JPH04274233A - 帯電防止フィルムベースおよび該帯電防止フィルムベースからなる写真材料 - Google Patents

帯電防止フィルムベースおよび該帯電防止フィルムベースからなる写真材料

Info

Publication number
JPH04274233A
JPH04274233A JP3307604A JP30760491A JPH04274233A JP H04274233 A JPH04274233 A JP H04274233A JP 3307604 A JP3307604 A JP 3307604A JP 30760491 A JP30760491 A JP 30760491A JP H04274233 A JPH04274233 A JP H04274233A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
film
film base
antistatic
antistatic layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3307604A
Other languages
English (en)
Inventor
Alberto Valsecchi
アルベルト・ヴァルセッキ
Rolleri Giuseppe
ジュゼッペ・ロレーリ
P Hall Kevin
ケビン・ピー・ホール
Rachel Hobson
レイチェル・ホブソン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
3M Co
Original Assignee
Minnesota Mining and Manufacturing Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minnesota Mining and Manufacturing Co filed Critical Minnesota Mining and Manufacturing Co
Publication of JPH04274233A publication Critical patent/JPH04274233A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/16Anti-static materials
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/76Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
    • G03C1/85Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by antistatic additives or coatings
    • G03C1/89Macromolecular substances therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/06Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances
    • H01B1/12Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of other non-metallic substances organic substances
    • H01B1/122Ionic conductors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Elimination Of Static Electricity (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【産業上の利用分野】本発明は帯電防止層を設けた写真
フィルムベース、および該フィルムベースからなる感光
性写真材料に関する。 【0002】 【従来の技術および課題】写真層を支持するためのポリ
マーフィルムベースの使用はよく知られている。特に、
的確な物性を必要とする写真材料はポリ(エチレンテレ
フタレート)フィルムベースのようなポリエステルフィ
ルムベースを使用する。実際に、ポリエステルフィルム
ベースは、通常使用されるセルロースエステルフィルム
ベースと比較して寸法的に安定であり、いずれの使用条
件下での機械的応力に対しても耐える。 【0003】フィルムベース上の静電荷の発生は写真材
料の製造において重大な問題ことが知られている。感光
性写真エマルジョンを被覆する間、ベース上に蓄積され
た電荷は放電して、感光性層上で画像として記録される
光を生じる。ポリマーフィルムベース上での電荷の蓄積
により得られる他の欠点はダストおよび汚れの付着並び
に被覆欠陥である。 【0004】また、ポリマーフィルムベース上に被覆さ
れた感光性層からなる写真材料は、機械的に巻回または
巻戻されるロールまたはリール状、あるいは高速で運搬
されるシート状で用いると、静電荷が蓄積しやすく、該
静電荷によって発生した光を記録する。 【0005】静電気に関連する損傷は、写真材料の製造
、露光および現像前ばかりでなく、現像(proces
sing)後に画像を有する写真材料を用いて画像を複
写または拡大する時にも生じる。したがって、永久帯電
防止、すなわち、写真現像後でも有効性を維持する帯電
防止を行うことが望まれる。 【0006】静電荷の悪影響から写真材料を保護するた
め、多くの技術が提案されている。 【0007】静電気の発生を防ぐため、艶消剤、保湿材
または導電性ポリマーが提案されており、各々は異なっ
たメカニズムで作用する。しかし、艶消剤は曇り、ダス
トおよび汚れの問題を引き起こし、保湿材はシートまた
はフィルムを互いにまたは他の面と接触させ、導電性ポ
リマーは写真現像後は不変ではなく、通常のバインダー
で被覆すると透明でない。 【0008】米国特許第4,225,665号は写真材
料用の永久帯電防止層を開示している。該層は実質的に
(1)カルボキシル基を有する水溶性の導電性ポリマー
、(2)カルボキシル基を有する疎水性ポリマーバイン
ダーおよび(3)多官能価アジリジン架橋剤の3成分か
ら構成される。しかし、この組成物からは透明な被覆が
得られず、写真現像後には残存せず、被覆前に組成物中
に早期反応を引き起こす。米国特許第4,701,40
3号はこれらの早期反応を回避する、2つの分離被覆と
しての成分の被覆の高価な系を提案している。 【0009】米国特許第4,585,730号はフィル
ムベースと、支持体の片側上のハロゲン化銀エマルジョ
ンと、該支持体の反対側上の帯電防止層とからなり、帯
電防止層が導電性ポリマーを含有する補助ゼラチン層で
被覆され、それにより、帯電防止性の帯電防止層が該補
助層を通して導電することを特徴とする写真材料を開示
している。米国特許第4,585,730号にしたがっ
て補助層で被覆するのに有用な帯電防止層は米国特許第
4,225,665号および同第4,701,403号
参照。 しかし、2つの層構造は、写真現像中で2層の接着性に
劣るという問題がある。 【0010】したがって、帯電防止組成物の感光性写真
材料への応用は非常に難しく、材料の他の必要な特性に
悪影響を及ぼさない永久帯電防止を行うことが常に必要
である。 【0011】 【課題を解決するための手段】1つの具体例において、
本発明は少なくともその片側が、(a)カルボキシル基
を有する水溶性の導電性ポリマーと(b)多官能価エポ
キシド架橋剤の反応生成物から構成される帯電防止層で
被覆されることを特徴とするポリマーフィルムベースに
関する。 【0012】他の具体例において、本発明は、ポリマー
フィルムベースと、該フィルムベース上のハロゲン化銀
エマルジョン層と、(1)カルボキシル基を有する水溶
性の導電性ポリマーと(2)多官能基エポキシド架橋剤
の反応生成物から構成される帯電防止層とからなること
を特徴とする写真材料に関する。この帯電防止層はハロ
ゲン化銀エマルジョン層と反対のフィルムベースの側面
上の支持体層として、片面または両面被覆された写真材
料におけるフィルムベースとエマルジョン層の間の下塗
層(subbing layer)として、および/ま
たはフィルムベースと、異なる支持体層の間の下塗層と
して存在してもよい。 【0013】本発明の写真材料は、画像媒体、中でもハ
ロゲン化銀写真媒体に特に有用な帯電防止フィルムベー
スからなる。該フィルムベースはポリエステル、中でも
ポリエチレンテレフタレートのようなポリマー支持体(
substrate)からなる。他の有用なポリマー支
持体としては、例えば、酢酸セルロース類、ポリオレフ
ィン類、ポリカーボネート類等が挙げられる。フィルム
ベースは、その片方および両方の主表面に付着された帯
電防止層を有する。当業者に公知なように、プライマー
層または下塗層をベース本体と帯電防止層の間に用いて
もよい。明細書中で特に断らない限り、プライマー層お
よび下塗層は、実際には、一般的にベース本体の一部分
として考えられる(例えば、下塗りされていないポリエ
ステル)。プライマーおよび下塗り組成物は当業者によ
く知られており、塩化ビニリデンのポリマーが、しばし
ば、写真材料のプラーマー組成物として選択される。 【0014】本発明における帯電防止層は(a)カルボ
キシル基を有する水溶性の導電性ポリマーと(b)多官
能価エポキシド架橋剤の反応生成物からなる。 【0015】本発明の帯電防止層の成分(a)は、好ま
しくは、(a’)−SO3M置換エチレン性不飽和モノ
マー[式中、MはH+、NH4+、金属+、N(R)4
+(Rは炭素原子数1〜4のアルキル基)を意味する]
と、(b’)カルボキシル基を有するエチレン性不飽和
コモノマーと、(c’)所望により、遊離カルボキシル
基を有しない他のエチレン性モノマーとからなり、(a
’)と(b’)のモル比が、好ましくは、1:1〜5:
1であるモノマー単位を有する水溶性(例えば、室温下
、水中に少なくとも5重量%、好ましくは、少なくとも
10重量%溶解できる)の導電性親水性コポリマーであ
る。 【0016】さらに好ましくは、成分(a)はスチレン
スルホネートと、カルボキシル基を有するエチレン性不
飽和コモノマーのコポリマーである。最も好ましくは、
成分(a)はモル比が2:1〜4:1であるスチレンス
ルホネートとマレイン酸のコポリマーである。導電性モ
ノマー(a’)から得られた単位の量は、コポリマーの
帯電防止と十分な能力に対する要求のバランスをとるよ
うに作用して、モノマー(b’)から得られた単位のカ
ルボキシル基を介して架橋する。 【0017】例えば、モノマー(a’)としては、好ま
しくは、Na、K等のアルカリ金属塩またはアンモニウ
ム塩の形態のスチレンスルホン酸、ビニルトルエンスル
ホン酸、α−メチル−スチレンスルホン酸、2−エチル
−スチレンスルホン酸、3−アクリロイルオキシプロパ
ン−1−スルホン酸、3−メタクリロイルオキシプロパ
ン−1−スルホン酸、2−アクリルアミド−2−メチル
プロパンスルホン酸、3−メタクリロイルオキシプロパ
ン−1−メチル−1−スルホン酸、アクリロイルメタン
スルホン酸、4−アクリロイルオキシブタン−1−スル
ホン酸、4−アクリロイルオキシブタン−1−スルホン
酸、2−アクリロイルオキシエタン−1−スルホン酸、
2−アクリルアミドプロパン−1−スルホン酸、2−メ
タクリルアミド−2−メチルプロパン−1−スルホン酸
、3−メタクリルアミド−3−メチルブタン−1−スル
ホン酸が挙げられる。 【0018】モノマー(b’)としては、例えば、マレ
イン酸、アクリル酸、メタクリル酸、2−ブタン酸が挙
げられる。所望により、モノマー(c’)は、本発明の
ポリマーの導電性、水溶性および架橋性に悪影響を与え
ないように選択される。モノマー(c’)としては、エ
チレン性モノマー(例えば、1,3−ブタジエン、塩化
ビニル、エチレン、プロピレン)、スチレン系モノマー
(例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチル−ス
チレン、2−エチル−スチレン、1−ビニルナフタレン
)、2−アルカン酸エステル(例えば、アクリル酸、メ
タクリル酸、α−エチルアクリル酸、α−プロピルアク
リル酸、2−ブタン酸のメチル、エチル、プロピル、ブ
チル、ヘキシルエステル)、アクリルアミドモノマー(
例えば、アクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、
N,N−ジメチルアクリルアミド、N−ブチルアクリル
アミド、N−クロロメチルアクリルアミド)および酢酸
ビニルが挙げられる。 【0019】成分(a)としては、例えば、ポリ(スチ
レンスルホン酸ナトリウム−マレイン酸)、ポリ(スチ
レンスルホン酸ナトリウム−メタクリル酸)、ポリ(ス
チレンスルホン酸−アクリル酸ブチル−メタクリル酸)
、ポリ(ナトリウム−2−アクリルアミド−2−メチル
−プロパンスルホネート−マレイン酸)等が挙げられる
。これらの成分(a)は市販されているか、または当業
者に公知のようにモノマーを重合することによって合成
できる。 【0020】本発明の帯電防止層の成分(b)は多官能
価エポキシド架橋剤、すなわち、その中に少なくとも2
つのエポキシド基を有するポリマー化合物からなる有機
化合物である。成分(b)としては、例えば、ビス(2
,3−エポキシプロピル)エーテル、ビニルシクロヘキ
サンジオキシド、エチレンビスグリシジルエーテル、ビ
ス(2,3−エポキシプロピルエチル)エーテル、ヒド
ロキノンビスグリシジルエーテル、レソルシノールビス
グリシジルエーテル、ジエポキシブタン、ジエポキシヘ
キサン、ビスグリシジル、チオエーテル、グリセロール
トリグリシジルエーテル、ビスグリシジルマロン酸ジエ
チルエステル、ビスグリシジルスルホン、N,N−ビス
グリシジルピペラジン、トリグリシジルホスフェート、
2,4,6−トリグリシジルシアヌレート、シュウ酸ビ
スグリシジルエステル、コハク酸ビスグリシジルエステ
ル、ビス−(2,3−エポキシプロピル)−メチルプロ
ピルアンモニウムパラトルエンスルホネート、1,5−
ペンタン−ビス(2,3−エポキシプロピルジエチルア
ンモニウムメタンスルホネート)、2−ブチン−1,4
−ビス(2,3−エポキシプロピルジメチルアンモニウ
ムペルクロレート)が挙げられる。これらの化合物は、
米国特許第2,882,250号、同第3,047,3
94号、同第3,189,459号およびフランス特許
第1,231,056号に示されるように、当業者によ
く知られている。これらの化合物は市販されているか、
または前記特許に教示されるように合成できる。 【0021】ポリマーベース上に施す前に、帯電防止ポ
リマー(a)および架橋剤(b)は水溶液に溶解される
。成分(a)および(b)を含む水性の被覆組成物は任
意の好適なポリマー写真ベース上に被覆されるが、好ま
しいベースは、樹脂層または樹脂とゼラチンの層を用い
て下塗りされたポリエチレンテレフタレートフィルムで
ある。帯電防止被覆は、通常、乾量基準で約0.01〜
1g/m2の被覆量で施される。通常、被覆量が少ない
と十分な帯電防止が得られず、被覆量が多いと透明性に
欠ける層しか得られない。被覆は、例えば、ナイフ被覆
、グラビア被覆、ドクターロール被覆のような通常の被
覆技術により行われる。 【0022】また、本発明の帯電防止層は、例えば、艶
消剤、可塑剤、滑剤、表面活性剤、染料、曇り減少剤等
、成分(a)と成分(b)の組合せの帯電防止性および
架橋能力に悪影響を及ぼさない他の添加剤を含有しても
よい。バインダーが必要ないが、一定量(例えば、成分
(a)の重量に対して20重量%以下、好ましくは、1
0重量%以下)のゼラチン等のバインダーを、成分(a
)と成分(b)からなる被覆組成物に添加して帯電防止
層の被覆品質を改良してもよい。 【0023】成分(a)および成分(b)の反応は、ポ
リマー支持体上への成分(a)と成分(b)の被覆およ
び乾燥によって行われる。加熱して乾燥および/または
成分の反応(硬化)を促進し、永久帯電防止層を形成す
る。乾燥硬化工程には20〜200℃のエア温度が有用
であるが、好ましい範囲は50〜100℃である。触媒
を使用して反応を速くしてもよい。 【0024】成分(a)と成分(b)の反応生成物は層
内に三次元結合を有する架橋生成物である。架橋により
、耐水性の永久帯電防止層を設ける助けとなり、成分(
a)中の低分子量物質が帯電防止層から移行するのを防
ぐ。架橋の帯電防止層の内部構造への作用を減少させる
ことにより、移行は減少する、あるいは他の写真層およ
び/または現像液に排除される。 【0025】本発明において有用な画像材料は、グラフ
ィックアート、印刷および情報システムの分野での画像
用の公知の材料である。ハロゲン化銀、フォトポリマー
、ジアゾ、多孔状(vesicular)画像形成系が
用いられるが、ハロゲン化銀が好ましい。 【0026】本発明の典型的な画像材料構造は、次の通
りである。1.その片面上の帯電防止層と、他の面上の
感光性層、好ましくは、写真ハロゲン化銀エマルジョン
層を有するフィルムベース。この構造において、帯電防
止層上には補助層があってもなくてもよい。補助層とし
ては、ゼラチン保護層およびゼラチンハレーション防止
層が挙げられる。2.その片面上の帯電防止層と、該帯
電防止層上に、それと同じ面に接着された少なくとも1
つの感光性層を有するフィルムベース。3.フィルムベ
ースはポリマーベースの両面上に帯電防止層を有し、帯
電防止層上のフィルムベースの片面または両面上に少な
くとも1つの感光性層を有する。 【0027】本発明に適用できるハロゲン化銀写真材料
としては、例えば、白黒およびカラー写真材料が挙げら
れる。 【0028】本発明に用いるハロゲン化銀は塩化銀、臭
化銀、ヨウ化銀、クロロ臭化銀、クロロヨウ化銀、ブロ
モヨウ化銀およびクロロヨード臭化銀のいずれでもよい
。 【0029】写真エマルジョン中のハロゲン化銀粒子は
立方体、八面体および四面体等の等軸晶の結晶構造を有
する等軸晶粒子、球状または非等軸晶の結晶構造を有す
るもの、双晶面等の結晶欠陥を有するもの、板状形態を
有するもの、あるいはこれらの組合せであってもよい。 【0030】写真材料に用いるバインダーまたは保護コ
ロイドとして、ゼラチンが有利に用いられるが、ゼラチ
ン代用物、コロジオン、アラビアゴム等の疎水性コロイ
ド、カルボキシル化セルロース、ヒドロキシエチリセル
ロース、カルボキシメチルセルロースのアルキルエーテ
ル等のセルロースエーテル誘導体、米国特許第2,94
9,442号に記載の両性コポリマー、ポリビニルアル
コール、および当業者に公知の他の親水性コロイドが用
いられる。 【0031】本発明の帯電防止層を利用する写真材料は
感光性ハロゲン化銀エマルジョン層、すなわち、可視光
線または赤外線に対して感光性であるハロゲン化銀エマ
ルジョンを有する。該ハロゲン化銀エマルジョンは。所
望により、通常用いられる任意の分光増感剤によって増
感して所望の感光度測定(sensitometric
 characterist−ics)特性を生じる。 【0032】このような材料の作製手段、これらを放射
線に対して増感する手段、化学増感剤、防曇剤、安定化
剤、減感剤、光沢剤、カップラー、硬化剤、カップリン
グ助剤、可塑剤、滑剤、艶消剤、高沸点有機溶剤、現像
促進化合物、帯電防止剤、防汚剤等の添加剤の使用は、
例えば、リサーチ・ディスクロージャー(Resear
chDisclosure)、Vol.176、No.
17643、1979年12月、I〜XIV節に記載さ
れている。 【0033】本発明をさらに詳しく説明する以下の実施
例により、当業者において通常用いられる方法および測
定により得られた幾つかの実験データを示す。被覆品質
(不透明度およびむら)は層を目視観察することにより
評価した。表面抵抗率は、各フィルムのサンプルを、隔
室中、21℃、25%R.H.で24時間保持すること
によって測定し、電気抵抗はヒューレット・パッカード
(Hewlett−Packard)高抵抗計、モデル
4329Aで測定した。粘着性については、各フィルム
のサンプルを荷重200g下で通常のゼラチン下塗層と
接触させ、60℃で3日間エージングした。つぎに、2
つの下塗面を分離して目視観察を行い、試験下での帯電
防止層と通常のゼラチン下塗層の間の相互作用によるパ
ターン(フェロタイプ)を定性的に評価した。また、以
下の実施例は4つの接着値を示す。すなわち、第1は乾
燥接着値であり、写真現像前の帯電防止ベースに対する
ハロゲン化銀エマルジョン層および補助ゼラチン層の接
着力を示し;第2および第3の接着値は湿潤接着値であ
り、写真現像中(現像剤および定着剤)の帯電防止ベー
スに対する前記層の接着力を示し;第4の接着値は乾燥
値であり、写真現像後の帯電防止ベースに対する前記層
の接着力を示す。 【0034】特に、乾燥接着力は、フィルムのサンプル
を引き裂き、フィルムの引き裂き線に沿ってスコッチ(
登録商標)ブランド5959、感圧テープを貼り、該テ
ープをフィルムから急速に剥がすことにより測定した。 層接着力は形式的方法にしたがって評価を行い、全ての
層がベースから剥がれると値が2であり、ベースから全
く剥がれないと値が8であり、その中間状態では中間値
となる。 【0035】湿潤接着力は、鉛筆の先で幾つかの線を引
いて、現像浴から取り出したばかりのフィルム上にアス
テリスクを形成し、指で線をこすることにより測定した
。また、この場合、層の接着力を形式的方法にしたがっ
て評価を行い、全ての層がベースから剥がれると値が2
であり、全く剥がれないと値が8であり、その中間状態
では中間値となる。動的湿潤性については、ゼラチンハ
ロゲン化銀エマルジョンの液滴を帯電防止層の表面上に
滴下して液滴表面の拡がりを測定した。 【0036】 【実施例】つぎに、実施例を挙げて本発明をさらに詳し
く説明する。 実施例1 以下の下塗組成物を調製し、その両側をターポリマー(
塩化ビニリデン−イタコン酸−メチルメタクリレート)
で下塗りされたポリ(エチレンテレフタレート)フィル
ムベース(PET)樹脂上にダブルロール被覆法で被覆
し、垂直乾燥を行った(被覆1〜4)。評価を行うため
の対照として通常のゼラチン下塗(被覆5)を用いた。 以下の表1に示す成分の単位はgである。 【0037】 【表1】   表1                          
                         
 下塗組成物                   
                         
  1    2    3    4  ナトリウム
スチレンスルホネート−             3
0.8  30.8  30.8  30.8マレイン
酸(モル比3:1) コポリマー 41重量%の(スチレンブチルアクリレート−   3
8.6  38.6   −    −ブチルメタクリ
レート−メタクリル酸)コポリマー(モル比45:43
:3)を有するラテックス 多官能価アジリジン*               
           4.4   −    4.4
   −エチレングリコール−ジグリシジル−    
        −    4.4   −    4
.4エーテル(EDGE) 水                        
                    925  
 925   965   965 *:ペンタエリチトール−tri−{β−(N−アジリ
ジニル)−プロピオネート} 【0038】 【表2】以下の表2は種々の被覆の特性を示す。   表2                          
                     被覆  
                         
       1     2      3    
  4      5   被覆品質:不透明度および
むら     不良   不良     良     
 良      優表面電気抵抗(Ω/cm2)、21
℃、25%RH: 7日間保存エージング:   現像前                    
    8×109  6×109  8×108  
1×109  7×1014  現像処理後(3M R
DC5 現像液)  4×1011 5×1011 3
×1011 2×1011 8×1015  40日間
保存エージング:   処理前                    
      −      −    6×108  
9×108  8×1014  3M RDC5 現像
液中で現像後        −      −   
 1×1012 1×1011 7×1015粘着性v
s被覆5                    −
      −     不良    良     不
良3日60℃、75%RH、荷重200gフェロタイプ
評価 動的湿潤性:                   
   −      −      50      
73      40写真エマルジョン液滴、膨張mm
2/秒   【0039】ラテックスの形態の疎水性バインダーを含
有する下塗は不均一な不透明度およびたるみを示す。架
橋剤としてのEGDGEを含有する下塗はアジリジンを
含有するものに比べて、帯電防止安定性、粘着性および
動的湿潤性が非常に優れている。 【0040】実施例2 実施例1の下塗被覆3、4および5を、ハレーション防
止染料、表面活性剤およびハードナーを含む通常のゼラ
チンハレーション防止層と、艶消剤、表面活性剤および
ハードナーを含む保護層で被覆した(各々、被覆6、7
および8)。2つの層はpH約6で被覆した。全ゼラチ
ン量は4.5g/m2であり、厚さは約4.5μmであ
った。通常の白黒ハロゲン化銀写真エマルジョンを各被
覆の反対側に被覆した。被覆の特性を以下の表3に示す
。 【0041】 【表3】   表3                          
                         
   被覆                    
                         
 6      7      8   表面電気抵抗
(Ω/cm2)、21℃、25%RH:   現像前                    
                 2×1010  
3×1010  1×1013  3M RDC5 現
像液中で現像後                  
 9×1910  8×1010  1×101420
日間保存エージング後の接着力(*)  現像前   
                         
           9       8     
  8  現像液中                
                     2   
    9      10  定着液中      
                         
      2      10      10  
現像後                      
                 9       
9       9   *:接着値は形式的方法にしたがって表し、数値が
大きいほど接着力はよい。 【0042】ハレーション防止層で被覆された下塗層(
EGDGEおよびアジリジン)は両方とも、現像前後で
良好な帯電防止性を示す。架橋剤としてEGDGEを含
有する下塗層は、アジリジンを含有する層に比べて、ハ
レーション防止層の優れた接着性(特に湿潤)を示す。 【0043】実施例3 実施例1の被覆4および5の下塗層を、96モル%Cl
および4モル%Brを含有しかつ金および硫黄で最適感
度にした感光性のゼラチノ(gelatino)クロロ
臭化銀エマルジョンで被覆した。通常の湿潤剤、防曇剤
、ハードナーおよび被覆助剤も添加した。該エマルジョ
ンは平均粒径0.1〜0.3μmの立方晶粒子を示した
。 【0044】艶消剤および表面活性剤を含有する硬化ゼ
ラチンの耐摩耗性層をその上に被覆した。2つのゼラチ
ン層を2.7g/m2の銀および4.5g/m2のゼラ
チンで被覆した。ゼラチン層の全厚は4〜5μmであっ
た。 実施例2に記載の通常のハレーション防止層を反対側に
被覆した。各々、写真フィルム9および10を得た。以
下の表4は2枚のフィルムの特性を示す。 【0045】 【表4】     表4                          
                       フィ
ルム                       
                       9 
     10  表面電気抵抗(Ω/cm2)、21
℃、25%RH:   現像前                    
                 2×1010  
1×1013  3M RDC5 現像液中で現像後 
                  7×1010 
 7×101420日間保存エージング後の接着力 (0〜10スケール):   現像前                    
                  10     
 10  現像液中                
                    10   
   10  定着液中              
                      10 
     10  3M RDC5 現像液中で現像後
                     7   
    6 【0046】2枚のフィルムのサンプルを紫外線ランプ
で6秒間露光し、3M RDC5現像液中で現像し、定
着し、洗浄乾燥した。以下の表5は感度測定結果を示す
。 【0047】 【表5】   表5                          
       フィルム              
                9      10
  D(最小値)                0
.04      0.04D(最大値)      
          5.0       5.0感度
*                      0.
37      0.31トーコントラスト     
       1.72      1.71   *:感度は前記D(最小値)1で測定したlogE
で表す。 【0048】フィルム9は良好な帯電防止性、接着力お
よび感度測定特性を示した。

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  少なくともその片面上に、(a)カル
    ボキシル基を有する水溶性の導電性ポリマーと(b)少
    なくとも2つのエポキシド基を有する有機架橋剤の反応
    生成物から構成される帯電防止層を有するポリマー支持
    体からなることを特徴とする帯電防止フィルムベース。
  2. 【請求項2】  ポリマー支持体がポリエチレンテレフ
    タレートからなる請求項1記載のフィルムベース。
  3. 【請求項3】  帯電防止層が支持体の片側のみにある
    請求項2記載のフィルムベース。
  4. 【請求項4】  帯電防止層が実質的に成分(a)と成
    分(b)の反応生成物からなる請求項2記載のフィルム
    ベース。
  5. 【請求項5】  帯電防止層が実質的に成分(a)と成
    分(b)の反応生成物からなる請求項3記載のフィルム
    ベース。
  6. 【請求項6】  カルボキシル基を有するポリマーがス
    チレンスルホン酸ナトリウムとマレイン酸のコポリマー
    である請求項1記載のフィルムベース。
  7. 【請求項7】  帯電防止層が0.01〜1g/m2の
    被覆量を有する請求項1記載のフィルムベース。
  8. 【請求項8】  その少なくとも片側に接着されたハロ
    ゲン化銀エマルジョン層を有する請求項1記載のフィル
    ムベースからなることを特徴とする写真フィルム。
  9. 【請求項9】  エマルジョン層がフィルムベース上で
    帯電防止層と同じ側にある請求項8記載の写真フィルム
  10. 【請求項10】  エマルジョン層がフィルムベース上
    で帯電防止層と反対側にある請求項8記載の写真フィル
    ム。
  11. 【請求項11】  補助ゼラチン層が帯電防止層に接着
    される請求項10記載の写真フィルム。
  12. 【請求項12】  その少なくとも片側に接着されたハ
    ロゲン化銀エマルジョン層を有する請求項2記載のフィ
    ルムベースからなることを特徴とする写真フィルム。
  13. 【請求項13】  エマルジョン層がフィルムベース上
    で帯電防止層と同じ側にある請求項12記載の写真フィ
    ルム。
  14. 【請求項14】  エマルジョン層がフィルムベース上
    で帯電防止層と反対側にある請求項12記載の写真フィ
    ルム。
  15. 【請求項15】  補助ゼラチン層が帯電防止層に接着
    される請求項14記載の写真フィルム。
  16. 【請求項16】  その少なくとも片側に接着されたハ
    ロゲン化銀エマルジョン層を有する請求項3記載のフィ
    ルムベースからなることを特徴とする写真フィルム。
  17. 【請求項17】  エマルジョン層がフィルムベース上
    で帯電防止層と同じ側にある請求項16記載の写真フィ
    ルム。
  18. 【請求項18】  エマルジョン層がフィルムベース上
    で帯電防止層と反対側にある請求項16記載の写真フィ
    ルム。
  19. 【請求項19】  補助ゼラチン層が帯電防止層に接着
    される請求項18記載の写真フィルム。
  20. 【請求項20】  その少なくとも片側に接着されたハ
    ロゲン化銀エマルジョン層を有する請求項4記載のフィ
    ルムベースからなることを特徴とする写真フィルム。
  21. 【請求項21】  エマルジョン層が帯電防止層と同じ
    側にある請求項20載の写真フィルム。
  22. 【請求項22】  エマルジョン層がフィルムベースの
    帯電防止層と反対側にある請求項20記載の写真フィル
    ム。
  23. 【請求項23】  補助ゼラチン層が帯電防止層に接着
    される請求項22記載の写真フィルム。
  24. 【請求項24】  カルボキシル基を有するポリマーが
    スチレンスルホン酸ナトリウムとマレイン酸のコポリマ
    ーである請求項8記載のベースフィルム。
  25. 【請求項25】  帯電防止層が0.01〜1g/m2
    の被覆量を有する請求項8記載の写真フィルム。
  26. 【請求項26】  帯電防止層が、フィルムベースの片
    側または両側に被覆された少なくとも1つのハロゲン化
    銀エマルジョン層の下の下塗層である請求項8記載の写
    真材料。
JP3307604A 1990-11-22 1991-11-22 帯電防止フィルムベースおよび該帯電防止フィルムベースからなる写真材料 Pending JPH04274233A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
IT22156A90 1990-11-22
IT02215690A IT1251742B (it) 1990-11-22 1990-11-22 Supporti antistatici ed elementi fotografici comprendenti detti supporti antistatici.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04274233A true JPH04274233A (ja) 1992-09-30

Family

ID=11192343

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3307604A Pending JPH04274233A (ja) 1990-11-22 1991-11-22 帯電防止フィルムベースおよび該帯電防止フィルムベースからなる写真材料

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0486982A1 (ja)
JP (1) JPH04274233A (ja)
IT (1) IT1251742B (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
IT1255378B (it) * 1992-09-25 1995-10-31 Alberto Valsecchi Supporti antistatici e elementi fotografici comprendenti detti supporti antistatici
EP0655646A1 (en) * 1993-11-29 1995-05-31 Minnesota Mining And Manufacturing Company Radiographic material with improved antistatic properties
EP0704755A1 (en) * 1994-09-28 1996-04-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company Photographic elements comprising antistatic layers
EP0722116A1 (en) * 1995-01-12 1996-07-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Antistatic film bases and photographic elements comprising said antistatic film bases

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3206312A (en) * 1962-06-12 1965-09-14 Eastman Kodak Co Photographic film having antistatic agent therein
GB1066188A (en) * 1965-02-18 1967-04-19 Bexford Ltd Antistatic agents and their uses
US4459352A (en) * 1982-12-27 1984-07-10 Eastman Kodak Company Conductive coating composition and composite bases and elements containing same
GB8616186D0 (en) * 1986-07-02 1986-08-06 Ici Plc Electroconductive coating composition
EP0300376B1 (en) * 1987-07-20 1993-02-03 E.I. Du Pont De Nemours And Company Element having improved antistatic layer
JP2796824B2 (ja) * 1989-02-23 1998-09-10 コニカ株式会社 ピンホールの改良されたハロゲン化銀写真感光材料
DE69016366T2 (de) * 1989-11-29 1995-05-24 Konishiroku Photo Ind Verfahren zur Herstellung einer antistatischen Schicht.

Also Published As

Publication number Publication date
EP0486982A1 (en) 1992-05-27
IT1251742B (it) 1995-05-23
IT9022156A0 (it) 1990-11-22
IT9022156A1 (it) 1992-05-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4070189A (en) Silver halide element with an antistatic layer
US4225665A (en) Photographic element in which the antistatic layer is interlinked in the base
US4701403A (en) Two-layer process for applying antistatic compositions to polyester supports
EP0188264B1 (en) Improved antistatic backing layer for a silver halide element
JPH04501324A (ja) 帯電防止層及びバリヤー層からなる写真支持体材料
US5198499A (en) Cross-linked polymers from vinyl benzene sulfonate salts, ethylenic hydroxy monomers and hydroxyl containing binder polymers
GB1573875A (en) Silver halide photographic light-sensitive materials
US5914222A (en) Photographic element comprising antistatic layer
US3507678A (en) Process for the production of a matted photographic material
JPH1124205A (ja) 架橋した弾性艶消ビーズを含む画像形成要素用の裏打ち層
JPH04274233A (ja) 帯電防止フィルムベースおよび該帯電防止フィルムベースからなる写真材料
JPH02951A (ja) 帯電防止性の写真用ベースおよび感光性要素
US5604083A (en) Antistatic film bases and photographic elements comprising said antistatic film bases
US5484693A (en) Photographic elements comprising antistatic film bases
JPH07305032A (ja) 写真感光材料用ポリエステルフィルム上の下引き層用のコーティング組成物
US3057722A (en) Photographic stripping film
JPH06506304A (ja) 改善された特性を持つ静電防止ハレーション防止裏打ち層
JPH08319361A (ja) 帯電防止フィルム基材およびその帯電防止フィルム基材を含む写真成分
US3518087A (en) Gravure etch resist film
US2976147A (en) Photographic stripping film
US5326688A (en) Coating compositions for antistatic layers for photographic elements
US3585037A (en) Light sensitive element for preparing etching resist for gravure purposes
US3533793A (en) Process for preparing photographic elements
JPS62172343A (ja) ハロゲン化銀写真感光材料
US5238706A (en) Antistatic film bases and their process of manufacturing