JP3243316B2 - 帯電防止性を有するシート又はウエブ材料 - Google Patents
帯電防止性を有するシート又はウエブ材料Info
- Publication number
- JP3243316B2 JP3243316B2 JP1961193A JP1961193A JP3243316B2 JP 3243316 B2 JP3243316 B2 JP 3243316B2 JP 1961193 A JP1961193 A JP 1961193A JP 1961193 A JP1961193 A JP 1961193A JP 3243316 B2 JP3243316 B2 JP 3243316B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polymer
- layer
- sheet
- web material
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G61/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G61/12—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G61/122—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides
- C08G61/123—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds
- C08G61/126—Macromolecular compounds containing atoms other than carbon in the main chain of the macromolecule derived from five- or six-membered heterocyclic compounds, other than imides derived from five-membered heterocyclic compounds with a five-membered ring containing one sulfur atom in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/16—Anti-static materials
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/85—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
- G03C1/89—Macromolecular substances therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/93—Macromolecular substances therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/06—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
- H01B1/12—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
- H01B1/124—Intrinsically conductive polymers
- H01B1/127—Intrinsically conductive polymers comprising five-membered aromatic rings in the main chain, e.g. polypyrroles, polythiophenes
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/25—Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles
- Y10T428/254—Polymeric or resinous material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31786—Of polyester [e.g., alkyd, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31971—Of carbohydrate
- Y10T428/31993—Of paper
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Paper (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
Description
エブ材料に関する。特に本発明は限定的ではないが、疎
水性樹脂支持体が、帯電防止層、及び親水性コロイド含
有層例えば感光性ゼラチン−ハロゲン化銀乳剤層に対し
良好な接着性を与える上塗バリヤー層を担持する記録材
料と関係する。
料は、誘電材料と摩擦することにより及び/又は静電的
に帯電しうる輸送手段例えばローラーと接触することに
よって容易に静電的に帯電するようになることが知られ
ている。帯電は相対的に乾燥した雰囲気条件下に特に容
易に生ずる。
ローストリアセテートのシート又はウエブは記録材料の
支持体材料として普通に使用されている。かかる材料
は、それらの製造中、例えば被覆又は切断中、及び使用
中例えばステップアンドリピート又は映画カメラでの情
報の記録中、又はハロゲン化銀写真材料においては、像
処理又は像投影中に、他の素子との摩擦接触を受ける。
ムの巻き上げ又は巻き出しにおいて、高摩擦が生ずるこ
とがあり、粉塵を吸引し又はスパークを生ぜしめる静電
荷を形成させる。未処理写真ハロゲン化銀乳剤材料にお
いて、スパークは現像しうるかぶりを生ぜしめ、像品質
を劣化させる。
ハロゲン化銀乳剤層で被覆した疎水性樹脂支持体を含む
写真シート又はウエブ材料の静電帯電を減ずるため、こ
れらの材料例えばゼラチン−ハロゲン化銀乳剤層又は他
の親水性コロイド層中にイオン化合物を混入することが
知られている。前記材料の湿式処理中に前記層からイオ
ン化合物が拡散して出るのを避けるため、重合体鎖中に
数多くの間隔で、イオン基例えばカルボン酸ナトリウム
塩基を有する帯電防止性高分子量重合体化合物をその中
に混入することが好まれている〔ロンドン及びニューヨ
ークの The Focal Press 1966年発行、G. F. Du
ffin 著、Photographic Emulsion Chemistry 、16
8頁参照〕。
止層の導電率は水分依存性であり、酸性写真処理液、例
えば酸性写真定着液又は停止浴で処理することによりか
なり低下する。
物質は、相対湿度とは無関係な導電率を有し、pHで変
化する。これによってそれらは、永久的かつ再現性ある
導電率を有する帯電防止層の製造に使用するのに特に好
適である。
伝導性の共役重合体が開発された。かかる重合体の代表
例が、定期刊行物、Material and Design Vol. 1
1、No. 3、1990年6月号の142〜152頁
に、及び1990年5月28日〜31日にノルエー国の
Lothus で開かれた第6回 European Physical Socie
tyIndustrial Workshop の論文で、W R Salaneck
Linkoping 大学、D TClark ICI Wilton Material
Research Centre 、及び Trondheim の EJ Samuels
on 大学で編さんされ、英国の Bristol の IOP Publ
ishing Ltd.Techno House によって Adam Hilger の
下で発行された書物である Scienceand Applications
of Conducting Polymers に記載されている。
写真材料に使用するのには適性を低下させる程高度に着
色している。しかしポリアレンメチリデンの群のそれら
の幾つか、例えばポリチオフエン及びポリイソチアナフ
テンは使用し得ない程着色しておらず、少なくとも薄い
層で被覆したときには透明である。
覆は、できる限り有機溶媒を少なく使用して、できるな
ら水性媒体で行うべきである。
Science and Applications ofConducting Polymer
s の92頁に記載された製造文献に記載されている。
体の製造は、J. Electrochem. Vol. 134(198
7年)46頁に記載されている。
分散液である水性被覆組成物からの帯電防止被覆の製造
は、公開されたヨーロッパ特許出願0440957及び
対応する米国出願No. 647093に記載されてい
る。これらは本発明との関連において読むべきである。
を保護するため、通常最外層として作用しうる上塗被覆
層でそれらはカバーされる。
性の重合体を含有する透明帯電防止層を担持する疎水性
樹脂層で被覆した紙支持体又は疎水性樹脂支持体例えば
ポリエチレンテレフタレート樹脂支持体を含むシート又
はウエブ材料を提供することにあり、これは前記重合体
に対するバリヤー層によって、隣接親水性コロイド層、
例えばゼラチン−ハロゲン化銀乳剤層又は写真ハロゲン
化銀乳剤層材料のゼラチン含有裏塗被覆に接着される。
その上に被覆されたバリヤー層を介して、永久的な帯電
防止特性を得る、即ち湿式処理後に固有抵抗に実質的な
変化を示さない、シート又はウエブの形の写真ゼラチン
−ハロゲン化銀乳剤層材料を提供することにある。
び実施例から明らかになるであろう。
なくとも一つの疎水性樹脂層で被覆した紙支持体を含む
シート又はウエブ材料を提供し、これは前記樹脂支持体
又は樹脂層が、5nm〜1μmの範囲の直径を有する粒
子として重合体ポリアニオン化合物の存在下共役重合体
主鎖を有するポリチオフエンを必須成分として含有する
透明帯電防止層で被覆されており、前記帯電防止層が、
水性重合体分散液(重合体ラテックス)から付与された
上塗接着性バリヤー層で被覆されており、分散した重合
体は、前記上塗層に、その上に被覆された親水性コロイ
ド含有層、例えばゼラチン−ハロゲン化銀乳剤層又はゼ
ラチン含有裏塗層に対する接着性を与えるに充分な親水
性官能価を有し、前記重合体が、(1)スチレン、ビニ
リデンクロライド、アクリロニトリル、アルキルアクリ
レート及びアルキルメタクリレートからなる群から選択
した1種以上の重合性単量体と、(2)アミノアルキル
塩基、ヒドロキシアルキル基又はカルボン酸基で置換さ
れたスチレン、アルキルアクリレート及びアルキルメタ
クリレートからなる群から選択した1種以上の置換重合
性単量体との共重合体である。
エンは下記一般式(I)に相当する構造単位から作られ
る:
に、水素又はC1 〜C4 アルキル基を表わし、又は一緒
になって場合によっては置換されたC1 〜C4 アルキレ
ン基、好ましくはエチレン基、場合によってアルキル置
換メチレン基、場合によってC 1 〜C12アルキルもしく
はフエニル置換1,2−エチレン基、1,3−プロピレ
ン基又は1,2−シクロヘキシレン基を表わす。
ンを含有する水性ポリチオフエン−重合体ポリアニオン
分散液の製造は、公開されたヨーロッパ特許出願044
0957及び対応する米国出願No.647093に記
載されている。
ポリアニオン化合物の存在下に、下記一般式(II)によ
る3,4−ジアルコキシチオフエン又は3,4−アルキ
レンジオキシチオフエンの酸化重合によって行う。
た通りである。
によっては或る量の有機溶媒を含有する好ましくは水性
媒体中で、ピロールの酸化重合に対して典型的に使用さ
れる酸化剤及び/又は前記多酸の存在下に酸素又は空気
を用いて行う。
を得るが、前記電荷の場所及び数は確実性をもって測定
することはできない。従ってそれらはポリチオフエン重
合体の反復単位の一般式で述べられない。
それらの導入は重合が完了するまで、チオフエン、多
酸、及び場合によっては金属塩の触媒量を含有する溶液
中に導入して行う。
えば J. Am. Soc. Vol. 85、454頁(1963
年)に記載されている。安価にして取り扱い容易な酸化
剤が好ましく、例えば鉄 (III)塩例えばFeCl3 、F
e(ClO4 )3 及び有機酸及び有機残基を含有する無
機酸の鉄 (III)塩、同様にH2 O2 、K2 Cr2 O7、
アルカリもしくはアンモニウム過硫酸塩、アルカリ過硼
酸塩、過マンガン酸カリウム及びテトラフルオロ硼酸銅
の如き銅塩が好ましい。
に、チオフエン1モルについて酸化剤の2.25当量を
必要とする〔 J. Polym. Sci. Part A ,Polymer
Chemistry , Vol. 26、1287頁(1988年)
参照〕。しかしながら実際には酸化剤は或る程度過剰
で、例えばチオフエン1モルについて0.1〜2当量過
剰で使用する。
るチオフエン、多酸及び酸化剤は有機溶媒中又は好まし
くは水中に溶解又は乳化し、形成された溶液又は乳濁液
を、重合反応が完了するまで意図する重合温度で撹拌す
る。その方法によって、固体含有率0.5〜55重量
%、好ましくは1〜10重量%を有する安定な水性ポリ
チオフエン分散液が得られる。
び酸化剤の種類によって数分から30時間の間であるこ
とができる。得られるチオフエン分散液の安定性は、重
合中及び/又は重合後、分散剤、例えばUS−P352
5621に記載されたドデシルスルホネート、アルキル
アリールポリエーテルスルホネートの如きアニオン界面
活性剤を添加することによって改良できる。
m〜1μm、好ましくは40〜400nmの範囲であ
る。
に好適な重合体ポリアニオン化合物は遊離酸又は中和し
た形での酸性重合体によって提供される。酸性重合体は
重合体カルボン酸又はスルホン酸であるのが好ましい。
かかる重合体の酸の例には、アクリル酸、メタクリル
酸、マレイン酸、ビニルスルホン酸及びスチレンスルホ
ン酸又はそれらの混合物からなる群から選択した反復単
位を含有する重合体がある。分散したポリチオフエン重
合体との関連において使用するアニオン(酸性)重合体
は、分散液の充分な安定性を確実にするため、前記重合
体化合物に対して2重量%より多くのアニオン基の含有
率を有するのが好ましい。好適な酸性重合体又は相当す
る塩は、例えばDE−A2541230、DE−A25
41274、DE−A2835856、EP−A149
21、EP−A69671、EP−A130115、U
S−P4147550、US−P4388403及びU
S−P5006451に記載されている。
鎖又は架橋重合体からなることができる。多量の酸性基
を有する架橋重合体ポリアニオン化合物は水中で膨潤で
き、ミクロゲルと称される。かかるミクロゲルは例えば
US−P4301240、US−P4677050及び
US−P4147550に記載されている。
子量は、1000〜2000000の範囲であるのが好
ましく、2000〜500000の範囲であるのが更に
好ましい。前記基準内の多酸には市場で入手しうる例え
ばポリスチレンスルホン酸及びポリアクリル酸があり、
又は既知の方法で作ることができる〔例えば Houben-we
ylの Methoden der Organischen Chemie 、Vol. E2
0、MakromolekulareStoffe , Teil 2(1987
年)、141頁以下参照〕。
る遊離重合体多酸の代りに、所望によっては一塩基酸の
存在下に、前記多酸のアルカリ塩及び非中和多酸の混合
物を使用することができる。ポリアニオン重合体の遊離
酸基は、無機塩基例えば水酸化ナトリウムと反応させて
被覆前に中性重合体分散液を得ることができる。
ン化合物の重量比は広く、例えば約50/50〜15/
85で変えることができる。
例えばコ(ビニリデンクロライド−メチルアクリレート
−イタコン酸)を基本にしたフイルム形成性ラテック
ス、及び/又は水溶性重合体コロイド結合剤、例えばポ
リビニルアルコール又はゼラチンを、そのために適した
硬化剤と共に加えることができる。
ため被覆組成物に界面活性剤を加えるとよい。そのため
にはアニオン及びノニオン湿潤剤、例えばドデシルフエ
ノールポリエチレンオキサイドエーテルの如きC12〜C
18アルキルフエノールポリエチレンオキサイドエーテ
ル、p−ノニルフエノキシポリグリシドール、イソ−オ
クチル−フエニレン−(O−CH2 −CH2 )8 −O−
CH2 COOH(オランダ国のCHEMYによって商品
名AKYPO OP80で市販されている)又はサポニ
ンを使用できる。他の界面活性剤を使用できること、及
び表面固有抵抗の低下についてのそれらの有利な影響は
簡単な試験によってチェックできる。界面活性剤につい
ての調査は、例えばミュンフェン及びウイーンの Carl
Hanser Verlag 1979年発行、 Dr. Helmut Stach
e の Tensid - Taschenbuch Herausgegeben に与えら
れている。
は蒸発によって除去する。これは室温で又は高温で例え
ば40〜140℃の温度で行うことができる。
覆の所望の導電率及び透明度によって、例えば0.00
1〜1μmである。
銀乳剤層フイルム材料に使用するためには、帯電防止層
の光学濃度は、MACBETH TD904濃度計で3
60〜630nmの光範囲で測定して0.02より大で
ないのが好ましい。
001〜0.3g/m2 の範囲である。
ー層の必須成分は、例えばUS−P5006451に記
載されている如く親水性官能価を有するラテックス重合
体である。親水性官能価を有するラテックス重合体及び
写真材料におけるそれらの使用は、例えばUS−P46
89359から当業者に良く知られている。
するのに好適なラテックス重合体には、(1)スチレ
ン、ビニリデンクロライド、アクリロニトリル、アルキ
ルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群
から選択した1種以上の重合性単量体と、(2)アミノ
アルキル塩基、ヒドロキシアルキル基又はカルボン酸基
の如き親水性官能性基で置換されたスチレン、アルキル
アクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群か
ら選択した1種以上の置換重合性単量体との共重合体が
ある。
リレート、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート
及びブチルメタクリレートがある。
ノエチルメタクリレート塩酸塩、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
N−(3−アミノプロピル)−メタクリレート塩酸塩、
p−アミノスチレン塩酸塩及びイタコン酸がある。
ラテックス重合体には、ビニリデンクロライド、アクリ
ロニトリル、(メタ)アクリレート単量体、スチレン及
びそれらの混合物と不飽和カルボン酸の共重合体があ
る。好ましいのは、少なくとも50モル%のビニリデン
クロライド反復単位及びカルボキシ官能性基例えばイタ
コン酸及びアクリル酸基を有する反復単位を含有するラ
テックス重合体である。
えばエチレンカーボネートをラテックス重合体の5〜3
0重量%の量で含有してもよい。
386、US−P5006451及びGB−P1234
755に記載されている如き親水性官能価として共重合
した不飽和カルボン酸とのビニリデンクロライド共重合
体である。その種の好ましい共重合体は少なくとも50
モル%、更に好ましくは少なくとも70モル%のビニリ
デンクロライドを含有する。
ましいラテックス重合体は、70〜90モル%のビニリ
デンクロライド、5〜25モル%のメチル(メタ)アク
リレート及び1〜10モル%のイタコン酸を含有するビ
ニリデンクロライド/メチル(メタ)アクリレート/イ
タコン酸のターポリマーである。
100〜約3000mgの乾燥重量被覆量で被覆する。
ラテックス共重合体との関連において、艶消剤、被覆助
剤及び/又は摩擦低下剤、例えば好ましくはコロイド微
粒子の形のワックス粒子、コロイドシリカ、ケイ素樹
脂、又は弗素化重合体を含有できる。
より、樹脂シート又はウエブ材料の表面抵抗を、30%
の相対湿度(RH)で1010オーム/平方より小さい値
に低下させることができる。
平方)で表示した表面抵抗は下記の如き試験法Aにより
測定する:
塗層との集成体は乾燥し、特定の相対温度(RH)及び
温度で調湿する。オーム/平方(Ω/平方)で表示した
表面抵抗は、最外層上に、1cmの間隔で相互に平行な
長さ10cmを有する二つの導電性電極を置き、精密オ
ームメーターを用い電極間につくられた抵抗を測定する
ことによって行う。
はRC回路微分回路網の部分を作るコンデンサ板の間に
それを配置することにより無接点で測定される。測定セ
ルの寸法は、既知のコンデンサ値(C)に基づき測定R
C値から前記層集成体の電気抵抗を算出できるように選
ばれる。このように、電気パルスを測定回路に導入し、
放電カーブを記録する手続を進め、時間τ=R×Cを生
ぜしめ、そこでは、印加された電気パルスの電荷と電圧
がその1/e値(eは自然対数の底数である)まで落ち
る時間である。周波数(f)で交番電流電圧を印加し、
RC回路を高周波通過フィルターと考え、式:f=1/
2π×R×Cを3dB点で用いることにより前記抵抗を
見いだせる。
における最初の電圧および電流の1/e値への放電時間
はミリ秒(msec)で表わされる。この値が低ければ
低い程、付加された帯電防止層の帯電防止特性は良い。
多くの帯電防止層を組入れることができる。例えば疎水
性樹脂支持体又は樹脂被覆紙の各側上に一つのかかる帯
電防止層があってもよい。その方法で吸塵及びスパーク
に対する特に高い抵抗を達成できる。
水性樹脂支持体又は疎水性樹脂被覆紙支持体を有する写
真ハロゲン化銀乳剤材料の製造にある。
疎水性樹脂支持体は当業者に良く知られており、例えば
ポリエステル、ポリスチレン、ポリビニルクロライド又
はポリカーボネートから作られる。好ましいのはポリエ
チレンテレフタレートである。好ましい樹脂被覆紙はポ
リエチレン被覆紙支持体の如きポリ−α−オレフイン被
覆紙支持体である。
イド層を接着させるため当業者に知られている一つ以上
の下塗層を設けることができる。ポリエチレンテレフタ
レート支持体に好適な下塗層は例えばUS−P3397
988、US−P3649336、US−P41232
78、US−P4478907、GB−P123475
5及びProduct Licensing Index で発行した1967
年7月のResearch Disclosureの6頁に記載されてい
る。
材料は、好ましい実施態様によれば、前記帯電防止層
が、前記バリヤー層により一つ以上のハロゲン化銀乳剤
層から分離されている写真ハロゲン化銀乳剤層材料であ
る。
るための特別の実施態様によれば、帯電防止層はハロゲ
ン化銀乳剤層を含まぬ支持体側に存在させ、前記バリヤ
ー層によって親水性コロイドカール防止層から分離させ
て、湿式処理及び乾燥後写真材料の前側と後側に作用す
る張力を実質的に等しくすることである。そのカール防
止層、例えばゼラチン含有層は、或る程度まで、水の吸
収を減少させかつ、その摩耗抵抗を改良するために硬化
できる。そのために好適な硬化剤は、例えばニューヨー
クのMacmillan Publishing Co.発行、J. H. James
著、The Theory of the Photographic Process 第
4版、77〜87頁に記載されている。
隣接上塗バリヤー層を含有する写真ハロゲン化銀乳剤材
料は、当業者に知られている任意の種類のハロゲン化銀
乳剤層を含有できる。例えばこれらの材料は、連続色調
又はハーフトーン写真、マイクロ写真及び放射線写真に
使用される種類のハロゲン化銀乳剤層を含有できる。こ
こに定義した帯電防止層及びそれと組合せたバリヤー層
は、黒白又はカラー写真材料にそして同様に銀錯塩拡散
転写反転(DTR)法及びハロゲン化銀乳剤層で操作す
る染料拡散転写法において有利に使用できる。
search Disclosure (1978年12月)の1764
3及びResearch Disclosure(1989年11月)の3
07105を参照され度い。
ゲン化銀乳剤層で被覆した側の反対側で前記バリヤー層
上に、親水性コロイド結合剤、例えばゼラチンとの混合
物の形で1種以上の顔料を含有するハレイション防止層
を付与したハロゲン化銀写真材料を提供する。ハレイシ
ョン防止被覆に使用する反射防止物質例えばカーボンブ
ラックはそれ自体帯電防止性を有しうる。
は別に、帯電防止層/バリヤー層集成体は、例えばロン
ドン及びニューヨークのThe Focal Press 1972年
発行、Andre Rott 及びEdith Weyde著、Photographic
Silver Halide Diffusion Processesに記載されて
いる如き銀錯塩拡散転写法における像受容材料、又はAn
gew. Chem. Int. 英語版、Vol.22(1983年)1
91〜209頁にC. Van de Sande によって発表され
た染料拡散転写法における像受容材料として作用する非
感光性記録材料で使用できる。
体を有する写真ハロゲン化銀乳剤層材料を用いることに
より、静電荷によって生ぜしめられる問題は避けること
ができるか又は実質的に減少できる。例えば記録材料の
裏側とハロゲン化銀乳剤層面との接触による静電荷の形
成、又はX線増感スクリーンとして使用されるリン光体
スクリーンの結合剤構成成分の如き疎水性重合体結合剤
及びゴムの如き物質との摩擦によって生ぜしめられる静
電荷の形成は、本発明による帯電防止層/カバー層集成
体を使用することによって著しく減少させることができ
る。例えばX線カセットの如きカセット中でのフイルム
の装填中、又はカメラ例えばマイクロフイルムカメラ及
び投影機中での走行中の静電荷の蓄積及びそれによる吸
塵及び/又はスパーク発生を避けることができる。
特に写真ハロゲン化銀乳剤材料の表面抵抗を減ずるのに
特に有用であるが、ジアゾタイプ組成気泡像形成材料、
磁気記録材料、電子記録又は電子写真記録材料及びマウ
ントもしくはドラフトフイルムに基づいた写真材料の表
面抵抗を減少するのにも同様に有用である。
テレフタレート樹脂支持体上での前記層集成体の使用に
向けられているが、他の樹脂基体例えば親水性コロイド
層の接着を改良するため下塗層で下塗した及び/又はコ
ロナ放電処理したもしくは処理してないポリエチレン、
ポリビニルクロライド又はポリスチレンから作った支持
体も、ここに説明した帯電防止層/バリヤー層集成体で
被覆したとき表面抵抗の強力な減少を得る。
するものではない。
による。
ンの製造 式(II)の3,4−ジ置換チオフエンは、3,4−ジヒ
ドロキシチオフエン−2,5−ジカルボン酸エステルの
アルカリ金属塩を適切なアルキレン−vic −ジハライド
と反応させ、続いて遊離3,4−(アルキレン−vic −
dioxy )チオフエン−2,5−ジカルボン酸を脱カルボ
キシル化して、原理的に知られている方法によって得る
ことができる(例えばTetrahedron Vol. 23、243
7〜2441、及びJ. Am. Chem. Soc. Vol.67、
1945年、2217〜2218参照)。
オフエン)分散液の製造 数平均分子量(Mn)40000を有するポリスチレン
スルホン酸20g(SO3 H 基109ミリモル)の水性溶
液1000ml中に3.6gのペルオキソ二硫酸カリウ
ム及び5.6gの3,4−ジエチレンジオキシチオフエ
ンを導入した。かくして得られた反応混合物を20℃で
24時間撹拌し、固体含有率約2.5%を有する分散液
を得た。
テレフタレート支持体を、コロイドシリカ(表面積10
0m2 /g)及びビニリデンクロライド/メチルアクリ
レート/イタコン酸(88/10/2)のターポリマー
ラテックスで下塗した。横方向に延伸した後、前記下塗
層中の前記ターポリマー及び前記シリカの被覆量はそれ
ぞれ170mg/m2 及び40mg/m2 であった。
り作ったポリ(3,4−エチレンジオキシチオフエン)
分散液、858mlの水及び2mlの湿潤剤AKYPO
OP80(商品名)の水中5%溶液の混合物から帯電
防止層を付与した。
115℃で乾燥後70mg/m2 の乾燥固体被覆量を生
ぜしめた。
た。
ド/メチルメタクリレート/イタコン酸(88/10/
2)のターポリマーの水性分散液(ラテックス)からバ
リヤー層を0.5g/m2 の固体被覆量で被覆した。バ
リヤー層側で、表面抵抗を、相対湿度(RH)条件30
%及び60%、温度21℃で前述した如き試験法Aによ
り測定した。測定は、アルカリ性現像液(pH11)、
酸性チオ硫酸塩定着液(pH4.5)及び洗浄水として
の水道水を用いて、露光した写真ハロゲン化銀乳剤材料
を現像し、定着するための湿式処理をする前(BP)及
び処理後(AP)に行った。Ω/平方で表示した結果を
下記表1に示す。
する速度である放電時間τ(ミリ秒で表示)に等しいR
C値を、湿式処理前(BP)及び処理後(AP)で、3
0%RH及び21℃で前述した試験法Bにより測定し
た。結果を表1に示す。
湿式処理前及び処理後で殆ど同じであることを証明して
いる。従ってかく被覆された材料はいわゆる永久帯電防
止特性を有する。
接着性を、乾燥状態で及び38℃の水中に10分間浸漬
して予備湿潤した後に試験した。
圧接着テープを指の力で非湿潤材料上に押圧し、次いで
急激に引き裂いた。
は、予備湿潤した材料をスポンジで5回強力に擦った。
体の一部も除去されなかった。これによりその下塗層へ
の帯電防止層の非常に良好な接着性及び上塗したバリヤ
ー層へのその緊い結合を証明した。
ハロゲン化銀乳剤層材料のカールする傾向を押えるゼラ
チン含有層を被覆して実施例1を繰返した。カール防止
層の被覆は、ゼラチン及びコロイドシリカ(表面積30
0m2 /g)がそれぞれ2.5g/m2 及び1.2g/
m2 の乾燥被覆量で存在するように行った。被覆前に、
水性被覆にゼラチンに対する硬化剤として、4.8g/
100mlの濃度を有するジメチロール尿素の水性被覆
溶液(4.8g/100ml)の20ml/lを加え
た。湿潤剤として10ml/lのULTRAVON W
(スイス国、CIBA A. G. により市販されている2−ヘ
プタデシルベンズイミダゾールジスルホン酸のジナトリ
ウム塩の商品名)を加えた。
移動度を測定した。結果を下記表2に示す。
した、前記帯電防止層及び前記バリヤー層を含む層集成
体(1)及び前記カール防止層と組合せた集成体(1)
を含む層集成体(2)の光学濃度も表2に示す。光学濃
度測定はUV(370nmで)及び波長範囲(350〜
630nm)で処理前に行った。
する傾向を押えるゼラチン含有層を、直接帯電防止層上
に被覆して、実施例2を繰返した。
用いた抵抗、及び接着性を測定した。表面抵抗及びRC
−時間結果を下表3に示す。
の結果は、乾燥状態での帯電防止層/バリヤー層の接着
性は満足できるものであったが、適用した予備湿潤試験
法後では不充分であることを証明した。
オフエン)分散液の製造 数平均分子量40000を有するポリスチレンスルホン
酸(SO3H基109ミリモル)20gの水性溶液1000
ml中に5.4gのペルオキシ二硫酸カリウム及び5.
6gの3,4−エチレンジオキシチオフエンを導入し
た。かくして得られた反応混合物を20℃で24時間撹
拌し、約2.4%の固体含有率を有する分散液を得た。
レート支持体を、912mlの水と混合した形で88m
lを使用して前記の如く作ったポリ(3,4−エチレン
ジオキシチオフエン)分散液(1)から帯電防止層で被
覆した。被覆は60m2 /lの湿式被覆量で行い、被覆
した層を120℃で乾燥した。透明で実際的に無色の帯
電防止層が得られた。
(BP)に表面抵抗を測定した。
ロゲン化銀乳剤層材料の自動処理のための従来より使用
されているローラー輸送処理単位中で帯電防止層は容易
に損傷された。
示す。
成物に加えて、ラテックス重合体含有量に基づいて計算
して10重量%のエチレンカーボネートを有するバリヤ
ー層を先ず被覆して、比較例2を繰り返した。前記バリ
ヤー層上に実施例2に記載した如きカール防止層を被覆
した。実施例3〜5におけるバリヤー層の固体の被覆量
は、それぞれ1,1.8及び2.6g/m2 であった。
に適用される通りの湿式処理前(BP)及び処理後(A
P)の30%相対湿度、21℃で、表面抵抗及び放電時
間を測定した。結果を下記の表5に示す。実施例2にお
ける如く、カール防止層を含む層集成体の光学濃度を測
定した。
について硝酸銀2.06gに等しいハロゲン化銀の被
覆量で、ゼラチン−臭沃化銀乳剤〔AgBr/AgI (99/
1モル%)〕を被覆した。ゼラチン対ハロゲン化銀比は
1.5であった。このハロゲン化銀は硝酸銀に等しい量
として表示した。ハロゲン化銀の平均粒度は0.35μ
mであった。
は、湿式処理前及び処理後、摩擦したとき吸塵のないこ
とから見て完全に満足できるものであった。
Claims (9)
- 【請求項1】 疎水性樹脂支持体又は少なくとも一つの
疎水性樹脂層で被覆された紙支持体を含むシート又はウ
エブ材料であって、前記樹脂支持体又は樹脂層が、5n
m〜1μmの範囲の直径を有する粒子として重合体ポリ
アニオン化合物の存在下に共役重合体主鎖を有するポリ
チオフエンを必須成分として含有する透明帯電防止層で
被覆されており、前記帯電防止層が水性重合体分散液、
即ち重合体ラテックスから付与した上塗接着バリヤー層
で被覆され、前記重合体が、上に被覆された親水性コロ
イド含有層へ前記上塗層を接着性にするに充分な親水性
官能価を有すること、及び前記重合体が、(1)スチレ
ン、ビニリデンクロライド、アクリロニトリル、アルキ
ルアクリレート及びアルキルメタクリレートからなる群
から選択した1種以上の重合性単量体と、(2)アミノ
アルキル塩基、ヒドロキシアルキル基又はカルボン酸基
で置換されたスチレン、アルキルアクリレート及びアル
キルメタクリレートからなる群から選択した1種以上の
置換重合性単量体との共重合体であることを特徴とする
シート又はウエブ材料。 - 【請求項2】 前記親水性コロイド含有層が、ゼラチン
−ハロゲン化銀乳剤層又は前記材料のゼラチン含有裏塗
層であることを特徴とする請求項1のシート又はウエブ
材料。 - 【請求項3】 本発明により使用する前記ポリチオフエ
ンが下記一般式(I): 【化1】 (式中R1 及びR2 の各々はそれぞれ独立に水素又は
C1 〜C4 アルキル基を表わすか、又は一緒になっ
て、場合によっては置換されたC1 〜C4 アルキレン
基を表わす)に相当する構造単位から作られていること
を特徴とする請求項1又は2のシート又はウエブ材料。 - 【請求項4】 前記ポリチオフエンが、前記重合体ポリ
アニオン化合物の存在下に、下記一般式(II): 【化2】 (式中R1 及びR2 は請求項3で定義した通りであ
る)による3,4−ジアルコキシチオフエン又は3,4
−アルキレンジオキシチオフエンの酸化重合によって作
られていることを特徴とする請求項1又は2のシート又
はウエブ材料。 - 【請求項5】 前記重合体ポリアニオン化合物が、重合
体カルボン酸又は重合体スルホン酸又は中和された形の
かかる酸であることを特徴とする請求項1〜4の何れか
1項のシート又はウエブ材料。 - 【請求項6】 前記重合体ポリアニオン化合物が、スチ
レンスルホン酸単位を含有する重合体であることを特徴
とする請求項5のシート又はウエブ材料。 - 【請求項7】 群(1)の単量体が、エチルアクリレー
ト、エチルメタクリレート、ブチルアクリレート及びブ
チルメタクリレートであり、群(2)の単量体が2−ア
ミノエチルメタクリレート塩酸塩、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、N−(3−アミノプロピル)−メタクリレート塩酸
塩、p−アミノスチレン塩酸塩、アクリル酸及びイタコ
ン酸であることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項
のシート又はウエブ材料。 - 【請求項8】 前記バリヤー層中に存在する重合体が、
少なくとも50モル%のビニリデンクロライド反復単位
及びカルボキシ官能基を有する反復単位を含有する共重
合体であることを特徴とする請求項1〜6の何れか1項
のシート又はウエブ材料。 - 【請求項9】 前記材料が写真ハロゲン化銀乳剤層材料
であることを特徴とする請求項1〜8の何れか1項のシ
ート又はウエブ材料。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3913857A DE3913857A1 (de) | 1989-04-27 | 1989-04-27 | Fotografisches material mit einer antistatikschicht |
DE92200230.8 | 1992-01-28 | ||
EP19920200230 EP0553502A1 (en) | 1989-04-27 | 1992-01-28 | Sheet or web material having antistatic properties |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05273702A JPH05273702A (ja) | 1993-10-22 |
JP3243316B2 true JP3243316B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=40316910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1961193A Expired - Lifetime JP3243316B2 (ja) | 1989-04-27 | 1993-01-11 | 帯電防止性を有するシート又はウエブ材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5312681A (ja) |
EP (2) | EP0394791B1 (ja) |
JP (1) | JP3243316B2 (ja) |
DE (2) | DE3913857A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8293162B2 (en) | 2004-11-30 | 2012-10-23 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Method and apparatus for producing molded product |
Families Citing this family (74)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5443944A (en) * | 1992-11-16 | 1995-08-22 | Agta-Gevaert Ag | Photographic material |
DE69321567T2 (de) * | 1992-12-17 | 1999-06-02 | Agfa Gevaert Nv | Antistatische, dauerhafte Grundierschicht |
US6150032A (en) * | 1995-07-13 | 2000-11-21 | The Board Of Governors For Higher Education, State Of Rhode Island And Providence Plantations | Electroactive polymer coatings for corrosion control |
JP4049839B2 (ja) * | 1996-11-08 | 2008-02-20 | 昭和電工株式会社 | 帯電防止処理材の製造方法 |
US6190846B1 (en) | 1998-10-15 | 2001-02-20 | Eastman Kodak Company | Abrasion resistant antistatic with electrically conducting polymer for imaging element |
US6124083A (en) * | 1998-10-15 | 2000-09-26 | Eastman Kodak Company | Antistatic layer with electrically conducting polymer for imaging element |
US6300049B2 (en) | 1998-10-15 | 2001-10-09 | Eastman Kodak Company | Imaging element containing an electrically-conductive layer |
US6096491A (en) * | 1998-10-15 | 2000-08-01 | Eastman Kodak Company | Antistatic layer for imaging element |
US6225039B1 (en) | 1998-10-15 | 2001-05-01 | Eastman Kodak Company | Imaging element containing an electrically-conductive layer containing a sulfonated polyurethane and a transparent magnetic recording layer |
US6762238B1 (en) | 1998-12-02 | 2004-07-13 | The Board Of Governors For Higher Education, State Of Rhode Island And Providence Plantations | Water-borne polymeric complex and anti-corrosive composition |
US6025119A (en) * | 1998-12-18 | 2000-02-15 | Eastman Kodak Company | Antistatic layer for imaging element |
EP1031875A1 (en) * | 1999-02-22 | 2000-08-30 | Agfa-Gevaert N.V. | Light-sensitive silver halide radiographic film material having satisfactory antistatic properties during handling |
US6187522B1 (en) | 1999-03-25 | 2001-02-13 | Eastman Kodak Company | Scratch resistant antistatic layer for imaging elements |
US6077655A (en) * | 1999-03-25 | 2000-06-20 | Eastman Kodak Company | Antistatic layer for imaging element containing electrically conductive polymer and modified gelatin |
EP1081546A1 (en) | 1999-08-30 | 2001-03-07 | Eastman Kodak Company | Coating composition containing electrically-conductive polymer and solvent mixture |
US6162596A (en) * | 1999-08-30 | 2000-12-19 | Eastman Kodak Company | Imaging elements containing an electrically-conductive layer comprising polythiophene and a cellulosic polymer binder |
KR100422321B1 (ko) * | 1999-10-09 | 2004-03-10 | 서광석 | 투명성 대전방지 폴리에스터 필름 |
US6785739B1 (en) | 2000-02-23 | 2004-08-31 | Eastman Kodak Company | Data storage and retrieval playback apparatus for a still image receiver |
US20050045851A1 (en) * | 2003-08-15 | 2005-03-03 | Konarka Technologies, Inc. | Polymer catalyst for photovoltaic cell |
US6638680B2 (en) * | 2000-06-26 | 2003-10-28 | Agfa-Gevaert | Material and method for making an electroconductive pattern |
DE10103416A1 (de) | 2001-01-26 | 2002-08-01 | Bayer Ag | Elektrolumineszierende Anordnungen |
US6440654B1 (en) | 2001-04-03 | 2002-08-27 | Eastman Kodak Company | Photographic element containing an electrically-conductive layer |
US6663956B2 (en) * | 2001-04-26 | 2003-12-16 | Mitsubishi Polyerster Film, Llc | Antistatic coating and coated film |
US6709808B2 (en) * | 2001-05-14 | 2004-03-23 | Eastman Kodak Company | Imaging materials comprising electrically conductive polymer particle layers |
US6623903B2 (en) * | 2001-06-22 | 2003-09-23 | Agfa-Gevaert | Material and method for making an electroconductive pattern |
US20050029496A1 (en) * | 2001-06-26 | 2005-02-10 | Schwark Dwight W. | Coating composition containing polythiophene, film-forming binder, and solvent mixture |
US20040135126A1 (en) * | 2001-06-26 | 2004-07-15 | Schwark Dwight W. | Coating composition containing polythiophene and solvent mixture |
EP1326260A1 (en) * | 2001-12-11 | 2003-07-09 | Agfa-Gevaert | Material for making a conductive pattern |
US6800429B2 (en) | 2001-12-26 | 2004-10-05 | Eastman Kodak Company | Imaging materials with conductive layers containing electronically conductive polymer particles |
US20030141487A1 (en) * | 2001-12-26 | 2003-07-31 | Eastman Kodak Company | Composition containing electronically conductive polymer particles |
JP2003253597A (ja) * | 2002-02-27 | 2003-09-10 | Lintec Corp | 導電紙及び該導電紙を用いた電子部材用キャリアー |
US6764813B2 (en) | 2002-05-17 | 2004-07-20 | Eastman Kodak Company | Lamination of emissions prevention layer in photothermographic materials |
US7163746B2 (en) | 2002-06-12 | 2007-01-16 | Eastman Kodak Company | Conductive polymers on acicular substrates |
KR101148285B1 (ko) * | 2002-09-24 | 2012-05-21 | 이 아이 듀폰 디 네모아 앤드 캄파니 | 전기적 응용을 위한 중합체성 산 콜로이드로 제조된수분산성 폴리아닐린 |
US7195036B2 (en) * | 2002-11-04 | 2007-03-27 | The Regents Of The University Of Michigan | Thermal micro-valves for micro-integrated devices |
US7051429B2 (en) * | 2003-04-11 | 2006-05-30 | Eastman Kodak Company | Method for forming a medium having data storage and communication capabilities |
US7041365B2 (en) * | 2003-05-12 | 2006-05-09 | 3M Innovative Properties Company | Static dissipative optical construction |
US7508650B1 (en) | 2003-06-03 | 2009-03-24 | More Energy Ltd. | Electrode for electrochemical capacitor |
US7033713B2 (en) * | 2003-08-26 | 2006-04-25 | Eastman Kodak | Electrographic patterning of conductive electrode layers containing electrically-conductive polymeric materials |
US7163734B2 (en) * | 2003-08-26 | 2007-01-16 | Eastman Kodak Company | Patterning of electrically conductive layers by ink printing methods |
US6893790B2 (en) * | 2003-08-26 | 2005-05-17 | Eastman Kodak Company | Photopatterning of conductive electrode layers containing electrically-conductive polymer particles |
US7109986B2 (en) * | 2003-11-19 | 2006-09-19 | Eastman Kodak Company | Illumination apparatus |
US7145464B2 (en) * | 2003-11-19 | 2006-12-05 | Eastman Kodak Company | Data collection device |
US7009494B2 (en) * | 2003-11-21 | 2006-03-07 | Eastman Kodak Company | Media holder having communication capabilities |
US7351358B2 (en) | 2004-03-17 | 2008-04-01 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Water dispersible polypyrroles made with polymeric acid colloids for electronics applications |
DE102004014645A1 (de) * | 2004-03-25 | 2005-10-13 | Mitsubishi Polyester Film Gmbh | Transparente, elektrisch leitfähige, beschichtete Polyesterfolie, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung |
JP2006028214A (ja) * | 2004-07-12 | 2006-02-02 | Nagase Chemtex Corp | ポリ(3,4−ジアルコキシチオフェン)とポリ陰イオンとの複合体の水分散体の製造方法 |
US20060062983A1 (en) * | 2004-09-17 | 2006-03-23 | Irvin Glen C Jr | Coatable conductive polyethylenedioxythiophene with carbon nanotubes |
US7427441B2 (en) * | 2004-09-17 | 2008-09-23 | Eastman Kodak Co | Transparent polymeric coated conductor |
US7781047B2 (en) | 2004-10-21 | 2010-08-24 | Eastman Kodak Company | Polymeric conductor donor and transfer method |
US20060147616A1 (en) * | 2004-12-20 | 2006-07-06 | Russell Gaudiana | Polymer catalyst for photovoltaic cell |
US7414313B2 (en) * | 2004-12-22 | 2008-08-19 | Eastman Kodak Company | Polymeric conductor donor and transfer method |
US7630029B2 (en) * | 2005-02-16 | 2009-12-08 | Industrial Technology Research Institute | Conductive absorption layer for flexible displays |
US7557875B2 (en) * | 2005-03-22 | 2009-07-07 | Industrial Technology Research Institute | High performance flexible display with improved mechanical properties having electrically modulated material mixed with binder material in a ratio between 6:1 and 0.5:1 |
US7438832B2 (en) * | 2005-03-29 | 2008-10-21 | Eastman Kodak Company | Ionic liquid and electronically conductive polymer mixtures |
US7564528B2 (en) * | 2005-05-20 | 2009-07-21 | Industrial Technology Research Institute | Conductive layer to reduce drive voltage in displays |
US7535462B2 (en) * | 2005-06-02 | 2009-05-19 | Eastman Kodak Company | Touchscreen with one carbon nanotube conductive layer |
US7645497B2 (en) * | 2005-06-02 | 2010-01-12 | Eastman Kodak Company | Multi-layer conductor with carbon nanotubes |
US7593004B2 (en) * | 2005-06-02 | 2009-09-22 | Eastman Kodak Company | Touchscreen with conductive layer comprising carbon nanotubes |
CN101208369B (zh) * | 2005-06-28 | 2013-03-27 | E.I.内穆尔杜邦公司 | 高功函数透明导体 |
US7410825B2 (en) * | 2005-09-15 | 2008-08-12 | Eastman Kodak Company | Metal and electronically conductive polymer transfer |
US20080007518A1 (en) * | 2006-06-23 | 2008-01-10 | Debasis Majumdar | Conductive polymer coating with improved aging stability |
US8062553B2 (en) * | 2006-12-28 | 2011-11-22 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Compositions of polyaniline made with perfuoropolymeric acid which are heat-enhanced and electronic devices made therewith |
US8153029B2 (en) * | 2006-12-28 | 2012-04-10 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Laser (230NM) ablatable compositions of electrically conducting polymers made with a perfluoropolymeric acid applications thereof |
US20080191172A1 (en) * | 2006-12-29 | 2008-08-14 | Che-Hsiung Hsu | High work-function and high conductivity compositions of electrically conducting polymers |
US20080264682A1 (en) * | 2007-04-24 | 2008-10-30 | John Catron | Substrate and negative imaging method for providing transparent conducting patterns |
US8258078B2 (en) | 2009-08-27 | 2012-09-04 | Eastman Kodak Company | Image receiver elements |
US8969612B2 (en) | 2009-12-10 | 2015-03-03 | Soane Energy, Llc | Low interfacial tension surfactants for petroleum applications |
WO2011071747A1 (en) * | 2009-12-10 | 2011-06-16 | Soane Energy, Llc | Low interfacial tension surfactants for petroleum applications |
US8865298B2 (en) | 2011-06-29 | 2014-10-21 | Eastman Kodak Company | Article with metal grid composite and methods of preparing |
US8628840B2 (en) | 2011-06-29 | 2014-01-14 | Eastman Kodak Company | Electronically conductive laminate donor element |
SG11201400174QA (en) * | 2011-09-01 | 2014-03-28 | 3M Innovative Properties Co | Heat-sealing cover film for packaging electronic components |
US8709194B1 (en) | 2013-02-25 | 2014-04-29 | Eastman Kodak Company | Assembling an electrode device |
US9017927B2 (en) | 2013-02-25 | 2015-04-28 | Eastman Kodak Company | Patterning of transparent conductive coatings |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3557068A (en) * | 1968-02-01 | 1971-01-19 | Pennsalt Corp | Thiophene polymers and method of preparation |
US3525621A (en) * | 1968-02-12 | 1970-08-25 | Eastman Kodak Co | Antistatic photographic elements |
US4147550A (en) * | 1977-07-15 | 1979-04-03 | Eastman Kodak Company | Photographic silver halide element with a layer of sulfonated polymer |
DE2800466C3 (de) * | 1978-01-05 | 1981-12-03 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Photographisches Material |
DE3416897A1 (de) * | 1984-05-08 | 1985-11-14 | Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen | Photographisches material |
US4689359A (en) * | 1985-08-22 | 1987-08-25 | Eastman Kodak Company | Composition formed from gelatin and polymer of vinyl monomer having a primary amine addition salt group |
JPS62116684A (ja) * | 1985-11-15 | 1987-05-28 | Tokuo Saito | 帯電防止剤 |
EP0257573B1 (de) * | 1986-08-26 | 1994-10-12 | Hoechst Aktiengesellschaft | Lösliche, elektrisch leitende Polymere, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
US5006451A (en) * | 1989-08-10 | 1991-04-09 | Eastman Kodak Company | Photographic support material comprising an antistatic layer and a barrier layer |
US5063128A (en) * | 1989-12-29 | 1991-11-05 | Xerox Corporation | Conductive and blocking layers for electrophotographic imaging members |
US5171632A (en) * | 1990-01-24 | 1992-12-15 | Regents Of The University Of California | Conductive polymer blends and methods for making the same |
EP0440957B1 (de) * | 1990-02-08 | 1996-03-27 | Bayer Ag | Neue Polythiophen-Dispersionen, ihre Herstellung und ihre Verwendung |
US5202223A (en) * | 1990-09-14 | 1993-04-13 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Silver halide light-sensitive film material subjected to antistatic treatment |
-
1989
- 1989-04-27 DE DE3913857A patent/DE3913857A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-04-13 EP EP19900107140 patent/EP0394791B1/de not_active Expired - Lifetime
-
1992
- 1992-01-28 EP EP19920200230 patent/EP0553502A1/en not_active Withdrawn
- 1992-12-23 DE DE1992633332 patent/DE69233332T2/de not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-01-05 US US08/000,683 patent/US5312681A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-01-11 JP JP1961193A patent/JP3243316B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8293162B2 (en) | 2004-11-30 | 2012-10-23 | Asahi Kasei Chemicals Corporation | Method and apparatus for producing molded product |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH05273702A (ja) | 1993-10-22 |
DE69233332D1 (de) | 2004-05-06 |
DE69233332T2 (de) | 2005-02-10 |
EP0394791A2 (de) | 1990-10-31 |
EP0553502A1 (en) | 1993-08-04 |
DE3913857A1 (de) | 1990-10-31 |
US5312681A (en) | 1994-05-17 |
EP0394791B1 (de) | 1995-09-06 |
EP0394791A3 (de) | 1991-03-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3243316B2 (ja) | 帯電防止性を有するシート又はウエブ材料 | |
JP3710832B2 (ja) | 帯電防止被覆組成物 | |
US6225040B1 (en) | Permanent antistatic primer layer | |
EP0593111B1 (en) | Antistatic coating composition | |
EP0191302B1 (en) | Improved two-layer process for applying antistatic compositions to polyester supports | |
JPH04218537A (ja) | 帯電防止特性を有するシートまたはウエブ材料 | |
GB2043485A (en) | Permanent antistatic layers | |
JPH04501324A (ja) | 帯電防止層及びバリヤー層からなる写真支持体材料 | |
US5096975A (en) | Cross-linked polymers from vinyl benzene sulfonate salts and ethylenic hydroxy monomers | |
US4181526A (en) | Interpolymer protective overcoats for electrophotographic elements | |
JP3014505B2 (ja) | 耐溶媒性重合体ビーズの製造方法 | |
WO1983002506A1 (en) | Electrically conductive compositions and use of same | |
JPS5856858B2 (ja) | 帯電防止されたハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPS60189742A (ja) | 写真感光材料 | |
EP0554588B1 (en) | Sheet or web material having antistatic properties | |
DE69025397T2 (de) | Registriermaterial mit antistatischen Eigenschaften | |
JP2002311536A (ja) | 電解質導電層を含む写真要素 | |
JPH0690448B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JP2798798B2 (ja) | 帯電防止剤ポリマー分散液 | |
JPH07228641A (ja) | 表面潤滑性フィルム | |
JPS6162033A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH04124649A (ja) | 帯電防止されたハロゲン化銀フィルム感光材料 | |
JPH0534866A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
JPH04124650A (ja) | 帯電防止されたハロゲン化銀フィルム感光材料 | |
JPH04124647A (ja) | 帯電防止されたハロゲン化銀フィルム感光材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081019 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081019 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091019 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101019 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111019 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111019 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121019 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121019 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131019 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131019 Year of fee payment: 12 |