrum Juelich Gmbh | Wasserkontinuierliches System, Verfahren zur Poymerisation sowie Verwendung des wasserkontinuierlichen Systems |
| DE19841803A1 (de) | 1998-09-12 | 2000-03-16 | Bayer Ag | Hilfsschichten für elektrolumineszierende Anordnungen |
| US6225039B1 (en) | 1998-10-15 | 2001-05-01 | Eastman Kodak Company | Imaging element containing an electrically-conductive layer containing a sulfonated polyurethane and a transparent magnetic recording layer |
| US6124083A (en) * | 1998-10-15 | 2000-09-26 | Eastman Kodak Company | Antistatic layer with electrically conducting polymer for imaging element |
| US6190846B1 (en) | 1998-10-15 | 2001-02-20 | Eastman Kodak Company | Abrasion resistant antistatic with electrically conducting polymer for imaging element |
| US6300049B2 (en) | 1998-10-15 | 2001-10-09 | Eastman Kodak Company | Imaging element containing an electrically-conductive layer |
| US6096491A (en) * | 1998-10-15 | 2000-08-01 | Eastman Kodak Company | Antistatic layer for imaging element |
| DE69919661T2 (de) * | 1998-11-17 | 2005-09-22 | Agfa-Gevaert | Verfahren zur Herstellung einer Schicht aus leitfähigen Polythiophen bei niedriger Temperatur |
| EP1003179B1 (en) * | 1998-11-17 | 2004-08-25 | Agfa-Gevaert | A method for preparing a conductive polythiophene layer at low temperature |
| US6333145B1 (en) | 1998-11-17 | 2001-12-25 | Agfa-Gevaert | Method for preparing a conductive polythiophene layer at low temperature |
| US6025119A (en) * | 1998-12-18 | 2000-02-15 | Eastman Kodak Company | Antistatic layer for imaging element |
| EP1031875A1 (en) * | 1999-02-22 | 2000-08-30 | Agfa-Gevaert N.V. | Light-sensitive silver halide radiographic film material having satisfactory antistatic properties during handling |
| US6077655A (en) † | 1999-03-25 | 2000-06-20 | Eastman Kodak Company | Antistatic layer for imaging element containing electrically conductive polymer and modified gelatin |
| US6187522B1 (en) | 1999-03-25 | 2001-02-13 | Eastman Kodak Company | Scratch resistant antistatic layer for imaging elements |
| US6140030A (en) * | 1999-05-06 | 2000-10-31 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing two electrically-conductive agents |
| US6295434B1 (en) | 1999-05-20 | 2001-09-25 | Xerox Corporation | Porous transfer members and release agent associated therewith |
| EP1065562A1 (en) * | 1999-06-30 | 2001-01-03 | FERRANIA S.p.A. | Base film with a conductive layer and a magnetic layer |
| US6162596A (en) * | 1999-08-30 | 2000-12-19 | Eastman Kodak Company | Imaging elements containing an electrically-conductive layer comprising polythiophene and a cellulosic polymer binder |
| EP1081548A1 (en) * | 1999-08-30 | 2001-03-07 | Eastman Kodak Company | Coating composition containing polythiophene and solvent mixture |
| EP1081546A1 (en) | 1999-08-30 | 2001-03-07 | Eastman Kodak Company | Coating composition containing electrically-conductive polymer and solvent mixture |
| KR100364242B1 (ko) * | 2000-03-28 | 2002-12-16 | 제일모직주식회사 | 대전방지성 착색 코팅제 조성물, 그의 제조 방법, 및 그를이용한 유리표면의 코팅방법 |
| US20050045851A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-03-03 | Konarka Technologies, Inc. | Polymer catalyst for photovoltaic cell |
| EP1780233B1 (en) * | 2000-06-26 | 2009-06-17 | Agfa-Gevaert | Redispersible latex comprising a polythiophene |
| US6638680B2 (en) * | 2000-06-26 | 2003-10-28 | Agfa-Gevaert | Material and method for making an electroconductive pattern |
| JP4004214B2 (ja) * | 2000-08-24 | 2007-11-07 | ナガセケムテックス株式会社 | 帯電防止コーティング用組成物 |
| DE10103416A1 (de) * | 2001-01-26 | 2002-08-01 | Bayer Ag | Elektrolumineszierende Anordnungen |
| JP3628263B2 (ja) * | 2001-02-20 | 2005-03-09 | ソニーケミカル株式会社 | 帯電防止能を有する剥離剤組成物 |
| US6440654B1 (en) * | 2001-04-03 | 2002-08-27 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing an electrically-conductive layer |
| US6663956B2 (en) * | 2001-04-26 | 2003-12-16 | Mitsubishi Polyerster Film, Llc | Antistatic coating and coated film |
| US6623662B2 (en) | 2001-05-23 | 2003-09-23 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Carbon black coating for CRT display screen with uniform light absorption |
| US6623903B2 (en) * | 2001-06-22 | 2003-09-23 | Agfa-Gevaert | Material and method for making an electroconductive pattern |
| US6746751B2 (en) | 2001-06-22 | 2004-06-08 | Agfa-Gevaert | Material having a conductive pattern and a material and method for making a conductive pattern |
| US20040135126A1 (en) * | 2001-06-26 | 2004-07-15 | Schwark Dwight W. | Coating composition containing polythiophene and solvent mixture |
| US20050029496A1 (en) * | 2001-06-26 | 2005-02-10 | Schwark Dwight W. | Coating composition containing polythiophene, film-forming binder, and solvent mixture |
| US6746530B2 (en) | 2001-08-02 | 2004-06-08 | Chunghwa Pictures Tubes, Ltd. | High contrast, moisture resistant antistatic/antireflective coating for CRT display screen |
| US6521346B1 (en) | 2001-09-27 | 2003-02-18 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Antistatic/antireflective coating for video display screen with improved refractivity |
| US6764580B2 (en) * | 2001-11-15 | 2004-07-20 | Chungwa Picture Tubes, Ltd. | Application of multi-layer antistatic/antireflective coating to video display screen by sputtering |
| DE60219197T2 (de) | 2001-12-04 | 2008-01-03 | Agfa-Gevaert | Verfahren zur herstellung von lösungen oder dispersionen von polythiophenepolymeren |
| US6800429B2 (en) | 2001-12-26 | 2004-10-05 | Eastman Kodak Company | Imaging materials with conductive layers containing electronically conductive polymer particles |
| US20030141487A1 (en) * | 2001-12-26 | 2003-07-31 | Eastman Kodak Company | Composition containing electronically conductive polymer particles |
| JP3628303B2 (ja) * | 2002-02-28 | 2005-03-09 | ソニーケミカル株式会社 | 帯電防止能を有する剥離フィルム |
| US6656331B2 (en) | 2002-04-30 | 2003-12-02 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Application of antistatic/antireflective coating to a video display screen |
| US7163746B2 (en) | 2002-06-12 | 2007-01-16 | Eastman Kodak Company | Conductive polymers on acicular substrates |
| ATE404609T1 (de) * | 2002-09-24 | 2008-08-15 | Du Pont | Wasserdispergierbare polythiophene hergestellt unter verwendung von kolloiden auf basis von polymersäuren |
| US7462298B2 (en) | 2002-09-24 | 2008-12-09 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Water dispersible polyanilines made with polymeric acid colloids for electronics applications |
| US7195036B2 (en) * | 2002-11-04 | 2007-03-27 | The Regents Of The University Of Michigan | Thermal micro-valves for micro-integrated devices |
| US7051429B2 (en) * | 2003-04-11 | 2006-05-30 | Eastman Kodak Company | Method for forming a medium having data storage and communication capabilities |
| JP3902186B2 (ja) * | 2003-04-21 | 2007-04-04 | 日東電工株式会社 | 帯電防止型光学フィルム、その製造方法、及び画像表示装置 |
| TWI373483B (en) * | 2003-04-22 | 2012-10-01 | Du Pont | Water dispersible polythiophenes made with polymeric acid colloids |
| US7390438B2 (en) | 2003-04-22 | 2008-06-24 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Water dispersible substituted polydioxythiophenes made with fluorinated polymeric sulfonic acid colloids |
| US7508650B1 (en) | 2003-06-03 | 2009-03-24 | More Energy Ltd. | Electrode for electrochemical capacitor |
| US7491753B2 (en) | 2003-07-03 | 2009-02-17 | Mallard Creek Polymers, Inc. | Antimicrobial and antistatic polymers and methods of using such polymers on various substrates |
| US7781498B2 (en) | 2003-07-03 | 2010-08-24 | Mallard Creek Polymers, Inc. | Cationic latex as a carrier for bioactive ingredients and methods for making and using the same |
| US7981946B2 (en) | 2003-07-03 | 2011-07-19 | Mallard Creek Polymers, Inc. | Antimicrobial and antistatic polymers and methods of using such polymers on various substrates |
| US7033713B2 (en) * | 2003-08-26 | 2006-04-25 | Eastman Kodak | Electrographic patterning of conductive electrode layers containing electrically-conductive polymeric materials |
| US7163734B2 (en) * | 2003-08-26 | 2007-01-16 | Eastman Kodak Company | Patterning of electrically conductive layers by ink printing methods |
| US6893790B2 (en) * | 2003-08-26 | 2005-05-17 | Eastman Kodak Company | Photopatterning of conductive electrode layers containing electrically-conductive polymer particles |
| US7109986B2 (en) | 2003-11-19 | 2006-09-19 | Eastman Kodak Company | Illumination apparatus |
| US7145464B2 (en) | 2003-11-19 | 2006-12-05 | Eastman Kodak Company | Data collection device |
| US7009494B2 (en) | 2003-11-21 | 2006-03-07 | Eastman Kodak Company | Media holder having communication capabilities |
| US20050175861A1 (en) * | 2004-02-10 | 2005-08-11 | H.C. Starck Gmbh | Polythiophene compositions for improving organic light-emitting diodes |
| DE102004006583A1 (de) | 2004-02-10 | 2005-09-01 | H.C. Starck Gmbh | Polythiophenformulierungen zur Verbesserung von organischen Leuchtdioden |
| US7351358B2 (en) | 2004-03-17 | 2008-04-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Water dispersible polypyrroles made with polymeric acid colloids for electronics applications |
| DE102004014645A1 (de) * | 2004-03-25 | 2005-10-13 | Mitsubishi Polyester Film Gmbh | Transparente, elektrisch leitfähige, beschichtete Polyesterfolie, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
| JP2006318876A (ja) * | 2004-06-29 | 2006-11-24 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセント素子の製造方法及びエレクトロルミネッセント素子 |
| US7427441B2 (en) * | 2004-09-17 | 2008-09-23 | Eastman Kodak Co | Transparent polymeric coated conductor |
| US20060062983A1 (en) * | 2004-09-17 | 2006-03-23 | Irvin Glen C Jr | Coatable conductive polyethylenedioxythiophene with carbon nanotubes |
| US7781047B2 (en) | 2004-10-21 | 2010-08-24 | Eastman Kodak Company | Polymeric conductor donor and transfer method |
| JP4714452B2 (ja) * | 2004-10-21 | 2011-06-29 | 日東電工株式会社 | 帯電防止性粘着型光学フィルム及び画像表示装置 |
| JP4346087B2 (ja) * | 2004-10-21 | 2009-10-14 | 日東電工株式会社 | 帯電防止性光学フィルム、帯電防止性粘着型光学フィルム、それらの製造方法および画像表示装置 |
| US20060147616A1 (en) * | 2004-12-20 | 2006-07-06 | Russell Gaudiana | Polymer catalyst for photovoltaic cell |
| US7414313B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-08-19 | Eastman Kodak Company | Polymeric conductor donor and transfer method |
| US7630029B2 (en) * | 2005-02-16 | 2009-12-08 | Industrial Technology Research Institute | Conductive absorption layer for flexible displays |
| US7557875B2 (en) * | 2005-03-22 | 2009-07-07 | Industrial Technology Research Institute | High performance flexible display with improved mechanical properties having electrically modulated material mixed with binder material in a ratio between 6:1 and 0.5:1 |
| US7438832B2 (en) * | 2005-03-29 | 2008-10-21 | Eastman Kodak Company | Ionic liquid and electronically conductive polymer mixtures |
| JP4621950B2 (ja) * | 2005-05-13 | 2011-02-02 | ナガセケムテックス株式会社 | 帯電防止コーティング用組成物 |
| KR101213484B1 (ko) * | 2005-05-19 | 2012-12-20 | 삼성디스플레이 주식회사 | 전도성 고분자 조성물 및 이를 채용한 유기 광전 소자 |
| US7564528B2 (en) | 2005-05-20 | 2009-07-21 | Industrial Technology Research Institute | Conductive layer to reduce drive voltage in displays |
| US7645497B2 (en) | 2005-06-02 | 2010-01-12 | Eastman Kodak Company | Multi-layer conductor with carbon nanotubes |
| US7535462B2 (en) * | 2005-06-02 | 2009-05-19 | Eastman Kodak Company | Touchscreen with one carbon nanotube conductive layer |
| US7593004B2 (en) * | 2005-06-02 | 2009-09-22 | Eastman Kodak Company | Touchscreen with conductive layer comprising carbon nanotubes |
| JP5323478B2 (ja) * | 2005-06-27 | 2013-10-23 | イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー | 導電性ポリマー組成物 |
| WO2007002737A2 (en) * | 2005-06-28 | 2007-01-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | High work function transparent conductors |
| US20070048249A1 (en) | 2005-08-24 | 2007-03-01 | Purdue Research Foundation | Hydrophilized bactericidal polymers |
| US7410825B2 (en) * | 2005-09-15 | 2008-08-12 | Eastman Kodak Company | Metal and electronically conductive polymer transfer |
| DE102005053646A1 (de) * | 2005-11-10 | 2007-05-16 | Starck H C Gmbh Co Kg | Polymerbeschichtungen mit verbesserter Lösungsmittelbeständigkeit |
| DE102005060159A1 (de) * | 2005-12-14 | 2007-06-21 | H. C. Starck Gmbh & Co. Kg | Transparente polymere Elektrode für elektro-optische Aufbauten |
| US7732007B2 (en) * | 2005-12-19 | 2010-06-08 | Eastman Kodak Company | Method of making a polarizer plate |
| US20070141244A1 (en) * | 2005-12-19 | 2007-06-21 | Eastman Kodak Company | Method of making a polarizer plate |
| DE102006002798A1 (de) | 2006-01-20 | 2007-08-09 | H. C. Starck Gmbh & Co. Kg | Polythiophenformulierungen zur Verbesserung von organischen Leuchtdioden |
| JP5380778B2 (ja) * | 2006-02-24 | 2014-01-08 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | 導電性組成物 |
| JP4916740B2 (ja) * | 2006-03-16 | 2012-04-18 | 信越ポリマー株式会社 | 導電性塗膜 |
| US20080007518A1 (en) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Debasis Majumdar | Conductive polymer coating with improved aging stability |
| WO2008088394A2 (en) | 2006-08-24 | 2008-07-24 | Mallard Creek Polymers | Anionic latex as a carrier for bioactive ingredients |
| US9220725B2 (en) | 2006-08-24 | 2015-12-29 | Mallard Creek Polymers, Inc. | Cationic latex as a carrier for bioactive ingredients and methods for making and using the same |
| US8062553B2 (en) * | 2006-12-28 | 2011-11-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Compositions of polyaniline made with perfuoropolymeric acid which are heat-enhanced and electronic devices made therewith |
| US8153029B2 (en) | 2006-12-28 | 2012-04-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Laser (230NM) ablatable compositions of electrically conducting polymers made with a perfluoropolymeric acid applications thereof |
| US20080191172A1 (en) | 2006-12-29 | 2008-08-14 | Che-Hsiung Hsu | High work-function and high conductivity compositions of electrically conducting polymers |
| US20080264682A1 (en) * | 2007-04-24 | 2008-10-30 | John Catron | Substrate and negative imaging method for providing transparent conducting patterns |
| KR101502978B1 (ko) * | 2007-12-07 | 2015-03-18 | 아그파-게바에르트 엔.브이. | 태양광 노출에 대한 안정성이 개선된 층 구성체 |
| EP2105458A1 (en) | 2008-03-27 | 2009-09-30 | Agfa-Gevaert | Dispersable polythiophene composition. |
| WO2011012754A2 (es) | 2009-07-30 | 2011-02-03 | Fundacion Cidetec | Sensor electroquímico para la detección de analitos en medios líquidos |
| US8258078B2 (en) | 2009-08-27 | 2012-09-04 | Eastman Kodak Company | Image receiver elements |
| DE102010002885B4 (de) | 2010-03-15 | 2016-07-21 | Irlbacher Blickpunkt Glas Gmbh | Beleuchtungseinheit mit organischer Leuchtdiode, deren Verwendung als Display sowie Verfahren zur Herstellung der Beleuchtungseinheit |
| US9214639B2 (en) | 2010-06-24 | 2015-12-15 | Massachusetts Institute Of Technology | Conductive polymer on a textured or plastic substrate |
| WO2011163556A2 (en) | 2010-06-24 | 2011-12-29 | Massachusetts Institute Of Technology | Conductive polymer on a textured or plastic substrate |
| EP2457737B1 (en) | 2010-11-26 | 2013-06-05 | Agfa-Gevaert | Image receiving material for offset printing |
| US8493713B2 (en) | 2010-12-14 | 2013-07-23 | Avx Corporation | Conductive coating for use in electrolytic capacitors |
| US8576543B2 (en) | 2010-12-14 | 2013-11-05 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a poly(3,4-ethylenedioxythiophene) quaternary onium salt |
| US8451588B2 (en) | 2011-03-11 | 2013-05-28 | Avx Corporation | Solid electrolytic capacitor containing a conductive coating formed from a colloidal dispersion |
| DE102011018480A1 (de) | 2011-04-21 | 2012-10-25 | Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg | Fluorierte Amine als SAM in OLEDs |
| US8865298B2 (en) | 2011-06-29 | 2014-10-21 | Eastman Kodak Company | Article with metal grid composite and methods of preparing |
| US8628840B2 (en) | 2011-06-29 | 2014-01-14 | Eastman Kodak Company | Electronically conductive laminate donor element |
| DE102011107921B3 (de) | 2011-07-19 | 2012-11-15 | Heraeus Precious Metals Gmbh & Co. Kg | SAM-Schichten mit HTL-Funktion |
| US8971019B2 (en) | 2012-03-16 | 2015-03-03 | Avx Corporation | Wet capacitor cathode containing an alkyl-substituted poly(3,4-ethylenedioxythiophene) |
| JP5830444B2 (ja) * | 2012-07-02 | 2015-12-09 | 信越ポリマー株式会社 | 導電性高分子組成物、該組成物より得られる帯電防止膜が設けられた被覆品、及び前記組成物を用いたパターン形成方法。 |
| KR102024975B1 (ko) * | 2013-02-15 | 2019-09-24 | 신에츠 폴리머 가부시키가이샤 | 도전성 조성물, 도전성 조성물의 제조 방법, 대전방지 수지 조성물 및 대전방지 수지 피막 |
| US8709194B1 (en) | 2013-02-25 | 2014-04-29 | Eastman Kodak Company | Assembling an electrode device |
| US9017927B2 (en) | 2013-02-25 | 2015-04-28 | Eastman Kodak Company | Patterning of transparent conductive coatings |
| JP6341807B2 (ja) * | 2014-08-27 | 2018-06-13 | 信越ポリマー株式会社 | 帯電防止フィルムの製造方法 |
| JP5872004B1 (ja) * | 2014-08-27 | 2016-03-01 | 信越ポリマー株式会社 | 帯電防止フィルムの製造方法 |
| KR102109324B1 (ko) * | 2014-11-19 | 2020-05-12 | 헤레우스 메디컬 컴포넌츠 엘엘씨 | 3차원 기판을 위한 전도성 폴리머 코팅 |
| EP3037497A1 (en) | 2014-12-23 | 2016-06-29 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Process for producing functionalized polythiophenes |
| EP3384326B1 (en) * | 2015-12-04 | 2022-02-02 | Essilor International | Structured film laminate with antistatic compositions embedded therein |
| WO2018222622A1 (en) | 2017-05-27 | 2018-12-06 | Poly Group LLC | Dispersible antimicrobial complex and coatings therefrom |
| US20180362678A1 (en) | 2017-06-16 | 2018-12-20 | Poly Group LLC | Polymeric antimicrobial surfactant |
| EP4435065A1 (en) | 2023-03-20 | 2024-09-25 | Agfa-Gevaert Nv | Conductive polymer dispersion |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT1175016B (it) * | 1983-06-07 | 1987-07-01 | Minnesota Mining & Mfg | Supporto fotografico antistatico metodo per prepararlo ed elemento fotografico che comprende detto supporto |
| IT1223479B (it) * | 1987-12-16 | 1990-09-19 | Minnesota Mining & Mfg | Supporto fotografico antistatico ed elemento sensibile alla luce |
| DE3843412A1 (de) * | 1988-04-22 | 1990-06-28 | Bayer Ag | Neue polythiophene, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| JP2727088B2 (ja) * | 1988-09-19 | 1998-03-11 | 株式会社豊田中央研究所 | エレクトロクロミック電極およびその製造方法 |
| US5006451A (en) * | 1989-08-10 | 1991-04-09 | Eastman Kodak Company | Photographic support material comprising an antistatic layer and a barrier layer |
| JP2829645B2 (ja) * | 1989-10-18 | 1998-11-25 | コニカ株式会社 | 帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料 |
| DE59010247D1 (de) * | 1990-02-08 | 1996-05-02 | Bayer Ag | Neue Polythiophen-Dispersionen, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
| JPH04170493A (ja) * | 1990-11-02 | 1992-06-18 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 帯電防止組成物 |
-
1992
- 1992-04-06 DE DE4211461A patent/DE4211461A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-03-24 EP EP93104866A patent/EP0564911B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-24 US US08/036,263 patent/US5370981A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-03-24 DE DE59310176T patent/DE59310176D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-04-02 JP JP09840693A patent/JP3205640B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0564911A3 (ja) | 1994-03-23 |
| US5370981A (en) | 1994-12-06 |
| DE59310176D1 (de) | 2001-07-26 |
| EP0564911A2 (de) | 1993-10-13 |
| DE4211461A1 (de) | 1993-10-07 |
| EP0564911B1 (de) | 2001-06-20 |
| JPH0673271A (ja) | 1994-03-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3205640B2 (ja) | 帯電防止可塑製品 | |
| JP2636968B2 (ja) | 新規ポリチオフエンの溶液及びその製造方法 | |
| JP3710832B2 (ja) | 帯電防止被覆組成物 | |
| JP3299616B2 (ja) | 永久帯電防止プライマー層 | |
| CA1139094A (en) | Antistatic compositions comprising crosslinkable latex binders | |
| Jonas et al. | Poly (3, 4‐ethylenedioxythiophene): Conductive coatings, technical applications and properties | |
| EP0593111A1 (en) | Antistatic coating composition | |
| EP0553502A1 (en) | Sheet or web material having antistatic properties | |
| GB2043485A (en) | Permanent antistatic layers | |
| JP2001506797A (ja) | 導電性有機−無機ハイブリッド材料 | |
| EP0844284A1 (en) | Cross-linkable conductive composition, conductor, and process for forming the same | |
| CA1094895A (en) | Coated film | |
| KR19990044837A (ko) | 광학적으로 다양한 제품의 제조를 위한 중합체 코팅 기질 | |
| TWI766929B (zh) | 用於形成抗靜電層或電磁輻射屏蔽之組合物 | |
| CA1312794C (en) | Surface treatment of pet film | |
| US5213887A (en) | Antistatic coatings | |
| JPH08337669A (ja) | ゼラチン相溶性帯電防止被覆組成物 | |
| WO1990008978A1 (en) | Cyclic phosphazene and salt antistatic composition | |
| JPH05209070A (ja) | 帯電防止被覆 | |
| JP2001115098A (ja) | 塗布性に優れた導電性被覆用組成物 | |
| JPH08319361A (ja) | 帯電防止フィルム基材およびその帯電防止フィルム基材を含む写真成分 | |
| IT9022156A1 (it) | Supporti antistatici ed elementi fotografici comprendenti detti supporti antistatici. | |
| WO2020002483A1 (en) | Liquid compositions comprising particles of a conductive polymer and an organic solvent forming an azeotrope with water | |
| JPS6026944A (ja) | 写真材料 | |
| JPH0477735A (ja) | 帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料およびその製造法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080629 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090629 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100629 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| S631 | Written request for registration of reclamation of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313631 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110629 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120629 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130629 Year of fee payment: 12 |