JP3299616B2 - 永久帯電防止プライマー層 - Google Patents
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 38
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 claims abstract description 29
- 239000004816 latex Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229920000126 latex Polymers 0.000 claims abstract description 28
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 24
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 20
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims abstract description 20
- 229920000447 polyanionic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 229920000547 conjugated polymer Polymers 0.000 claims abstract description 5
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims description 37
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 30
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 27
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 20
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 claims description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 14
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 14
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 13
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 11
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 6
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 6
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002993 cycloalkylene group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001273 sulfonato group Chemical group [O-]S(*)(=O)=O 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 23
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 95
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 14
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 13
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 12
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 12
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 12
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 12
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 9
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 8
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 8
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 8
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 7
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 6
- GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrothieno[3,4-b][1,4]dioxine Chemical compound O1CCOC2=CSC=C21 GKWLILHTTGWKLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 5
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 5
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241001479434 Agfa Species 0.000 description 4
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 4
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 4
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 3
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 239000002322 conducting polymer Substances 0.000 description 3
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 3
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 3
- 238000009998 heat setting Methods 0.000 description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 3
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 3
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 3
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 3
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CARJPEPCULYFFP-UHFFFAOYSA-N 5-Sulfo-1,3-benzenedicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC(S(O)(=O)=O)=C1 CARJPEPCULYFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N D-gluconic acid Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N Disodium Chemical class [Na][Na] QXNVGIXVLWOKEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N Fe3+ Chemical class [Fe+3] VTLYFUHAOXGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N Potassium ion Chemical compound [K+] NPYPAHLBTDXSSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 2
- WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N dimethyl terephthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC)C=C1 WOZVHXUHUFLZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010556 emulsion polymerization method Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229920001600 hydrophobic polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 2
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 2
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 2
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical group ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005654 1,2-cyclohexylene group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([*:2])C([H])([*:1])C1([H])[H] 0.000 description 1
- LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 1-dodecanesulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCS(O)(=O)=O LDMOEFOXLIZJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWVUXHAGKYHXLI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxy-2-nonylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1OC=C BWVUXHAGKYHXLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYEJMVLDXAUOPN-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O CYEJMVLDXAUOPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMNDYUVBFMFKNZ-UHFFFAOYSA-N 2-furoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CO1 SMNDYUVBFMFKNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODFQANWGPKRIDU-UHFFFAOYSA-N 2-heptadecylbenzimidazole-2,4-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=C(S(O)(=O)=O)C2=NC(CCCCCCCCCCCCCCCCC)(S(O)(=O)=O)N=C21 ODFQANWGPKRIDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDTUPLBMGDDPJS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-2-phenylethanol Chemical compound COC(CO)C1=CC=CC=C1 JDTUPLBMGDDPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 2-sulfobenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1S(O)(=O)=O YZTJKOLMWJNVFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDCGBWBATVAIRI-UHFFFAOYSA-N 5-heptadecyl-1h-benzimidazole-2,4-disulfonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=C2N=C(S(O)(=O)=O)NC2=C1S(O)(=O)=O HDCGBWBATVAIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- 229910020366 ClO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N D-gluconic acid Natural products OCC(O)C(O)C(O)C(O)C(O)=O RGHNJXZEOKUKBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N D-mannopyranose Chemical compound OC[C@H]1OC(O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-QTVWNMPRSA-N 0.000 description 1
- 206010011878 Deafness Diseases 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical class [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- XUGISPSHIFXEHZ-GPJXBBLFSA-N [(3r,8s,9s,10r,13r,14s,17r)-10,13-dimethyl-17-[(2r)-6-methylheptan-2-yl]-2,3,4,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydro-1h-cyclopenta[a]phenanthren-3-yl] acetate Chemical compound C1C=C2C[C@H](OC(C)=O)CC[C@]2(C)[C@@H]2[C@@H]1[C@@H]1CC[C@H]([C@H](C)CCCC(C)C)[C@@]1(C)CC2 XUGISPSHIFXEHZ-GPJXBBLFSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 229920006243 acrylic copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Inorganic materials O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N azane;7-fluoro-2,1,3-benzoxadiazole-4-sulfonic acid Chemical compound N.OS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C2=NON=C12 JXLHNMVSKXFWAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N beta-D-glucose Chemical compound OC[C@H]1O[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-VFUOTHLCSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000003115 biocidal effect Effects 0.000 description 1
- 239000003139 biocide Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 125000003636 chemical group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 230000003750 conditioning effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000006114 decarboxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- DEKPYXUDJRABNK-UHFFFAOYSA-N dimethyl 5-aminobenzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC(N)=CC(C(=O)OC)=C1 DEKPYXUDJRABNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N dimethyl benzene-1,3-dicarboxylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC(C(=O)OC)=C1 VNGOYPQMJFJDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- VMGPHNPNRHZRDT-UHFFFAOYSA-L disodium;5-heptadecyl-1h-benzimidazole-2,4-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=C2NC(S([O-])(=O)=O)=NC2=C1S([O-])(=O)=O VMGPHNPNRHZRDT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000000174 gluconic acid Substances 0.000 description 1
- 235000012208 gluconic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000008103 glucose Substances 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 1
- 125000003010 ionic group Chemical group 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical class [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N pyrrolidin-2-one Chemical compound O=C1CCCN1 HNJBEVLQSNELDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 1
- 238000002601 radiography Methods 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 1
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- YCGAZNXXGKTASZ-UHFFFAOYSA-N thiophene-2,5-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)S1 YCGAZNXXGKTASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N vinylsulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=C NLVXSWCKKBEXTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 239000000230 xanthan gum Substances 0.000 description 1
- 229920001285 xanthan gum Polymers 0.000 description 1
- 229940082509 xanthan gum Drugs 0.000 description 1
- 235000010493 xanthan gum Nutrition 0.000 description 1
- YZYKBQUWMPUVEN-UHFFFAOYSA-N zafuleptine Chemical compound OC(=O)CCCCCC(C(C)C)NCC1=CC=C(F)C=C1 YZYKBQUWMPUVEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
はウエブ材に関するものであり、限定されないが特に疎
水性樹脂支持体が例えば感光性ゼラチンハロゲン化銀乳
剤層のような親水性コロイド含有層に対する良好な接着
力を付与する帯電防止下塗層を担持する記録材料に関す
る。
は誘電材料で摩擦することにより及び/または例えばロ
ーラのような静電的に帯電可能な運搬手段と接触するこ
とにより容易に帯電されることは公知のことである。帯
電が特に容易に起るのは、比較的乾いた大気環境の場合
である。
ルロースのような疎水性樹脂のシートまたはウエブ材
は、記録材料の支持体要素として普通用いられる。この
ような材料は、それらの製造中(例えば被覆または切断
中)及び例えば使用中(例えばステップアンドリピート
カメラを用いての情報の記録中)、またはフィルム交換
器に使用中のX線診断用のハロゲン化銀写真材料の場合
またはいわゆる昼光装置においてフィルム着脱に使用す
る場合、他の要素との摩擦接触を受ける。
た写真フィルムを巻き上げ巻き戻しする場合に、強い摩
擦が生じ、その結果、塵埃を引き付けたり、スパークを
起したりすることになりかねない帯電が起るおそれがあ
る。無処理の写真用ハロゲン化銀乳剤材料の場合、スパ
ークによってかぶりが発生し易くなり、かつ像の品質が
悪化することになる。
いて被覆した疎水性樹脂支持体を含む写真用シートまた
はウエブ材の帯電を、それらの透明性を損なうことなく
低減させるために、これらの材料、例えばゼラチン−ハ
ロゲン化銀乳剤層または他の親水性コロイド層にまたは
下塗層にイオン化合物を混入することは公知である。
イオン化合物の拡散を防止するためには、この中に例え
ばカルボン酸ナトリウム塩基のようなイオン基を有する
帯電防止高分子量重合体化合物を重合体鎖中に頻繁な間
隔で混入することが好ましいとされている〔参考、Phot
ographic Emulsion Chemistry G. F. Duffin著、−Th
e Focal Press 1966年発行(ロンドン及びニュー
ヨーク)、168頁〕。イオン伝導重合体の伝導性の永
続性を更に向上させるために、これらの重合体を疎水性
重合体で架橋させることが提案された(参考、例えばU
S−P4585730、US−P4701403、US
−P4589570、US−P5045441、EP−
A391402及びEP−A420226)。
帯電防止層の伝導率は、架橋後でさえも湿気に左右さ
れ、酸性の写真処理液、例えば酸性写真定着液または停
止浴での処理によってかなり低下する。
共役重合体が開発された。かような重合体の代表例が、
定期刊行物、 Materials & Design 、11巻、第3号
(1990年6月)、142−152頁及び Science
and Applications of Conducting Polymers という
本に記述されている。上記の本は、その出典は1990
年5月28−31日にノルウエーの Lothus で開催され
た第6回 European Physical Society Industrial
Workshopでのレポートで、編集者は Lingkoping 大学の
W. R. Salaneck,ICI Wilton Materials Research
Centerの D.T. Clark ならびに、Trondheim 大学の
E. J. Samuelson であり、発行者は、英国 Bristol BS
1 6NX の IOP Publishing Ltd Techno Houseで印刷
され、Adam Hilger発行となっている。
物質の伝導性は湿気に左右されない。これらの物質は、
永続的でかつ再現性のある伝導率を有する帯電層の製作
に使用するのには特に適している。
されていて、そのためこれらの重合体は写真材料に使用
するには余り適しないが、ポリアレンメチリデンの群の
重合体の幾つか、例えば、ポリチオフエンやポリイソチ
アナフテンは、少なくとも被覆した層が薄い場合は、あ
まり着色されず透明である。
上記の本すなわち Science and Applications of C
onducting Polymers の92頁に記述されている製造文
献に記述されている。
合体の製造については、J Electrochem Soc 134
(1987)46に記述されている。
きれば、有機溶剤はできる限り少なく使用して水溶液か
ら実施すべきである。ポリアニオンの存在下でのポリチ
オフエンの分散液である水性被覆組成物からの帯電防止
被覆の製造は公開された欧州特許出願第0440957
号及び対応する米国特許出願第647093号に記載さ
れている。それらはこれと関連して読むべきである。
び多くの用途のために、例えばこれに伝導性プライマー
または下塗層を施すことによりその表面の抵抗を低減さ
せることが重要であることは公知のことである。しか
し、ポリエステル樹脂支持体と親水性帯電防止層の間の
良好な結合を確立することが難しいこともまた公知のこ
とである。殆どの場合、ゼラチン−ハロゲン化銀乳剤層
のような1層またはそれ以上の親水性コロイド記録層を
有する写真材料の場合のように、ポリエステル樹脂支持
体に親水性コロイド層の十分な接着を付与するのには、
1層以上が必要である。普通は、第一の特別な接着層を
支持体に被覆して、これに適当な帯電防止層を接着す
る。この帯電防止層は、機械的損傷や溶剤による浸食を
防止するため、保護層で保護することができる。
によって十分な寸法安定性を与え、かつ、これを比較的
高温でヒートセットすることは普通に行われている。ポ
リエステルフィルム支持体の2軸配向は、普通、2段階
で実施される。第一段階で、フィルムを一方向に延伸
し、そして、後で、第一延伸に直角な方向に延伸する。
経済的な見地から、各延伸操作の前または延伸操作間
に、ポリエステルフィルム上に帯電防止プライマー層を
施すことができれば有利であろう。プライマー層は、延
伸段階で施されると良好な係留が保持されるだろうし、
またその弾性モジュラスは、延伸の際にフィルムの拡大
に容易に追随することになろう。弾性モジュラスは歪み
に対する応力(単位面積当りの力)の比であり、歪みは
伸びの百分率で表わす純粋な数である(参考、米国マサ
チューセッツ州 Readingの Addison−Westey Publishi
ng Company 発行、Sears 及び Zemansky 著 Universit
y Physics 第4版、154−155頁)。
を通して案内されるが、このヒートセット域で、ポリエ
チレンテレフタレートフィルムのような下塗したポリエ
ステルフィルムは、温度が180℃ないし220℃にな
るまで加熱され、その間フィルムは両方向に引張られた
ままになっている。
となくかかる温度に耐えねばならず、また電気伝導材料
を混入する際、その伝導率が低下してはならない。
態でも支持体に対して良好な接着性を有する透明な帯電
防止プライマー層を担持する疎水性ポリエステル樹脂支
持体を含み、支持体に対するその接着性を失うことな
く、かつ、延伸中及び延伸後の熱処理において著しく着
色することなく、前記ポリエステル樹脂支持体と共に延
伸を施すことのできるシートまたはウエブ材を提供する
ことである。
ライマー層によって永続的な帯電防止性を得る、すなわ
ち、雰囲気の相対湿度又は、湿式処理の影響に左右され
て著しい抵抗率の変化を示すことのない、該下塗支持体
を含むシートまたはウエブ型の写真用ゼラチン−ハロゲ
ン化銀乳剤層を提供することである。
施例によって明らかになるだろう。
方向に前記ポリエステルシートまたはウエブを延伸する
工程と、 (ii)前記疎水性ポリエステルシートまたはウエブに、
前記延伸操作前または前記第一及び第二延伸操作の間
に、一側または両側に透明帯電防止プライマー層を被覆
する工程を含み、この場合、前記透明帯電防止プライマ
ー層の被覆組成物が(1)共役重合体主鎖を有するポリ
チオフエン及び重合体ポリアニオン化合物の分散液と、
(2)親水性官能基を有するラテックス重合体を含むこ
とを特徴とする、改良された帯電防止性を有する2軸方
向に配向したポリエステルシートまたはウエブを製造す
る方法が提供される。
共重合体の粒子の水性分散液(ラテックス)として付与
される重合体または共重合体のことである。
有する化学基、例えば、好ましくは塩の状態にあるスル
ホン酸基またはカルボン酸基、例えばアルカリ金属塩基
を意味する。
とも一つのアルコキシ基、またはnは1ないし4である
−O(CH2CH2O)nCH3基で置換されたチオフ
エン核、または置換された形のかかる基を含むアルキレ
ン基をもつ2酸素原子上で閉じられた環であるチオフエ
ン核を有している。「2酸素原子上で閉じられた環」と
は、チオフエン環の隣接2炭素原子が、オキシ−アルキ
レン−オキシ基と一つの隣接環を形成しているというこ
とである。本発明に従って使用するための好ましいポリ
チオフエンは、下記の一般式(I)に相当する構造単位
からなっている。
たは、C1−4アルキル基を表すかまたは、共に、随意
に置換したC1−4アルキレン基、またはシクロアルキ
レン基、好ましくはエチレン基、随意にアルキル置換し
たメチレン基、随意にC1−12アルキル置換またはフ
ェニル置換した1,2−エチレン基、1,3−プロピレ
ン基または1,2−シクロヘキシレン基を表わす。
エンを含有する水性ポリチオフエン−重合体ポリアニオ
ン分散液の製造は、公開された欧州特許出願第0440
957号と、対応する米国出願第647093号に記述
されている。
ポリアニオン化合物の存在下、例えばピロールの酸化重
合の場合に使用する酸化剤を使用し、及び/または、前
記ポリ酸の存在下において酸素または空気を使用し、好
ましくは、0ないし100℃の温度で、随意に若干量の
有機溶剤を含有する水性媒体中で、下記の一般式(II)
による3,4−ジアルコキシチオフエンまたは3,4−
アルキレンジオキシチオフエンを酸化重合することによ
って実施される。
通りである。
電され、前記荷電の位置と数は明確には確認できなく、
従ってこれらはポリチオフエン重合体の反復単位の一般
式においては言及されない。
合は、これらの導入はチオフエン、ポリ酸及び随意に触
媒量の金属塩を含有する溶液中へ重合が完結するまで実
施される。
する酸化剤は、例えば、J. Am. Soc. 85,454(1
963)にピロールの酸化重合用に適当であると記述さ
れているものと同じであってもよい。安価で取扱い容易
な酸化剤として好ましいものは、鉄(III) 塩、例えばF
eCl3,Fe(ClO4)3及び有機酸及び有機残基
を含有する無機酸の鉄(III) 塩、ならびに、H2O2,
K2Cr2O7,過硫酸アルカリまたはアンモニウム、
過ホウ酸アルカリ、過マンガン酸カリウム及び、テトラ
フルオロホウ酸銅のような銅塩などである。
剤の2.25当量が、チオフエンの酸化重合に必要であ
る〔参考、J. Polym. Sci. Part A ,Polymer Chemist
ry,26巻、1287頁(1988)〕。しかし、実
際、該酸化剤は、若干過剰に、例えば、チオフエン1モ
ル当り0.1ないし2当量余分に使用される。
の重合のためには、ポリ酸と酸化剤を有機溶媒または好
ましくは水に溶解もしくは乳化させ、そして得られた溶
液または乳剤を重合反応が完了するまで、予定の重合温
度で攪拌する。この技法によって、安定な水性ポリチオ
フエン分散液が得られ、これは0.05ないし55重量
%、好ましくは0.1ないし10重量%の固形分を含有
する。
度、及び酸化剤の種類如何で数分ないし30時間となろ
う。得られるポリチオフエン/ポリアニオン分散液の安
定性は、重合中及び/または重合後、分散剤、例えばU
S−P3525621に記述されているスルホン酸ドデ
シル、スルホン酸アルキルアリルポリエーテルのような
アニオン表面活性剤の添加によって更に改良することが
できる。
ポリチオフエン粒子の大きさは、5nmないし1μmの
範囲内、好ましくは40ないし400nmの範囲内にあ
る。
下で使用するに適する重合体ポリアニオン化合物は遊離
酸状態の酸性重合体によって、または、前記酸性重合体
の塩によって提供される。該酸性重合体は重合体カルボ
ン酸またはスルホン酸であることが好ましい。このよう
な重合体酸の例は、アクリル酸、メタクリル酸、マレイ
ン酸、ビニルスルホン酸及びスチレンスルホン酸または
それらの混合物からなる群から選択した反復単位を含有
する重合体である。
/ポリアニオン分散液を形成するために、分散したポリ
チオフエン重合体と共に使用されるアニオン系(酸性)
重合体は、好ましくは、分散液の十分な安定性を保証す
るために、前記重合体化合物に対して、2重量%以上の
含有量のアニオン系基を有している。適当な酸性重合体
または対応する塩は、例えば、DE−A254123
0,DE−A2541274,DE−A283585
6,EP−A14921,EP−A69671,EP−
A130115,US−P4147550,US−P4
388403及びUS−P5006451に記載されて
いる。
体、枝分れ鎖重合体、または架橋重合体からなっていて
もよい。架橋重合体ポリアニオン化合物であって、多量
の酸性基を有するものは水中で膨潤しやすく、マイクロ
ゲルといわれる。かかるマイクロゲルは、例えば、US
−P4301240、US−P4677050及びUS
−P4147550に開示されている。
分子量は、1000ないし2000000の範囲内にあ
るのが好ましく、2000ないし500000の範囲内
にあるのが更に好ましい。ポリ酸で上記の規準内にある
ものは市販で入手でき、例えばポリスチレンスルホン酸
や、ポリアクリル酸であるが、または公知の方法で製造
することもできる(参考、例えば、Houben−Weylの Met
hoden der Organischen Chemie ,E20巻,Makrom
olekulare Stoffe ,2部,(1987)、141頁及
び次頁)。
合体ポリ酸の代りに、随意的に一酸の存在下で、前記ポ
リ酸と非中和ポリ酸のアルカリ塩の混合物を使用するこ
とができる。ポリアニオン系重合体の遊離酸性団を無機
塩基、例えば、水酸化ナトリウムと反応せしめて、被覆
前に中性重合体分散液を得るようにしてもよい。
オフエン重合体の重量比は、例えば約50/50ないし
15/85と広範囲に変わることができる。
クス重合体は、乾燥の際フィルムを形成するその特性と
その親水性官能基によって、ポリエステルフィルム支持
体とこれに付与される親水性層の間に良好な結合を与え
る。
物と混合して加えられる「ラテックス重合体」は塩状態
のスルホン酸基を含有するコポリエステルであることが
好ましいが、例えば、US−P3563942,US−
P4252885,US−P4340519,US−P
4394442及びUS−P4478907に記述され
るような親水性官能基を有するコポリエステルのような
他のポリエステルも同様に使用してよい。
ホン酸基が若干量含まれており(参考、GB−P158
9926)、US−P4478907とEP78559
に記述されているように、それらのガラス転移温度(T
g)を上げるために、特殊な共縮合架橋剤が若干量含ま
れている。かかるコポリエステルには例えば、エチレン
グリコールから得た反復エステル基や、(i)テレフタ
ール酸、(ii)イソフタール酸、(iii) スルホ基が塩状
態にある5−スルホイソフタール酸及び(iv)架橋を生
じる多官能酸を含有する酸混合物が含まれている。
エステルはエチレングリコールから得られた反復エステ
ル基と、テレフタール酸、イソフタール酸、及びスルホ
基が塩状態にある5−スルホイソフタール酸を含有する
酸混合物とを含有するコポリエステルであり、前記酸混
合物は、主として、20ないし60モル%のイソフター
ル酸、6ないし10モル%の前記スルホイソフタール
酸、少なくとも3個のカルボン酸基または対応する酸発
生無水物またはエステル基を有する芳香族ポリカルボン
酸化合物である0.05ないし1モル%の架橋剤からな
り、該酸混合物中の残基はテレフタール酸である。
能基を有する前記コポリエステルが好ましいが、同様に
親水性官能基を有する付加(共)重合体も、満足な結果
で使用することができる。
マー層の被覆組成は、既述のポリチオフエン/ポリアニ
オン分散液と、コポリエステルラテックスとに混合し
て、ラテックス状で親水性官能基を有する付加重合体ま
たは共重合体を含有している。このような(共)重合体
は、例えばEP−A386529,US−P38619
24、 Research Disclosure 162号、1977年1
0月号、47−49頁、16258項、US−P422
5665及びUS−P4689359に開示されてい
る。US−P4388403に開示されているような親
水性特性を有する別のポリウレタンもラテックス重合体
として使用することができる。
するための被覆組成物において、前記付加重合体は好ま
しくは、45ないし70重量%の低級(C1−C4)メ
タクリル酸アルキルと、20ないし50重量%のブタジ
エンと、2ないし5重量%のエチレン不飽和カルボン酸
で構成された共重合体である。
を有する非常に好適な付加重合体の一例は、例えば、U
S−P3649336に記載のような塩化ビニリデンと
不飽和カルボン酸の共重合体である。好ましくは、かよ
うな付加共重合体は、60ないし90重量%の塩化ビニ
リデンと、9ないし30%の低級(C1−C4)メタク
リル酸アルキルと1ないし5重量%のエチレン不飽和カ
ルボン酸で構成された共重合体である。
ルシートまたはウエブ材の延伸操作の前に、該ポリエス
テルシートまたはウエブ上に被覆することができる。有
利な方法としては、被覆は、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムウエブの2つの延伸操作の間に行い、この
際、両延伸操作の延伸比は2.5:1ないし4.0:1
としてよい。
支持体との同時延伸後の厚さが0.001ないし5μm
であってもよく、好ましくは該厚さは0.01ないし
0.5μmの範囲にある。
たは両側に被覆することができ、帯電防止プライマー層
の拡がりを改良するために、被覆溶液に界面活性剤を添
加してもよい。この目的のために、アニオン系ならびに
非イオン系ぬれ剤、例えば、ドデシルフェノールポリエ
チレンオキサイドエーテル、p−ノニルフェノキシポリ
グリシドール、イソ−オクチル−フェニレン−(O−C
H2−CH2)8−O−CH2−COOHで、オランダ
のCHEMY社がAKYPO OP80の商品名で販売
しているものまたはサポニンのようなC12−C18ア
ルキルフェノルポリエチレンオキサイドエーテルを使用
してもよい。明らかに、他の界面活性剤も使用してよ
く、また、表面抵抗率の低下に及ぼすそれらの有利な影
響は簡単なテストで検査することができる。界面活性剤
の調査は、例えば、 Dr. Helmut Stache 著 Tensid −
Taschenbuch Herausgegeben〔ミュンヘン及びウィーン
の Carl Hanser Verlag (1979)発行〕に示され
ている。
に記述されているような延伸改良剤として脂肪族ポリヒ
ドロキシ化合物(例えば、グリセロール、ソルビトー
ル、等)、及びUS−P4089997に記述されてい
るような粘度調整剤としての単量体カルボン酸(例え
ば、フランカルボン酸、マロン酸及びグルタール酸)が
含まれていてもよい。
6451に記述されているような例えば金属酸化物であ
る別の帯電防止剤、または好ましくは平均粒径が100
nmを越えない、好ましくは50nmを越えないコロイ
ドシリカが含まれていてもよい。
イドシリカは、水性のコロイド分散液として入手でき、
かつ、商品名LUDOX(米国、デラウエア州、ウィル
ミントンの E. I. du Pont de Nemoursの商品名)な
らびにSYTO(米国マサチュセッツ州、ボストンの M
onsanto Chemical Corp.の商品名)及びKIESEL
SOL(ドイツ国 Leverkusen の Bayer AGの商品名)
で上市されている。特に適しているのはKIESELS
OL 100 Fであり、このコロイドシリカの粒径は
25ないし30nmの範囲内にある。
おいては、帯電防止プライマー層はハロゲン化銀乳剤で
直接被覆することができる。
両側に被覆するポリエステルシートまたはウエブ材上に
一側だけにハロゲン化銀乳剤層材料を施す場合は、ハロ
ゲン化銀乳剤層の反対側は、帯電防止層上に、ガラス転
移温度値(Tg)が少なくとも40℃である疎水性有機
重合体からなる保護層を施して、最外側裏打ち層とする
ことができる。本発明によって、帯電防止層上に保護層
として使用される疎水性重合体は、Tg値が100℃以
上であるポリメチルメタクリレートであるのが好まし
い。
ンのような親水性のコロイドを若干量含有する親水性の
下塗層で被覆することができる。
49336及び対応するGB−P1234755におい
て層(B)について記述されたようなものでよい。前記
下塗層は、例えば、重量比が1:3ないし1:0.5の
ゼラチンとコロイドシリカの混合物からなる。該下塗層
の被覆組成物は、被覆の拡がりを改良するぬれ剤、及び
ポリオキシアルキレン化合物やポリオールのような可塑
剤、及び公開されたEP−A0078559に記述され
ている被覆の柔軟性を改良するゼラチン可塑剤が含まれ
ていてもよい。
剤、吸光または反射顔料、例えば、カーボンブラック及
び/または二酸化チタニウム及び/または漂白染料を含
有していてもよい。
5μmの範囲内の変動があってもよいが、普通は約1μ
mである。
止プライマー層を含む写真用ハロゲン化銀乳剤材料は、
当業者に公知の如何なる種類のハロゲン化銀乳剤層を含
んでいてもよい。例えば、これらの材料は連続階調また
はハーフトーン写真、マイクロ写真、及びX線写真に用
いられる種類のハロゲン化銀乳剤層を含んでいてもよ
い。定義した帯電防止プライマー層は白黒またはカラー
写真材料において、かつまた、銀錯体拡散転写(DT
R)法ならびにハロゲン化銀乳剤層で操作する染料拡散
転写法に使用する目的のハロゲン化銀乳剤層においても
有利に使用することができる。
は例えば、1978年12月の Research Disclosure
17643及び1989年11月の Research Disclos
ure307105がある
層とは別に、感光性である必要はないいかなる他のゼラ
チン含有層も、帯電防止プライマー層または下塗した帯
電防止層に直接塗布することができる。例えば、前記ゼ
ラチン含有層はハレーション防止層、カール防止層、拡
散転写反転写真(DTR写真)に使用するための物理現
像核を含むゼラチン系受像層であるか、または像になら
って転写された染料用の媒染剤を含有するゼラチン系の
受像層である。DTR写真による銀像の形成の原理と実
施態様は、例えば、ロンドン及びニューヨークの The
Focal Press発行 Andre Rottと Edith Weyde 著 Pho
tographic Silver Halide DiffusionProcesses に記
述しており、染料拡散転写によるカラー像の製作の原理
と実施態様は、C. Van de Sande が Angew. Chem. In
t. Ed. Engl. 22,(1983)191−209頁に
記述している。
含有下塗層の被覆は、前記帯電防止プライマー層に接着
すべき層がゼラチンを含まず、弱親水性のコロイド状バ
インダー材、例えば部分的に水和したポリ酢酸ビニルか
ら得たポリビニルアルコールや、遊離のカルボン酸基を
含むアルカリ可溶アクリル型の重合体や共重合体を含ん
でいて、該重合体が例えば欧州特許明細書(EP)00
36221に記載されているような光レジストの製造用
の処方に使用することができる場合は省いてもよい。
て、樹脂シートまたはウエブ材の表面抵抗を、相対湿度
(R.H.)が30%の場合、1010Ω/平方以下の
値まで低下させることが可能である。
/sq. )で表示する表面抵抗は下記のように試験法Aに
従って測定する。すなわち
横たわる層とのその組合せを乾かし、かつ、比相対湿度
(R.H.)及び温度において調質する。平方あたりの
オーム(Ω/sq. )で表示される表面抵抗は、最外層上
に、長さ10cmの伝導性の2本の極を、互いに平行
に、1cmの間隔をおいて置き、かつ、精密なオーム計
を用いて電極間に発生した抵抗を測定して求められる
(参考、DIN53482)。
sure−1992年6月、33840項に記載)に従って
層全体の抵抗を、RC回路微分器のネットワーク一部を
なすコンデンサープレート間に層を配置して無接触測定
を行う。測定セルの寸法を選ぶにあたっては、既知のコ
ンデンサー値(C)を基にして、RCの測定値から、層
全体の電気抵抗を測定できるようにする。この実施のた
め、測定回路に電気パルスを導入し、時間τ=R×Cを
与える放電曲線を記録するが、この際、電気パルスの印
加された電荷と電圧はその1/e値に落ちている(eは
自然対数の底である)。RC回路を高周波通過フィルタ
ーと見做して、周波数(f)の交流電圧を印加すれば、
式:3dB点においてf=1/2π×R×Cを使用して
抵抗を知ることができる。
路における当初電圧及び電荷の1/e値までの放電時間
(τとする)はミリセカンド(msec)で表わされる。こ
の値が低い程、付与された帯電防止層の帯電防止特性又
は荷電移動度は良くなる。
明をこれに限定するものではない。比や百分率は別途指
示がない限り重量によるものである。
造を採用した。
フエンの製造
フエンは原則として公知の方法によって、3,4−ジヒ
ドロキシ−チオフエン−2,5−ジカルボキシエステル
のアルカリ金属塩を、適当なアルキレンビシナル−ジハ
ライドと反応させて、次に遊離の3,4−(アルキレン
−ビシナル−ジオキシ)チオフエン−2,5−ジカルボ
ン酸を脱炭酸して得ることができる(例えば、Tetrahed
ron (1967)23巻、2437−2441及びJ. A
m. Chem. Soc. 67巻(1945)2217−2218
参照)。
シ−チオフエン)/ポリアニオン分散液(以後分散液
(PT1)と呼ぶ)の製造。
の、7gのポリスチレンスルホン酸(109mmolの
SO3H基)の水溶液1000ml中に、12.9gの
ペルオキソ二硫酸カリウム(K2S2O8)と、0.1
gのFe2(SO4)3と、2.8gの3,4−エチレ
ンジオキシ−チオフエンを導入した。このようにして得
た反応混合物を20℃で24時間攪拌し、脱塩を施し
た。
粒状の弱塩基性イオン交換樹脂LEWATIT H 6
00(ドイツ国の Bayer AGの商品名)及び強酸性イオ
ン交換剤LEWATIT S 100(ドイツ国の Bay
er AGの商品名)の存在下において、室温で6時間、攪
拌した。該処理後、イオン交換樹脂は濾過排除し、カリ
ウムイオン及び硫酸塩イオン分を測定したが、これらは
夫々、1リットルにつき0.4gK+と、<0.1g
(SO4)2−であった。
シ−チオフエン)/ポリアニオン分散液(以後分散液
(PT2)と呼ぶ)の製造。
の、14gのポリスチレンスルホン酸(218mmol
のSO3H基)の水溶液1000ml中に、12.9g
のペルオキソ二硫酸カリウム(K2S2O8)と、0.
1gのFe2(SO4)3と、5.68gの3,4−エ
チレンジオキシ−チオフエンを導入した。このようにし
て得た反応混合物を20℃で24時間攪拌し、脱塩を行
った。
0mlを500mlの水で希釈し、粒状の弱塩基性イオ
ン交換樹脂LEWATIT H 600(ドイツ国の B
ayerAGの商品名)及び強酸性イオン交換剤LEWATI
T S 100(ドイツ国の Bayer AGの商品名)の存
在において、室温で6時間攪拌した。該処理後、イオン
交換樹脂は濾過排除し、カリウムイオンと硫酸塩イオン
分を測定したが、これらは夫々、1lあたり0.4gK
+と0.1g(SO4)2−であった。
造
に滴下漏斗付きの1リットル丸底フラスコ内へ、41.
8g(0.2モル)の5−アミノ−イソフタール酸ジメ
チルエステル、18.48g(0.22モル)の炭酸水
素ナトリウム及び400mlの無水アセトンを導入し
た。該混合物は短時間還流しながら加熱し、次に再度室
温まで冷却する。その温度で、無水アセトン25ml中
に溶解した15.5gの塩化スクシニルを攪拌しつつ滴
下しながら添加した。この操作中に、反応生成物が沈澱
した。次に全混合物を室温で1時間、そして還流温度で
1時間攪拌し続けた。しかる後、反応混合物を氷中で冷
却し、沈澱した反応生成物は吸引濾過して分離し、真空
乾燥を行った。
マイドからの再結晶によって精製することができる。
おいて、上記の多官能カルボン酸はコポリエステルのT
g値を向上させる。スルホ基と重縮合及び架橋の度合の
割合を適当に選択することによって、コポリエステルの
水中の所望の分散性が得られる。
ールが蒸溜された。徐々に、3ないし4時間に亘って、
メタノールがもはや蒸溜しなくなるまで、温度を250
℃に上げた。そこで温度を更に255℃まで上げ、反応
混合物に0.1〜0.2mmHgの低圧を加えた。かか
る条件のもとに、約60ないし100分間以内に重縮合
が起きた。凝固したコポリエステルを、冷却後粉砕して
粉状にした。重縮合の時間次第で、該コポリエステルの
固有粘度はフェノールとo−ジクロロベンゼンの混合物
(60/40容量比)中で、温度25℃で測定して、
0.20ないし0.30dl/gであった。該コポリエ
ステルのTg値は67ないし72℃の範囲内にある。
湯(90〜98℃)中でコポリエステル粉末を激しく攪
拌して実施する。このように操作すると、平均粒径が5
0nm以下で30重量%までのコポリエステル分散液を
容易に得ることができ、そのまま使用する。
造
と、47.5重量%のブタジエン単位と5重量%のイタ
コン酸単位を含有する、メタクリル酸メチル、ブタジエ
ン及びイタコン酸の付加共重合体を、開始剤化合物の存
在において、水性媒体中で実施する従来の乳化重合法に
よって、ラテックスとして製造する。普通の開始剤化合
物は、水溶性の過硫酸塩または例えば過酸化水素や第一
鉄塩をベースとするレドックス系である。乳化重合法に
使用する開始剤の概観は、High Polymers 9,Emulsi
on Polymerization,Interscience Publishers,In
c.,New York ,1955に示されている。
位、27.5重量%のブタジエン単位及び5重量%のイ
タコン酸単位を含有する、メタクリル酸メチル、ブタジ
エン及びイタコン酸の付加共重合体を(IVa)に記述の
ようにしてラテックスとして製造する。
量%のメタクリル酸メチル単位及び2重量%のイタコン
酸単位を含有する、塩化ビニリデン、メタクリル酸メチ
ル及びイタコン酸の付加共重合体を(IVa)に記述のよ
うにしてラテックスとして製造する。
(オキシエチレン)5−O−SO3Naに対するドイツ
国、フランクフルトの Hoechst AGの商品名〕の10%
水溶液の36mlと、1314mlの水の混合物を、窒
素ガスをバブリングさせながら85℃に加熱した。77
mlのメタクリル酸メチルと、22.5mlの、K2S
2O8の2%水溶液とを加え、反応混合物を30分間攪
拌した。そこで直ちに、追加量の306mlのメタクリ
ル酸メチルと45mlの、K2S2O8の2%水溶液を
同時にかつ一滴ずつ30分に亘って添加した。次に、反
応混合物の攪拌を85℃で2時間続けた。
り、分散したポリメタクリル酸メチル粒子の平均粒径は
88.8nmであった。
転移温度(Tg)は122℃であった。
(P)、ラテックスA,B及びC及び製法(IIa)のポ
リ(3,4−エチレンジオキシ−チオフエン)分散液
(PT1)を、次表1に示す量(ml)を水溶液に使用
して、実施例1ないし6の被覆組成物1ないし6を製造
した。
YがAKYPO−OP−80の商品名で販売しているオ
クチルフェノキシポリグリコール錯酸の4.5%水溶
液。* 界面活性剤B:ドイツ国の Bayer AGが商品名ME
RSOLAT H76として販売中のパラフィンベース
のスルホン化線形アルキル鎖9.25gと、スイス国の
Ciba −Geigy AG がULTRAVON Wの商品名で
販売中のヘプタデシルベンズイミダゾールジスルホン酸
ナトリウム塩43.5gとを、800mlの水と200
mlのエタノール中に混合したもの。* KIESELSOL 100F:ドイツ国の Bayer
AGが販売中のもので、SiO2の粒径が25ないし3
0nmのコロイドSiO2分散液の商品名。
下記のように製造した。すなわち、表1に記述のような
被覆組成物を、厚さが約0.34mmである長手方向に
延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムの支持体
に、空気ナイフ被覆によって被覆した。組成物1ないし
5は、前記支持体に被覆率60m2/lで塗布した。組
成物6は、前記支持体に被覆率90m2/lで塗布し
た。層は熱風流で乾燥し、しかる後被覆組成物1ないし
5を有するフィルムは、その当初の幅の3.3倍に横方
向に延伸し、被覆組成6のフィルムはテンター枠内で、
温度約87℃で当初の幅の3.5倍まで延伸した。フィ
ルムの最終的厚さは約0.100mmであった。フィル
ムは、次に、テンター枠での延伸を実施し、ここで約2
0秒間190℃の温度で引張り続けてヒートセットさせ
た。ヒートセット後、被覆したフィルムは冷却し、そし
て通常のように巻き取った。
法AとBに従って測定した。表2の結果は、各組成物に
ついて、横の抵抗率が1010Ω/sq. よりもはるかに
低く、かつτ≦0.002msecであることを示して
いる。
被覆厚30m2/lで、第二の下塗層を上に被覆して、
サンプル7ないし11とした。第二の下塗層の被覆溶液
の構成は下記の様である。 −ゼラチン 11.4g/l −KIESELSOL 300F(SiO2のコロイド 分散液に対するドイツ国の Bayer AGの商品名) 28.4g/l −1,2,6ヘキサントリオール 0.75g/l −アニオン系ぬれ剤 0.6g/l 上記の組成物に、平均粒子径が1.3μmである架橋し
たポリメタクリル酸メチルの粒子状のつや消し剤MAの
5.71%水性分散液0.15mlを添加した(参考、
公開欧州特許出願466982)。
クスDの水溶液を上塗し、これをサンプル12とした。
であった。 KELZAN S* 0.3g NH4OH25%水溶液 0.2ml ラテックスD 31.1ml ULTRAVON W* 10ml N−メチル−ピロリドン 24ml 水で1000mlにした 上記の組成物に、平均粒径1.3μmの架橋したポリメ
タクリル酸メチルの粒子状のつや消し剤の5.71%水
性分散液を0.15ml添加した(参考、公開欧州特許
出願466982)。* KELZANは米国の Merck & Co., Kelco Di
visionの登録商標。KELZAN Sは Kelco Divisi
onの Technical Bulletin DB−19によれば、マン
ノース、グルコース及びグルコン酸反復単位を含有する
ポリサッカライド(カリウム、ナトリウム及びカルシウ
ムの混合塩として)である「キサンタンガム」である。* ULTRAVON Wは、スイス国の Ciba −Geigy
AG が販売中の2−ヘプタデシル−ベンズイミダゾー
ルジスルホン酸の二ナトリウム塩である。乾燥し、相対
湿度30%で24時間調質した後、既述のような横の抵
抗とτを測定した。結果を表3に示す。
系裏打ち層を被覆して、サンプル13ないし17とし
た。各サンプルは57℃、相対湿度34%で36時間熟
成し、次に、相対湿度30%、21℃で24時間、調質
した。この手順の後、相対抵抗とτを、処理前(BP)
に、そして処理後(AP)に、再度測定した。またぬれ
層の接着性を測定したが、接着試験は、処理の前後に実
施した。
ム底に達するように、45°の角度で十字にかみそり刃
での切断によって切断した。接着テープ(TESAPA
CK4122−ドイツ国、ハンブルグのBEIERSD
ORF AGの商品名)を斜めに切った部分に押圧し、
そして、45°の角度で一挙にはぎ取った。この試験は
「テープ試験」という。乾燥接着の品質の評価のため
に、該はぎ取りを0から4まで格付けしたが、この際、
0ははぎ取られない場合、そして4は引掻いた乳剤層部
分の完全な剥離を表わす。
の水中に10分間浸漬し、しかる後、層全体をフィルム
底に達するまでペン先ではすに引掻いた。湿式状態での
接着性は、ぬれた層全体を指先で10秒間こすって調べ
た。
りの結果を0から4まで格付けし、この際、0は前記こ
すりによって除去されない場合を、そして4は完全に除
去される場合を表わすようにした。結果を表4に示して
ある。
うにして製造した。但し、帯電防止組成物7(量はml
で表示)を用いてサンプル18とした点は別である。す
なわち
てドイツ国の BayerAGが販売中のパラフィン系のスルホ
ン化した線形のアルキル鎖を9.25g、及び商品名U
LTRAVON Wとしてスイス国の Ciba −Geigy A
G が販売中のヘプタデシルベンズイミダゾールジスルホ
ン酸、二ナトリウム塩43.5gを、800mlの水と
200mlのメタノールに混合した。** KIESELSOL 100F:ドイツ国の Bayer
AGが販売中の、SiO2粒径が25ないし30nmの
コロイドSiO2分散液に対する商品名である。
ル支持体の両側に被覆した。相対湿度30%における該
材料(サンプル18)の横の抵抗は0.0003×10
10Ω/sq. でτは<0.002msecであった。
て記述したように第二の下塗層を上から被覆して、サン
プル19とした。相対湿度30%における該材料(サン
プル19)の横の抵抗は0.12×1010Ω/sq. で
τは<0.002msecであった。
m2について硝酸銀4.00gに等しいハロゲン化銀の
被覆率で臭沃化銀乳剤〔AgBr/AgI 98/2モ
ル%〕を上塗した。ハロゲン化銀に対するゼラチンの比
は0.4であった(ハロゲン化銀は硝酸銀の当量として
表示した)。ハロゲン化銀の平均粒径は、0.95μm
であった。これをサンプル20とした。再び、横の抵抗
とτを、処理前(BP)と処理後(AP)で測定した。
サンプル20についての測定結果は表5にまとめてあ
る。
4123278に従って、両側に下塗層を下塗したポリ
エステル支持体の両側に被覆し、これをサンプル21と
した。再び、横の抵抗とτを処理前(BP)と、処理後
(AP)に測定した。サンプル21についての測定結果
を表5にまとめてある。
電防止層を有する写真材料(サンプル20)の横抵抗と
放電時間τは、比較試験の下塗層(サンプル20)の場
合よりもはるかに低い。本発明によるサンプルの帯電防
止特性は、実用的には相対湿度に無関係である。
Claims (6)
- 【請求項1】 (i)ポリエステルシートまたはウエブ
を、第一に一方向に延伸し、第二にそれに対して直角方
向に延伸する工程、 (ii)前記疎水性ポリエステルシートまたはウエブを、
前記延伸操作前または前記第一延伸操作と第二延伸操作
の間で、一側または両側で、透明帯電防止プライマー層
で被覆する工程を含み、前記透明帯電防止プライマー層
の被覆組成物が、(1)共役重合体主鎖を有するポリチ
オフエン及び重合体ポリアニオン化合物の分散液及び
(2)親水性官能基を有するラテックス重合体を含有す
ることを特徴とする改良された帯電防止性を有する二軸
配向ポリエステルシートまたはウエブを製造する方法。 - 【請求項2】 前記ポリチオフエンが、下記の一般式
(I)に相当する構造単位を有することを特徴とする請
求項1の方法。すなわち、 【化1】 式中、R1とR2の各々は独立に、水素またはC1−4
アルキル基を表わすか、または共に、随意に置換したC
1−4アルキレン基またはシクロアルキレン基を表わ
す。 - 【請求項3】 前記重合体ポリアニオン化合物が重合体
カルボン酸または重合体スルホン酸またはかような酸の
塩であることを特徴とする請求項1又は2の方法。 - 【請求項4】 親水性官能基を有する前記ラテックス重
合体が、親水性官能基としてスルホン酸塩基を含有する
コポリエステルであることを特徴とする請求項1〜3の
いずれかの方法。 - 【請求項5】 親水性官能基を有する前記ラテックス重
合体が親水性官能基を有する付加(共)重合体であるこ
とを特徴とする請求項1〜3のいずれかの方法。 - 【請求項6】 (i)ポリエステルシートまたはウエブ
を、第一に一方向に延伸し、そして第二にそれに対して
直角方向に延伸する工程、 (ii)前記疎水性ポリエステルシートまたはウエブを、
前記延伸操作前または前記第一延伸操作と第二延伸操作
の間で、一側または両側で、透明帯電防止プライマー層
で被覆する工程(前記透明帯電防止プライマー層は
(1)共役重合体主鎖を有するポリチオフエン及び重合
体ポリアニオン化合物の分散液及び(2)親水性官能基
を有するラテックス重合体を含有する)、及び (iii) 前記疎水性ポリエステルシートまたはウエブの一
側または両側に、少なくともハロゲン化銀乳剤層を含む
親水性コロイド層を1層または数層被覆する工程を含む
ハロゲン化銀写真材料の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE92203978.9 | 1992-12-17 | ||
EP92203978 | 1992-12-17 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06295016A JPH06295016A (ja) | 1994-10-21 |
JP3299616B2 true JP3299616B2 (ja) | 2002-07-08 |
Family
ID=8211143
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34249793A Expired - Lifetime JP3299616B2 (ja) | 1992-12-17 | 1993-12-13 | 永久帯電防止プライマー層 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US5391472A (ja) |
EP (1) | EP0602713B1 (ja) |
JP (1) | JP3299616B2 (ja) |
DE (1) | DE69321567T2 (ja) |
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