JPH09117984A - 帯電防止されたプラスチックフィルム材料およびそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明の目的は、導電性粒子の添加量が多い
事により引き起こされる透明性、塗布液の安定性、作業
性などの問題を解決し、低湿度下でも高い帯電防止性能
を有する透明プラスチックフィルム材料、および特に
は、それを用いたハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことにある。 【構成】 少なくとも１層の導電性層を有するフィルム
材料であって、該導電性層が導電体粒子および半導体粒
子から選ばれる少なくとも一つと、平均粒径が０．０１
ミクロン以上５ミクロン以下の高分子粒子との少なくと
も２成分からなる混合物を用いて、該導電性層が、導電
体粒子および半導体粒子から選ばれる少なくとも一つを
該導電性層の１ｖｏｌ％以上５０ｖｏｌ％以下含み、か
つ該フィルム材料の周波数２０Ｈｚにおけるインピーダ
ンスの絶対値が４×１０⁵Ω以上１×１０²⁰Ω以下であ
ることを特徴とする帯電防止されたプラスチックフィル
ム材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は湿度変化の影響が少なく
なるように帯電防止性能を改良したプラスチックフィル
ムに関するものであり、磁気テープ、フロッピーディス
ク、フレキシブル基板、メンブレンスイッチ用基材、プ
リンター記録紙などに用いる事ができ、特に透明性を損
なわないフィルムも提供できるので、ＯＨＰ用フィル
ム、液晶表示装置、タッチパネル、ステンドグラスなど
の用途に利用できる。また、その優れた透明性が写真特
性に悪影響を与える事無く良好なので写真感光材料にも
用いる事ができる。特に写真感光材料では、その優れた
特性故に、感光材料が、従来から用いられてきた銀塩の
みならず銀塩以外の感光材料を用いた分野まで用いるこ
とが可能である。

【０００２】

【従来の技術】一般にプラスチックフィルム（以下、単
にフィルムとも略称する。）は帯電性が強く、この物性
を利用した用途以外は使用上制限をうける場合が多い。
例えば、ハロゲン化銀写真感光材料（以下、写真感光材
料とも略称する。）には、支持体として一般に電気絶縁
性を有するプラスチックフィルムが用いられ、この支持
体と写真感光材料層からなっているいわゆる複合材料で
あるので、写真感光材料の製造工程中並びに使用時に、
同種又は異種物質の表面との間の接触摩擦又は剥離の際
に帯電しやすい。帯電により蓄積された静電電荷は多く
の障害を引き起こす。最も重大な障害は、現像処理前に
蓄積された静電電荷が放電することにより感光性乳剤層
が感光し、写真フィルムを現像処理した際にいわゆるス
タチックマークと呼ばれている点状スポット又は樹枝状
や羽毛状の線斑を生ずることである。例えばこの現象が
医療用又は工業用Ｘ線フィルム等に現れた場合には非常
に危険な判断につながる。この現象は現像してみて初め
て明らかになるもので非常に厄介な問題の一つである。
また、これらの蓄積された静電荷により、フィルム表面
へゴミが付着したり、フィルム表面への均一な塗布が行
えない等の故障が生じる原因にもなる。

【０００３】かかる帯電による故障は、前述した以外に
も数多く発生する。例えば製造工程においては写真フィ
ルムとローラーとの接触摩擦あるいは写真フィルムの巻
き取り、巻き戻し工程中での支持体面と乳剤面の分離等
によって生じる。また仕上がり製品においては写真フィ
ルムを巻き取り、切換えを行った場合のベース面と乳剤
面との分離によって、またはＸ線フィルムの自動撮影中
での機械部分、あるいは蛍光増感紙との間の接触分離等
が原因となって発生する。その他包装材料との接触等で
も発生する。かかる静電電荷の蓄積によって誘起される
写真感光材料のスタチックマークは、写真感光材料の感
度が上昇し、処理速度が増加するに従って顕著となる。
特に最近においては、写真感光材料の高度化及び高速塗
布、高速撮影、高速自動処理等による過酷な取扱いを受
ける機会が多くなったことによって、一層スタチックマ
ークの発生が出易くなっている。

【０００４】更に現像処理後のゴミ付着も近年大きな問
題となっており、現像処理後にも帯電防止性を保持する
ような改良が要求されている。

【０００５】これらの静電気による障害をなくすのに最
も良い方法は、物質の電気伝導性を上げて、蓄積電荷が
放電する前に静電電荷を短時間に散逸せしめるようにす
ることである。

【０００６】従って、従来から写真感光材料の支持体や
各種塗布表面層の導電性を向上させる方法が考えられ、
種々の吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性
剤、ポリマー等の利用が試みられてきた。例えば、特開
昭４９−９１１６５号及び同４９−１２１５２３号には
ポリマー主鎖中に解離基を有するイオン型ポリマーを適
用する例が開示されている。その他特開平２−９６８９
号、同２−１８２４９１号に記載されているような導電
性ポリマー、特開昭６３−５５５４１号、同６３−１４
８２５４号、同６３−１４８２５６号、特開平１−３１
４１９１号等に記載されているような界面活性剤に関す
る発明等が知られている。

【０００７】しかしながら、これら多くの物質は、フィ
ルム支持体の種類や写真組成物の違いによって特異性を
示し、ある特定のフィルム支持体及び写真乳剤やその他
の写真構成要素には良い結果を与えるが、他の異なった
フィルム支持体及び写真構成要素では帯電防止に全く役
に立たないばかりでなく、写真性に悪影響を及ぼす場合
がある。さらに重要な欠点として、これらの多くの物質
は、低湿度下では導電層としての機能を失ってしまう。

【０００８】この低湿度下での性能劣化を改善する目的
で、特公昭３５−６６１６号と特公平１−２０７３５号
には金属酸化物を帯電防止処理剤として用いる技術につ
いて記載されている。前者の技術は、コロイド状のゾル
分散液を用いる方法が開示され、後者においては、前者
の導電性の問題点改善を目的として高温度で処理を行っ
た結晶性の高い金属酸化物粉体を用いる方法が開示され
た。しかし後者の技術は結晶性の高い粉末を用いている
ので光散乱に対して、粒子径と粒子／バインダーの比な
どを考慮する必要のあることが述べられている。また特
開平４−２９１３４号においては、低湿度下での性能改
善のみならず他の欠点の改善を目的として、写真感光材
料に用いる導電性素材に、粒子状の金属酸化物と繊維状
の金属酸化物を用いる方法が開示されているが、添加量
の問題が残されていた。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】このように、プラスチ
ックフィルムの静電気による障害を克服するための努力
が長年に亘り為されてきたにも関わらず、その発生メカ
ニズムと材料との関係が未だ不明で、特に障害が商品に
致命的な影響として現れる写真分野においては、導電性
の高い材料、たとえば導電性金属酸化物粒子を塗布する
のが最良の手段として選ばれてきた。しかし、導電性金
属酸化物粒子を含有する層を設けた写真感光材料に関し
ては、特公昭３５−６６１６号が開示されて以来、低湿
度下での性能劣化を改善する手段として３０年以上の長
期にわたり研究されてきたにもかかわらず、いまだに多
くの未解決の問題が残されたまま現在に至っている。

【００１０】例えば、かかる導電性金属酸化物粒子を含
有する層をハロゲン化銀と接して設けた場合には、取扱
い中に摩擦される事によって画像に圧力カブリ若しくは
スリキズが生じ易いという問題、あるいは、高分子バイ
ンダーに混合して使用した場合には、製造工程或いは取
扱い中の摩擦により、表面に存在する微粒子が脱落する
ので、製造工程においてはローラーに付着して搬送する
製品にキズをつけるという問題などである。さらに、こ
れらの金属元素を主成分とする材料は、一般に比重が大
きいので、写真感光材料への塗布の場合に微粒子として
もなお沈降などの問題があり、塗布液の均一性、保存性
などに問題が生じていた。

【００１１】これらの問題のほとんどは、粒子をさらに
微粒化することにより解決できるが、微粒化により次の
ような新たな問題が発生する。すなわち微粒化に伴う塗
布液の増粘現象、同時にその現象から生じる作業性の問
題、凝集力の増大による凝集粒子沈降の問題などが生じ
る。塗布液増粘の問題解決の１手段は、粒子の添加量を
減らす事により解決できる。凝集粒子沈降の問題も濃度
を低くする、すなわち導電性粒子の添加量を減らす事に
より改善することが可能である。しかし、ただ単に導電
性粒子の添加量を減らすことは、帯電防止性の劣化をひ
きおこすことになる。

【００１２】従って、本発明の目的は、導電性粒子の添
加量が多い事により引き起こされる透明性、塗布液の安
定性、作業性などの問題を解決し、低湿度下でも高い帯
電防止性能を有する透明プラスチックフィルム材料、お
よび特には、それを用いたハロゲン化銀写真感光材料を
提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成された。

【００１４】（１）．少なくとも１層の導電性層を有す
るフィルム材料であって、該導電性層が導電体粒子およ
び半導体粒子から選ばれる少なくとも一つと、平均粒径
が０．０１ミクロン以上５ミクロン以下の高分子粒子と
の少なくとも２成分からなる混合物を用いて、該導電性
層が、導電体粒子および半導体粒子から選ばれる少なく
とも一つを該導電性層の１ｖｏｌ％以上５０ｖｏｌ％以
下含み、かつ該フィルム材料の周波数２０Ｈｚにおける
インピーダンスの絶対値が４×１０⁵Ω以上１×１０²⁰
Ω以下であることを特徴とする帯電防止されたプラスチ
ックフィルム材料。

【００１５】（２）．導電体粒子または半導体粒子が、
金属元素を含む酸化物ゾルである（１）に記載のプラス
チックフィルム材料。

【００１６】（３）．導電体粒子または半導体粒子が、
４００℃以下の温度で製造された金属元素を含む酸化物
である（１）または（２）に記載のプラスチックフィル
ム材料。

【００１７】（４）．高分子粒子が、水に溶解しない高
分子で構成された粒子である（１）、（２）または
（３）に記載のプラスチックフィルム材料。

【００１８】（５）．前記（１）で形成された導電性層
の乾燥膜厚が、高分子粒子の平均粒径の１．３倍以上で
ある（１）、（２）、（３）または（４）に記載のプラ
スチックフィルム材料。

【００１９】（６）．前記フィルム材料がシンジオタク
チックポリスチレンを主成分とするプラスチックフィル
ムよりなることを特徴とする（１）、（２）、（３）、
（４）または（５）に記載のプラスチックフィルム材
料。

【００２０】（７）．前記（１）〜（６）のいずれか一
項に記載のフィルム材料を支持体として用いることを特
徴とするハロゲン化銀写真感光材料。

【００２１】本発明によると、写真感光材料以外に磁気
テープ、フロッピーディスク、フレキシブル基板、メン
ブレンスイッチ用基材、プリンター記録紙などに用いる
事ができ、特に透明性を損なわないフィルムも提供でき
るので、ＯＨＰ用フィルム、液晶表示装置、タッチパネ
ル、ステンドグラスなどの用途をはじめ、各種フィルム
の帯電防止に用いる事ができる。このように本発明は、
特に透明性改善に有効であるが、本発明の効果は、透明
フィルム以外にも適用可能である。

【００２２】公知のように材料の導電性は、陽イオン、
陰イオンもしくは、電子、正孔など粒子中に存在する電
荷担体により発現する。

【００２３】主な電荷担体がイオンのとき固体電解質と
なり、電荷担体が電子の場合は、半導体となる。通常の
導電性材料は両者が混合された導電体であり、酸素不足
酸化物、金属過剰酸化物、金属不足酸化物、酸素過剰酸
化物などの不定比化合物が半導体となる。多くの導電性
材料の導電性は、このように発揮され、導電体もしくは
半導体材料で構成される微粒子を絶縁体高分子中に分散
し、高分子に導電性を与えて帯電防止を行う方法は、よ
く研究されている。発明者らは、ポリマーと導電体粒子
もしくは半導体粒子との組み合わせを各種検討し、透明
性と導電性の両者を満たす条件を発見した。

【００２４】さらに、導電性について詳細な検討を行っ
たところ、一般には下記の公知の（１）式に見られるよ
うに材料の導電性が上がれば、抵抗の項を含むインピー
ダンスＺの絶対値が減少することは良く知られている。

【００２５】 ｜Ｚ｜ ＝ 〔Ｒ² ＋ （１／ωＣ）²〕^1/2 −−−−−（１） ここで Ｚ：インピーダンス Ｒ：抵抗 Ｃ：静電容量 ω：２πｆ ｆ：周波数 しかし、バインダー成分である有機物に対する導電体粒
子の添加量を少なくした場合のある特殊な条件において
は、周波数２０Ｈｚにおけるインピーダンスの絶対値が
４×１０⁵Ω以上においてゴミ付着などのフィルムの帯
電により生じる問題が解決されることを見いだした。た
とえば、帯電防止のために、フィルムの透明性を損なう
程度まで過剰に導電性粒子を透明フィルムに塗布する
と、フィルム表面の導電性が向上し、直流電流を用いて
測定された表面比抵抗の大きさが十分に低くなり、同時
に交流で測定されるインピーダンスの絶対値も低くな
る。このようなフィルム材料は、静電気の障害を生じな
いが、透明性を著しく損なうゆえに本発明の目的に反す
る。透明性を優先し、導電性粒子の添加量を減らしてゆ
くと、表面比抵抗が上昇し、インピーダンスの絶対値も
大きくなる。透明性は改善されるが帯電防止性能が悪化
し、ゴミ付着などの静電気に伴う障害が発生するという
問題が発生する。

【００２６】明らかなように、表面比抵抗を下げれば、
すなわちインピーダンスの絶対値を下げれば帯電防止性
能は向上する。これまでの帯電防止技術は、このような
考え方に基づき、開発努力が続けられてきたが、本発明
では透明性を犠牲にしないで、インピーダンスの絶対値
と組成とのある特殊な組み合わせで静電気による障害を
克服したものである。

【００２７】すなわち、透明性を満たす為には、微粒子
の添加量を少なくする必要があるが、微粒子の添加量を
少なくすると先に説明したように、表面比抵抗の改善が
難しくなる。しかし、発明者らは、帯電防止性能とイン
ピーダンスの関係を鋭意検討し、透明性に影響を及ぼさ
ない導電性粒子の少量添加領域において、インピーダン
スの絶対値を４×１０⁵Ωよりも大きくしても帯電防止
が可能となることを発見した。インピーダンスの絶対値
を上昇させることは、導電性粒子の添加量を増加させる
必要がなく、導電性を有しないがフィルムの諸物性を改
善できる高分子バインダーで制御することが可能とな
り、透明性の制限をうけながら帯電防止を達成する新し
い手段であることを発見した。

【００２８】このように、透明性に影響を及ぼさない程
度の導電性粒子の少ない添加領域において、バインダー
である高分子ラテックス（高分子バインダー粒子即ち高
分子粒子）の粒子径を選択することにより周波数２０Ｈ
ｚにおけるインピーダンスの絶対値を制御して、透明性
と帯電防止の両者を満足するフィルムを完成できると考
え、フィルム材料の満たすべきインピーダンスの絶対値
の条件と、透明性に影響を及ぼさない導電性粒子の添加
量の明確化と、その範囲におけるバインダーである高分
子ラテックス（高分子バインダー粒子即ち高分子粒子）
の粒子径を明らかにする努力を行い本発明を完成させ
た。

【００２９】以下、本発明を詳しく説明する。

【００３０】本発明において、フィルム材料のインピー
ダンス測定に関しては、電子部品の誘電率測定に用いる
一般のインピーダンス測定装置を用いることができる
が、好ましくは周波数１Ｈｚ以上の測定が可能なインピ
ーダンス測定装置と、フィルム測定用電極を組み合わせ
た装置である。例えば、横河・ヒューレット・パッカー
ド社製（以下ＹＨＰ社製）プレシジョンＬＣＲメーター
ＨＰ４２８４ＡとＨＰ１６４５１Ｂの組み合わせであ
る。他の装置を用いる場合には、電極部分の補正を行う
必要がある。本発明達成の為には、フィルム材料のイン
ピーダンスを正しく測定する必要があるので、補正不可
能の装置を用いた場合には、好ましい結果が得られな
い。この装置の組み合わせでさらに２０Ｈｚにおけるイ
ンピーダンスの絶対値を求める一例を詳細に記すが、フ
ィルム材料の正確な周波数２０Ｈｚのインピーダンスの
絶対値が測定できるならば、本発明では測定方法を制限
しない。

【００３１】平行な平面で構成される二電極とガード電
極を有するＨＰ１６４５１Ｂの接続されたプレシジョン
ＬＣＲメーターＨＰ４２８４Ａを用い、２３℃２０％Ｒ
Ｈ雰囲気下で、空隙法によりフィルム材料のインピーダ
ンスの絶対値を計測する。空隙法の測定に関しては、Ｈ
Ｐ１６４５１Ｂの取り扱い説明書に記載された電極非接
触法に従う。サンプルの大きさについては、電極平面よ
りも大きければ特に制限は無いが、主電極の直径が３．
８ｃｍの場合には、大きさ６ｃｍ×６ｃｍから５ｃｍ×
５ｃｍの正方形サンプルが好ましい。サンプルの直流電
流を用いて測定された表面比抵抗の大きさが、表裏で等
しければ、どちらの面を上方にしてもよいが、表裏で等
しくなければ、表面比抵抗の値が低い面を上方に向け、
平行な平面で構成される二電極間にサンプルを設置し交
流電圧をかけながら空隙法で計測する。

【００３２】計測された好ましい範囲は、面積が１１か
ら１２ｃｍ²の電極を用いて測定した周波数２０Ｈｚに
おけるインピーダンスの絶対値が４×１０⁵Ω以上、好
ましくは８×１０⁵Ω以上、さらに好ましくは１×１０⁶
Ω以上１０²⁰Ω以下で、次にのべる組成の範囲ならば帯
電防止性能と透明性の両立したフィルム材料を製造可能
となる。

【００３３】導電性粒子の添加量であるが、導電性粒子
の色、形態、組成など粒子の種類により好ましい添加量
の範囲は変化するが、透明性を考慮すると帯電防止層に
単位体積あたりの含有率が５０ｖｏｌ％以下、好ましく
は４０ｖｏｌ％以下、さらに好ましくは３７ｖｏｌ％以
下がよい。透明性の条件を厳しく選べば２８ｖｏｌ％以
下が、さらに好ましくは２０ｖｏｌ％以下が良い。導電
性粒子の最低必要量は、インピーダンスの絶対値が先に
記載した好ましい範囲にはいる条件から選定される。こ
の条件を重視すると、導電性粒子は１ｖｏｌ％以上必要
であり、好ましくは５ｖｏｌ％以上、さらに好ましくは
１０ｖｏｌ％以上必要である。

【００３４】必要に応じて、本発明の範囲内で架橋剤、
界面活性剤、マット剤など他の成分の添加がなされても
良い。しかし、これら他の成分をインピーダンスの絶対
値の低下を招くに至る添加すなわち本発明の範囲を越え
る添加は、本発明の目的を達成できないので好ましくな
い。

【００３５】導電性粒子の主成分が体積固有抵抗で１０
⁹Ωｃｍ以下１０^-5Ωｃｍ以上の材料であり、同一の材
料で構成されていても、異質の材料との組み合わせであ
ってもよい。好ましくは、白色もしくは無色の金属酸化
物系粒子であり、このような粒子では、導電性は低くな
る傾向にあるので、１０⁹Ωｃｍ以下１０^-1Ωｃｍ以上
の材料が選ばれる。透明性を望まれる写真感光材料の用
途では、非晶質の金属酸化物ゾルが好ましく、１０⁸Ω
ｃｍ以下１０¹Ωｃｍ以上の材料が選ばれる。これら粒
子の粒径については、特に制限をしないが、電子顕微鏡
で撮影された像において、小さい方の径が１０μｍ以下
であるのが好ましく、さらに好ましくは１μｍ以下であ
る。透明性が要求される場合には、０．５μｍ以下が望
ましく、もっとも好ましいのは非晶質の金属酸化物ゾル
の形態をとる０．００１μｍ以上０．１μｍ以下であ
る。

【００３６】体積固有抵抗の値に関しては、粉体に一定
圧力をかけて得られた成形体の体積固有抵抗を１０²で
除した値を採用する。一定圧力については、特に制限を
しないが、好ましくは１０ｋｇ／ｃｍ²以上の圧力が良
く、さらに好ましくは、１００ｋｇ／ｃｍ²以上１０ｔ
／ｃｍ²未満の圧力をかけて成形した材料の体積固有抵
抗を１０²で除した値を採用する。一般に粉体にかけら
れた圧力とその成形体の体積固有抵抗に関しては、圧力
が高くなると、体積固有抵抗が低くなる傾向にある。し
かし、静水圧加圧装置で３ｔ／ｃｍ²の等方圧をかけた
場合でも、単結晶で得られる体積固有抵抗値よりも低い
値は得られず、１００倍程度高い値となる。ゆえに、粉
体の状態で一定圧力をかけて得られた成形体の体積固有
抵抗を１０²で除した値を採用する。

【００３７】また、一般に半導体とは、体積固有抵抗で
１０Ωｃｍ以上１０¹²Ωｃｍ未満の材料を、導体とは、
１０Ωｃｍ未満の材料を意味する。本発明では、半導体
粒子でも導体粒子でも導電性粒子と呼ぶ。

【００３８】また粒子の構造が結晶性であっても非晶性
であってもよく、その高次構造が傾斜組成をとっていて
も、規則的な組成分布、不均一分布をとっていても、本
発明の構成ならびに目的を達成すれば何でも良い。

【００３９】粒子の例をあげれば、金属、導電性を有す
るカルコゲナイトガラス、金属酸化物の粒子などがあげ
られ、化学的安定性から、金属酸化物が好ましいが、本
発明の目的を達成できれば、導電性を有する無機材料で
あれば何でも良い。金属酸化物を用いる場合、その合成
方法は、公知の合成方法で本発明の目的を達成できるも
のであればいかなる方法でもよい。例えば、金属もしく
は金属を含む化合物を原料とした共沈法、多段湿式法、
ゾルゲル法、アトマイジング法、プラズマ熱分解法など
微粒子及び超微粒子の製造方法をあげることができる。
ここで金属もしくは金属を含む化合物とは、粉体合成法
に応じて、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ，Ｃｓ，Ｂｅ，Ｍｇ，
Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｔｉ，Ｚ
ｒ，Ｖ，Ｎｂ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎ
ｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａ
ｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ｈｇ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔ
ｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｓ
ｅ，Ｔｅ，Ｐｏ元素を含む化合物であり、好ましくはＮ
ｉ，Ｉｒ，Ｒｈ，Ｎｂ，Ｃｅ，Ｚｒ，Ｔｈ，Ｈｆ，Ｚ
ｎ，Ｔｉ，Ｓｎ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｍｇ，Ｂａ，Ｍ
ｏ，Ｗ，Ｖを主成分とする化合物である。好ましくは水
溶性もしくは有機溶媒に可溶な化合物で、例えば、Ｆｅ
ＳＯ₄７Ｈ₂Ｏ、ＣｕＳＯ₄などの水溶性金属塩類、Ｎｉ
Ｃｌ₂、ＰｄＣｌ₂などの有機溶媒に可溶な金属化合物、
Ｔｉ（ＯＣ₃Ｈ₇）₄などの金属アルコキシドやフェロセ
ンなどの有機金属化合物などが選ばれるが、粉体合成法
に応じて、金属もしくは金属を含む化合物を主成分とす
る室温で固体の材料も組み合わせて用いる事ができ、特
に粉体原料並びに製造方法に制限を加えるものではな
く、本発明の目的を達成する原料ならびに製造方法であ
れば何でも良い。

【００４０】これら製造方法により得られる金属酸化物
粒子の組成並びに結晶形態については、非晶質、結晶質
でも本発明の目的を達成できるものであればいかなる組
成並びに結晶形態でもよい。

【００４１】例えば、単純立方格子、体心立方格子、面
心立方格子、単純正方格子、体心正方格子、単純斜方格
子、底面心斜方格子、体心斜方格子、面心斜方格子、単
純単斜格子、底面心単斜格子、三斜格子、菱面体格子、
六方格子などの特定構造をとる化合物が挙げられる。

【００４２】また、本発明では、結晶性多孔質材料も、
用いる事が可能である。

【００４３】これらの特定の結晶性化合物以外に、粉末
Ｘ線回折法で粉末を評価したときに、シャープな回折ピ
ークの得られない粉末でも良い。もしその組成が、本来
特定の結晶形態をとるので有れば、もしくは回折ピーク
のほとんどの値が、ある特定の結晶に同定できるのだ
が、一部広幅化しているために不明確な場合、あるいは
すべてが広幅化している非晶質粉末の粉末でも本発明の
目的を達成できるならば、用いる事ができる。このよう
な金属酸化物の例として、コロイド状のＳｎＯ₂ゾルを
あげることができる。この化合物は、沈降等の問題が発
生せず、本発明の目的を達成するために好適な化合物で
ある。ＳｎＯ₂超微粒子の製造方法に関しては、特に温
度条件が重要で、高温度の熱処理を伴う方法は、一次粒
子の成長や、結晶性が高くなる現象を生じるので好まし
くなく、やむをえず熱処理を行う必要があるときには、
４００℃以下好ましくは３００℃以下さらに好ましくは
２００℃以下さらに好ましくは１５０℃以下に止めるべ
きである。特公昭３５−６６１６号の実施例に記載され
た製造法のＳｎＯ₂ゾルは、本発明に好適な例である。
さらに、この特公昭３５−６６１６号に記載された方法
に準じてフッ素、Ｓｂなどの異種元素をドープした材料
も好適である。

【００４４】これら導電体粒子および半導電体微粒子
は、バインダー中に分散または溶解させて用いられる。
あるいは、金属酸化物粒子を導電性高分子化合物で表面
処理もしくはマイクロカプセル化などの処理を行った粉
体、金属酸化物粒子を導電性高分子化合物の溶解もしく
は分散された溶媒中に混合後、スプレードライ法、凍結
乾燥法などの処理を行った粉体をバインダー中に分散し
て塗布を行っても良い。

【００４５】本発明に係る高分子粒子としては、特に限
定されるものではないが、例えばゼラチン、カゼイン等
のタンパク質、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シエチルセルロース、アセチルセルロース、ジアセチル
セルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース化
合物、デキストラン、寒天、アルギン酸ソーダ、デンプ
ン誘導体等の糖類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリアクリル酸エステル、ポリメタクリル酸エス
テル、ポリスチレン、ポリアクリルアミド、ポリ−Ｎ−
ビニルピロリドン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポ
リアクリル酸等の合成ポリマー等を挙げる事ができる。
特に、ゼラチン（石灰処理ゼラチン、酸処理ゼラチン、
酵素分解ゼラチン、フタル化ゼラチン、アセチル化ゼラ
チン等）、アセチルセルロース、ジアセチルセルロー
ス、トリアセチルセルロース、ポリ酢酸ビニル、ポリビ
ニルアルコール、ポリアクリル酸ブチル、ポリアクリル
アミド、デキストラン、水溶性ポリエステル樹脂等で、
水に分散したときに単分子状態で分散せず、複数の分子
が固まりとなった高分子粒子の状態が好ましい。疎水性
の高分子ラテックスであれば、そのまま使用可能である
が、たとえばゼラチンのような親水性高分子の場合に
は、適当な架橋材で架橋したり、適当な疎水性高分子と
の組み合わせによる保護コロイドの形態で用いることが
好ましい。すなわち本発明では、通常知られている高分
子バインダーを用いることが可能であるが、特に親水性
バインダーについては、粒子状に加工し用いる必要があ
る。

【００４６】本発明に係る高分子粒子は、フィルム形成
能を有する化合物であり、塗布する前に平均粒径が、
０．０１ミクロン以上５ミクロン以下の高分子粒子であ
ることが必要である。好ましくは、０．０２ミクロン以
上１ミクロン以下が、さらに好ましくは０．０５ミクロ
ン以上０．５ミクロン以下が望ましい。高分子粒子と導
電性粒子の粒径との関係であるが、本発明の範囲内であ
れば効果を発揮することができるが、好ましくは、導電
性粒子の短い方の径よりも１．１倍以上の粒径が高分子
粒子で選択される。導電性粒子の短い方の径よりも１．
５倍以上であればさらに効果的である。

【００４７】粒子サイズに関しては、沈降法、レーザー
回折法などによる粒度分布計の測定により求められた平
均粒子径を採用するのが好ましいが、電子顕微鏡写真よ
り粒子径を決定しても良い。しかし電子顕微鏡を採用し
た場合には、視野内において独立して存在している粒子
の最も長い径を採用する。粒子が、化学的につながって
高次構造を形成している場合には、高次構造の単位で計
測する。

【００４８】バインダー中への導電体粒子もしくは半導
体粒子の分散方法であるが、自由回転運動を利用する方
法、じゃま板を設けた容器中の障害運動を利用する方
法、密閉容器を水平軸のまわりに回転を行う転倒運動を
利用する方法、容器を上下に振とうする振とう運動を利
用する方法、ロール上で剪断力などを利用する方法など
いろいろあるが、本発明の目的を損なわない限りいかな
る方法を選択しても良い。

【００４９】また本発明の導電性層の乾燥膜厚は、高分
子粒子の粒径の１．３倍以上が好ましい。１．３倍未満
の場合は、高分子粒子の導電性層内での粒子の充填構造
が不十分で、５０ｖｏｌ％以下での導電性粒子の添加率
において導電性の発現が不安定になる。さらに好ましく
は高分子粒子の粒径の１．５倍以上１００倍未満が良
い。

【００５０】本発明で使用するプラスチックフィルム材
料としては、例えば、セルロースナイトレートフィル
ム、セルロースアセテートフィルム、セルロースアセテ
ートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピ
オネートフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、その他これらの積層物等がある。

【００５１】これらのフィルム材料のうち、高分子の重
合条件を選択し、高度に立体規則的なポリマーを用いる
ことも可能である。たとえば、シンジオタクティックポ
リスチレン（ＳＰＳ）を主成分とするプラスチックフィ
ルムを用いても良い。ＳＰＳフィルムのように特に帯電
しやすいフィルムにおいては、本発明の効果は更に有効
である。

【００５２】本発明において、シンジオタクティックポ
リスチレンを主成分とするフィルムとは、立体規則性構
造（タクティシティー）が主としてシンジオタクティッ
ク構造、すなわち炭素−炭素結合から形成される主鎖に
対して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に
反対方向に位置する立体構造を有するものであり、主鎖
の主たる連鎖が、ラセモ連鎖であるスチレン系重合体あ
るいは、それを含む組成物であり、スチレンの単独重合
体であれば、特開昭６２−１１７７０８号に記載の方法
で重合することが可能であり、またその重合体について
は、特開平１−４６９１２号、同１−１７８５０５号等
に記載された方法により重合することで得ることができ
る。

【００５３】そのタクティシティーは同位体炭素による
核磁気共鳴法（¹³Ｃ−ＮＭＲ法）により定量される。¹³
Ｃ−ＮＭＲ法により測定されるタクティシティーは、連
続する複数個の構成単位の存在割合、例えば、２個の場
合はダイアッド、３個の場合はトリアッド、５個の場合
はペンタッドによって示すことができるが、本発明にい
う主としてシンジオタクティック構造を有するスチレン
系重合体とは、通常ラセミダイアッドで７５％以上、好
ましくは８５％以上、もしくはラセミトリアッド６０％
以上、好ましくは７５％以上もしくはラセミペンタッド
３０％以上好ましくは５０％以上であることが好適であ
る。

【００５４】シンジオタクティックポリスチレン系組成
物を構成する重合体の具体的なモノマーとしては、スチ
レン、メチルスチレン等のアルキルスチレン、クロロメ
チルスチレン、クロロスチレン等のハロゲン化（アルキ
ル）スチレン、アルコキシスチレン、ビニル安息香酸エ
ステル等を主成分とする単独もしくは混合物である。特
に、アルキルスチレンとスチレンの共重合体は、５０μ
ｍ以上の膜厚を有するフィルムを得るためには、好まし
い組み合わせである。

【００５５】本発明のシンジオタクティック構造を有す
るポリスチレン系樹脂は、上記のような原料モノマーを
重合用の触媒として特開平５−３２０４４８号，４〜１
０ページに記載の（イ）（ａ）遷移金属化合物及び
（ｂ）アルミノキサンを主成分とするもの、または
（ロ）（ａ）遷移金属化合物及び（ｃ）遷移金属化合物
と反応してイオン性錯体を形成しうる化合物を主成分と
するものを用いて重合して製造することができる。

【００５６】これらのプラスチックフィルム材料は、写
真感光材料の支持体として、用いることが出来る。また
透明な支持体は無色透明のものだけでなく、染料、顔料
を添加して着色透明にすることができる。

【００５７】本発明の感光材料としては、通常の白黒ハ
ロゲン化銀感光材料（例えば、撮影用白黒感材、Ｘ−線
用白黒感材、印刷用白黒感材等）、通常の多層カラー感
光材料（例えば、カラーリバーサルフィルム、カラーネ
ガティブフィルム、カラーポジティブフィルム等）、転
写画像形成材料（例えば印刷の校正刷りに用いるカラー
プルーフ）など種々の感光材料を挙げる事ができる。

【００５８】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。

【００５９】（導電性粒子Ｐ１の分散液）塩化第二スズ
水和物６５ｇを水溶液２０００ｃｃに溶解し均一溶液を
得た。次いでこれを煮沸し共沈澱物を得た。生成した沈
澱物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて沈
澱を何度も水洗する。沈澱を洗浄した蒸留水中に硝酸銀
を滴下し塩素イオンの反応がないことを確認する。この
沈殿物を蒸留水１０００ｃｃ中に添加して分散後、全量
を２０００ｃｃとする。さらに３０％アンモニア水を４
０ｃｃ加え、水浴中で加温すると、ＳｎＯ₂ゾル溶液が
生成する。

【００６０】塗布液として用いるときには、このゾル溶
液へアンモニアを吹き込みながら濃度約８％に濃縮して
用いる。また、このゾル溶液に含まれる粒子の体積固有
抵抗については、ゾル溶液を用いてシリカガラス上に薄
膜を形成し、四端子法で測定した値を粒子の体積固有抵
抗値とした。測定された体積固有抵抗は３．４×１０⁴
Ωｃｍであった。

【００６１】（導電性粒子Ｐ２の分散液）塩化第二スズ
水和物６５ｇと三塩化アンチモン１．０ｇを水溶液２０
００ｃｃに溶解し均一溶液を得た。次いでこれを煮沸し
共沈澱物を得た。生成した沈澱物をデカンテーションに
より取り出し、蒸留水にて沈澱を何度も水洗する。沈澱
を洗浄した蒸留水中に硝酸銀を滴下し塩素イオンの反応
がないことを確認する。この沈殿物を蒸留水１０００ｃ
ｃ中に添加して分散後、全量を２０００ｃｃとする。さ
らに３０％アンモニア水を４０ｃｃ加え、水浴中で加温
すると、ＳｎＯ₂ゾル溶液が生成する。

【００６２】このゾル溶液を４００℃に加熱した電気炉
中に噴霧し導電性粉末を合成した。得られた粉末を錠剤
成型器にて成形後、４端子法で測定された体積固有抵抗
は１．５×１０¹Ωｃｍであった。

【００６３】この導電性粉末をｐＨ１０のアンモニア水
に濃度８ｗｔ％となるように分散した。

【００６４】（高分子粒子分散液ＬＸ１）水４０ｌにゼ
ラチンを０．１２５ｋｇ及び過硫酸アンモニウム０．０
５ｋｇを加えた液に液温８０℃で攪拌しつつ、窒素雰囲
気下で（ア）ｎ−ブチルアクリレート４．５１ｋｇ、
（イ）スチレン５．４９ｋｇ、及び（ウ）アクリル酸
０．１ｋｇの混合液を１時間かけて添加、その後１．５
時間攪拌後、ゼラチン１．２５ｋｇと過硫酸アンモニウ
ム０．００５ｋｇを加えて１．５時間攪拌、反応終了後
さらに１時間水蒸気蒸留して残留モノマーを除去したの
ち、室温まで冷却してから、アンモニアを用いてｐＨを
６．０に調整した。得られたラテックス液は、水で希釈
し濃度２０ｗｔ％に仕上げた。

【００６５】以上のようにして平均粒径０．２５μ、Ｔ
ｇ約０℃の単分散なラテックスを得た。

【００６６】（高分子粒子分散液ＬＸ２）カネボーエヌ
エスシー（株）製ヨドゾールＹＸ５０を用いた。濃度２
０ｗｔ％で平均粒径０．０６μｍであった。

【００６７】実施例１ （ハロゲン化銀写真感光材料用支持体の作成）２軸延伸
・熱固定後の厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの両面に８Ｗ分／ｍ²のコロナ放電処理を
施し、一方の面に特開昭５９−１９９４１号記載のよう
に下記下引き塗布液Ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになる
よう下引き層Ｂ−１として塗布し、１００℃１分間乾燥
した。またポリエチレンテレフタレートフィルムに対し
下引き層Ｂ−１と反対側の面に特開昭５９−７７４３９
号記載のように下記下引き塗布液Ｂ−２を乾燥膜厚０．
８μｍになるように下引き層Ｂ−２として塗布１００℃
１分間乾燥した。

【００６８】 ＊下引き第１層 ＜下引き塗布液Ｂ−１＞ ブチルアクリレート３０重量％、ｔ−ブチルアクリレ ート２０重量％、スチレン２５重量％及び２−ヒドロ キシエチルアクリレート２５重量％の共重合体ラテッ クス液（固形分３０％） ２７０ｇ 化合物Ａ ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１ｌに仕上げる。

【００６９】 ＜下引き塗布液Ｂ−２＞ ブチルアクリレート４０重量％、スチレン２０重量％及 びグリシジルアクリレート４０重量％の共重合体ラテッ クス液（固形分３０％） ２７０ｇ 化合物Ａ ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１ｌに仕上げる。

【００７０】＊下引き第２層（Ａ） さらに上記下引き層Ｂ−１の上に８Ｗ分／ｍ²のコロナ
放電を施し、下記塗布液Ｂ−３を乾燥膜厚０．１μｍに
なるようにＢ−３層を塗布し、１００℃、１分間乾燥し
た。

【００７１】 ＜下引き塗布液Ｂ−３＞ ゼラチン １０ｇ 化合物Ａ ０．４ｇ 化合物Ｂ ０．１ｇ 平均粒径３μｍのシリカ粒子 ０．１ｇ 水で１ｌに仕上げる。

【００７２】＊下引き第２層（Ｂ） さらに上記下引き層Ｂ−２の上に８Ｗ分／ｍ²のコロナ
放電を施し、下記塗布液Ｂ−３−１を乾燥膜厚０．１μ
ｍになるようにＢ−３−１層を塗布し、１００℃、１分
間乾燥した。

【００７３】 ＜下引き塗布液Ｂ−３−１＞ 高分子粒子分散液ＬＸ１ ２３ｇ 導電性粒子Ｐ１の分散液 ４００ｇ 水 ２００ｇ

【００７４】

【化１】

【００７５】（乳剤調製）ｐＨ３．０の酸性雰囲気下で
コントロールダブルジェット法によりロジウムを銀１モ
ル当たり１０^-5モル含有するハロゲン化銀粒子を作成し
た。ハロゲン化銀粒子の成長は、ベンジルアデニンを１
％のゼラチン水溶液１ｌ当たり３０ｍｇ含有する系で行
った。銀とハライドとの混合後６−メチル−４−ヒドロ
キシ−１，３，３ａ，７−テトラザインデンをハロゲン
化銀１モル当たり６００ｍｇ加え、その後水洗、脱塩し
た。

【００７６】次いで、ハロゲン化銀１モル当たり６０ｍ
ｇの６−メチル−４−ヒドロキシ−１，３，３ａ，７−
テトラザインデンを加えた後、イオウ増感をした。イオ
ウ増感後安定剤として６−メチル−４−ヒドロキシ−
１，３，３ａ，７−テトラザインデンを加えた。

【００７７】（ハロゲン化銀乳剤層）前記各乳剤に添加
剤を下記の付量になるように調製添加し、前記、支持体
のＢ−３−１層の上に塗布した。

【００７８】 ラテックスポリマー：スチレン−ブチルアクリレート −アクリル酸３元共重合ポリマー １．０ｇ／ｍ² テトラフェニルホスホニウムクロライド ３０ｍｇ／ｍ² サポニン ２００ｍｇ／ｍ² ポリエチレングリコール １００ｍｇ／ｍ² ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム １００ｍｇ／ｍ² ハイドロキノン ２００ｍｇ／ｍ² フェニドン １００ｍｇ／ｍ² スチレンスルホン酸ナトリウム−マレイン酸共 重合体（Ｍｗ＝２５万） ２００ｍｇ／ｍ² 没食子酸ブチルエステル ５００ｍｇ／ｍ² テトラゾリウム化合物 ３０ｍｇ／ｍ² ５−メチルベンゾトリアゾール ３０ｍｇ／ｍ² ２−メルカプトベンツイミダゾール−５−スルホン酸 ３０ｍｇ／ｍ² イナートオセインゼラチン（等電点４．９） １．５ｇ／ｍ² １−（ｐ−アセチルアミドフェニル）−５−メルカプ トテトラゾール ３０ｍｇ／ｍ² 銀量 ２．８ｇ／ｍ^２

【００７９】

【化２】

【００８０】（乳剤層保護膜）乳剤層保護膜として、下
記の付量になるよう調製塗布した。

【００８１】 フッ素化ジオクチルスルホコハク酸エステル ３００ｍｇ／ｍ^２ マット剤：ポリメタクリル酸メチル（平均粒径３．５μｍ） １００ｍｇ／ｍ² 硝酸リチウム塩 ３０ｍｇ／ｍ² 酸処理ゼラチン（等電点７．０） １．２ｇ／ｍ² コロイダルシリカ ５０ｍｇ／ｍ² スチレンスルホン酸ナトリウム−マレイン酸共重合体 １００ｍｇ／ｍ² 媒染剤 ３０ｍｇ／ｍ² 染料 ３０ｍｇ／ｍ^２

【００８２】

【化３】

【００８３】（バッキング層）乳剤層とは反対側の支持
体に、下記組成のバッキング染料を塗布した。ゼラチン
層はグリオキザール及び１−オキシ−３，５−ジクロロ
−Ｓ−トリアジンナトリウム塩及びヒドロキシ含有エポ
キシ化合物である（ｄ）で硬膜した。

【００８４】 ハイドロキノン １００ｍｇ／ｍ^２ フェニドン ３０ｍｇ／ｍ² ラテックスポリマー：ブチルアクリレート−スチ レン共重合体 ０．５ｇ／ｍ² スチレン−マレイン酸共重合体 １００ｍｇ／ｍ² クエン酸 ４０ｍｇ／ｍ² ベンゾトリアゾール １００ｍｇ／ｍ² スチレンスルフォン酸−マレイン酸共重合体 １００ｍｇ／ｍ² 硝酸リチウム塩 ３０ｍｇ／ｍ² バッキング染料（ａ）（ｂ）（ｃ） ４０，３０，３０ｍｇ／ｍ² オセインゼラチン ２．０ｇ／ｍ²

【００８５】

【化４】

【００８６】以上のようにして得られた試料を全面露光
し下記に示す現像液、定着液を使用して現像処理した
後、表面比抵抗試験並びに灰付着テスト法を行った。結
果は表１に示した。

【００８７】 ＜現像液処方＞ ハイドロキノン ２５ｇ １−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン ０．４ｇ 臭化ナトリウム ３ｇ ５−メチルベンゾトリアゾール ０．３ｇ ５−ニトロインダゾール ０．０５ｇ ジエチルアミノプロパン−１，２−ジオール １０ｇ 亜硫酸カリウム ９０ｇ ５−スルホサリチル酸ナトリウム ７５ｇ エチレンジアミン４酢酸ナトリウム ２ｇ 水で１ｌに仕上げた。

【００８８】ｐＨは苛性ソーダで１１．５とした。

【００８９】 ＜定着液処方＞ （組成Ａ） チオ硫酸アンモニウム（７２．５ｗ％水溶液） ２４０ｍｌ 亜硫酸ナトリウム １７ｇ 酢酸ナトリウム・３水塩 ６．５ｇ ほう酸 ６ｇ クエン酸ナトリウム・２水塩 ２ｇ 酢酸（９０ｗ％ 水溶液） １３．６ｍｌ （組成Ｂ） 純水（イオン交換水） １７ｍｌ 硫酸（５０ｗ％の水溶液） ３．０ｇ 硫酸アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃換算含量が８．１ｗ％の水溶液） ２０ｇ 定着液の使用時に水５００ｍｌ中に上記組成Ａ、組成Ｂ
の順に溶かし、１ｌに仕上げて用いた。この定着液のｐ
Ｈは約５．６であった。

【００９０】（現像処理条件） （工程） （温度） （時間） 現像 ４０℃ ８秒 定着 ３５℃ ８秒 水洗 常温 １０秒 （帯電防止性能の評価：灰付着テスト法（耐ゴミ付着
性）） ２３℃、２０％Ｒ．Ｈ．の条件下で、現像済試料の乳剤
側面をゴムローラーで数回こすり、タバコの灰を近づけ
て、フィルムにくっつくかどうかを下記評価に従って調
べた。

【００９１】 ○ ：１ｃｍまで近づけても全く付着しない ○△ ：１ｃｍ〜４ｃｍまで近づけると付着する △ ：４ｃｍ〜１０ｃｍまで近づけると付着する × ：１０ｃｍ以上でも付着する ○△以上ならば実用上支障がない。

【００９２】（インピーダンスの絶対値測定方法）イン
ピーダンス測定に関しては、横河・ヒューレット・パッ
カード社製（以下ＹＨＰ社製）プレシジョンＬＣＲメー
ターＨＰ４２８４Ａと、ＨＰ１６４５１Ｂの組み合わせ
を用いた。

【００９３】２３℃、２０％ＲＨ雰囲気下で、空隙法に
よりフィルム材料のインピーダンスの絶対値を計測し
た。空隙法の測定に関しては、ＨＰ１６４５１Ｂの取り
扱い説明書（部品番号１６４５１−９７０００、印刷１
９８９年１２月）に記載された電極非接触法に従う。主
電極の直径が３．８ｃｍの電極−Ａを用いて、サンプル
の大きさは、５．５ｃｍ×５．５ｃｍの正方形に切り取
った。導電性粒子の分散層を上方に向け計測した。

【００９４】（ヘーズ試験）第２層まで下引き処理を行
った試料を東京電色株式会社製濁度計Ｍｏｄｅｌ Ｔ−
２６００ ＤＡを用いて測定してヘーズを％で表示し
た。

【００９５】実施例２ 試料作成条件は、下引き第２層として下引き塗布液Ｂ−
３−１の代わりに下記の下引き塗布液Ｂ−３−２を用い
た以外実施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価
を行った。

【００９６】 ＜下引き塗布液Ｂ−３−２＞ 高分子粒子分散液ＬＸ２ ２６ｇ 導電性粒子Ｐ１の分散液 １２０ｇ 水 ３００ｇ 実施例３ 試料作成条件は、下引き第２層として下引き塗布液Ｂ−
３−１の代わりに下記の下引き塗布液Ｂ−３−３を用い
た以外実施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価
を行った。

【００９７】 ＜下引き塗布液Ｂ−３−３＞ 高分子粒子分散液ＬＸ２ ２３ｇ 導電性粒子Ｐ２の分散液 ２５０ｇ 水 ３００ｇ 実施例４ 試料作成条件は、下引き第２層として下引き塗布液Ｂ−
３−１の代わりに下記の下引き塗布液Ｂ−３−４を用い
た以外実施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価
を行った。

【００９８】 ＜下引き塗布液Ｂ−３−４＞ 高分子粒子分散液ＬＸ２ ２３ｇ 導電性粒子Ｐ２の分散液 ９０ｇ 水 ３００ｇ 比較例１ 試料作成条件は、下引き第２層として下引き塗布液Ｂ−
３−１の代わりに下記下引き塗布液Ｂ−０を用いた以外
実施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行っ
た。

【００９９】 ＜下引き塗布液Ｂ−０＞ ゼラチン １０ｇ 化合物Ａ ０．４ｇ 化合物Ｂ ０．１ｇ 平均粒径３μｍのシリカ粒子 ０．１ｇ 水で１ｌに仕上げる。

【０１００】比較例２ 試料作成条件は、下引き第２層として下引き塗布液Ｂ−
３−１の代わりに下記下引き塗布液Ｂ−０２を用いた以
外実施例１と同様に作成し、実施例１と同様の評価を行
った。但し、下引き塗布液Ｂ−０２に含まれる酸化錫粉
末とは、９００℃の温度で酸化アンチモンを３％添加し
た酸化錫を焼成し、ボールミルで粉砕した粉末である。
この粉末の平均粒径は０．５μｍで比重は６．８であっ
た。

【０１０１】下引き塗布液の調製方法は実施例１と同様
に行ったが、フィルム塗布後の塗布液容器中には酸化錫
粉末の沈澱物が観察された。

【０１０２】 ＜下引き塗布液Ｂ−０２＞ ゼラチン ５ｇ 化合物Ａ ０．４ｇ 化合物Ｂ ０．１ｇ 酸化錫粉末 ９．６ｇ 水 ２００ｇ 以上の結果を表１にしめす。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】表１から明らかなように、本発明の写真感
光材料は、インピーダンスの絶対値が大きいにもかかわ
らず、耐ゴミ付着性も良好で、透明性も良好であること
が解る。また、本発明の写真感光材料は、圧力カブリや
スリキズの発生が認められなかった。

【０１０５】圧力カブリやスリキズが発生しない透明性
の優れた、低湿度下でも高い帯電防止性能を有する、プ
ラスチックフィルム材料およびハロゲン化銀写真感光材
料を提供できた。

【０１０６】

【発明の効果】本発明により、導電性粒子の添加量が多
い事により引き起こされる透明性、塗布液の安定性、作
業性などの問題を解決し、低湿度下でも高い帯電防止性
能を有する透明プラスチックフィルム材料、および特に
は、それを用いたハロゲン化銀写真感光材料を提供する
ことができた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｃ 1/85 Ｇ０３Ｃ 1/85 (72)発明者 山内 正好 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 (72)発明者 安達 仁 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも１層の導電性層を有するフィ
   ルム材料であって、該導電性層が導電体粒子および半導
   体粒子から選ばれる少なくとも一つと、平均粒径が０．
   ０１ミクロン以上５ミクロン以下の高分子粒子との少な
   くとも２成分からなる混合物を用いて形成され、該導電
   性層が、導電体粒子および半導体粒子から選ばれる少な
   くとも一つを該導電性層の１ｖｏｌ％以上５０ｖｏｌ％
   以下含み、かつ該フィルム材料の周波数２０Ｈｚにおけ
   るインピーダンスの絶対値が４×１０⁵Ω以上１×１０
   ²⁰Ω以下であることを特徴とする帯電防止されたプラス
   チックフィルム材料。
2. 【請求項２】 導電体粒子または半導体粒子が、金属元
   素を含む酸化物ゾルである請求項１に記載のプラスチッ
   クフィルム材料。
3. 【請求項３】 導電体粒子または半導体粒子が、４００
   ℃以下の温度で製造された金属元素を含む酸化物である
   請求項１または２に記載のプラスチックフィルム材料。
4. 【請求項４】 高分子粒子が、水に溶解しない高分子で
   構成された粒子である請求項１、２または３に記載のプ
   ラスチックフィルム材料。
5. 【請求項５】 請求項１で形成された導電性層の乾燥膜
   厚が、高分子粒子の平均粒径の１．３倍以上である請求
   項１、２、３または４に記載のプラスチックフィルム材
   料。
6. 【請求項６】 前記フィルム材料がシンジオタクチック
   ポリスチレンを主成分とするプラスチックフィルムより
   なることを特徴とする請求項１、２、３、４または５に
   記載のプラスチックフィルム材料。
7. 【請求項７】 請求項１〜６のいずれか一項に記載のフ
   ィルム材料を支持体として用いることを特徴とするハロ
   ゲン化銀写真感光材料。