JP2515356B2 - フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物 - Google Patents
フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物Info
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- JP2515356B2 JP2515356B2 JP62324673A JP32467387A JP2515356B2 JP 2515356 B2 JP2515356 B2 JP 2515356B2 JP 62324673 A JP62324673 A JP 62324673A JP 32467387 A JP32467387 A JP 32467387A JP 2515356 B2 JP2515356 B2 JP 2515356B2
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- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
- G11B7/246—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes
- G11B7/248—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only containing dyes porphines; azaporphines, e.g. phthalocyanines
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
- G03G5/02—Charge-receiving layers
- G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
- G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
- G03G5/0664—Dyes
- G03G5/0696—Phthalocyanines
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- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は近赤外線吸収性色素として有用な、700〜1,5
00nmに吸収を有する新規のフタロシアニン系化合物およ
びこれを含有する樹脂組成物を提供するものである。
00nmに吸収を有する新規のフタロシアニン系化合物およ
びこれを含有する樹脂組成物を提供するものである。
近年、コンパクトディスク、ビデオディスク、など光
記録媒体、液晶表示装置、光学文字読取機等における書
込み或いは読み取りのために、半導体レーザ光を利用す
ることが提案されている。
記録媒体、液晶表示装置、光学文字読取機等における書
込み或いは読み取りのために、半導体レーザ光を利用す
ることが提案されている。
半導体レーザ光による書込み又は読み取りのために
は、半導体レーザ光、即ち、近赤外光を吸収する物質が
不可欠である。
は、半導体レーザ光、即ち、近赤外光を吸収する物質が
不可欠である。
また、近赤外光を吸収する色素としては、この他電子
写真記録、近赤外線吸収フィルター、眼鏡等への用途が
知られている。
写真記録、近赤外線吸収フィルター、眼鏡等への用途が
知られている。
これらの具体的な使用例としては、例えば光ディスク
の例としては「発明」82巻 50〜55頁、「光機能性高分
子の合成と応用」シーエムシー刊100〜115頁、特開昭57
−11090、特開昭59−55794などに、また液晶装置につい
ての原理は「表示デバイスの最新技術」シーエムシー社
刊 80〜129頁、「写真工業」42巻 ６号 121〜123
頁、などにまた近赤外線吸収フィルターの例としては特
開昭56−135511、特開昭60−69602に記載されている。
また眼鏡への利用例としては眼精疲労防止用、電子写真
記録については「材料技術」３巻 ４号 ９〜12頁に例
がある。その他レーザー光利用レジストパターン形成法
などに関しては特開昭57−40256などに開示されてい
る。
の例としては「発明」82巻 50〜55頁、「光機能性高分
子の合成と応用」シーエムシー刊100〜115頁、特開昭57
−11090、特開昭59−55794などに、また液晶装置につい
ての原理は「表示デバイスの最新技術」シーエムシー社
刊 80〜129頁、「写真工業」42巻 ６号 121〜123
頁、などにまた近赤外線吸収フィルターの例としては特
開昭56−135511、特開昭60−69602に記載されている。
また眼鏡への利用例としては眼精疲労防止用、電子写真
記録については「材料技術」３巻 ４号 ９〜12頁に例
がある。その他レーザー光利用レジストパターン形成法
などに関しては特開昭57−40256などに開示されてい
る。
近赤外光を吸収する有機色素としては、従来、シアニ
ン色素がよく知られている。しかし、シアニン色素は、
反面、耐光堅牢性が極めて低いので、これを使用する場
合には多くの制約を受けざるを得ない。また、オキシム
やチオールの金属錯体もその能力は低いが、近赤外光を
吸収する有機色素として知られている。しかし、これら
はある種の媒体中では錯体から金属が脱離して、近赤外
光の吸収能力が消失する欠点がある。
ン色素がよく知られている。しかし、シアニン色素は、
反面、耐光堅牢性が極めて低いので、これを使用する場
合には多くの制約を受けざるを得ない。また、オキシム
やチオールの金属錯体もその能力は低いが、近赤外光を
吸収する有機色素として知られている。しかし、これら
はある種の媒体中では錯体から金属が脱離して、近赤外
光の吸収能力が消失する欠点がある。
また最近では特開昭60−23451にみられるようなナフ
タロシアニン化合物が知られているが、その製造工程が
長く、かつ工業的には高価な化合物であり工業的使用に
は不充分であった。さらに特開昭59−131493にみられる
ようなナフトキノン化合物も、化合物の安定性、又製造
工程が長くかつ高価な原料を使用するため、実用化には
不充分であった。
タロシアニン化合物が知られているが、その製造工程が
長く、かつ工業的には高価な化合物であり工業的使用に
は不充分であった。さらに特開昭59−131493にみられる
ようなナフトキノン化合物も、化合物の安定性、又製造
工程が長くかつ高価な原料を使用するため、実用化には
不充分であった。
また、フタロシアニン系近赤外線吸収色素はこれまで
樹脂中に溶解させると曇り現象が生じ、透明な樹脂板ま
たはフィルムを得られなかったために実用化には到って
いないのが現状である。
樹脂中に溶解させると曇り現象が生じ、透明な樹脂板ま
たはフィルムを得られなかったために実用化には到って
いないのが現状である。
上記の問題点を解決するため、本発明者らは新規の近
赤外線吸収色素を鋭意検討した結果、下記の式（Ｉ）で
示されるフタロシアニン系化合物が極めて有用な色素で
あることを見出し、本発明に達した。
赤外線吸収色素を鋭意検討した結果、下記の式（Ｉ）で
示されるフタロシアニン系化合物が極めて有用な色素で
あることを見出し、本発明に達した。
すなわち、本発明は下記式（Ｉ）で示される700〜1,5
00nmに吸収を有する新規の近赤外線吸収色素を提供する
ものである。
00nmに吸収を有する新規の近赤外線吸収色素を提供する
ものである。
本発明に係る色素は式（Ｉ） 〔式中R1、R6およびR7は、同一又は各々独立に水素原
子、直鎖又は分岐のアルキル基、置換されていてもよい
シクロヘキシルアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アリルオキシアルキル基、アシル
オキシアルキル基、アシルアミノアルキル基、ハロゲン
化アルキル基、シアノアルキル基、アルコキシカルボニ
ルアルキル、基、アルケニル基またはアラルキル基を示
し、R2、R3、R4およびR5は同一又は各々独立に水素原
子、直鎖又は分岐アルキル基、置換されていてもよいシ
クロアルキル基、直鎖又は分岐アルコキシ基、シクロア
ルキルオキシ基、アルコキシアルキル基、アルキシアル
コキシ基、アルリオキシアルキル基、アラルキル基また
はハロゲン原子を示し、またR2とR3又はR4とR5は、互い
に連結して環状になってもよく、Ｘは水素原子、ハロゲ
ン原子、置換されていてもよいアルコキシ基、又は水酸
基を表し、ｌは１〜８の整数を示し、ｍは０〜５の整数
を示し、ｎは０〜14の整数を示すが、2l＋ｍ＋ｎは16で
あり、Ｍは金属原子または金属酸化物を示す。〕で表さ
れるフタロシアニン系化合物である。
子、直鎖又は分岐のアルキル基、置換されていてもよい
シクロヘキシルアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アリルオキシアルキル基、アシル
オキシアルキル基、アシルアミノアルキル基、ハロゲン
化アルキル基、シアノアルキル基、アルコキシカルボニ
ルアルキル、基、アルケニル基またはアラルキル基を示
し、R2、R3、R4およびR5は同一又は各々独立に水素原
子、直鎖又は分岐アルキル基、置換されていてもよいシ
クロアルキル基、直鎖又は分岐アルコキシ基、シクロア
ルキルオキシ基、アルコキシアルキル基、アルキシアル
コキシ基、アルリオキシアルキル基、アラルキル基また
はハロゲン原子を示し、またR2とR3又はR4とR5は、互い
に連結して環状になってもよく、Ｘは水素原子、ハロゲ
ン原子、置換されていてもよいアルコキシ基、又は水酸
基を表し、ｌは１〜８の整数を示し、ｍは０〜５の整数
を示し、ｎは０〜14の整数を示すが、2l＋ｍ＋ｎは16で
あり、Ｍは金属原子または金属酸化物を示す。〕で表さ
れるフタロシアニン系化合物である。
本発明色素の前記式（Ｉ）の化合物において、R1、R6
又はR7で示される直鎖又は分岐のアルキル基の例として
は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プロピル、
ｎ−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、1,2−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、ノ
ニルなど炭素数１〜20の直鎖又は分岐のアルキル基が挙
げられ、また置換されていてもよいシクロヘキシルアル
キル基の例としては、置換又は無置換の２−シクロヘキ
シルエチル、３−シクロヘキシルプロピル、３−シクロ
ヘキシル−２−メチルプロピルなどが挙げられ、ヒドロ
キシアルキル基の例としては、ヒドロキシメチル、β−
ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、などが挙
げられる。アルコキシアルキル基の例としては、メトキ
シメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシ
エチル、プロポキシエチル、ブトキシエチル、ヘキシル
オキシエチル、３−メトキシブチルなどが挙げられ、ア
リルオキシアルキル基の例としてはフェノキシメチル、
フェノキシエチルなどが挙げられ、アシルオキシアルキ
ル基の例としては、アセチルオキシエチル、プロピオニ
ルオキシエチルなどが挙げられる。またアシルアミノア
ルキル基の例としては、アセチルアミノエチル、プロピ
オニルアミノプロピルなどが挙げられ、ハロゲン化アル
キル基としてはトリフルオロメチル基などのフッ素置換
アルキル、β−クロロエチル基などのクロロ置換アルキ
ル、β−臭化プロピル等の臭素置換アルキル、β−沃化
エチル等の沃素置換アルキルなどが挙げられ、シアノア
ルキル基の例としてはシアノメチル、シアノエチル、シ
アノブチルなどが挙げられ、アルコキシカルボニルアル
キル基の例としては、メトキシカルボニルメチル、メト
キシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、ブ
トキシカルボニルプロピルなどが挙げられる。またアル
ケニル基の例としては、アリル、メタリル、クロチルな
どが挙げられ、アラルキル基の例としてはベンジル、エ
チルベンジル、フェネチルなどが挙げられる。
又はR7で示される直鎖又は分岐のアルキル基の例として
は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、iso−プロピル、
ｎ−ブチル、iso−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、1,2−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、ノ
ニルなど炭素数１〜20の直鎖又は分岐のアルキル基が挙
げられ、また置換されていてもよいシクロヘキシルアル
キル基の例としては、置換又は無置換の２−シクロヘキ
シルエチル、３−シクロヘキシルプロピル、３−シクロ
ヘキシル−２−メチルプロピルなどが挙げられ、ヒドロ
キシアルキル基の例としては、ヒドロキシメチル、β−
ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、などが挙
げられる。アルコキシアルキル基の例としては、メトキ
シメチル、エトキシメチル、メトキシエチル、エトキシ
エチル、プロポキシエチル、ブトキシエチル、ヘキシル
オキシエチル、３−メトキシブチルなどが挙げられ、ア
リルオキシアルキル基の例としてはフェノキシメチル、
フェノキシエチルなどが挙げられ、アシルオキシアルキ
ル基の例としては、アセチルオキシエチル、プロピオニ
ルオキシエチルなどが挙げられる。またアシルアミノア
ルキル基の例としては、アセチルアミノエチル、プロピ
オニルアミノプロピルなどが挙げられ、ハロゲン化アル
キル基としてはトリフルオロメチル基などのフッ素置換
アルキル、β−クロロエチル基などのクロロ置換アルキ
ル、β−臭化プロピル等の臭素置換アルキル、β−沃化
エチル等の沃素置換アルキルなどが挙げられ、シアノア
ルキル基の例としてはシアノメチル、シアノエチル、シ
アノブチルなどが挙げられ、アルコキシカルボニルアル
キル基の例としては、メトキシカルボニルメチル、メト
キシカルボニルエチル、エトキシカルボニルエチル、ブ
トキシカルボニルプロピルなどが挙げられる。またアル
ケニル基の例としては、アリル、メタリル、クロチルな
どが挙げられ、アラルキル基の例としてはベンジル、エ
チルベンジル、フェネチルなどが挙げられる。
R2、R3、R4およびR5で示される直鎖又は分岐のアルキ
ル基の例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、iso
−プロピル、ｎ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、1,2−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、ノ
ニルなどの炭素数１〜20の直鎖又は分岐のアルキル基が
挙げられ、置換されていてもよいシクロアルキル基の例
としては置換又は無置換のシクロペンチル、シクロヘキ
シルなどが挙げられ、直鎖又は分岐アルコキシ基の例と
しては、メトキシ、エトキシ、iso−プロピルオキシ、
3,5,5−トリメチルヘキシルオキシなどの基が挙げら
れ、置換されていてもよいシクロアルキルオキシ基の例
としては、シクロヘキシルオキシ、４−エチルシクロヘ
キシルオキシ、４−メトキシシクロヘキシルオキシなど
の基が挙げられ、また、アルコキシアルキル基の例とし
ては、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチ
ル、メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチ
ル、ブトキシエチル、ヘキシルオキシエチル、３−メト
キシブチルなどが挙げられ、アリルオキシアルキル基の
例としては、フェノキシメチル、フェノキシエチルなど
が挙げられ、アルコキシアルコキシ基の例としては２−
メトキシエトキシ、２−エトキシエトキシなどが挙げら
れ、アリルオキシアルコキシ基の例としては、２−フェ
ノキシエチルオキシ、３−フェノキシプロピルオキシな
どが挙げられ、アラルキル基の例としては、ベンジル、
フェネチルなどが挙げられ、またR2とR3又はR4とR5は互
いに連結して、芳香環、ヘテロ環又は脂肪族環などを形
成していてもよい。
ル基の例としてはメチル、エチル、ｎ−プロピル、iso
−プロピル、ｎ−ブチル、tert−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、1,2−ジメチルプロピル、ヘキシル、ヘプチル、ノ
ニルなどの炭素数１〜20の直鎖又は分岐のアルキル基が
挙げられ、置換されていてもよいシクロアルキル基の例
としては置換又は無置換のシクロペンチル、シクロヘキ
シルなどが挙げられ、直鎖又は分岐アルコキシ基の例と
しては、メトキシ、エトキシ、iso−プロピルオキシ、
3,5,5−トリメチルヘキシルオキシなどの基が挙げら
れ、置換されていてもよいシクロアルキルオキシ基の例
としては、シクロヘキシルオキシ、４−エチルシクロヘ
キシルオキシ、４−メトキシシクロヘキシルオキシなど
の基が挙げられ、また、アルコキシアルキル基の例とし
ては、メトキシメチル、メトキシエチル、エトキシメチ
ル、メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエチ
ル、ブトキシエチル、ヘキシルオキシエチル、３−メト
キシブチルなどが挙げられ、アリルオキシアルキル基の
例としては、フェノキシメチル、フェノキシエチルなど
が挙げられ、アルコキシアルコキシ基の例としては２−
メトキシエトキシ、２−エトキシエトキシなどが挙げら
れ、アリルオキシアルコキシ基の例としては、２−フェ
ノキシエチルオキシ、３−フェノキシプロピルオキシな
どが挙げられ、アラルキル基の例としては、ベンジル、
フェネチルなどが挙げられ、またR2とR3又はR4とR5は互
いに連結して、芳香環、ヘテロ環又は脂肪族環などを形
成していてもよい。
Ｘの具体的例としては水素原子、塩素、フッ素、臭素
などのハロゲン原子、またメトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、ブトキ
シ基などのアルコキシ基、および水酸基が挙げられる。
Ｍの具体的例としては、銅、亜鉛、鉛、マグネシウム、
鉄、コバルトおよびバナジウム等の金属原子、または金
属酸化物が挙げられる。
などのハロゲン原子、またメトキシ基、エトキシ基、ｎ
−プロピルオキシ基、iso−プロピルオキシ基、ブトキ
シ基などのアルコキシ基、および水酸基が挙げられる。
Ｍの具体的例としては、銅、亜鉛、鉛、マグネシウム、
鉄、コバルトおよびバナジウム等の金属原子、または金
属酸化物が挙げられる。
本発明の色素は、例えば下記の方法により容易に製造
することができる。
することができる。
一例を挙げると、パークロロ銅フタロシアニン（一般
名フタロシアニングリーン）をジメチルホムルアミド又
はキノリンのような非プロトン性溶媒に分散させ、苛性
カリウム等で代表される塩基の存在下、ｏ−アミノチオ
フェノール類と反応温度70〜160℃、好ましくは110〜14
0℃で反応して得られた化合物をジメチルホルムアミド
等の極性溶媒中で炭酸カリウム等の塩基の存在下ハロゲ
ン化アルキル等の試薬と反応させることによって得るこ
とができる。
名フタロシアニングリーン）をジメチルホムルアミド又
はキノリンのような非プロトン性溶媒に分散させ、苛性
カリウム等で代表される塩基の存在下、ｏ−アミノチオ
フェノール類と反応温度70〜160℃、好ましくは110〜14
0℃で反応して得られた化合物をジメチルホルムアミド
等の極性溶媒中で炭酸カリウム等の塩基の存在下ハロゲ
ン化アルキル等の試薬と反応させることによって得るこ
とができる。
本発明色素を用いて光ディスクを試作する方法は公知
方法、例えば特開昭59−131493、特開昭58−100247、特
開昭57−11090、特開昭57−402546、特開昭59−55794、
特開昭59−55795、特開昭59−104625などに記載の方法
に準じて試作すればよい。又、液晶表示装置の試作方法
は、常法に従い本発明の色素と液晶を混合溶解した後セ
ルに封入することにより得ることができる。
方法、例えば特開昭59−131493、特開昭58−100247、特
開昭57−11090、特開昭57−402546、特開昭59−55794、
特開昭59−55795、特開昭59−104625などに記載の方法
に準じて試作すればよい。又、液晶表示装置の試作方法
は、常法に従い本発明の色素と液晶を混合溶解した後セ
ルに封入することにより得ることができる。
又、近赤外線吸収フィルターの試作方法としては、透
明樹脂例えば、ポリアクリロニトリル樹脂、メタクリル
ニトリル樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリ塩化
ビニル樹脂、ABS樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹
脂、ポリスチレン樹脂などと本発明色素とを混合し、形
成する方法、溶媒に本発明色素を溶解又は分散し、上記
樹脂を浸漬し加熱処理着色する方法、本発明色素を上記
樹脂又はコーティングガラス等に塗布又は蒸着する方法
などがある。
明樹脂例えば、ポリアクリロニトリル樹脂、メタクリル
ニトリル樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリ塩化
ビニル樹脂、ABS樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹
脂、ポリスチレン樹脂などと本発明色素とを混合し、形
成する方法、溶媒に本発明色素を溶解又は分散し、上記
樹脂を浸漬し加熱処理着色する方法、本発明色素を上記
樹脂又はコーティングガラス等に塗布又は蒸着する方法
などがある。
OA機器端末のビジュアルディスプレーによる眼精疲労
防止用近赤外線吸収眼鏡のつくり方としては、レンズ用
樹脂と本発明の色素を混合し射出成形すること、又は本
発明色素の溶液又は分散液にレンズを浸漬し染色するこ
とにより得ることができる。
防止用近赤外線吸収眼鏡のつくり方としては、レンズ用
樹脂と本発明の色素を混合し射出成形すること、又は本
発明色素の溶液又は分散液にレンズを浸漬し染色するこ
とにより得ることができる。
高屈折率のレンズ用樹脂としては、イソシアナート化
合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物と
反応して得られる樹脂、イソシアナート化合物とテトラ
ブロムビスフェノールＡなどのハロゲン原子を有するヒ
ドロキシ化合物と反応して得られる樹脂、イソシアナー
ト化合物とメルカプト基を有する化合物と反応して得ら
れる樹脂などが挙げられる。
合物とジエチレングリコールなどのヒドロキシ化合物と
反応して得られる樹脂、イソシアナート化合物とテトラ
ブロムビスフェノールＡなどのハロゲン原子を有するヒ
ドロキシ化合物と反応して得られる樹脂、イソシアナー
ト化合物とメルカプト基を有する化合物と反応して得ら
れる樹脂などが挙げられる。
近年、近赤外光を吸収する物質が光記録媒体、液晶表
示装置、光学文字読取機、電子写真記録、近赤外線吸収
フィルター、眼鏡等に利用されている。本発明の色素は
上記の分野に用いた場合耐光堅牢度が極めて高く、吸収
能力も消失せず、又製造工程も短く実用上極めて価値あ
る色素である。
示装置、光学文字読取機、電子写真記録、近赤外線吸収
フィルター、眼鏡等に利用されている。本発明の色素は
上記の分野に用いた場合耐光堅牢度が極めて高く、吸収
能力も消失せず、又製造工程も短く実用上極めて価値あ
る色素である。
特に、透明な樹脂板又はフィルムを得るには、式
（Ｉ）中R1、R6およびR7に種々置換基を有していてもよ
い炭化水素基を導入したものが有効であった。
（Ｉ）中R1、R6およびR7に種々置換基を有していてもよ
い炭化水素基を導入したものが有効であった。
以下実施例を示すが、実施例中「部」は「重量部」を
示す。
示す。
実施例−１ パークロロ銅フタロシアニン（一般試薬名フタロシア
ニングリーン）113部、および苛性カリ112部をジメチル
ホルムアミド2,200部に懸濁させ、窒素気流下２−アミ
ノチオフェノール73部を加え、110〜130℃で５時間反応
した後、温水1,000部に排出した。
ニングリーン）113部、および苛性カリ112部をジメチル
ホルムアミド2,200部に懸濁させ、窒素気流下２−アミ
ノチオフェノール73部を加え、110〜130℃で５時間反応
した後、温水1,000部に排出した。
濾過、水洗し、乾燥して147部の式（Ａ） で示される化合物を得た。
この化合物67部、炭酸カリウム70部をジメチルホルム
アミド2,010部に加え、窒素気流下、臭化−ｎ−オクチ
ル131部を加え100℃で３時間、120〜125℃で１時間反応
した。放冷後、反応液をメタノール10,000部に加え、１
時間撹拌した後、濾過、水洗、乾燥して143部の粗生成
物を得た。この生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒トルエン）により精製して式（Ｂ） で示される化合物97部を得た。本化合物のトルエン中に
おける吸収極大波長（λmax）は940nmであり、元素分析
結果は下記の通りであった。
アミド2,010部に加え、窒素気流下、臭化−ｎ−オクチ
ル131部を加え100℃で３時間、120〜125℃で１時間反応
した。放冷後、反応液をメタノール10,000部に加え、１
時間撹拌した後、濾過、水洗、乾燥して143部の粗生成
物を得た。この生成物をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒トルエン）により精製して式（Ｂ） で示される化合物97部を得た。本化合物のトルエン中に
おける吸収極大波長（λmax）は940nmであり、元素分析
結果は下記の通りであった。
元素分析値： 計算値 C:75.94％、H:4.78％、N:6.64％ 実測値 C:74.62％、H:4.60％、N:6.03％ 本化合物0.2部とポリスチレン樹脂100部を混合し、射
出成形して得られたプレート板は、1,010nmに吸収極大
を有して透明性の良好な近赤外線吸収フィルター特性を
示した。
出成形して得られたプレート板は、1,010nmに吸収極大
を有して透明性の良好な近赤外線吸収フィルター特性を
示した。
また、サンシャインウェザーメーターによる1,000時
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
実施例−２ パークロロバナジウムフタロシアニンを用いて、実施
例−１と全く同様の操作により、式（Ｂ）の銅の代わり
にバナジウムである化合物を得た。この化合物のクロロ
ホルム中の吸収極大波長（λmax）は980nmであり、ポリ
スチレン樹脂中の吸収極大は1,100nmであった。
例−１と全く同様の操作により、式（Ｂ）の銅の代わり
にバナジウムである化合物を得た。この化合物のクロロ
ホルム中の吸収極大波長（λmax）は980nmであり、ポリ
スチレン樹脂中の吸収極大は1,100nmであった。
本化合物をメチルメタクリレート樹脂と混合し、射出
成形して得られた眼鏡は1,105nmに吸収極大を示してお
り、これを用いてディスプレー端末機器操作をしたとこ
ろ眼の疲労はほとんど感知できなかった。
成形して得られた眼鏡は1,105nmに吸収極大を示してお
り、これを用いてディスプレー端末機器操作をしたとこ
ろ眼の疲労はほとんど感知できなかった。
また、サンシャインウェザーメーターによる1,000時
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
間の耐光性テストで何ら変化がなかった。
実施例−３ パークロロ亜鉛フタロシアニン113部、および苛性カ
リ112部をキノリン1,800部に加え、２−アミノ−５−メ
チルチオフェノール38部を窒素気流下加え、140℃で６
時間反応した。この反応液をメタノール3,000部に排出
し、濾過、水洗、乾燥した。得られた固体をジメチルホ
ルムアミド1,200部に溶解し、炭酸カリウム70部、およ
び４−エチルベンジルクロライド62部を加え、窒素気流
下110℃で4.5時間反応して、冷却後、メタノール4,500
部に排出し、濾過、水洗および乾燥を行った。これをト
ルエンを展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製して式（Ｃ） で示される化合物105部を得た。本色素のクロロホルム
中での吸収極大波長（λmax）は842nmであり、クロロホ
ルム溶液をメタクリル酸メチル樹脂上に塗布することに
より作製した光記録用ディスクは良好な性能を示した。
リ112部をキノリン1,800部に加え、２−アミノ−５−メ
チルチオフェノール38部を窒素気流下加え、140℃で６
時間反応した。この反応液をメタノール3,000部に排出
し、濾過、水洗、乾燥した。得られた固体をジメチルホ
ルムアミド1,200部に溶解し、炭酸カリウム70部、およ
び４−エチルベンジルクロライド62部を加え、窒素気流
下110℃で4.5時間反応して、冷却後、メタノール4,500
部に排出し、濾過、水洗および乾燥を行った。これをト
ルエンを展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーにより精製して式（Ｃ） で示される化合物105部を得た。本色素のクロロホルム
中での吸収極大波長（λmax）は842nmであり、クロロホ
ルム溶液をメタクリル酸メチル樹脂上に塗布することに
より作製した光記録用ディスクは良好な性能を示した。
又、サンシャインウェザーメーターによる1,000時間
の耐光性テストで何ら変化がなかった。
の耐光性テストで何ら変化がなかった。
実施例−４ ｍ−キシリレンジイソシアネート94部、ペンタエリス
リトールテトラキス−（３−メルカプトプロピオネー
ト）122部、及び実施例−１で得られたフタロシアニン
化合物２部とジブチルスズラウリレート0.1部を混合
し、均一にした液をシリコン系焼付タイプの離型剤で表
面処理したガラスモールドと塩ビ製ガスケットよりなる
鋳型の中に注入した。これを45℃で５時間、50℃で２時
間、55℃で２時間、60℃で１時間、70℃で１時間、80℃
で１時間、100℃で１時間、順次加熱を行った後、冷却
して離型した。得られた含硫ウレタン樹脂製レンズは淡
緑色の透明なレンズであり、優秀な耐候性を示し、近赤
外部の吸収は700〜1,200nmにあり、この部分の光はほと
んど透過しなかった。
リトールテトラキス−（３−メルカプトプロピオネー
ト）122部、及び実施例−１で得られたフタロシアニン
化合物２部とジブチルスズラウリレート0.1部を混合
し、均一にした液をシリコン系焼付タイプの離型剤で表
面処理したガラスモールドと塩ビ製ガスケットよりなる
鋳型の中に注入した。これを45℃で５時間、50℃で２時
間、55℃で２時間、60℃で１時間、70℃で１時間、80℃
で１時間、100℃で１時間、順次加熱を行った後、冷却
して離型した。得られた含硫ウレタン樹脂製レンズは淡
緑色の透明なレンズであり、優秀な耐候性を示し、近赤
外部の吸収は700〜1,200nmにあり、この部分の光はほと
んど透過しなかった。
以下、実施例−１、又は３と同様な方法により合成し
た色素の構造と、クロロホルム中での吸収極大波長を表
−１に示す。なお、表１中のR1〜R7、Ｍ、Ｘ、ｌ、ｍお
よびｎは式（Ｉ）中の記号と同じ意味を示している。
た色素の構造と、クロロホルム中での吸収極大波長を表
−１に示す。なお、表１中のR1〜R7、Ｍ、Ｘ、ｌ、ｍお
よびｎは式（Ｉ）中の記号と同じ意味を示している。
従来の色素は200℃以上では分解し、更に耐光性の弱
いものが大半であるが、以上の色素は、例えば樹脂煉込
みの際、約300℃で処理しても変化はなく耐光性の点に
ついては、サンシャインウェザーメーターによる1,000
時間のテストでも何ら変化は認められず良好であった。
いものが大半であるが、以上の色素は、例えば樹脂煉込
みの際、約300℃で処理しても変化はなく耐光性の点に
ついては、サンシャインウェザーメーターによる1,000
時間のテストでも何ら変化は認められず良好であった。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 〔式中R1、R6およびR7は、同一又は各々独立に水素原
子、直鎖又は分岐のアルキル基、置換されていてもよい
シクロヘキシルアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アリルオキシアルキル基、アシル
オキシアルキル基、アシルアミノアルキル基、ハロゲン
化アルキル基、シアノアルキル基、アルコキシカルボニ
ルアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を示
し、R2、R3、R4およびR5は同一又は各々独立に水素原
子、直鎖又は分岐アルキル基、置換されていてもよいシ
クロアルキル基、直鎖又は分岐アルコキシ基、置換され
ていてもよいシクロアルキルオキシ基、アルコキシアル
キル基、アルコキシアルコキシ基、アリルオキシアルキ
ル基、アラルキル基またはハロゲン原子を示し、またR2
とR3又はR4とR5は、互いに連結して環状になってもよ
く、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよ
いアルコキシ基、又は水酸基を表し、ｌは１〜８の整数
を示し、ｍは０〜５の整数を示し、ｎは０〜14の整数を
示すが、2l＋ｍ＋ｎは16であり、Ｍは金属原子または金
属酸化物を示す。〕で表されるフタロシアニン系化合
物。 - 【請求項２】一般式（Ｉ） 〔式中R1、R6およびR7は、同一又は各々独立に水素原
子、直鎖又は分岐のアルキル基、置換されていてもよい
シクロヘキシルアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ア
ルコキシアルキル基、アリルオキシアルキル基、アシル
オキシアルキル基、アシルアミノアルキル基、ハロゲン
化アルキル基、シアノアルキル基、アルコキシカルボニ
ルアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基を示
し、R2、R3、R4およびR5は同一又は各々独立に水素原
子、直鎖又は分岐アルキル基、置換されていてもよいシ
クロアルキル基、直鎖又は分岐アルコキシ基、置換され
ていてもよいシクロアルキルオキシ基、アルコキシアル
キル基、アルコキシアルコキシ基、アリルオキシアルキ
ル基、アラルキル基またはハロゲン原子を示し、またR2
とR3又はR4とR5は、互いに連結して環状になってもよ
く、Ｘは水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよ
いアルコキシ基、又は水酸基を表し、ｌは１〜８の整数
を示し、ｍは０〜５の整数を示し、ｎは０〜14の整数を
示すが、2l＋ｍ＋ｎは16であり、Ｍは金属原子または金
属酸化物を示す。〕で表されるフタロシアニン系化合物
を含有することを特徴とする樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62324673A JP2515356B2 (ja) | 1986-12-26 | 1987-12-22 | フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61-308915 | 1986-12-26 | ||
| JP30891586 | 1986-12-26 | ||
| JP62324673A JP2515356B2 (ja) | 1986-12-26 | 1987-12-22 | フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63270765A JPS63270765A (ja) | 1988-11-08 |
| JP2515356B2 true JP2515356B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=26565736
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62324673A Expired - Lifetime JP2515356B2 (ja) | 1986-12-26 | 1987-12-22 | フタロシアニン化合物およびこれを含有する樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2515356B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019066177A1 (en) * | 2017-09-26 | 2019-04-04 | Nano Cms Co., Ltd. | INFRARED NEAR FIXATION PLOTTER, PLATTER PRODUCTION METHOD, INFRARED NEAR INFRARED ABSORBENT INK COMPOSITION COMPRISING THE PLOTTER, AND ARTICLE INCLUDING THE PRINTER PRINTED THEREWITH |
| KR20210143831A (ko) * | 2019-04-26 | 2021-11-29 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 광학 재료, 광학 재료용 중합성 조성물, 플라스틱 렌즈, 아이웨어, 적외선 센서 및 적외선 카메라 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB8705576D0 (en) * | 1987-03-10 | 1987-04-15 | Ici Plc | Substituted phthalocyanine |
| DE68928559T2 (de) * | 1988-12-15 | 1998-06-18 | Mitsui Toatsu Chemicals | Absorbiermittel im nahen Infrarot und Anzeige-/Aufzeichnungsmaterialien, die daraus hergestellt sind |
| GB9023893D0 (en) * | 1990-11-02 | 1990-12-12 | Ici Plc | Infra-red absorber |
| US5712332A (en) * | 1993-01-13 | 1998-01-27 | Nippon Shokubai Co. | Method for absorbing heat radiation |
| GB9315692D0 (en) * | 1993-07-29 | 1993-09-15 | Zeneca Ltd | Phthalocyanines |
| EP0718375B1 (en) * | 1994-12-21 | 2000-07-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | Near infrared absorber, preparation process thereof and use thereof |
| US5788914A (en) * | 1995-10-02 | 1998-08-04 | Mitsui Chemicals, Inc. | Near infrared ray absorbing compound having high durability and its use |
| DE69609134T2 (de) * | 1995-10-02 | 2001-03-22 | Mitsui Chemicals, Inc. | Im nahen Infrarot absorbierende Verbindung mit einer hohen Dauerhaftigkeit und deren Verwendung |
| DE19613139A1 (de) * | 1996-04-02 | 1997-10-09 | Basf Ag | IR-absorbierende Phthalocyanine |
| JP2006282980A (ja) * | 2005-03-09 | 2006-10-19 | Yamamoto Chem Inc | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
| JP5741283B2 (ja) * | 2010-12-10 | 2015-07-01 | 旭硝子株式会社 | 赤外光透過フィルタ及びこれを用いた撮像装置 |
| CN113711113B (zh) * | 2019-04-26 | 2023-07-28 | 三井化学株式会社 | 光学材料、光学材料用聚合性组合物、塑料透镜、护目镜、红外线传感器及红外线照相机 |
-
1987
- 1987-12-22 JP JP62324673A patent/JP2515356B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2019066177A1 (en) * | 2017-09-26 | 2019-04-04 | Nano Cms Co., Ltd. | INFRARED NEAR FIXATION PLOTTER, PLATTER PRODUCTION METHOD, INFRARED NEAR INFRARED ABSORBENT INK COMPOSITION COMPRISING THE PLOTTER, AND ARTICLE INCLUDING THE PRINTER PRINTED THEREWITH |
| KR20210143831A (ko) * | 2019-04-26 | 2021-11-29 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 광학 재료, 광학 재료용 중합성 조성물, 플라스틱 렌즈, 아이웨어, 적외선 센서 및 적외선 카메라 |
| KR102685214B1 (ko) | 2019-04-26 | 2024-07-12 | 미쓰이 가가쿠 가부시키가이샤 | 광학 재료, 광학 재료용 중합성 조성물, 플라스틱 렌즈, 아이웨어, 적외선 센서 및 적외선 카메라 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63270765A (ja) | 1988-11-08 |
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