JPH0362878A - 近赤外線吸収剤及びそれを用いた表示・記録材料 - Google Patents

近赤外線吸収剤及びそれを用いた表示・記録材料

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JPH0362878A
JPH0362878A JP1322761A JP32276189A JPH0362878A JP H0362878 A JPH0362878 A JP H0362878A JP 1322761 A JP1322761 A JP 1322761A JP 32276189 A JP32276189 A JP 32276189A JP H0362878 A JPH0362878 A JP H0362878A
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貴久 小口
Isao Nishizawa
西沢 功
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本願発明は情報記録、表示センサー、保護眼鏡などオプ
トエレクトロニクス関連に重要な役割を果す近赤外線吸
収剤及びそれを用いて作成される光記録媒体(光カード
を含む)、近赤外光の捕集、遮断に関するフィルター(
眼鏡を含む)、近赤外光を用いた液晶表示素子に関する
[従来の技術] フタロシアニン類を近赤外線吸収剤として利用すること
は特開昭60−209583.61−152769.6
1−154888.61−197280.61−246
091.62−39286号公報などにより広く知られ
ているが、フタロシアニン類は会合しやすいためにその
吸収能が充分でなかった。そのためにそれを用いた光記
録媒体においては、780〜830nmでの反射率が低
い、感度が不充分である、フィルターにおいては、吸収
スペクトルがブロードとなり光の選択透過能が悪い、液
晶表示素子においては、コントラストが悪いなどの欠点
を有していた。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、上述の欠点のない新規な近赤外線吸収
剤およびその製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、前記近赤外線吸収剤を用いて作製
されるオプトエレクトロニクス資材を提供することにあ
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、前項の課題を解決すべく鋭意検討の結果
、新規なフタロシアニン誘導体が、上述の目的に合う近
赤外線吸収剤であることを見出した。即ち本発明は、式
(I) 〔式(I)中、Y1、 Y2、Y3、Y4、Y5、Y6
、Y7およびY8は、各々独立に水素原子、炭素数1〜
15の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数4〜15の
直鎖、分岐または環状のアルコキシル基、炭素数4〜1
5の直鎖、分岐または環状のアルキルチオ基を表わし、
かつ、Y’とY2、Y3とY4、Y5とY6、およびY
7とY8の各組合わせにおいて、同時に水素原子、アル
キル基またはアルキルチオ基になること、および一方が
アルキル基で他方が水素原子である組合わせとなること
はない。他方、八1、A2、八3、A4、AI′、A6
. A’および八〇は各々独立に水素原子、ハロゲン原
子、ニトロ基、炭素数1〜10の直鎖、分岐または環状
のアルキル基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数
1〜10のアルケニル基、炭素数1〜10のアルキニル
基、炭素数1〜4の直鎖、分岐または炭素数6〜10の
環状のアルコキシル基、炭素数6〜20のアリールオキ
シ基、炭素数1〜10の直鎖、分岐または環状のアルキ
ルチオ基、炭素数6〜20のアリールチオ基、または、
A1とA2、A3とA4、A5と八〇、A7と八〇が連
結して環状となってもよい基を表わす。ただし、A1、
A2、A3、A4、A5、A6、八7およびA8のずへ
てが水素原子であり、かつ、YlとY2、Y3とY4、
Y5とY6、およびY7とY8の各組合わせにおいて、
一方が水素原子であり、他方がアルコキシル基である場
合、アルコキシル基は炭素数4〜9であり、かつ、分岐
または環状であるとする。
Metは2個の水素原子、2価の金属原子、3価または
4価の置換金属原子、またはオキシ金属を表わす。〕で
示される分子吸光係数200,000以上の近赤外線吸
収剤および、それを用いた光記録媒体、近赤外線吸収フ
ィルター、液晶表示素子、および光カードである。
前記式(I)で示される近赤外線吸収剤は700〜90
0nmにシャープな吸収を有し、分子吸光係数は高く、
半導体レーザーを用いる光記録媒体(光ディスク、光カ
ードなど)、近赤外線吸収フィルター(レーザー感応素
子、外界光遮光フィルター、保護眼鏡など)やレーザー
光書込みまたは透過型液晶表示材料、シャッターなどに
有効である。
以下、本発明の好ましい態様を詳述する。
式(I)中、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y
7およびY8はフタロシアニン分子間の会合を防止する
基であり、A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7
およびA8はY1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y
7およびY8がフタロシアニン環に対して垂直方向へ張
り出すのを補助する基である。そのため、Y1、 Y2
、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7およびYt′において
、炭素数が同一ならば、直鎖型より分岐型または環状型
の方が反則率および屈折率が高くなる傾向にある。
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7及びY8で
示されるアルコキシル基の具体例としては、n−ブチル
オキシ基、1so−ブチルオキシ基、tert−ブチル
オキシ基、5ec−ブチルオキシ基、n−ペンチルオキ
シ基、jso−ペンチルオキシ基、neo−ペンチルオ
キシ基、1−メチルブチルオキシ基、2−メチルブチル
オキシ基、n−へキシルオキシ基、2−エチルブチルオ
キシ基、3−メチルペンチルオキシ基、4−tert−
ブチルヘキシルオキシ基、1.2−ジメチルブロビルオ
キシ基、n−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、
n−ドデシルオキシ基などの基が挙げられるが、アルコ
キシル基の立体障害が大きく、フタロシアニン環の垂直
方向へ張り出しやすく、かつ、近赤外線吸収剤の単位重
量当たりの光の吸収量を大きくてきる基、また、光記録
媒体としたとき、感度向上に有効な基、さらにスピンコ
ード溶媒への溶解性向上に有効な基としては、特に好ま
しい置換基どして、1so−ブチルオキシ基、1so−
ペンチルオキシ基、1.2−ジメチルプロピルオキシ基
、2−エチルブチルオキシ基、l−エチルブチルオキシ
基、l−エチル−2−メチルプロピルオキシ基、1−i
so−プロピル−2−メチルプロピルオキシ基、2エチ
ルへキシルオキシ基、1−iso−プロピル−3−メチ
ルブチルオキシ基、3.3.5刊〜リメチルへキシルオ
キシ基、1−iso−ブチル−3−メチルブチルオキシ
基、シクロへキシルオキシ基、2−メチルシクロヘキシ
ルオキシ基、2,4−ジメチルシクロへキシルオキシ基
が挙げられる。
Y1、 Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7及びY8
で示されるアルキル基の具体例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、n−ブチル基、1so−ブチル基、te
rt−ブチル基、5ec−ブチル基、n−ペンチル基、
1so−ペンチル基、neo−ペンチル基、1−メチル
ブチル基、2−メチルブチル基、n−ヘキシル基、2−
エチルブチル基、3−メチルペンチル基、2.3−ジメ
チルブチル基、n−へブチル基、n−オクチル基、2−
エチルヘキシル基、n−ノニル基、2.5.5−1−ジ
メチルヘキシル基、n−デシル基、4−エチルオクチル
基、4−エチル45−ジメチルヘキシル基、n−ウンデ
シル基、n−ドデシル基、1、 3.5.7−チトラメ
チルオクチル基、4−ブチルオクチル基、6.6−ジメ
チルブチル基、n−トリデシル基、6−メチル−4−ブ
チルオクチル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシ
ル基などが挙げられる。
アルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチ
オ基、n−プロピルチオ基、1so−プロピルチオ基、
n−ブチルチオ基、1so−ブチルチオ基、tert−
ブチルチオ基、5ec−ブチルチオ基、n−ペンデルチ
オ基、1so−ペンチルチオ基、neo−ペンチルチオ
基、1.2−ジメチルプロピルチオ基、n−へキシルチ
オ基、1−エチル−2−メチルプロピルチオ基、2−エ
チルブチル基オ基、シクロへキシルチオ基、2−メチル
−1−4so−プロピルチオ基、n−へブチルチオ基、
2−メチルへキシルチオ基、1−エチルペンチルチオ基
、n−オクチルチオ基、2−エチルへキシルチオ基、3
−メチル−1−iso−プロピルブチルチオ基、n−ノ
ニルチオ基、3−メチル−1−4so−ブヂルブチルチ
オ基、3.5.5−トリメチルへキシルチオ基、4−t
ert−ブチルシクロへキシルチオ基などが挙げられる
A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7および八〇
で示されるアルキル基の例としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、1so−プロピル基、n−ブチル
基、1so−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペン
チル基、1so−ペンチル基、neo−ペンチル基、n
−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ペンチル基、1
.1−ジエチルプロピル基、n−オクチル基、n−ノニ
ル基、n−デシル基、クロロメチル基、ヒドロキシメチ
ル基、メトキシメチル基、メチルチオメチル基などが挙
げられるが、特に好ましくはメチル基、エチル基、1s
o−プロピル基、n−ブチル基、1so−ブチル基、t
ert−ブチル基が挙げられる。
アラルキル基としては、ベンジル基、tert−ブチル
ベンジル基、フェネチル基、4−シクロへキシルベンジ
ル基、ナフチルブチル基などが挙げられる。
アルケニル基としては、アリル基、クロチル基、メタリ
ル基などが挙げられ、アルキニル基の例としては、エチ
ニル基、プロピニル基、フェニルエチニル基などが挙げ
られる。
アルコキシル基の例としてはメトキシ基、エトキシ基、
n−プロポキシ基、1so−プロポキシ基、n−ブトキ
シ基、1so−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n
−ペントキシ基、1so−ペントキシ基、 ne。
ペントキシ基、n−へキシルオキシ基、1so−へキシ
ルオキシ基、neo−へキシルオキシ基、シクロヘキシ
ルオキシ基、ヘプチルオキシ基、n−オクチルオキシ基
、n−ノニルオキシ基、n−デシルオキシ基などが挙げ
られる。
アリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、4−t
ert−ブチルフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基な
どが挙げられる。
アルキルチオ基の例としては、メチルチオ基、エチルチ
オ基、n−プロピルチオ基、1so−プロピルチオ基、
n−ブチルチオ基、1so−ブチルチオ基、n−ペンチ
ルチオ基、1so−ペンチルチオ基、neo−ペンチル
チオ基などが挙げられる。
アリールチオ基の例としては、フェニルチオ基、4−t
ert−ブチルフェニルチオ基、ナフチルチオ基などが
挙げられる。
AIとA2、A3とA4、A5とA6、A7とA8が連
結した場合としては N=CH−CH=CH−、−0−CH2CH2−0−1
−3−CH2CH2−3−141(−C112CII2
−3− 、−N−CH2CH2−3−1CI(2CLC
H2CL−、−CH2Cl[、(CI3)3]CH2C
1(2−などが挙げられる。
ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げ
られる。
又、Metで表わされる2価金属の例としては、にu(
Il1、7n(II)、pefll1、にofll1、
Ni(+ 11Ru(+11、Rh(111、pd[1
11、pt(Il1、MnN1+Mg口り、H++11
、BeTl11、Ca(Il1、Ba(Illcd(I
l1、Hg(Il1、pbN++、S n I I I
 1など、1置換3価金属の例としては、Al−C1,
Al−Br、 AIF、Al−1,Ga−C1,Ga−
F、 Ga−1,Ga−Br、In−Cl。
In−Br、In−I、 In−F、 Tl−C1,T
l−Br、 Tl−1、TI−F、 AI−C,N5、
Al−C1184(CH+)、In−Ca)Is、Ir
rC8H4(CH3)、 In−C+oH7、Mn(O
H)、Mn(OC6H5)。
Mn[03i(CH+)+]、 FeC1,RuC1な
どが挙げられる。
2置換の4価金属の例としては、CrCh、5iCIz
、5iBrz、SiF2.5iTz、zrCh、GeC
I 2、GeBr2、Ge12、GeFz、5nCI2
.5nBrz、5n12.5nFz、TiCIz、Ti
Br2、TiFz、Si (014) 2、Ge (O
N) 2、Zr (DH) 2、Mn (014) 2
、Sn (0)1) 2、TiR2、CrR2,5iR
z、5nR2、GeR2[Rはアルキル基、フェニル基
、ナフチル基およびソノ誘導体を表わす]、5i(OR
’)2,5n(OR’)2、Ge(OR”)、、Ti(
OR’)2、Cr (OR’) 2 [R’はアルキル
基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、
ジアルキルアルコキシシリル基およびその誘導体を表わ
す] 、5n(SR”)2、Ge(SR”) 2 [R
”はアルキル基、フェニル基、ナフチル基およびその誘
導体を表わす]などが挙げられる。
オキシ金属の例としては、■0、Mn01TiOなどが
挙げられる。
以上のような基がY1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6
、Y7およびY8で示される基として好ましい理由とし
て、フタロシアニン環の面方向に対し直行する方向に立
体障害となりつるためであり、アルキル基の場合、1以
上、特に好ましくは4以上の炭素数、アルコキシル基の
場合、4以上の炭素数、特に好ましくは、分岐または環
状のアルコキシル基であり、アルキルチオ基の場合1以
上の炭素数である。他方、基の大きさの上限は、一定体
積中の発色基の存在が小さくなると単位体積当りの光の
吸収量が減少することより、アルキル基の場合は炭素数
15、より好ましくは10であり、アルコキシル基の場
合は15、より好ましくは9である。
また、A1、A2、A3、A4、A5、A6、A7およ
びA8はY1、Y2、Y3、Y4、Y5、Y6、Y7お
よびY8がフタロシアニン環に対して垂直方向へ張り出
すのを補助する基である。これらの場合も、単位体積当
りの光の吸収量を減少させることのない基の大きさとし
て、アルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アルコキシル基およびアルキルチオ基の場合、
直鎖であれば炭素数1〜4、分岐または環状であれば炭
素数4〜6のものが特に好ましい。アリールオキシ基の
場合、例えば、フェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、
4−tert−ブチルフェノキシ基などの炭素数6〜1
0のものが好ましい。アリールチオ基の場合、例えば、
フェニルチオ基、4−tert−ブチルフェニルチオ基
、ナフチルチオ基、2−メチルフェニルチオ基などの炭
素数6〜IOのアリールチオ基が好ましい。
本発明の近赤外線吸収剤の特徴は、Y1、Y2、Y3、
Y4、Y5、Y6、Y7およびY8で示されるフタロシ
アニンのα位置置換基に炭素数4〜15、より好ましく
は4〜9のアルコキシル基を導入することにより、その
立体障害を利用し、フタロシアニンの会合性を小さくす
ることに成功した点である。
式(I)で示される化合物の合成法としては、下式(1
1)または(III ) Nl+ Nl+ (It)          (m) [式(II)および(III )におけるベンゼン環は
、前述の(I)式にて述べたような置換基を有していて
よい。]で示される化合物の1〜4種を混合して、例え
ば1,8−ジアザビシクロ [5,4,0]−7−ウン
デセン(DBU)存在下、金属誘導体とアルコール中加
熱反応する、あるいは金属誘導体と高沸点溶媒中、例え
ばクロルナフタレン、ブロムナフタレン、トリクロルヘ
アゼン中で反応する方法が挙げられる。
本発明の近赤外線吸収剤を用いて光記録媒体を製造する
方法には、透明基板」二に近赤外線吸収剤を塗布或は蒸
着する方法があり、塗布法としては、バインダー樹脂2
0重量%以下、好ましくは0%と、近赤外線吸収剤0.
05重量%〜20重量%、好ましくは0.5重量%〜2
0重量%となるように溶媒に溶解し、スピンコーターで
塗布する方法などがある。また蒸着方法としては、10
−5〜1O−7torr、100〜300℃にて基板上
に近赤外線吸収剤を堆積させる方法などがある。
しかしながら、本発明の近赤外線吸収剤が従来のものと
異なった良好な性能を発現できる方法としては、スピン
コーターで塗布する方法やデイツプする方法であり、特
に本発明の近赤外線吸収剤のみを塗布するのが最良の方
法である。また、光記録媒体としては、基板上に本発明
の近赤外線吸収剤からなる記録層のみを設けたWORM
型、基板上に前記記録層を設け、さらにその上に金また
はアルミニウムからなる反剃層を設け、最後に樹脂でオ
ーバーコートしたCD−WORM型のいづれでも良い。
基板としては、光学的に透明な樹脂であればよ 0 い。例えばアクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、塩化ビニ
ール樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリカーボネート樹脂
、エチレン樹脂、ポリオレフィン共重合樹脂、塩化ビニ
ール共重合樹脂、塩化ビニリデン共重合樹脂、スチレン
共重合樹脂などが挙げられる。
また基板は熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂により
表面処理がなされていてもよい。
光記録媒体(光ディスク、光カード等)を作製する場合
、コストの面、ユーザーの取り扱い面より基板はポリア
クリレート基板またはポリカーボネート基板を用い、か
つ、スピンコード法により塗布されるのが好ましい。
基板の耐溶剤性よりスピンコードに用いる溶媒としては
、例えばハロゲン化炭化水素(例えば、ジクロロメタン
、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエチレン、
ジクロロジフロロエタンなど)、エーテル類(例えば、
テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなど)、ケトン
類(例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど)、ア
ルコール類(例えば、メタノール、エタノール、プロパ
ツールなど)、セロソルブ類(メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブなど)、炭化水素類(ヘキサン、シクロヘ
キサン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど
)が好適に用いられる。
また、フィルターを作製する時のコスト面、作業性より
、化合物の重要な性質としては、樹脂と混線が出来る削
熱性を有すること、ないしは樹脂基板を溶媒中より染色
出来ることが挙げられ、かつ、作製した成型物の光吸収
特性がシャープで、かつ高い吸収率を有する必要がある
式(I)およびその異性体を用いて近赤外線吸収フィル
ターを製造する方法は、樹脂と式(I)の近赤外線吸収
剤を混合し成型する、樹脂モノマーに式(I)の近赤外
線吸収剤を混ぜ注型重合する、樹脂成型物に式(I)の
近赤外線吸収剤を染色する、基板材料の表面に式(I)
の近赤外線吸収剤を塗布、蒸着する方法がある。
フィルター基材として用いる樹脂としては、透明であれ
ばよく、例えばポリスチレン、ポリメチルメタアクリレ
ート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレ
ンなとの熱可塑性樹脂、CR−39(PPG■、商品名
)、MR−3(三井東圧化学、商品名)、MR−6(三
井東圧化学、商品名)などの熱硬化性樹脂が好ましい。
又、表示材料として液晶と共に用いる場合、液晶への溶
解性が高い必要があり、かつ電界をか6プたり、熱をか
けて液晶の状態を変化させるに際して吸収剤がその変化
を妨げないことが必要である。
表示材料として混合して用いる液晶としてはネマヂック
液晶、スメタティック液晶、コレステリック液晶が挙げ
られ、表示方法の例としては、ゲストホスト型表示、液
晶パネル(液晶中に近赤外線吸収剤を入れてレーザー光
にて画面を書込む)などが挙げられる。
[実施例] 以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明
はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
3 実11肪上 下記構造式(II−1)で示されるフタロニトリル誘導
体906部と塩化第一銅79部と1.8−ジアザビシク
ロ [5,4,0]−7−ウンデセン608部とn−ア
ミルアルコール7500部よりなる混合物を5時間加熱
還流させた。次に反応溶液にメチルアルコールを加え結
晶を析出させ、吸引ろ過を行い、得られた結晶なカラム
精製(シリカゲル/トルエン)し、600部(収率60
%)の下記構造式(I−1)で示されるフタロシアニン
化合物を得た。(λmax ニア38nm/ヘキサン、
εmax:227,000 ) 4 元素分析 u l6H 3sNaoacla C)I     N      CI 計算値(%)  61.42 7.30 5.97 1
5.11実測値(%)  61.20 7.27 5.
93 15.09前記化合物(I−1)1部をn−オク
タン100部に溶解し、ポリカーボネート光デイスク基
板に塗布した。この様にして製作した光ディスクは反削
串29%、感度は8mW、780部m 、線速5.5m
/secにおいて50 dBであった。
また前記化合物(I−1)7部をシアノビフェニル系液
晶混合物1000部と混合し、液晶パネルとした。この
パネルにレーザー光で画像を書いたところ鮮明な像がで
きた。
犬施員ユ 構造式(Ir−1)で示されるフタロニトリル誘導体3
20部とアセチルアセトンバナジウム75部とDBU2
14部とn−アミルアルコール2700部よりなる混合
物を10時間加熱還流させた。溶媒留去後、残渣をカラ
ム精製(トルエン)し、37部(収率11%)の下記構
造式(I−2)で示されるフタロシアニン化合物を得た
。(λmax : 762部m/ヘキサン、εmax:
220.ODD ) (I−2) 元素分析   V  Cge)I+5aNaO++CI
aCHN      C1 計算値(%)  61.31 7.29 5.96 1
5.08実測値(%)  61.27 7,25 5.
90 15.06前記式(I−2)で示されるフタロシ
アニン15部をn−オクタン1000部に溶解し、ポリ
カーボネート光デイスク基板に塗布し光ディスクを製作
した。この光ディスクの反射率は27%であり、感度は
8mW、780部m 、線速5.5m/secにおいて
50 dBのC/N比を得た。
式(I−2)の化合物1部を下記一般式を有する液晶混
合物100部に溶解し作製した液晶パネルにレーザー光
による書き込みで鮮明な画像が得られた。
実過d性旦 下記構造式(II −2)で示されるフタロニトリル誘
導体368部と90%塩化第一銅44部とDBU304
部とn−アミルアルコール3100部よりなる混合物 を5.5時間加熱還流させた。次に反応液をメチルアル
コール3200部に排出し吸引ろ通接、得られた結晶を
カラム精製(シリカゲル/ヘキサン:トルエン=1 :
 1) t、、 220部(収率57%)の下記構造式
(I−3)で示されるフタロシアニン化合物を得た。
(λmax : 778部m/ヘキサン、εmax・2
34,000 )元素分析 (1−3) Cu  C72HaaNaOaCIs 実測値(%)  56.02 5.80 7.24 1
8.34前記化合物(I−3)1部をジブチルエーテル
100部に溶解し、ポリカーボネート光デイスク基板に
塗布した。このようにして作製した光ディスクは反則率
39%、感度(8mW、780部m、線速5,5m/s
ea ) 51dBであった。
また前記化合物(I−3)7部をシアノビフェニル系液
晶混合物1000部と混合し、液晶パネルとした。この
パネルにレーザー光で画像を書いたところ鮮明な像がで
きた。
前記化合物(I−3)1部をn−オクタン100部に溶
解し、ポリカーボネート光カード基板に塗布し、その上
より樹脂をオーバーコートすることにより光カードを作
製した。この光カードは反射率39%、感度(8mW、
780部m、線速2.8m/5ec) 50dBであっ
た。このカードの削久性は良好であった。
前記化合物(I−3)4部をポリスチレン樹脂1000
部と加熱混合し、板状に成形した。このようにして作製
したフィルターは、 750〜850nmの光を良く吸
収した。
比較例1〜3 以上の実施例によって得られた化合物の溶液状態におけ
る最大吸収波長(んmax )およびその波長における
分子吸光係数(8)、溶解性、最大反射率、および感度
について、比較例1〜3の公知化合物との比較を表−1
に示す。
比較例1 特開昭61−152769  例示化合物4オクタンに
不溶のため、 クロロホルム にて2P基板に塗布して媒体としての評価をした。
比較例2 特開昭60−209583実施例−1 オクタンに不溶のため、 クロロホルム て2P基板に塗布して媒体として評価した。
比較例3 特開昭61 97280 例示化合物10 デカ (OC5H+ +)−)12Pc四塩化炭素溶液
にて2P基板に塗布して媒体として評価した。
各測定項目の測定方法および測定結果の表示は下記に依
った。
l 最大吸収波長(λmax )とその波長でのモル吸
光係数(ε) n−ヘキサンまたはクロロホルム中、5mg/42の濃
度で測定した。
2、溶解性 n−ヘキサンに5g、1以上溶解(○)、n−ヘキサン
に5g71未満、四塩化炭素に5g、#2以上溶解(△
)、四塩化炭素に5g/42未満の溶解(×)3、最大
反射率 jl−ヘキサン5g#2溶液よりスピンコーターヲ用い
てポリカーボネート基板に塗布し、 780nmの光を
照射した時の値 4、感度 半導体レーザー780nm、8mWにて線速5.5+n
/secで書き込んだ時、C/N比  2 40 dB以上(○) 40〜30dB(△) 30 dB未満(×) 表 実E1肪乙 下記構造式(II −3)で示されるフタロニトリル誘
導体4.11部 (II−3) と塩化第一銅0,44部、DBU3.04部とn−アミ
ルアルコール37.5部よりなる混合物を5時間加熱還
流させた。反応混合物をメチルアルコール400部中に
排出し、結晶を析出させ、吸引ろ過を行い、得られた結
晶なカラム精製(シリカゲル/ヘキサン:トルエン−5
:2)することにより、2.50部(収率59%)の下
記構造式(I−4)で示されるフタロシアニン化合物お
よびその異性体を得た。
(λmax : 742nm /ヘキサン、εmax 
:2.3X 105)(I−4) 元素分析 u C84H□2NoC1oOa 実測値(%)  58.98 6,63 6.54 1
6.55次に得られたフタロシアニン誘導体(I−4)
5部をポリスチレン樹脂1000部と加熱混合し、板状
に成型した。このようにして作製したフィルターは75
0〜850nmの光をよく吸収した。
またフタロシアニン誘導体(I−4)1部を下記一般式
を有する液晶混合物100部に溶解し、液晶パネルを作
製し、レーザー光による書き込みを5 行ったところ、 鮮明な画像が得られた。
下記構造式(ll−4)で示されるフタロニトリル誘導
体4.26部 と塩化第一銅0.53部、DBU3.65部とn−アミ
ルアルコール45.0部よりなる混合物を6時間加熱還
流させた。反応混合物をメチルアルコール500部中に
排出し、結晶を析出させ、吸引ろ過を行い、得られた結
晶なカラム精製(シリカゲル/ヘキサン:トルエン−5
=3)することにより、2.50部(収率56%)の下
記構造式(I−5)で示される 6 フタロシアニン化合物およびその異性体を得た。
(λmax + 739部m /ヘキサン、t max
 :2.5X 105)元素分析 u CaaHaoNaCIaOa 実測値(%)  54.98 5,44 7.53 1
9.07次に得られたフタロシアニン誘導体(I−5)
4部をポリスチレン樹脂1000部と加熱混合し、板状
に成型した。このようにして作製したフィルターは75
0〜850nmの光をよく吸収した。
またフタロシアニン誘導体(I−5)7部をシアノビフ
ェニル液晶混合物1000部に溶解し、液晶パネルを作
製し、レーザー光による書き込みを行ったところ、鮮明
な画像が得られた。
X施明旦 下記構造式(II −5)で示されるフタロニトリル誘
導体4.43部 と塩化第一銅0.53部、DBU3.65部とn−アミ
ルアルコール45.0部よりなる混合物を6時間加熱還
流させた。反応混合物をメチルアルコール500部中に
排出し、結晶を析出させ、吸引ろ過を行い、得られた結
晶なカラム精製(シリカゲル/ヘキサン:トルエン=5
:2)することにより、2.45部(収率53%)の下
記構造式(I−6)で示されるフタロシアニン化合物お
よびその異性体を得た。
(λmax+ 739部m /ヘキサン、2 max 
:2.42 X 105)元素分析 Cu (I−6) C80H104N8C111011 C11N     CI 計算値(%)  58.13 6,34 6.78 1
7.16実測値(%)  58.90 6.26 6.
83 17.30次に得られたフタロシアニン誘導体(
I−6)5部をポリスチレン樹脂1000部と加熱混合
し、板状に成型した。このようにして作製したフィルタ
ーは750〜850nmの光をよく吸収した。
またフタロシアニン誘導体(I−6)8部をシアノビフ
ェニル液晶混合物l000部に溶解し、液晶 9 パネルを作製し、レーザー光による書き込みを行ったと
ころ、鮮明な画像が得られた。
大施廻l 下記構造式(TI−6)で示されるフタロニトリル誘導
体406部 と塩化第一銅0.53部、DBU3.65部とn−アミ
ルアルコール45.0部よりなる混合物を7時間加熱還
流させた。反応混合物をメチルアルコール500部中に
排出し、結晶を析出させ、吸引ろ過を行い、得られた結
晶をカラム精製(シリカゲル/ヘキサン:トルエン=5
:2)することにより、2.63部(収率55%)の下
記構造式(I−7)で示されるフタロシアニン化合物お
よびその異性体を得た。
(λmax: 739部m /ヘキサン、emax :
2.4X 105) 0 (I−7) 元素分析 Cu C761(9aNaclaOa 実測値(%)  57.15 6.09 7.00 1
7.73次に得られたフタロシアニン誘導体(I−7)
5部をポリスチレン樹脂1000部と加熱混合し、板状
に成型した。このようにして作製したフィルターは75
0〜850nmの光をよく吸収した。
またフタロシアニン誘導体(I−7)8部をシアノビフ
ェニル液晶混合物1000部に溶解し、液晶1 パネルを作製し、レーザー光による書き込みを行ったと
ころ、鮮明な画像が得られた。
X旌男旦 下記構造式(JT −7)で示されるフタロニトリル誘
導体4.26部 と塩化第一銅0,53部、DBU3.65部とn−アミ
ルアルコール45.0部よりなる混合物を7時間加熱還
流させた。反応混合物をメチルアルコール500部中に
排出し、結晶を析出させ、吸引ろ過を行い、得られた結
晶をカラム精製(シリカゲル/ヘキサン゛トルエン−5
:2)することにより、2.1部部(収率57%)の下
記構造式(I−8)で示されるフタロシアニン化合物お
よびその異性体を得た。
(λmax: 742部m /ヘキサン、emax :
2.23 XIO5)元素分析 (I−8) Cu  CaaHaoNaCIaOa 実測値(%)  54.97 5,45 7.52 1
9.08次に得られたフタロシアニン誘導体(I−8)
4部をポリスチレン樹脂1000部と加熱混合し、板状
に成型した。このようにして作製したフィルターは75
0〜850nmの光をよく吸収した。
またフタロシアニン誘導体(I−8)7部をシアノビフ
ェニル液晶混合物1000部に溶解し、液晶 3 パネルを作製し、レーザー光による書き込みを行ったと
ころ、鮮明な画像が得られた。
更にフタロシアニン誘導体(L−8)  ]部をジブチ
ルエーテル100部に溶解し、ポリカーボネート光カー
ド基板上に塗布し、記録層面を樹脂でオーバーコートし
て光カードを作製した。このカードは、反則率35%、
感度は780部m、 8mW線速2、8m/secでC
/N比50dBであった。また、耐久性も良好であった
X施貝旦 5ICI443部とキノリン3000部よりなる混合物
を200°Cに加熱した。これに下記構造式(III−
1)で示されるジイミノイソインドリン誘導体386部
を加え、5時間加熱還流させた。この反応液をメチルア
ルコール3500部に排出し、吸引ろ通接、得 4 られた結晶をメタノール洗浄し、その後、乾燥し157
部(収率40%)の下記構造式(I−95で示されるフ
タロシアニン化合物を得た。
(λmax: 740部m /ヘキサン、εmax :
2.4X 105)元素分析 1 C72HaaNaOaCI+。
C)I     N     CI 計算値(%)  54.8?  5.63 7.11 
22.49実測値(%)  54,69 5,59 7
.09 22.36前記化合物(I−9)1部をジブチ
ルエーテル100部に溶解し、ポリカーボネート光デイ
スク基板上に塗布した。このようにして作製した光ディ
スクは、反射率36%、感度は(780部m、8mW、
線速5、5m/5ec)でC/N比51dBであった。
また前記化合物(I−9)7部をシアノビフェニル液晶
混合物1000部に溶解し、液晶パネルを作製し、レー
ザー光による書き込みを行ったところ、鮮明な画像が得
られた。
更に前記化合物(I−9)1部をジブチルエーテル10
0部に溶解し、ポリカーボネート光カード基板上に塗布
し、記録層面を樹脂でオーバーコートして光カードを作
製した。このカードは、反射率36%、感度は780部
m、 8mW、線速2.8m/secでC/N比51d
Bであった。
前記化合物(I−9)4部をポリスチレン樹脂1000
部と加熱混合し、板状に成型した。このようにして作製
したフィルターは750〜850nmの光をよく吸収し
た。
K凰鮭旦二M 下記一般式(II)で示されるフタロニトリル(表−2
)または下式(m)で示されるジイミノイソインドリン
(表−3)の1〜4種と金属誘導体類と反応することに
より、表−4に示すフタロシアニンを合成した。これら
の化合物は大きな分子吸光係数を有し、かつ、光記録媒
体としたときの反射率、感度、耐久性も良好であった。
 7 実迦■引仙 下記構造式(TI−33)で示されるフタロニトリル誘
導体240部と塩化第一銅18部とD B U 122
部とn−アミルアルコール1500部よりなる混合物を
5.5時間加熱還流させた。次に反応溶液にメチルアル
コールを加え結晶を析出させ、吸引ろ過を行い、得られ
た結晶をカラム精製(ヘキサン:ベンゼン=1 : 1
)L、140部(収率60%)の下記構造式(I−45
)で示されるフタロシアニン化合物を得た。
(λmax: 778部m /ヘキサン、εmax :
2.8x 105)] (I−45) 元素分析 Cu  C+4J+7eNaOaSa 実測値(%)  70.08 7.13 4.52 1
0.36前記式(I−45)で示されるフタロシアニン
化合物1部をn−オクタン100部に溶解し、ポリカー
ボネート光カード基板に塗布し、その上より樹脂をオー
バーコートすることにより、光カードを作製した。この
カードは反射率33%で、感度は830部m 、 8m
W、線速2.8m/seaでC/N比50 dBで2 あった。このカードの削欠性は良好であった。
式(I−45)の化合物4部をボリスヂレン(Δ1脂1
000部と加熱混合し、板状に成型した。この様にして
作製したフィルターは750〜850nm光をよく吸収
した。
K敷園赴 構造式(II−33)で示されるフタロニトリル誘導体
120部とアセチルアセトンバナジウム22部とDBU
6]部とn−アミルアルコール750部よりなる混合物
を12時間加熱還流させた。溶媒留去後、残渣をカラム
精製(トルエン)し、19部(収率15%)の下記構造
式(1−46)で示されるフタロシアニン化合物を得た
(んmax: 809部m /ヘキサン、εmax :
2.4X In5)(I 46) 元素分析 ■ Cl44)11?6N809Sll 実測値(%) 69.96 4 0 10.36 実迦LIL灯 下記構造式 %式%) で示されるフタロニトリ ル誘導体 280部と塩化第一銅18部とDBU 122部 とn−アミルアルコール1500部よりなる混合物を5
5時間加熱還流させた。次に反応溶液にメチルアルコー
ルを加え結晶を析出させ、吸引ろ過を行い、得られた結
晶をカラム精製(トルエン)し、190部(収率66%
)の下記構造式(I−47)で示されるフタロシアニン
化合物を得た。
(んmax: 787部m/クロロホルム、gmax 
:2.37 x105) (I−47) 元素分析   Cu  Cl768I!12Nl108
sIlCI(NS 計算値(%)  73,72 6.75 3,91 8
.95実測値(%)  73.66 6.72 3,8
8 8.91実七4狙仙 構造式(TI−34)で示されるフタロニトリル誘導体
140部とアセチルアセトンバナジウム22部とDBU
61部とn−アミルアルコール750部よりなる混合物
を12時間加熱還流させた。溶媒留去後、残渣をカラム
精製(トルエン)し、35部(収率25%)の下記構造
式(1−48)で示されるフタロシアニン化合物を得た
(λmax : 815部m/ヘキサン、gmax +
2.4X105)(T−48) 元素分析 V  C+7all+9JaOsSa 計算値(%) 実測値(%) CII      N      S 73.63  6,74  3.90   B、937
3.58  6.7]   3.86  8.87失迦
I引銭 下記構造式(It−35)で示されるフクロニトリル誘
導体413部と90%塩化第一銅22部とDBU244
部とn−アミルアルコール2500部よりなる混合b を5時間加熱還流させた。反応液をメチルアルコール2
400部中に排出し、結晶を析出させ、吸尽ろ過を行い
、得られた結晶なカラム精製(シリカゲル/ヘキサン:
トルエン=1 : 1)することにより、260部(収
率61%)の下記構造式(工49)で示されるフタロシ
アニン化合物を得た。
(んmax: 778部m /ヘキサン、2 max 
:2.5x 105)I−491 元素分析   Cu  C+zoH+zaNsOaSa
CII      N       S計算値(%) 
 67.65 6,06 5.26 12.04実測値
(%)  67.59 6.07 5.22 12.0
0前記式(I−49)で示されるフタロシアニン化合物
1部をジブチルエーテル100部に溶解し、ポリカーボ
ネート光デイスク基板に塗布した。このようにして作製
した光ディスクは反射率40%、感度(830部m 、
 8mW、線速5.5m/5ec) 51dBであった
また前記化合物(I−49)7部をシアノビフェニル液
晶混合物1000部に溶解し、液晶パネルを作製し、レ
ーザー光による書き込みを行ったところ、鮮明な画像が
得られた。
前記式(I−49)で示されるフタロシアニン化合物1
部をジブチルエーテル100部に溶解し、ポリカーボネ
ート光カード基板に塗布し、その上より樹脂をオーバー
コートすることにより、光カドを作製した。このカード
は反射率40%で、感度は830部m 、 8mW、線
速2.8m/secでC/N比50 dB 9 であった。このカードの耐久性は良好であった。
式(I−49)の化合物4部をポリスチレン樹脂100
0部と加熱混合し、板状に成型した。この様にして作製
したフィルターは750〜850nm光をよく吸収した
罠1皿堕 構造式(TI−36)で示されるフタロニトリル誘導体
464部と90%塩化第一銅40部とDBU247部と
n−アミルアルコール2800部よりなる混合物を6時
間加熱還流させた。反応液をメチルアルコール3160
部中に排出し、結晶を析出させ、吸尽ろ過を行い、得ら
れた結晶なカラム精製(シリカゲル/ヘキサン:トルエ
ン−1:1)することにより、350部(収率73%)
の下記構造式(■50)で示されるフタロシアニン化合
物を得た。
(λmax: 778部m /ヘキサン、εmax :
2.6X]05) 0 (I−50) 元素分析 Cu C+2oH 2aNsoasa CII      N       S計算値(%) 
 67.65 6.06 5.26 12.04実測値
(%)  67.58 6,08 5.25 12.0
2前記式(I−50)で示されるフタロシアニン化合物
1部をジブチルエーテル100部に溶解し、ポリカーボ
ネート光デイスク基板に塗布した。このようにして作製
した光ディスクは反射率41%、感度(830部m 、
 8mW、 m速5.5m/5ec) 50dBであっ
た。
1 また前記化合物(I−50)7部をシアノビフェニル液
晶混合物1000部に溶解し、液晶パネルを作製し、レ
ーザー光による書き込みを行ったところ、鮮明な画像が
得られた。
前記式(I−50)で示されるフタロシアニン化合物1
部をジブデルエーテル100部に溶解し、ポリカーボネ
ート光カード基板に塗布し、その上より樹脂をオーバー
コートすることにより、光カードを作製した。このカー
ドは反射率41%で、感度は830部m 、 8mW、
線速2.8m/secでC/N比50 dBであった。
このカードの耐久性は良好であった。
式(I−50)の化合物4部をポリスチレン樹脂100
0部と加熱混合し、板状に成型した。この様にして作製
したフィルターは750〜850nm光をよく吸収した
罠凰園旦 下記構造式(n−37)で示されるフタロニトリル誘導
体377部と90%塩化第一銅27部とDBU182部
とn−アミルアルコール1900部よりなる混合物 を6時間加熱還流させた。反応液をメチルアルコール3
200部中に排出し、結晶を析出させ、吸尽ろ過を行い
、得られた結晶なカラム精製(シリカゲル/ヘキサン:
トルエン−181)することにより、270部(収率7
0%)の下記構造式(■51)で示されるフタロシアニ
ン化合物を得た。
(λmax: 778部m /ヘキサン、εmax :
2.82 X 105) 3 (I 51) 元素分析 u C+a2H+eJaOgSa 実測値(%)  70.5+  7.47 4.36 
9.90前記式(I−51)で示されるフタロシアニン
化合物1部をジブチルエーテル100部に溶解し、ポリ
カーボネート光デイスク基板に塗布した。このようにし
て作製した光ディスクは反射率34%、感 4 度(830部m 、 8mW、線速5.5m/5ee)
 51dBであった。
また前記化合物(I−51)7部をシアノビフェニル液
晶混合物1000部に溶解し、液晶パネルを作製し、レ
ーザー光による書き込みを行ったところ、鮮明な画像が
得られた。
前記式(I−51)で示されるフタロシアニン化合物1
部をジブチルエーテル100部に溶解し、ポリカーボネ
ート光カード基板に塗布し、その上より樹脂をオーバー
コートすることにより、光カードを作製した。このカー
ドは反射率34%で、感度ば830部m 、 8mW、
線速2.8m/secでC/N比50 dBてあった。
このカードの耐久性は良好であった。
式(I−51)の化合物4部をポリスチレン樹脂100
0部と加熱混合し、板状に成型した。この様にして作製
したフィルターは750〜850nm光をよく吸収した
X凰剋M 構造式(IT−38)で示されるフタロニトリル誘導体
377部と90%塩化第一銅27部とDBU182部と
n−アミルアルコール1900部よりなる混合物を6時
間加熱還流させた。反応液をメチルアルコール3200
部中に排出し、結晶を析出させ、吸尽ろ過を行い、得ら
れた結晶なカラム精製(シリカゲル/ヘキサン、トルエ
ン=1 : 1)することにより、290部(収率75
%)の下記構造式(1−52)で示されるフタロシアニ
ン化合物を得た。
(λmax+ 778部m /ヘキサン、t max 
:2.66 X 105)(I−52) 元素分析 u CI5□14 92N80QS8 実測値(%)  70,59 7.48 4.33 9
.89前記式(1−52)で示されるフタロシアニン化
合物1部をジブチルエーテル100部に溶解し、ポリカ
ーボネート光デイスク基板に塗布した。このようにして
作製した光ディスクは反射率34%、感度(830部m
 、8mW、線速5.5m/5ec) 52dBであつ
 7 た。
また前記化合物(I−52)7部をシアノビフェニル液
晶混合物1000部に溶解し、液晶パネルを作製し、レ
ーザー光による書き込みを行ったところ、鮮明な画像が
得られた。
前記式(1−52)で示されるフタロシアニン化合物1
部をジブチルエーテル100部に溶解し、ポリカーボネ
ート光カード基板に塗布し、その上より樹脂をオーバー
コートすることにより、光カードを作製した。このカー
ドは反射率34%で、感度は830部m 、 8mW、
線速2.8m/secでC/N比50 dBであった。
このカードの耐久性は良好であった。
式(I−52)の化合物4部をポリスチレン樹脂100
0部と加熱混合し、板状に成型した。この様にして作製
したフィルターは750〜850nm光をよく吸収した
K嵐艶嬰 5IC1443部とキノリン3000部よりなる混合物
を200°Cに加熱した。これに下記構造式(IT−7
) 8 で示されるジイミノイソインドリン誘導体533部を加
え、5時間加熱還流させた。この反応液をメチルアルコ
ール3500部に排出し、吸引ろ通抜、得られた結晶を
メタノール洗浄し、その後、乾燥し195部(収率36
%)の下記構造式(I−53)で示されるフタロシアニ
ン化合物を得た。
(んmax: 780部m /ベキサン、εmax :
2.48 X IQ5)元素分析  Si C+aol
(+2aNaOaSaC12C)I     N   
  CI     S計算値(%)  66.57 5
.92 5.18 3.28 11.84実測値(%)
  66.46 5.95 5.14 3.22 11
.79前記化合物(I−53)1部をジブチルエーテル
100部に溶解し、ポリカーボネート光デイスク基板上
に塗布した。このようにして作製した光ディスクは、反
射率33%、感度は(780部m、8mW、線速5、5
m/5ec)でC/N比50dBであった。
また前記化合物(I−53)7部をシアノビフェニル液
晶混合物1000部に溶解し、液晶パネルを作製し、レ
ーザー光による書き込みを行ったところ、鮮明な画像が
得られた。
更に前記化合物(I−53)1部をジブチルエーテル1
00部に溶解し、ポリカーボネート光カード基板上に塗
布し、記録層面を樹脂でオーバーコートして光カードを
作製した。このカードは、反射率33%、感度は780
部m、 8mW、線速2.8m/secでC/N比50
dBであった。
前記化合物(I−53)4部をポリスチレン樹脂100
0部と加熱混合し、板状に成型した。このよ−うにして
作製したフィルターは750〜850nmの光をよく吸
収した。
X凰鮭U二工 下記一般式(II)で示されるフタロニトリル(表−5
)または下式(III )で示されるジイミノイソイン
ドリン(表−6)の1〜4種と金属誘導体類と反応する
ことにより、表−7に示すフタロシアニンを合成した。
これらの化合物は大きな分子吸光係数を有し、かつ、光
記録媒体としたときの反射率、感度、ml久性も良好で
あった。
叉迦I引刊 下記構造式(II−69)で示されるフタロニトル誘導
体IO部とPdC1□2部とDBU4部とn−アルアル
コール200部よりなる混合物 す を加熱還流させた。反応液を水中に排出し、析出したタ
ール物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、2部
の下記構造式(1−98)で示されるフタロシアニン化
合物を得た。
(λmax: 692部m /ヘキサン、εmax :
2.5X 105)(■ 98)  6 元素分析   Pd  C,、I1、□N、Oイ実測値
(%)  67.00 6.75 10.42前記式(
I−98)で示されるフタロシアニン化合物1部をメチ
ルシクロヘキサン100部に溶解した溶液を、ポリカー
ボネート基板に塗布した。続いて、金をスパッターし、
Uv硬化樹脂を塗布硬化してCD−WORM型光記録媒
体を作製した。
このCD−WORM型光記録媒体は、反射率72%、感
度(8mW、線速2.5m/5ec) 52dBであっ
た。
また、化合物(I−98)をポリカーボネート上に塗布
して作製した膜は、屈折率2.78(at 720部m
)2.05(at 780部m)、 1.95(at 
830部m)と高い屈折率を示した。
実逓I引時 下記構造式(H−70)で示されるフタロニトリル誘導
体10部とPdCl□2部とDBU4部とn−アミルア
ルコール200部よりなる混合物 7 を加熱還流させた。反応液を水中に排出し、析出したタ
ール物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、2.
5部の下記構造式(I−99)で示されるフタロシアニ
ン化合物を得た。
(んmax: 686部m /ヘキサン、i max 
:2.5x 105)(工 99) 元素分析   Pd  C6□Hs6NaO4実測値(
%)  64,90 5.80 11.60前記式(I
−99)で示されるフタロシアニン化合物1部をメチル
シクロヘキサン100部に溶解した溶液を、ポリカーボ
ネート基板に塗布した。その上よりアクリル系UV硬化
樹脂を塗布硬化して光カードを作製した。
この光カードは、反射率28%、感度(780部m8m
W、線速1.8m/5ea) 50dBであった。
また、化合物(I−99)をポリカーボネート上に塗布
して作製した膜は、屈折率2.37(at 720部m
)2.01(at 780部m)、 1.89(at 
830部m)と高い屈折率を示した。
失蓬」[ユ昶 実施例99と同様にして、下記構造式(TI−71)を
反応させて、 下記構造式(I− 100) を得た。
(I−100) (λmax: 720部m /ヘキサン、emax :
2.01 Xl05)この化合物(I−100)をポリ
カーボネート上に形成した薄膜た膜は、屈折率1.96
(at 780部m)1.86(at 830部m)と
高い屈折率を示した。
また、化合物(I−100)4部をPMMA樹脂100
0部と加熱溶融し、厚さ200IIInに延伸してフィ
ルムを作製した。このフィルムは近赤外光700〜83
0nmの光を良く吸収した。
X擁立1財 下記構造式(TI−72)で示されるフタロニトリル誘
導体10部とNIC122部とDBtJ4部とn−アミ
 0 ルアルコール 200部よりなる混合物 を加熱還流させた。反応液を水中に排出し、析出したタ
ール物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、2部
の下記構造式(I−101)で示されるフタロシアニン
化合物を得た。
(λmax: 690部m /ヘキサン、t max 
:2.4X 105)NO。
O2 元素分析 1 C6oHaaN+20 59.66 1 計算値(%) 実測値(%) 0 1 3 5 13.92 4 2 前記式(I−101)で示されるフタロシアニン化合物
1部をメチルシクロヘキサン100部に溶解した溶液を
、ポリカーボネート基板に塗布した。
続いて、金をスパッターし、Uv硬化樹脂を塗布硬化し
てCD−WORM型光記録媒体を作製した。
このCD−WORM型光記録媒体は、反則率71%、感
度(7mW、線速1.5m/5ec) 52dBであっ
た。
また、化合物(I−101)をポリカーボネート上に塗
布して作製した膜は、屈折率2.65(at 718部
m) 、 2.08(at 780部m)、  1.9
4(at 830部m)と高い屈折率を示した。
寒施北」婬 下記構造式(TI−73)で示されるフタロニトリル誘
導体10部とPdel□2部とDBU4部とn−アミル
アルコール200部よりなる混合物 を加熱還流させた。反応液を水中に排出し、析出したタ
ール物をカラムクロマトグラフィーにより精製し、2.
5部の下記構造式(■ れるフタロシアニン化合物を得た。
(んmax: 688部m /ヘキサン、gmax1r 02 ) で示さ 4×105) じr 元素分析 d C5J5JaO<Br< C)IN 計算値(%)  64.90 5.50 11.60実
測値(%)  65.10 5.46 11.68前記
式(J−102)で示されるフタロシアニン化合物1部
をメチルシクロヘキサン100部に溶解した溶液を、ポ
リカーボネート基板に塗布した。
その上よりアクリル系UV硬化樹脂を塗布硬化して光カ
ードを作製した。
この光カードは、反則率32%、感度(780nm8m
W、線速1.8m/5ea) 50dBであった。
また、化合物(I−102)をポリカーボネート上に塗
布して作製した膜は、屈折率2.40(at 720部
m) 、 2.02(at 78[]nm)、  18
8(at 830部m)と高い屈折率を示した。
X巖園ユ匣 前記式(I−99)のフタロシアニン1o部を酢酸20
0部に加え、発煙硝酸(d=1.68) 3部を滴下し
た。室温下で1時間、50℃で2時間反応して下記構造
式で表わされるフタロシアニン部を得た。
(I−103) (λmax: 682部m /ヘキサン、εmax :
2.03 X 105)前記式(I−103)で示され
るフタロシアニン 4 化合物1部をメチルシクロヘキサン100部に溶解した
溶液を、ポリカーボネート基板に塗布した。
その上よりアクリル系UV硬化樹脂を塗布硬化して光カ
ードを作製した。
この光カードは、反射率28%、感度(780部m8m
W、線速1.8m/5ec) 50dBであった。
また、化合物(I−103)をポリカーボネート上に塗
布して作製した膜は、屈折率2.47(at 720部
m) 、 2.22(at 780部m)、 1.89
(at 830部m)と高い屈折率を示した。
裏校週1 (特開昭62−39286号、例XIX)下記構造式(
A) (A) 5 で示される化合物1部をセロソルブ100部に溶解し、
ポリカーボネート基板上に塗布した。続いて、金をスパ
ッターし、UV硬化樹脂を塗布硬化し、CD−WORM
用媒体用件体した。
この媒体の反射率は、50%、C/N比30dB/8m
W/780nm/ 2.5m−5ec−’であった。
また、この化合物の薄膜の屈折率は1.70(at78
0nm)であった。
嵐校泗亙 (特開昭62−39286号、例■) 下記構造式(B) (B) て示される化合物4部をPMMA樹脂1000部と加熱
溶融し、厚さ2圓μmに延伸してフィルムを作製したと
ころ、 化合物が熱分解していることが確認 された。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式( I )中、Y^1、Y^2、Y^3、Y^4、Y
    ^5、Y^6、Y^7およびY^8は、各々独立に水素
    原子、炭素数1〜15の直鎖または分岐のアルキル基、
    炭素数4〜15の直鎖、分岐または環状のアルコキシル
    基、炭素数4〜15の直鎖、分岐または環状のアルキル
    チオ基を表わし、かつ、Y^1とY^2、Y^3とY^
    4、Y^5とY^6、およびY^7とY^8の各組合わ
    せにおいて、同時に水素原子、アルキル基またはアルキ
    ルチオ基になること、および一方がアルキル基で他方が
    水素原子である組合わせとなることはない。他方、A^
    1、A^2、A^3、A^4、A^5、A^6、A^7
    およびA^8は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、ニ
    トロ基、炭素数1〜10の直鎖、分岐または環状のアル
    キル基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数1〜1
    0のアルケニル基、炭素数1〜10のアルキニル基、炭
    素数1〜4の直鎖、分岐または炭素数6〜10の環状の
    アルコキシル基、炭素数6〜20のアリールオキシ基、
    炭素数1〜10の直鎖、分岐または環状のアルキルチオ
    基、炭素数6〜20のアリールチオ基、または、A^1
    とA^2、A^3とA^4、A^5とA^6、A^7と
    A^8が連結して環状となってもよい基を表わす。ただ
    し、A^1、A^2、A^3、A^4、A^5、A^6
    、A^7およびA^8のすべてが水素原子であり、かつ
    、Y^1とY^2、Y^3とY^4、Y^5とY^6、
    およびY^7とY^8の各組合わせにおいて、一方が水
    素原子であり、他方がアルコキシル基である場合、アル
    コキシル基は炭素数4〜9であり、かつ、分岐または環
    状であるとする、Metは2個の水素原子、2価の金属
    原子、3価または4価の置換金属原子、またはオキシ金
    属を表わす。〕で示される分子吸光係数200,000
    辺上の近赤外線吸収剤。 2、特許請求の範囲第1項の近赤外線吸収剤を記録層中
    に含有してなる光記録媒体。 3、特許請求の範囲第1項の近赤外線吸収剤を含有して
    なる近赤外線吸収フィルター。 4、特許請求の範囲第1項の近赤外線吸収剤を含有して
    なる液晶表示素子。 5、特許請求の範囲第1項の近赤外線吸収剤を記録層中
    に含有してなる光カード。 6、特許請求の範囲第1項の近赤外線吸収剤において、
    Y^1、Y^2、Y^3、Y^4、Y^5、Y^6、Y
    ^7およびY^8で示される基が、水素原子、炭素数4
    〜9である分岐または環状のアルコキシル基、または炭
    素数1〜8の直鎖または分岐アルキル基であり、かつ、
    Y^1とY^2、Y^3とY^4、Y^5とY^6、お
    よびY^7とY^8の各組合わせにおいて、同時に水素
    原子、アルキル基になること、および一方がアルキル基
    で他方が水素原子の組合わせになることがない近赤外線
    吸収剤 7、特許請求の範囲第6項の近赤外線吸収剤を記録層中
    に含有してなる光記録媒体。 8、特許請求の範囲第6項の近赤外線吸収剤を含有して
    なる近赤外線吸収フィルター。 9、特許請求の範囲第6項の近赤外線吸収剤を含有して
    なる液晶表示素子。 10、特許請求の範囲第6項の近赤外線吸収剤を記録層
    中に含有してなる光カード。 11、特許請求の範囲第1項の近赤外線吸収剤において
    、Y^1、Y^2、Y^3、Y^4、Y^5、Y^6、
    Y^7およびY^8で示される基のうち、Y^1とY^
    2、Y^3とY^4、Y^5とY^6、およびY^7と
    Y^8の各組合わせにおいて、各々異なる炭素数を有す
    る炭素数4〜9の直鎖、分岐または環状のアルコキシル
    基である近赤外線吸収剤。 12、特許請求の範囲第11項の近赤外線吸収剤を記録
    層中に含有してなる光記録媒体。13、特許請求の範囲
    第11項の近赤外線吸収剤を含有してなる近赤外線吸収
    フィルター。 14、特許請求の範囲第11項の近赤外線吸収剤を含有
    してなる液晶表示素子。 15、特許請求の範囲第11項の近赤外線吸収剤を記録
    層中に含有してなる光カード。 16、特許請求の範囲第1項の近赤外線吸収剤において
    、A^1、A^2、A^3、A^4、A^5、A^6、
    A^7およびA^8で示される基が各々独立に炭素数1
    〜6のアルキル基、または炭素数6〜10のアリールチ
    オ基である近赤外線吸収剤。 17、特許請求の範囲第16項の近赤外線吸収剤を記録
    層中に含有してなる光記録媒体。18、特許請求の範囲
    第16項の近赤外線吸収剤を含有してなる近赤外線吸収
    フィルター。 19、特許請求の範囲第16項の近赤外線吸収剤を含有
    してなる液晶表示素子。 20、特許請求の範囲第16項の近赤外線吸収剤を記録
    層中に含有してなる光カード。
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