JPH04218537A - 帯電防止特性を有するシートまたはウエブ材料 - Google Patents
帯電防止特性を有するシートまたはウエブ材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は帯電防止特性を有するシ
ートまたフエブ材料に関し、特に疎水性樹脂支持体が透
明な帯電防止層と記録層、例えば感光性ハロゲン化銀エ
マルシヨン層を支持する記録材料に関連するものである
が、それ以外のものも含まれる。
ートまたフエブ材料に関し、特に疎水性樹脂支持体が透
明な帯電防止層と記録層、例えば感光性ハロゲン化銀エ
マルシヨン層を支持する記録材料に関連するものである
が、それ以外のものも含まれる。
【０００２】
【従来の技術】導電性の低い疎水性樹脂シートおよびウ
エブ材料は誘電体材料による摩擦および／または静電気
を発生する移送手段、例えばローラーとの接触によって
静電気を帯び易いことが知られている。帯電は比較的乾
燥した雰囲気において特に起り易い。
エブ材料は誘電体材料による摩擦および／または静電気
を発生する移送手段、例えばローラーとの接触によって
静電気を帯び易いことが知られている。帯電は比較的乾
燥した雰囲気において特に起り易い。
【０００３】疎水性樹脂、例えばポリエステルまたは三
酢酸セルロースよりなるシートまたはウエブは記録材料
の支持要素（支持体）として通常使用される。このよう
な材料は製造中、例えば被覆または切断の工程で、およ
び使用時、例えば反復撮影カメラまたはムービーカメラ
などによる情報の記録中に、あるいはハロゲン化銀写真
材料の場合に、画像の処理または画像の映写中に他の要
素と摩擦的な接触を受ける。
酢酸セルロースよりなるシートまたはウエブは記録材料
の支持要素（支持体）として通常使用される。このよう
な材料は製造中、例えば被覆または切断の工程で、およ
び使用時、例えば反復撮影カメラまたはムービーカメラ
などによる情報の記録中に、あるいはハロゲン化銀写真
材料の場合に、画像の処理または画像の映写中に他の要
素と摩擦的な接触を受ける。
【０００４】特に乾燥した写真フイルムをカメラあるい
は映写機中で巻取ったり巻戻したりするときには高度の
摩擦が起り、その結果として静電荷が発生して塵を吸引
したりスパークを発生したりする。未処理のハロゲン化
銀写真エマルシヨン材料のスパークは現像可能な曇りを
生じて画像品質を低下させる。
は映写機中で巻取ったり巻戻したりするときには高度の
摩擦が起り、その結果として静電荷が発生して塵を吸引
したりスパークを発生したりする。未処理のハロゲン化
銀写真エマルシヨン材料のスパークは現像可能な曇りを
生じて画像品質を低下させる。
【０００５】少なくとも一つのハロゲン化銀エマルシヨ
ン層で被覆された疎水性樹脂支持体よりなるシートまた
はウエブ材料の帯電をそれらの透明度を低下させないで
減少させるためには、これらの材料、例えばハロゲン化
銀エマルシヨン層にイオン性の化合物を含ませることが
知られている。様々の湿式処理中にハロゲン化銀エマル
シヨン層からのイオン性化合物の拡散を防止するために
、重合体鎖の繰返し間隔にイオン性の基を有する帯電防
止性の高分子量重合体が選択されてきた（参照：フオカ
ルプレス−ロンドンおよびニューヨーク（１９６６）フ
オカルプレス株式会社発行のＧ．Ｆ．デユフインによる
写真エマルシヨン化学、１６８頁）。
ン層で被覆された疎水性樹脂支持体よりなるシートまた
はウエブ材料の帯電をそれらの透明度を低下させないで
減少させるためには、これらの材料、例えばハロゲン化
銀エマルシヨン層にイオン性の化合物を含ませることが
知られている。様々の湿式処理中にハロゲン化銀エマル
シヨン層からのイオン性化合物の拡散を防止するために
、重合体鎖の繰返し間隔にイオン性の基を有する帯電防
止性の高分子量重合体が選択されてきた（参照：フオカ
ルプレス−ロンドンおよびニューヨーク（１９６６）フ
オカルプレス株式会社発行のＧ．Ｆ．デユフインによる
写真エマルシヨン化学、１６８頁）。
【０００６】米国特許第３５２５６２１号から、実際的
には任意のシリカゾルによって、好ましくはアルキルア
リールポリエーテルスルホネートのアルカリ金属塩と組
合せた２００〜２３５ｍ２ ／ｇの大きな表面積を有す
るシリカによって水性被覆組成物に帯電防止特性を付与
することができることが知られている。付与されたアル
キルアリールポリエーテルスルホネートのアルカリ金属
塩は写真の湿式処理中に浸出する水に溶解し易い化合物
であり、帯電防止組成物が付与された基材の帯電防止特
性は著しく低下するので、処理された材料の乾燥後に十
分な永久的な帯電防止特性は残らないが、それは残留す
るコロイドシリカ自体が表面抵抗率を十分に低下させる
ことができないからである。
には任意のシリカゾルによって、好ましくはアルキルア
リールポリエーテルスルホネートのアルカリ金属塩と組
合せた２００〜２３５ｍ２ ／ｇの大きな表面積を有す
るシリカによって水性被覆組成物に帯電防止特性を付与
することができることが知られている。付与されたアル
キルアリールポリエーテルスルホネートのアルカリ金属
塩は写真の湿式処理中に浸出する水に溶解し易い化合物
であり、帯電防止組成物が付与された基材の帯電防止特
性は著しく低下するので、処理された材料の乾燥後に十
分な永久的な帯電防止特性は残らないが、それは残留す
るコロイドシリカ自体が表面抵抗率を十分に低下させる
ことができないからである。
【０００７】公告された欧州特許出願０３３４４００Ａ
１によれば、少なくとも一つの疎水性樹脂層を被覆され
た下塗りされた、または下塗りされていない疎水性樹脂
支持体もしくは紙支持体であって、その少なくとも一方
の側にコロイドシリカを含有する帯電防止性の最外層を
有するシートまたはウエブ材料が提供されており、この
材料は帯電防止層が陽イオン界面活性剤を含有せず、１
０ｎｍ以下の平均粒度および少なくとも３００ｍ２ ／
ｇの表面積を有する少なくとも７０重量％のコロイドシ
リカを含有し、コロイドシリカが少なくとも５０ｇ／ｍ
２ の被覆量で存在することを特徴としている。
１によれば、少なくとも一つの疎水性樹脂層を被覆され
た下塗りされた、または下塗りされていない疎水性樹脂
支持体もしくは紙支持体であって、その少なくとも一方
の側にコロイドシリカを含有する帯電防止性の最外層を
有するシートまたはウエブ材料が提供されており、この
材料は帯電防止層が陽イオン界面活性剤を含有せず、１
０ｎｍ以下の平均粒度および少なくとも３００ｍ２ ／
ｇの表面積を有する少なくとも７０重量％のコロイドシ
リカを含有し、コロイドシリカが少なくとも５０ｇ／ｍ
２ の被覆量で存在することを特徴としている。
【０００８】前記帯電防止層は写真の湿式処理の後に低
い表面抵抗率を保持しているが、弱い圧力の下でもゼラ
チンを含有する層などの親水性コロイド層に粘着すると
いう欠点を有する。帯電防止層が貯蔵または巻取りの際
にゼラチンを含有する最外層と接触するような写真のゼ
ラチン−ハロゲン化銀エマルシヨン層材料に前記帯電防
止層を使用するときには、前記の原因によって帯電防止
層が損傷する。
い表面抵抗率を保持しているが、弱い圧力の下でもゼラ
チンを含有する層などの親水性コロイド層に粘着すると
いう欠点を有する。帯電防止層が貯蔵または巻取りの際
にゼラチンを含有する最外層と接触するような写真のゼ
ラチン−ハロゲン化銀エマルシヨン層材料に前記帯電防
止層を使用するときには、前記の原因によって帯電防止
層が損傷する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】帯電防止剤としてコロ
イドシリカを含む透明な帯電防止層と、接触したゼラチ
ン含有層に対する粘着を防止し磨耗抵抗を改善するカバ
ー層を備えた疎水性樹脂層で被覆された疎水性樹脂支持
体、例えばポリエチレンテレフタレート樹脂支持体もし
くは紙支持体よりなるシートまたはウエブ材料を提供す
ることが本発明の一つの目的である。前記カバー層がカ
ール防止層として作用するゼラチン含有層に対する下塗
り層の役目をする写真のゼラチン−ハロゲン化銀エマル
シヨン層材料よりなる前記シートまたはウエブ材料を提
供することが本発明のもう一つの目的である。本発明の
他の目的および利点は以下の説明および実施例から明ら
かにされるだろう。
イドシリカを含む透明な帯電防止層と、接触したゼラチ
ン含有層に対する粘着を防止し磨耗抵抗を改善するカバ
ー層を備えた疎水性樹脂層で被覆された疎水性樹脂支持
体、例えばポリエチレンテレフタレート樹脂支持体もし
くは紙支持体よりなるシートまたはウエブ材料を提供す
ることが本発明の一つの目的である。前記カバー層がカ
ール防止層として作用するゼラチン含有層に対する下塗
り層の役目をする写真のゼラチン−ハロゲン化銀エマル
シヨン層材料よりなる前記シートまたはウエブ材料を提
供することが本発明のもう一つの目的である。本発明の
他の目的および利点は以下の説明および実施例から明ら
かにされるだろう。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、少なく
とも一つの疎水性樹脂で被覆された下塗りされた、また
は下塗りされていない疎水性樹脂支持体もしくは紙支持
体であって、その少なくとも一方側に１０ｎｍ以下の平
均粒度および少なくとも３００ｍ２ ／ｇの表面積を有
するコロイドシリカを少なくとも７０重量％含有する帯
電防止層を有し、コロイドシリカが前記帯電防止層中に
少なくとも５０ｍｇ／ｍ２ の被覆量で存在するシート
またはウエブ材料において、前記帯電防止層が前記シリ
カ含有層よりもゼラチン層に対する粘着力が小さいカバ
ー層で被覆され、前記カバー層が０．０１〜２ｇ／ｍ２
の範囲、好ましくは０．０５〜１ｇ／ｍ２ の範囲の
乾燥被覆量で付与された非水溶性の合成重合体を少なく
とも５０重量％含有することを特徴とするシートまたは
ウエブ材料が提供されている。コロイドシリカの表面積
はアメリカ化学協会誌（ＪＡＣＳ）の１９３８年第６０
巻、３０９〜３１２頁にＳ．ブルナウエル、Ｐ．Ｈ．エ
メツトおよびＥ．テラーによって記載されたＢＥＴ値法
によって測定される。
とも一つの疎水性樹脂で被覆された下塗りされた、また
は下塗りされていない疎水性樹脂支持体もしくは紙支持
体であって、その少なくとも一方側に１０ｎｍ以下の平
均粒度および少なくとも３００ｍ２ ／ｇの表面積を有
するコロイドシリカを少なくとも７０重量％含有する帯
電防止層を有し、コロイドシリカが前記帯電防止層中に
少なくとも５０ｍｇ／ｍ２ の被覆量で存在するシート
またはウエブ材料において、前記帯電防止層が前記シリ
カ含有層よりもゼラチン層に対する粘着力が小さいカバ
ー層で被覆され、前記カバー層が０．０１〜２ｇ／ｍ２
の範囲、好ましくは０．０５〜１ｇ／ｍ２ の範囲の
乾燥被覆量で付与された非水溶性の合成重合体を少なく
とも５０重量％含有することを特徴とするシートまたは
ウエブ材料が提供されている。コロイドシリカの表面積
はアメリカ化学協会誌（ＪＡＣＳ）の１９３８年第６０
巻、３０９〜３１２頁にＳ．ブルナウエル、Ｐ．Ｈ．エ
メツトおよびＥ．テラーによって記載されたＢＥＴ値法
によって測定される。
【００１１】５００ｍ２ ／ｇの表面積と７ｎｍ以下の
平均粒度を有するコロイドシリカを少なくとも８０重量
％含む帯電防止層を使用することによって特に低い表面
抵抗率が得られる。このような種類のシリカはＫＩＥＳ
ＥＬＳＯＬ−５００という商品名で市販されている（Ｋ
ＩＥＳＥＬＳＯＬは西ドイツのレーベルクーセンのフア
ルベンフアブリケン・ベイヤー株式会社の登録商標であ
る）。帯電防止層における前記コロイドシリカの被覆量
は１００ｍｇ／ｍ２ 〜５００ｍｇ／ｍ２ の範囲であ
ることが好ましい。
平均粒度を有するコロイドシリカを少なくとも８０重量
％含む帯電防止層を使用することによって特に低い表面
抵抗率が得られる。このような種類のシリカはＫＩＥＳ
ＥＬＳＯＬ−５００という商品名で市販されている（Ｋ
ＩＥＳＥＬＳＯＬは西ドイツのレーベルクーセンのフア
ルベンフアブリケン・ベイヤー株式会社の登録商標であ
る）。帯電防止層における前記コロイドシリカの被覆量
は１００ｍｇ／ｍ２ 〜５００ｍｇ／ｍ２ の範囲であ
ることが好ましい。
【００１２】コロイドシリカだけを素材とした帯電防止
層は乾燥状態において横方向の導電率を低下させるある
程度の微細割れを示す。この微細割れはシリカに合成ヘ
クトライトクレイを混合することによって効果的に解消
することができる。合成ヘクトライトクレイは結晶格子
構造を有するケイ酸マグネシウムであり、この構造にお
いては、随意にリチウムイオンおよび／またはナトリウ
ムイオンによって一部が置換されたマグネシウムイオン
がヒドロキシルイオンと八面体の関係で結合され、ヒド
ロキシイオンの一部は米国特許第４１７３４８０号に記
載されているようにフツ素によって置換されていてもよ
い。シリカを含有する層に帯電防止剤としての合成ヘク
トライトを使用することは前述の米国特許の文書に記載
されてきた。
層は乾燥状態において横方向の導電率を低下させるある
程度の微細割れを示す。この微細割れはシリカに合成ヘ
クトライトクレイを混合することによって効果的に解消
することができる。合成ヘクトライトクレイは結晶格子
構造を有するケイ酸マグネシウムであり、この構造にお
いては、随意にリチウムイオンおよび／またはナトリウ
ムイオンによって一部が置換されたマグネシウムイオン
がヒドロキシルイオンと八面体の関係で結合され、ヒド
ロキシイオンの一部は米国特許第４１７３４８０号に記
載されているようにフツ素によって置換されていてもよ
い。シリカを含有する層に帯電防止剤としての合成ヘク
トライトを使用することは前述の米国特許の文書に記載
されてきた。
【００１３】本発明の一つの実施態様においては、帯電
防止層はコロイドシリカと混合された合成ヘクトライト
を１／２０〜１／４の範囲の重量比で含んでいる。合成
ヘクトライトクレイは英国のラポルテインダストリーズ
株式会社によってＬＡＰＯＮＩＴＥ Ｓなる商品名で
市販されている。前述の帯電防止層組成物の被覆は界面
活性剤が含まれるか、あるいは含まれない水性コロイド
分散液から出発する。
防止層はコロイドシリカと混合された合成ヘクトライト
を１／２０〜１／４の範囲の重量比で含んでいる。合成
ヘクトライトクレイは英国のラポルテインダストリーズ
株式会社によってＬＡＰＯＮＩＴＥ Ｓなる商品名で
市販されている。前述の帯電防止層組成物の被覆は界面
活性剤が含まれるか、あるいは含まれない水性コロイド
分散液から出発する。
【００１４】本発明の実施態様によれば、非水溶性の合
成重合体の薄い保護層で被覆されたコロイドシリカ含有
帯電防止層は層の展着を改善する少なくとも一つの陰イ
オン性および／または非イオン界面活性剤を含んでいる
。
成重合体の薄い保護層で被覆されたコロイドシリカ含有
帯電防止層は層の展着を改善する少なくとも一つの陰イ
オン性および／または非イオン界面活性剤を含んでいる
。
【００１５】陰イオン界面活性剤はその分子中に解離し
た陽イオンによって中和される陰イオンを非解離的に結
合した疎水性残基を含んでいる。適当な陰イオン界面活
性剤の実例は米国特許第３５２５６２１号に記載されて
いるアルキルアリールポリエーテルスルホネートと、ス
イスのチバ株式会社によってＵＬＴＲＡＶＯＮ−Ｗとい
う商品名で市販されている２−ヘプタデシル−ベンゾイ
ミダゾールジスルホン酸二ナトリウム塩である。
た陽イオンによって中和される陰イオンを非解離的に結
合した疎水性残基を含んでいる。適当な陰イオン界面活
性剤の実例は米国特許第３５２５６２１号に記載されて
いるアルキルアリールポリエーテルスルホネートと、ス
イスのチバ株式会社によってＵＬＴＲＡＶＯＮ−Ｗとい
う商品名で市販されている２−ヘプタデシル−ベンゾイ
ミダゾールジスルホン酸二ナトリウム塩である。
【００１６】本発明によって付与されたシリカ含有層中
に使用するのに適した非イオン性湿潤剤は例えばドデシ
ルフエノールポリエチレンオキサイドエーテルなどの炭
素数１２〜１８個のアルキルフエノールポリエチレンオ
キサイドエーテルまたはサポニンである。他の界面活性
剤が使用できること、およびそれら表面抵抗率の低下に
及ぼすこれらの活性剤の好ましい効果が簡単な試験によ
って確認できることは明らかである。界面活性剤の概説
は例えばカールハンサー出版ミユンヘン、ウイーン（１
９７９）のヘルムート・スタツヘ博士によるＴｅｎｓｉ
ｄ−Ｔａｓｃｈｅｎｂｕｃｈ Ｈｅｒａｕｓｇｅｇｅｂ
ｅｎに示されている。
に使用するのに適した非イオン性湿潤剤は例えばドデシ
ルフエノールポリエチレンオキサイドエーテルなどの炭
素数１２〜１８個のアルキルフエノールポリエチレンオ
キサイドエーテルまたはサポニンである。他の界面活性
剤が使用できること、およびそれら表面抵抗率の低下に
及ぼすこれらの活性剤の好ましい効果が簡単な試験によ
って確認できることは明らかである。界面活性剤の概説
は例えばカールハンサー出版ミユンヘン、ウイーン（１
９７９）のヘルムート・スタツヘ博士によるＴｅｎｓｉ
ｄ−Ｔａｓｃｈｅｎｂｕｃｈ Ｈｅｒａｕｓｇｅｇｅｂ
ｅｎに示されている。
【００１７】界面活性剤に対するコロイドシリカの重量
比は例えば約５／１から２００／１まで広い範囲で変化
させることができる。ゼラチン含有層に対して弱い粘着
力を有する適当なカバー層の製造においては、４０℃以
上のガラス転移温度を有する疎水性の非水溶性合成重合
体を使用することが好ましい。
比は例えば約５／１から２００／１まで広い範囲で変化
させることができる。ゼラチン含有層に対して弱い粘着
力を有する適当なカバー層の製造においては、４０℃以
上のガラス転移温度を有する疎水性の非水溶性合成重合
体を使用することが好ましい。
【００１８】第１の実施態様によれば、前記重合体は有
機溶媒または有機溶媒の混合物への溶液の被覆として付
与される。このような重合体の実例はアセトン、メトキ
シ−１−プロパノール−２、メチルイソブチルケトンな
どに溶解可能なポリメチルメタクリレート、ポリイソブ
チルメタクリレート、ポリカーボネート、エステル−カ
ーボネート共重合体およびポリカーボネート／ポリスチ
レンのブレンドである。
機溶媒または有機溶媒の混合物への溶液の被覆として付
与される。このような重合体の実例はアセトン、メトキ
シ−１−プロパノール−２、メチルイソブチルケトンな
どに溶解可能なポリメチルメタクリレート、ポリイソブ
チルメタクリレート、ポリカーボネート、エステル−カ
ーボネート共重合体およびポリカーボネート／ポリスチ
レンのブレンドである。
【００１９】第２の実施態様によれば、非水溶性重合体
は水性分散液すなわちラテツクスとして被覆される。特
に好適なラテツクス重合体の実例は塩化ビニリデンの共
重合体、例えば塩化ビニリデンとアクリル系モノマーお
よび少量のカルボキシル基含有ビニルモノマー例えばア
クリル酸および／またはイタコン酸のモノマーとの共重
合体である。本発明に従って付与可能な塩化ビニリデン
、メチルアクリレートおよびイタコン酸よりなる共重合
体の個々の実例は米国特許第３６４９３３６号において
複数の下塗り被覆に利用するために記載されている。 ラテツクスとして被覆される層はそれが付与されるシリ
カ含有層に対する固着を改善するコロイドシリカを含ん
でいるか、あるいは下塗り層として役立つときにはその
層に被覆されるゼラチン含有層に対する固着を改善する
ラテツクス粒子を含んでいる。
は水性分散液すなわちラテツクスとして被覆される。特
に好適なラテツクス重合体の実例は塩化ビニリデンの共
重合体、例えば塩化ビニリデンとアクリル系モノマーお
よび少量のカルボキシル基含有ビニルモノマー例えばア
クリル酸および／またはイタコン酸のモノマーとの共重
合体である。本発明に従って付与可能な塩化ビニリデン
、メチルアクリレートおよびイタコン酸よりなる共重合
体の個々の実例は米国特許第３６４９３３６号において
複数の下塗り被覆に利用するために記載されている。 ラテツクスとして被覆される層はそれが付与されるシリ
カ含有層に対する固着を改善するコロイドシリカを含ん
でいるか、あるいは下塗り層として役立つときにはその
層に被覆されるゼラチン含有層に対する固着を改善する
ラテツクス粒子を含んでいる。
【００２０】一般にカバー層の被覆組成物においては、
それが有機溶媒を媒体としているか、それとも水性媒体
を使用しているかによって例えば、つや消し剤、被覆助
剤および／または摩擦低減剤、例えばワツクス、シリコ
ン樹脂またはフツ素化重合体が随意に粒子状で含まれる
。
それが有機溶媒を媒体としているか、それとも水性媒体
を使用しているかによって例えば、つや消し剤、被覆助
剤および／または摩擦低減剤、例えばワツクス、シリコ
ン樹脂またはフツ素化重合体が随意に粒子状で含まれる
。
【００２１】本発明によるウエブまたはシートは複数の
帯電防止層を有し、そのそれぞれが本発明で規定されて
いるコロイドシリカを含んでいてもよい。例えば疎水性
樹脂支持体または樹脂被覆紙の両面にこのような帯電防
止層があってもよい。このようにして塵の吸引およびス
パークに対して特に高い抵抗性を得ることができる。
帯電防止層を有し、そのそれぞれが本発明で規定されて
いるコロイドシリカを含んでいてもよい。例えば疎水性
樹脂支持体または樹脂被覆紙の両面にこのような帯電防
止層があってもよい。このようにして塵の吸引およびス
パークに対して特に高い抵抗性を得ることができる。
【００２２】前述の帯電防止性被覆の重要な用途は疎水
性樹脂支持体または疎水性樹脂被覆紙支持体を有するハ
ロゲン化銀写真エマルシヨン材料の製造における利用で
ある。ハロゲン化銀写真エマルシヨン材料の製造に有用
な疎水性樹脂支持体は、この技術分野の熟練者にはよく
知られており、例えばポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニルまたはポリカーボネートから造られ、ポリ
エチレンテレフタレートの使用が好ましい。好ましい樹
脂被覆紙支持体はポリエチレン被覆紙支持体などのポリ
α−オレフイン被覆紙支持体である。
性樹脂支持体または疎水性樹脂被覆紙支持体を有するハ
ロゲン化銀写真エマルシヨン材料の製造における利用で
ある。ハロゲン化銀写真エマルシヨン材料の製造に有用
な疎水性樹脂支持体は、この技術分野の熟練者にはよく
知られており、例えばポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニルまたはポリカーボネートから造られ、ポリ
エチレンテレフタレートの使用が好ましい。好ましい樹
脂被覆紙支持体はポリエチレン被覆紙支持体などのポリ
α−オレフイン被覆紙支持体である。
【００２３】疎水性樹脂支持体はこの支持体に親水性コ
ロイド層を固着させるためにこの技術分野における熟練
者に知られた少なくとも一つの下塗り層を備えている。 ポリエチレンテレフタレート支持体に対する適当な下塗
り層は例えば米国特許第３３９７９８８号、第３６４９
３３６号、第４１２３２７８号および第４４７８９０７
号に記載されている。
ロイド層を固着させるためにこの技術分野における熟練
者に知られた少なくとも一つの下塗り層を備えている。 ポリエチレンテレフタレート支持体に対する適当な下塗
り層は例えば米国特許第３３９７９８８号、第３６４９
３３６号、第４１２３２７８号および第４４７８９０７
号に記載されている。
【００２４】本発明による前述の帯電防止層を備えたシ
ートまたはウエブ材料は、ハロゲン化銀写真エマルシヨ
ン型の材料を形成するハロゲン化銀エマルシヨン層（ａ
）のための支持体として使用されるのが有利であり、こ
の写真材料においては帯電防止層はハロゲン化銀エマル
シヨン層と反対の側にあることが好ましい。
ートまたはウエブ材料は、ハロゲン化銀写真エマルシヨ
ン型の材料を形成するハロゲン化銀エマルシヨン層（ａ
）のための支持体として使用されるのが有利であり、こ
の写真材料においては帯電防止層はハロゲン化銀エマル
シヨン層と反対の側にあることが好ましい。
【００２５】前記写真材料のカールする傾向を解消する
ためのある特別の実施態様によれば、前記非水溶性合成
重合体は湿式処理および乾燥の後に写真材料の表側と裏
側に作用する張力を実質的に均等化するゼラチン含有層
によって被覆される。このゼラチン含有層は水の吸収量
を減少させその磨耗抵抗を改善するためにある程度硬化
させられる。このための適当な硬化剤は例えばニューヨ
ークのマクミラン出版株式会社発行のＪ．Ｈ．ジエーム
スによって編集された写真法の理論の７７〜８７頁に記
載されている。
ためのある特別の実施態様によれば、前記非水溶性合成
重合体は湿式処理および乾燥の後に写真材料の表側と裏
側に作用する張力を実質的に均等化するゼラチン含有層
によって被覆される。このゼラチン含有層は水の吸収量
を減少させその磨耗抵抗を改善するためにある程度硬化
させられる。このための適当な硬化剤は例えばニューヨ
ークのマクミラン出版株式会社発行のＪ．Ｈ．ジエーム
スによって編集された写真法の理論の７７〜８７頁に記
載されている。
【００２６】ある特別の実施態様によれば、帯電防止層
と非水溶性合成重合体よりなるカバー層との組合せが、
下塗りされた疎水性樹脂支持体とハロゲン化銀エマルシ
ヨン層またはハロゲン化銀エマルシヨン層の組合せとの
間に付与され、前記カバー層を重ねられたハロゲン化銀
エマルシヨン層に直接に接触させる。前述の帯電防止層
／カバー層の組合せによれば、本発明によるシートまた
はウエブ材料の表面抵抗率を相対湿度（Ｒ．Ｈ．）３０
％において１０１０Ω／ｓｑ．以下の数値まで低下させ
ることが可能である。
と非水溶性合成重合体よりなるカバー層との組合せが、
下塗りされた疎水性樹脂支持体とハロゲン化銀エマルシ
ヨン層またはハロゲン化銀エマルシヨン層の組合せとの
間に付与され、前記カバー層を重ねられたハロゲン化銀
エマルシヨン層に直接に接触させる。前述の帯電防止層
／カバー層の組合せによれば、本発明によるシートまた
はウエブ材料の表面抵抗率を相対湿度（Ｒ．Ｈ．）３０
％において１０１０Ω／ｓｑ．以下の数値まで低下させ
ることが可能である。
【００２７】Ω／ｓｑ．で表現された表面抵抗率は以下
のような試験手順によって測定される。被覆を終った後
、得られた帯電防止層は乾燥され、ある特定の相対湿度
および温度において調湿される。表面抵抗の測定は長さ
１０ｃｍの二本の導電性銅極を１ｃｍの間隔を置いて互
いに平行に置いて前記の電極間に形成される抵抗を正確
な抵抗計を使用して測定することによって行われる。
のような試験手順によって測定される。被覆を終った後
、得られた帯電防止層は乾燥され、ある特定の相対湿度
および温度において調湿される。表面抵抗の測定は長さ
１０ｃｍの二本の導電性銅極を１ｃｍの間隔を置いて互
いに平行に置いて前記の電極間に形成される抵抗を正確
な抵抗計を使用して測定することによって行われる。
【００２８】帯電防止性のシリカ含有層とこの層に隣接
する非水溶性合成重合体よりなるカバー層を有する本発
明によるハロゲン化銀写真エマルシヨン材料は、この技
術分野の熟練者に知られているどんな種類のものであっ
てもよい。例えばこれらの材料は連続階調すなわち中間
調の写真、マイクロ写真および放射線写真に利用できる
。これらの材料はハロゲン化銀エマルシヨン層を基礎に
した銀錯塩拡散転写（ＤＴＲ）材料および染料拡散転写
材料を含む白黒写真材料またはカラー写真材料に有利に
使用することができる。ハロゲン化銀エマルシヨン層の
組成物については、１９７８年１２月の研究報告１７６
４３および１９８９年１１月の研究報告３０７１０５が
参考になる。
する非水溶性合成重合体よりなるカバー層を有する本発
明によるハロゲン化銀写真エマルシヨン材料は、この技
術分野の熟練者に知られているどんな種類のものであっ
てもよい。例えばこれらの材料は連続階調すなわち中間
調の写真、マイクロ写真および放射線写真に利用できる
。これらの材料はハロゲン化銀エマルシヨン層を基礎に
した銀錯塩拡散転写（ＤＴＲ）材料および染料拡散転写
材料を含む白黒写真材料またはカラー写真材料に有利に
使用することができる。ハロゲン化銀エマルシヨン層の
組成物については、１９７８年１２月の研究報告１７６
４３および１９８９年１１月の研究報告３０７１０５が
参考になる。
【００２９】本発明のある特定の実施態様においては、
ハロゲン化銀エマルシヨンで被覆された側と反対の側に
ある前記カバー層の上にバインダー、例えばゼラチンと
混合された少なくとも一種の顔料を含むハレーシヨン防
止層が付与されたハロゲン化銀写真材料が提供される。 ハレーシヨン防止被覆に使用される反射防止物質、例え
ばカーボンブラツク自体が帯電防止特性を有する。
ハロゲン化銀エマルシヨンで被覆された側と反対の側に
ある前記カバー層の上にバインダー、例えばゼラチンと
混合された少なくとも一種の顔料を含むハレーシヨン防
止層が付与されたハロゲン化銀写真材料が提供される。 ハレーシヨン防止被覆に使用される反射防止物質、例え
ばカーボンブラツク自体が帯電防止特性を有する。
【００３０】ハロゲン化銀写真エマルシヨン材料におけ
る使用とは別に、帯電防止層／カバー層の組合せが、例
えばＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ． の英語版の１９
８３年第２２巻の１９１〜２０９頁に記載されているよ
うに銀錯塩拡散転写法あるいは染料拡散転写法における
画像受容材料として役立つ材料に利用される。
る使用とは別に、帯電防止層／カバー層の組合せが、例
えばＡｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ． の英語版の１９
８３年第２２巻の１９１〜２０９頁に記載されているよ
うに銀錯塩拡散転写法あるいは染料拡散転写法における
画像受容材料として役立つ材料に利用される。
【００３１】前記非水溶性合成重合体のカバー層で被覆
された前述のコロイドシリカを含む帯電防止層を有する
記録材料を使用することによって静電荷によって発生す
る問題は防止するか、または実質的に減少させることが
できる。例えばハロゲン化銀層が記録材料の裏側との接
触によるか、あるいはゴムおよび疎水性重合体バインダ
ー例えばＸ線補力スクリーンとして利用されるリンスク
リーンのバインダー成分などの物質との摩擦によって発
生する静電荷の生成は、本発明による帯電防止層／カバ
ー層の組合せを使用することによって著しく減少させる
ことができる。例えばＸ線カセツトなどのカセツトにフ
イルムを装填するとき、あるいはマイクロフイルムカメ
ラなどのカメラおよび映写機中での移送中の静電荷の生
成とそれに続く塵の吸引および／またはスパークは防止
することができる。
された前述のコロイドシリカを含む帯電防止層を有する
記録材料を使用することによって静電荷によって発生す
る問題は防止するか、または実質的に減少させることが
できる。例えばハロゲン化銀層が記録材料の裏側との接
触によるか、あるいはゴムおよび疎水性重合体バインダ
ー例えばＸ線補力スクリーンとして利用されるリンスク
リーンのバインダー成分などの物質との摩擦によって発
生する静電荷の生成は、本発明による帯電防止層／カバ
ー層の組合せを使用することによって著しく減少させる
ことができる。例えばＸ線カセツトなどのカセツトにフ
イルムを装填するとき、あるいはマイクロフイルムカメ
ラなどのカメラおよび映写機中での移送中の静電荷の生
成とそれに続く塵の吸引および／またはスパークは防止
することができる。
【００３２】前述の帯電防止層／カバー層の組合せはハ
ロゲン化銀エマルシヨン材料の表面抵抗を減少させるの
に特に有用であるが、ジアゾタイプの組成物に基づく写
真材料、気泡画像形成材料、磁気記録材料、電子写真ま
たは電子写真記録材料およびフイルムのマウンテイング
またはドラフテイングの表面抵抗を減少させるのにも有
用である。
ロゲン化銀エマルシヨン材料の表面抵抗を減少させるの
に特に有用であるが、ジアゾタイプの組成物に基づく写
真材料、気泡画像形成材料、磁気記録材料、電子写真ま
たは電子写真記録材料およびフイルムのマウンテイング
またはドラフテイングの表面抵抗を減少させるのにも有
用である。
【００３３】
【実施例】以下に記述される実施例は下塗りされたポリ
エチレンテレフタレート樹脂支持体の上に前記層の組合
せを使用することに関するが、他の樹脂支持体、例えば
親水性コロイド層の固着を改善するためにコロナ放電処
理されたか、処理されない、および／または下塗り層を
下塗りされたか下塗りされないポリスチレン、ポリ塩化
ビニルまたはポリエチレンで造られた支持体は前述の帯
電防止層／カバー層の組合せで被覆されるときは表面抵
抗率の著しい減少が得られるであろう。以下の実施例は
本発明を例示するものであり本発明を限定するものでは
ない。特に言及しない限りすべての％（百分率）および
比率は重量を基準にしたものである。
エチレンテレフタレート樹脂支持体の上に前記層の組合
せを使用することに関するが、他の樹脂支持体、例えば
親水性コロイド層の固着を改善するためにコロナ放電処
理されたか、処理されない、および／または下塗り層を
下塗りされたか下塗りされないポリスチレン、ポリ塩化
ビニルまたはポリエチレンで造られた支持体は前述の帯
電防止層／カバー層の組合せで被覆されるときは表面抵
抗率の著しい減少が得られるであろう。以下の実施例は
本発明を例示するものであり本発明を限定するものでは
ない。特に言及しない限りすべての％（百分率）および
比率は重量を基準にしたものである。
【００３４】実施例 １（比較例）
サンプル１（比較試験サンプル）
厚みが０．１ｍｍの下塗りされたポリエチレンテレフタ
レート支持体に下記の被覆組成物よりなる帯電防止層が
直接に被覆された。 水性分散液Ｉ １
３６ｍｌ水性分散液ＩＩ
２８０ｍｌＵＬＴＲＡＶＯＮ−Ｗ（商品名）
２ｍｌエタノール
１００ｍｌ蒸留水
４８２ｍ
ｌ水性分散液Ｉは５００ｍ２ ／ｇの表面積（Ｓ．Ａ．
）と７ｎｍ以下の平均粒度を有するコロイドシリカを１
６．５ｇ／１００ｍｌの比率で含有し、西ドイツのバイ
エル株式会社によってＫＩＥＳＥＬＳＯＬ−５００の商
品名で市販されている。水性分散液ＩＩは合成ヘクトラ
イトクレイを２ｇ／１００ｍｌの比率で含有し、英国の
ラポルテインダストリーズ株式会社によってＬＡＰＯＮ
ＩＴＥ−Ｓの商品名で市販されている。ＵＬＴＲＡＶＯ
Ｎ−Ｗ はスイスのチバ株式会社によって市販されてい
る２−ヘプタデシル−ベンゾイミダゾールジスルホン酸
の二ナトリウム塩の商品名である〔ここでは水／エタノ
ール（容積比８０／２０）の混合物中に１０％溶液とし
て使用される〕。被覆は１４０ｍ２ ／ｌの湿潤被覆量
で行われた。
レート支持体に下記の被覆組成物よりなる帯電防止層が
直接に被覆された。 水性分散液Ｉ １
３６ｍｌ水性分散液ＩＩ
２８０ｍｌＵＬＴＲＡＶＯＮ−Ｗ（商品名）
２ｍｌエタノール
１００ｍｌ蒸留水
４８２ｍ
ｌ水性分散液Ｉは５００ｍ２ ／ｇの表面積（Ｓ．Ａ．
）と７ｎｍ以下の平均粒度を有するコロイドシリカを１
６．５ｇ／１００ｍｌの比率で含有し、西ドイツのバイ
エル株式会社によってＫＩＥＳＥＬＳＯＬ−５００の商
品名で市販されている。水性分散液ＩＩは合成ヘクトラ
イトクレイを２ｇ／１００ｍｌの比率で含有し、英国の
ラポルテインダストリーズ株式会社によってＬＡＰＯＮ
ＩＴＥ−Ｓの商品名で市販されている。ＵＬＴＲＡＶＯ
Ｎ−Ｗ はスイスのチバ株式会社によって市販されてい
る２−ヘプタデシル−ベンゾイミダゾールジスルホン酸
の二ナトリウム塩の商品名である〔ここでは水／エタノ
ール（容積比８０／２０）の混合物中に１０％溶液とし
て使用される〕。被覆は１４０ｍ２ ／ｌの湿潤被覆量
で行われた。
【００３５】サンプル２〜６（本発明による）乾燥した
シリカ含有層にアセトン／メトキシ−１−プロパノール
−２（容積比８０／２０）の混合物にポリメチルメタク
リレート（ＰＭＭＡ）を８０ｇ／ｌ含む溶液よりなるカ
バー層が被覆された以外はサンプル１の調製が繰返され
た。サンプル２〜６についてのＰＭＭＡのｇ／ｍ２ で
表現した乾燥被覆量（ＣＯＶ）は下記の表１に示されて
いる。
シリカ含有層にアセトン／メトキシ−１−プロパノール
−２（容積比８０／２０）の混合物にポリメチルメタク
リレート（ＰＭＭＡ）を８０ｇ／ｌ含む溶液よりなるカ
バー層が被覆された以外はサンプル１の調製が繰返され
た。サンプル２〜６についてのＰＭＭＡのｇ／ｍ２ で
表現した乾燥被覆量（ＣＯＶ）は下記の表１に示されて
いる。
【００３６】前記表１にはハロゲン化銀写真エマルシヨ
ン材料の現像、定着および水洗において使用される伝統
的な処理溶液によって処理する前（ＢＰ）と処理した後
（ＡＰ）に相対湿度３０％、温度２０℃において前述の
ようにして測定されたサンプル１〜６の表面抵抗率が１
０１０Ω／ｓｑ．で表示されている。表１は粘着性の等
級値も含んでいる。
ン材料の現像、定着および水洗において使用される伝統
的な処理溶液によって処理する前（ＢＰ）と処理した後
（ＡＰ）に相対湿度３０％、温度２０℃において前述の
ようにして測定されたサンプル１〜６の表面抵抗率が１
０１０Ω／ｓｑ．で表示されている。表１は粘着性の等
級値も含んでいる。
【００３７】粘着性試験においては、シリカ含有層を有
するサンプル１とカバー層を有するサンプル２〜６がマ
イクロフイルムタイプの記録材料の標準的に硬化された
ハロゲン化銀エマルシヨン層と圧接（０．０５Ｋｇ／ｃ
ｍ２ ）されて５７℃、相対湿度８５％の条件下で３日
間放置された。この期間の後、材料は手で引剥されて最
外層に対する損傷が下記のように等級値で示された。 表面損傷なし
０２５％以下の表面損傷 １
２５〜５０％の表面損傷 ２５０〜
７５％の表面損傷 ３７５〜１００
％の表面損傷 ４
するサンプル１とカバー層を有するサンプル２〜６がマ
イクロフイルムタイプの記録材料の標準的に硬化された
ハロゲン化銀エマルシヨン層と圧接（０．０５Ｋｇ／ｃ
ｍ２ ）されて５７℃、相対湿度８５％の条件下で３日
間放置された。この期間の後、材料は手で引剥されて最
外層に対する損傷が下記のように等級値で示された。 表面損傷なし
０２５％以下の表面損傷 １
２５〜５０％の表面損傷 ２５０〜
７５％の表面損傷 ３７５〜１００
％の表面損傷 ４
【００３８】
表 １ サンプル
ＣＯＶ 表面抵抗率
粘着性の
（ｇ／ｍ２ ） ＢＰ
ＡＰ 等級値 １
０ ０．０５
１．３ ４ ２
０．０５ ０．０７
２．３ ０ ３
０．１０ ０．０９
０．８３ ０ ４
０．２０ ０．２９
０．９８ ０ ５
０．５０ ０．９３
０．３２ ０ ６
１．００ １．４０
０．４５ ０
表 １ サンプル
ＣＯＶ 表面抵抗率
粘着性の
（ｇ／ｍ２ ） ＢＰ
ＡＰ 等級値 １
０ ０．０５
１．３ ４ ２
０．０５ ０．０７
２．３ ０ ３
０．１０ ０．０９
０．８３ ０ ４
０．２０ ０．２９
０．９８ ０ ５
０．５０ ０．９３
０．３２ ０ ６
１．００ １．４０
０．４５ ０
【００３９】５０ｍ
ｌの塩化メチレンに０．２５ｇのＰＭＭＡを含む溶液の
２０℃における固有粘度は０．１８であった。測定には
キヤノン・フエンスケ粘度計が使用された。ＰＭＭＡに
ついて規定されたようにして測定された固有粘度０．６
４のポリイソブチルメタクリレートをＰＭＭＡの代りに
使用し、このポリイソブチルメタクリレートを１．００
ｇ／ｍ２ の乾燥被覆量（ＣＯＶ）で付与したときには
、ＢＰとして１．６、ＡＰとして０．２の表面抵抗率が
得られた。粘着性の等級は数値０に相当するものであっ
た。
ｌの塩化メチレンに０．２５ｇのＰＭＭＡを含む溶液の
２０℃における固有粘度は０．１８であった。測定には
キヤノン・フエンスケ粘度計が使用された。ＰＭＭＡに
ついて規定されたようにして測定された固有粘度０．６
４のポリイソブチルメタクリレートをＰＭＭＡの代りに
使用し、このポリイソブチルメタクリレートを１．００
ｇ／ｍ２ の乾燥被覆量（ＣＯＶ）で付与したときには
、ＢＰとして１．６、ＡＰとして０．２の表面抵抗率が
得られた。粘着性の等級は数値０に相当するものであっ
た。
【００４０】実施例 ２（比較例）
サンプルＩ
両面下塗りポリエチレンテレフタレート支持体の一方側
にゼラチン−臭化銀／ヨウ化銀エマルシヨン〔ＡｇＢｒ
／ＡｇＩ（９９／１モル％）〕が２．０６ｇ／ｍ２ の
硝酸銀と等量のハロゲン化銀の被覆量で被覆された。ハ
ロゲン化銀に対するゼラチンの比率は１．５であり、ハ
ロゲン化銀は等量の硝酸銀の量として表示された。ハロ
ゲン化銀の平均粒度は０．３５μｍであった。ハロゲン
化銀エマルシヨン層の側と反対の側に実施例１のサンプ
ルＩについて記載されたのと同じ被覆組成物を使用して
同じ湿潤被覆量で被覆された。
にゼラチン−臭化銀／ヨウ化銀エマルシヨン〔ＡｇＢｒ
／ＡｇＩ（９９／１モル％）〕が２．０６ｇ／ｍ２ の
硝酸銀と等量のハロゲン化銀の被覆量で被覆された。ハ
ロゲン化銀に対するゼラチンの比率は１．５であり、ハ
ロゲン化銀は等量の硝酸銀の量として表示された。ハロ
ゲン化銀の平均粒度は０．３５μｍであった。ハロゲン
化銀エマルシヨン層の側と反対の側に実施例１のサンプ
ルＩについて記載されたのと同じ被覆組成物を使用して
同じ湿潤被覆量で被覆された。
【００４１】サンプルＩＩ
乾燥されたシリカ含有層の上に塩化ビニリデン／メチル
メタクリレート／イタコン酸共重合体（８８／１０／２
）の８％固形分のラテツクスを使用してカバー層が８０
ｍ２ ／ｌにおいてメニスカス被覆された以外はサンプ
ルＩの調製が繰返された。前記共重合体ラテツクスの乾
燥被覆量（ＣＯＶ）は０．１ｇ／ｍ２ であった。
メタクリレート／イタコン酸共重合体（８８／１０／２
）の８％固形分のラテツクスを使用してカバー層が８０
ｍ２ ／ｌにおいてメニスカス被覆された以外はサンプ
ルＩの調製が繰返された。前記共重合体ラテツクスの乾
燥被覆量（ＣＯＶ）は０．１ｇ／ｍ２ であった。
【００４２】サンプルＩＩＩ
シリカ含有層の上に前記ラテツクス層が固形分３２％の
ラテツクスとして乾燥被覆量（ＣＯＶ）０．４ｇ／ｍ２
で被覆される以外はサンプルＩＩの調製が繰返された
。 このようにして得られた乾燥したカバー層の上に写真材
料がカールする傾向を抑制するためのゼラチン含有層が
下記の組成物として被覆された。 水性シリカ分散液Ｋ
３０ｍ
ｌ ゼラチン
６２．５ｇ ＵＬＴＲＡＶＯＮ−Ｗ （商品名）
２ｍｌ 水性硬化剤溶液Ｕ
２０ｍｌ 蒸留水
８９２ｍｌＵＬＴＲＡＶ
ＯＮ−Ｗ はスイスのチバ株式会社によって市販されて
いる２−ヘプタデシル−ベンゾイミダゾールジスルホン
酸二ナトリウム塩の商品名である〔ここでは水／エタノ
ール（容積比８０／２０）の混合物中に１０％溶液とし
て使用される〕。水性シリカ分散液Ｋは３００ｍ２ ／
ｇの表面積（Ｓ．Ａ．）と１０ｎｍ以下の平均粒度を有
するコロイドシリカを３６ｇ／１００ｍｌの比率で含有
し、西ドイツのバイエル株式会社によってＫＩＥＳＥＬ
ＳＯＬ −３００の商品名で市販されている。水性硬化
剤溶液Ｕはゼラチン硬化剤としてジメチロール尿素を４
．８ｇ／１００ｍｌの比率で含有している。
ラテツクスとして乾燥被覆量（ＣＯＶ）０．４ｇ／ｍ２
で被覆される以外はサンプルＩＩの調製が繰返された
。 このようにして得られた乾燥したカバー層の上に写真材
料がカールする傾向を抑制するためのゼラチン含有層が
下記の組成物として被覆された。 水性シリカ分散液Ｋ
３０ｍ
ｌ ゼラチン
６２．５ｇ ＵＬＴＲＡＶＯＮ−Ｗ （商品名）
２ｍｌ 水性硬化剤溶液Ｕ
２０ｍｌ 蒸留水
８９２ｍｌＵＬＴＲＡＶ
ＯＮ−Ｗ はスイスのチバ株式会社によって市販されて
いる２−ヘプタデシル−ベンゾイミダゾールジスルホン
酸二ナトリウム塩の商品名である〔ここでは水／エタノ
ール（容積比８０／２０）の混合物中に１０％溶液とし
て使用される〕。水性シリカ分散液Ｋは３００ｍ２ ／
ｇの表面積（Ｓ．Ａ．）と１０ｎｍ以下の平均粒度を有
するコロイドシリカを３６ｇ／１００ｍｌの比率で含有
し、西ドイツのバイエル株式会社によってＫＩＥＳＥＬ
ＳＯＬ −３００の商品名で市販されている。水性硬化
剤溶液Ｕはゼラチン硬化剤としてジメチロール尿素を４
．８ｇ／１００ｍｌの比率で含有している。
【００４３】カール防止層の被覆組成物は２５ｍ２ ／
ｌの湿潤被覆量で被覆された。前記被覆の後で材料は乾
燥され硬化剤はもっと十分に反応させられ、長期間貯蔵
する場合には材料は相対湿度３４％、温度５７℃の雰囲
気中で３６時間調湿された。
ｌの湿潤被覆量で被覆された。前記被覆の後で材料は乾
燥され硬化剤はもっと十分に反応させられ、長期間貯蔵
する場合には材料は相対湿度３４％、温度５７℃の雰囲
気中で３６時間調湿された。
【００４４】表２にはハロゲン化銀写真エマルシヨン材
料の現像、定着および水洗において使用される伝統的な
処理溶液によって処理する前（ＢＰ）と処理した後（Ａ
Ｐ）に相対湿度３０％、温度２０℃において前述のよう
にして測定されたサンプルＩ〜ＩＩＩの表面抵抗率が１
０１０Ω／ｓｑ．として表示されている。表２は湿式処
理および相対湿度３０％、温度２０℃の条件での調湿を
行った後の塵の吸引に関する指標も示している。適用さ
れた吸塵試験においては、材料はガラスプレート上に置
かれてカール防止層側がウールの布で擦られ、、次に摩
擦された面全体に塵（煙草の灰）が流れ落ちる。吸塵が
あることは（＋）として表示され、吸塵がないことは（
−）として表示される。
料の現像、定着および水洗において使用される伝統的な
処理溶液によって処理する前（ＢＰ）と処理した後（Ａ
Ｐ）に相対湿度３０％、温度２０℃において前述のよう
にして測定されたサンプルＩ〜ＩＩＩの表面抵抗率が１
０１０Ω／ｓｑ．として表示されている。表２は湿式処
理および相対湿度３０％、温度２０℃の条件での調湿を
行った後の塵の吸引に関する指標も示している。適用さ
れた吸塵試験においては、材料はガラスプレート上に置
かれてカール防止層側がウールの布で擦られ、、次に摩
擦された面全体に塵（煙草の灰）が流れ落ちる。吸塵が
あることは（＋）として表示され、吸塵がないことは（
−）として表示される。
Claims (21)
- 【請求項１】 少なくとも一つの疎水性樹脂層で被覆
された下塗りされた、または下塗りされていない疎水性
樹脂支持体もしくは紙支持体であって、その少なくとも
一方側に１０ｎｍ以下の平均粒度および少なくとも３０
０ｍ２ ／ｇの表面積を有するコロイドシリカを少なく
とも７０重量％含有する帯電防止層を有し、コロイドシ
リカが前記帯電防止層中に少なくとも５０ｍｇ／ｍ２
の被覆量で存在するシートまたはウエブ材料において、
前記帯電防止層が前記シリカ含有層よりもゼラチン層に
対する粘着力が小さいカバー層で被覆され、前記カバー
層が０．０１〜２ｇ／ｍ２ の範囲の乾燥被覆量で付与
された非水溶性合成重合体を少なくとも５０重量％含有
することを特徴とするシートまたはウエブ材料。 - 【請求項２】 前記カバー層が０．０５〜１ｇ／ｍ２
の範囲の乾燥被覆量で付与されることを特徴とする請
求項１のシートまたはウエブ材料。 - 【請求項３】 コロイドシリカが５００ｍ２ ／ｇの
表面積および７ｎｍ以下の平均粒度を有することを特徴
とする請求項１または２のシートまたはウエブ材料。 - 【請求項４】 前記コロイドシリカの被覆量が１００
〜５００ｍｇ／ｍ２ の範囲であることを特徴とする請
求項１〜３のいずれかのシートまたはウエブ材料。 - 【請求項５】 前記帯電防止層が界面活性剤の存在下
でコロイドシリカの水性分散液として被覆されることを
特徴とする請求項１〜４のいずれかのシートまたはウエ
ブ材料。 - 【請求項６】 前記帯電防止層が陰イオン界面活性剤
の存在下でコロイドシリカを含有することを特徴とする
請求項１〜５のいずれかのシートまたはウエブ材料。 - 【請求項７】 前記帯電防止層が非イオン界面活性剤
の存在下でコロイドシリカを含有していることを特徴と
する請求項１〜６のいずれかのシートまたはウエブ材料
。 - 【請求項８】 前記帯電防止層における界面活性剤に
対するコロイドシリカの重量比が５／１〜２００／１の
範囲内にあることを特徴とする請求項１〜７のいずれか
のシートまたはウエブ材料。 - 【請求項９】 前記支持体がポリエステル樹脂支持体
であることを特徴とする請求項１〜８のいずれかのシー
トまたはウエブ材料。 - 【請求項１０】 前記帯電防止層が合成ヘクトライト
クレイの存在下でコロイドシリカを含有することを特徴
とする請求項１〜９のいずれかのシートまたはウエブ材
料。 - 【請求項１１】 帯電防止層中に合成ヘクトライトク
レイが１／２０〜１／４の範囲の重量比でコロイドシリ
カに混合されて含まれることを特徴とする請求項１０の
シートまたはウエブ材料。 - 【請求項１２】 前記カバー層が有機溶媒または有機
溶媒の混合物に溶解された少なくとも一つの非水溶性合
成重合体を含有する被覆組成物として付与されることを
特徴とする前記請求項のいずれかのシートまたはウエブ
材料。 - 【請求項１３】 前記重合体がポリメチルメタクリレ
ート、ポリイソブチルメタクリレート、ポリカーボネー
ト、エステル・カーボネート共重合体よりなる群から選
ばれるか、あるいは前記カバー層がポリカーボネートと
ポリスチレンのブレンドよりなることを特徴とする請求
項１２のシートまたはウエブ材料。 - 【請求項１４】 前記カバー層が前記非水溶性合成重
合体をラテツクスとして含有する水性被覆組成物から付
与されることを特徴とする前記請求項のいずれかのシー
トまたはウエブ材料。 - 【請求項１５】 前記カバー層の被覆組成物が、つや
消し剤、被覆助剤および／または摩擦低減物質を含有す
ることを特徴とする請求項１〜１４のいずれかのシート
またはウエブ材料。 - 【請求項１６】 前記ラテツクスがコロイドシリカお
よび／またはこの上に被覆されるゼラチン含有層に対す
る固着を改善するラテツクス粒子を含有することを特徴
をする請求項１４のシートまたはウエブ材料。 - 【請求項１７】 前記ラテツクス重合体が塩化ビニリ
デンとアクリル系モノマーおよびカルボキシル基を有す
る少量のビニルモノマーとの共重合体であることを特徴
とする請求項１４のシートまたはウエブ材料。 - 【請求項１８】 前記重合体が塩化ビニリデン、メチ
ルアクリレートおよびイタコン酸よりなる共重合体であ
ることを特徴とする請求項１７のシートまたはウエブ材
料。 - 【請求項１９】 前記材料が下塗りされた疎水性樹脂
支持体あるいは疎水性樹脂被覆紙支持体の上にハロゲン
化銀エマルシヨン層（ａ）を有する写真材料であること
を特徴とする前記請求項のいずれかのシートまたはウエ
ブ材料。 - 【請求項２０】 前記帯電防止層がハロゲン化銀エマ
ルシヨン層で被覆された側と反対側の疎水性樹脂支持体
の面に存在することを特徴とする請求項１９のシートま
たはウエブ材料。 - 【請求項２１】 前記カバー層が湿式処理および乾燥
の後で写真材料の表側と裏側に作用する張力を実質的に
同等にするゼラチン層で被覆されることを特徴とする請
求項２０のシートまたはウエブ材料。
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