JP3126411B2 - 光記録媒体及び記録方法 - Google Patents

光記録媒体及び記録方法

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JP3126411B2 JP03141582A JP14158291A JP3126411B2 JP 3126411 B2 JP3126411 B2 JP 3126411B2 JP 03141582 A JP03141582 A JP 03141582A JP 14158291 A JP14158291 A JP 14158291A JP 3126411 B2 JP3126411 B2 JP 3126411B2
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    • Y10S430/146Laser beam

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光記録媒体、特に大容量
に情報が記録された光記録媒体及びその記録方法に関す
る。更に詳しくは色素を記録層とする単板型の光記録媒
体に半導体レ−ザ−により画像、音声やコ−ドデ−タ−
等の各種情報をピット長により記録することが出来る光
記録媒体、ピット長により記録する方法及びピット長に
より記録された光記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】色素を記録層とする追記可能な光記録方
式はスピンコ−トにより記録膜を成膜でき、真空技術を
必要とする無機系薄膜を記録膜とする光記録媒体に比し
て生産性、経済性、歩留等の点で優れる。特にフタロシ
アニン系色素を記録膜とする媒体は耐久性に優れ好まし
い媒体である。例えば Law らは U.S. Pat. No. 4,492,
750 において、アルキル置換フタロシアニン色素を記録
層に用いた光記録媒体を開示している。しかしながら、
この媒体は記録層を保護するために通常は記録層側を内
側にしてギャップを設けながら2枚を張り合わせて用い
なければならなかった。フタロシアニン色素記録層の上
に直接薄膜の保護層を設けた最もシンプルな媒体構造で
ある従来型である単板型の媒体にした場合、記録時に保
護層がピット形成に影響しエラ−レ−トの小さい記録は
困難であった。特に記録容量を大きく出来るピット長記
録に於いては、一層むずかしかった。例え記録できたと
しても、エラ−レ−トが大きく、各ピットのジッタ−値
も大きく信頼性に乏しかった。更に記録の際のレ−ザ−
パワ−のマ−ジン幅も大きくなかった。
【0003】Ozawa らは U.S. Pat. No. 4,769,307 に
おいて、アルコキシ置換フタロシアニン色素を用いた光
記録媒体を開示している。しかしながら、この媒体も記
録層を保護するために通常は記録層側を内側にしてギャ
ップを設けながら2枚を張り合わせて用いなければなら
なかった。又、この媒体の記録層に直接金属の反射層及
び保護層を成膜し単板型の媒体としても、ピット長記録
した場合、例え記録できたとしても、エラ−レ−トが大
きく、各ピットのジッタ−値も大きく信頼性に乏しかっ
た。Tanikawa らは U.S. Pat. No. 4,458,004 におい
て、フッ素置換フタロシアニン色素を記録層に用い、且
つこの記録層の上に直接透明な保護層を設けた光記録媒
体を開示している。しかしながら、この媒体に用いられ
ているフッ素置換フタロシアニン色素は溶剤に対する溶
解性に乏しく、熱可塑性樹脂基板に直接塗布法に依って
成膜することが出来ない。又、この色素を用いた媒体は
金属の反射層を設けても770〜830nmの光に対し
て60%以上の反射率を得ることはできない。更に、こ
の媒体を用いてピット長により記録を行ってもエラ−レ
−トやジッタ−値の小さな記録は出来ない。
【0004】Nakagawa らも特開昭63-191690に置換ナフ
タロシアニンや置換フタロシアニン色素を記録層に用い
た光記録媒体を開示している。しかし、この媒体も記録
層を保護するために2枚をエア−ギャップを設けて張り
合わせており、記録層の上に直接被覆層を設けた単板型
のピット長記録可能な媒体に関しては全く開示されてい
ない。一方、反射率を60%以上にすることに依って、
市販のコンパクトディスクプレ−ヤ−との互換性を確保
するために色素からなる記録層の上に金属の反射層と保
護層を設けた記録可能な光記録媒体も提案されている
(例えば、Optical DataStorage 1989 Technical Diges
t Series Vol.145(1989)、特開平2-132656、特開平2-16
8446)。しかしながら、これらの媒体は高反射率を達成
はしているが、シアニン系色素を用いているために耐光
性、耐久信頼性に欠けるだけでなく、ピット長記録した
場合、各長さのピットジッタ−値及びピット間ジッタ−
値は充分小さくはないことを本発明者らは見出した。It
o らは EP-373,643 にテトラアルコキシフタロシアニン
色素を記録層に用い、且つ記録層の上に直接金属の反射
層を設けた媒体を開示している。しかしながら、この媒
体は確かに高反射率ではあるが、ピット長記録した場合
各長さのピットジッタ−値及びピット間ジッタ−値は小
さくはなかった。又、テトラアルコキシ-テトラブロム
フタロシアニン色素を用いた光記録カ−ドも開示されて
いるが、記録層の上に直接被覆層を設けた単板型のピッ
ト長記録可能な媒体に関しての開示は全く無い。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、記録
層と被覆層からなる単板型の光記録媒体であって、ピッ
ト長記録した場合、優れたエラーレート、ジッター特性
を有し、且つ、耐久性、耐光性に優れた媒体であり、ま
た短波長レーザーにより記録できる媒体を提供すること
である。本発明者らはかかる観点に鑑み、鋭意検討した
結果、可溶性のフタロシアニン系色素を記録膜とする単
板型光記録媒体に於いて、特定の置換基を有するフタロ
シアニン色素を用いればエラ−レ−ト及びジッタ−値の
優れたピット長記録出来ることを見い出した。又この特
定の置換基を有するフタロシアニン色素は650〜73
0nm域に大きな吸収を有し、770nm以上ではあま
り大きな吸収を有しない。それ故に記録層の上に金属の
反射層を設ければ770〜830nmの光に対して60
%以上の反射率が得られCDプレ−ヤ−との互換性を有
する。一方、770〜830nmの光に対してはあまり
大きな吸収を有しないが、低速であれば記録も出来る。
更に、記録に際して650〜700nmのレ−ザ−を用
いればより高速(短時間)に記録しうることも見い出し
本発明を完成した。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、透明な射出成
形樹脂基板上に下記一般式(1)で表されるフタロシア
ニン色素を含有する記録層を設け、更に該記録層の上に
被覆層が設けられたピット長により追記可能な光記録媒
体。及び、この媒体に集束レ−ザ−ビ−ムによりピット
長記録を行う光記録方法及びピット長により情報が記録
された光記録媒体。更に、この媒体に650〜700n
mの発振波長を有する集束レ−ザ−を用いて高速に記録
する方法である。
【0007】
【化2】 〔式(1)に於ける置換基において、Z1とZ4、Z5
8、Z9とZ12、Z13とZ16の組合せに於て、いずれか
一方の置換基が下記a〜cから選ばれ、他方の置換基及
びZ2、Z3、Z6、Z7、Z10、Z11、Z14、Z15の置換
基が水素又はハロゲンであり、ハロゲンの数が1個以上
4個未満である。 a.R1 b.OR2 c.SR3 (ここで、R1〜R3は、未置換又は置換アルキル基、ア
リール基を示す。但し、上記a〜cから選ばれる置換基
の炭素数の合計は16から100個である。)〕。
【0008】本発明に於て用いられる透明な射出成形基
板としては、信号の記録や読み出しを行うための光を透
過するものが好ましい。光の透過率としては85%以上
であり、且つ光学的異方性の小さいものが望ましい。例
えばアクリル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリア
ミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂
等の熱可塑性樹脂を用いた基板が好ましい例示として挙
げられる。これらの中で基板の機械的強度、案内溝や再
生専用信号などの付与のしやすさ、経済性の点からアク
リル系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポリオレフィン
系樹脂の射出成形樹脂基板が好ましく、特にポリカ−ボ
ネ−ト系樹脂基板がより好ましい。これらの基板の形状
は板状でもフィルム状でもよく、又円形やカ−ド状でも
よい。もちろん基板の表面には記録位置を表す案内溝や
記録位置を表すピットや一部再生専用の情報等のための
ピットを有していてもよい。かかる案内溝やピット等
は、射出成形や注型によって基板を作る際に付与するの
が好ましいが、基板上に紫外線硬化型樹脂を塗布しスタ
ンパ−と重ね合わせて紫外線露光を行うことによっても
付与できる。
【0009】本発明の一般式(1)で示されるフタロシ
アニン色素に於ける置換基に於けるR1、R2、R3で表
される基のより具体的な例としては、
【0010】アルキルとしては:メチル基、エチル基、
n−プロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、n−ペ
ンチル基、ネオペンチル基、イソアミル基、2-メチルブ
チル基、n−ヘキシル基、2-メチルペンチル基、3-メチ
ルペンチル基、4-メチルペンチル基、2-エチルブチル
基、n−ヘプチル基、2-メチルヘキシル基、3-メチルヘ
キシル基、4-メチルヘキシル基、5-メチルヘキシル基、
2-エチルペンチル基、3-エチルペンチル基、n−オクチ
ル基、2-メチルヘプチル基、3-メチルヘプチル基、4-メ
チルヘプチル基、5-メチルヘプチル基、2-エチルヘキシ
ル基、3-エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル
基、n−ドデシル基等の一級アルキル基、イソプロピル
基、sec−ブチル基、1-エチルプロピル基、1-メチル
ブチル基、1、2-ジメチルプロピル基、1-メチルヘプチル
基、1-エチルブチル基、1、3-ジメチルブチル基、1、2-ジ
メチルブチル基、1-エチル-2-メチルプロピル基、1-メ
チルヘキシル基、1-エチルヘプチル基、1-プロピルブチ
ル基、1-イソプロピル-2-メチルプロピル基、1-エチル-
2-メチルブチル基、1-エチル-2-メチルブチル基、1-プ
ロピル-2-メチルプロピル基、1-メチルヘプチル基、1-
エチルヘキシル基、1-プロピルペンチル基、1-イソプロ
ピルペンチル基、1-イソプロピル-2-メチルブチル基、1
-イソプロピル-3-メチルブチル基、1-メチルオクチル
基、1-エチルヘプチル基、1-プロピルヘキシル基、1-イ
ソブチル-3-メチルブチル基等の二級アルキル基、tert-
ブチル基、tert-ヘキシル基、tert-アミル基、tert-オ
クチル基等の三級アルキル基、シクロヘキシル基、4-メ
チルシクロヘキシル基、4-エチルシクロヘキシル基、4-
tert-ブチルシクロヘキシル基、4-(2-エチルヘキシル)
シクロヘキシル基、ボルニル基、イソボルニル基、アダ
マンタン基等のシクロアルキル基等が、
【0011】アリール基としては:フェニル基、エチル
フェニル基、ブチルフェニル基、ノニルフェニル基、ナ
フチル基、ブチルナフチル基、ノニルナフチル基等が挙
げられる。又、これらのアルキル基、アリール基はヒド
ロキシル基やハロゲン等で置換されていてもよく、又酸
素、硫黄、窒素等の原子を介して前記アルキル基、アリ
ール基で置換されていてもよい。酸素を介して置換され
ているアルキル基やアリール基としてはメトキシメチル
基、メトキシエチル基、エトキシメチル基、エトキシエ
チル基、ブトキシエチル基、エトキシエトキシエチル
基、フェノキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキ
シプロピル基、メトキシフェニル基、ブトキシフェニル
基、ポリオキシエチレン基、ポリオキシプロピレン基等
が、硫黄を介して置換されているアルキル基やアリール
基としてはメチルチオエチル基、エチルチオエチル基、
エチルチオプロピル基、フェニルチオエチル基、メチル
チオフェニル基、ブチルチオフェニル基等が、窒素を介
して置換されているアルキル基やアリール基としてはジ
メチルアミノエチル基、ジエチルアミノエチル基、ジエ
チルアミノプロピル基、ジメチルアミノフェニル基、ジ
ブチルアミノフェニル基等が挙げられる。
【0012】一方、一般式(1)に於けるMは好ましく
は2価の金属であり、その具体的な例としては、Ca、
Mg、Zn、Cu、Ni、Pd、Fe、Pb、Co、P
t、Cd、Ru、等が挙げられる。本発明に於いては、
前記一般式(1)で表されるフタロシアニン色素の置換
基Z1、Z2、Z3、Z4、Z5、Z6、Z7、Z8、Z9、Z
10、Z11、Z12、Z13、Z14、Z15、Z16のうち、Z 1
とZ 4 、Z 5 とZ 8 、Z 9 とZ 12 、Z 13 とZ 16 の組合せに於
て、いずれか一方の置換基が前記置換基a、b又はcか
ら選ばれた置換基であり、他方の置換基及びZ 2 、Z 3
6 、Z 7 、Z 10 、Z 11 、Z 14 、Z 15 の置換基が水素又は
ハロゲンであり、ハロゲンの数が1個以上4個未満で
る。もしハロゲンが0個の場合は該記録媒体を用いてピ
ット長記録を行うと、各記録ピット及びピット間の長さ
のばらつき(ジッター)が大きくなり好ましくない。他
方、水素が0個の場合は、金属の反射層を設けても77
0〜830nmの波長の光に対する反射率が60%以上
得られず、市販のCDプレーヤーとの互換性が得られな
い。更に、記録層の最大吸収波長域が650から730
nmであり、770〜830nmに於ける記録層の吸光
度が最大吸収波長に於ける吸光度の1/3以下になるよ
うに記録層の色素及び記録層膜厚を選択するのがより好
ましい。
【0013】本発明に用いられるフタロシアニン色素は
ベンゼン環の一方のα位がアルキル基、アリ−ル基、ア
ルコキシ基、アリ−ルオキシ基、アルキルチオ基、アリ
−ルチオ基等で置換されている。一方、ハロゲンの置換
位置に関しては特に制限はなく、もう一方のα位でも又
はβ位でもよいが、一分子中に1個以上がもう一方のα
位に置換されているのが好ましい。本発明に用いられる
フタロシアニン色素は通常の方法、例えばアルキル基、
アリ−ル基、アルコキシ基、アリ−ルオキシ基、アルキ
ルチオ基、アリ−ルチオ基等やハロゲンで置換されたフ
タロニトリル又はジイミノイソインドリンを原料として
常法により合成することが出来る。この際ハロゲンの置
換数を4個未満にするにはハロゲンで置換されていない
フタロニトリル又はジイミノイソインドリンを原料の一
部として用いれば良い。他の方法としては、例えばアル
キル基、アリ−ル基、アルコキシ基、アリ−ルオキシ
基、アルキルチオ基、アリ−ルチオ基等で置換されたフ
タロシアニン色素を常法でハロゲン化することに依って
合成することも出来る。この場合ハロゲンはアルキル
基、アリ−ル基、アルコキシ基、アリ−ルオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリ−ルチオ基等の置換基に対して通常
はパラ位(もう一方のα位)に入り易いが、オルソやメ
タ位にも入る。ハロゲンの置換数は反応させるハロゲン
の量に依ってコントロ−ルすることが容易に出来るので
ある。
【0014】本発明に於いて用いられる上記フタロシア
ニン色素は通常スピンコート、蒸着、スパッターリング
等の手段によって成膜することが出来るが、成膜の容易
さの点からはスピンコート法が好ましい。上記色素をス
ピンコートにより成膜する際は射出成形基板にダメージ
を与えない溶剤、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタ
ン、デカン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等
の脂肪族や脂環式炭化水素系、ジエチルエーテル、ジブ
チルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系
等の非極性溶剤や、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、アリルアルコール、メチ
ルセロソルブ等のアルコール系の極性溶剤に色素を溶解
してコートすれば良い。この際色素の溶解性の点からは
上記一般式(1)で表される色素中の前記a〜cから選
択される置換基の炭素数の合計は16個以上有するのが
好ましい。一方、この炭素数の合計が100を越える場
合は色素の融点が低くなり再生光安定性が低下し好まし
くない。
【0015】記録膜を成膜する際には上記一般式(1)
の色素に記録特性などを改良するために更に置換フタロ
シアニン、置換ナフタロシアニン、置換ポルフィリン系
色素、シアニン色素、ジチオ−ル金属錯体、アントラキ
ノン色素等の他の有機色素を使用色素合計の50%以下
程度好ましくは20%以下さらに好ましくは10%以下
の範囲で使用することができる。またニトロセルロ−
ス、エチルセルロ−ス、アクリル樹脂、ポリスチレン樹
脂、ウレタン樹脂等の樹脂やレベリング剤、消泡剤等を
記録層中の20重量%未満好ましくは10%以下さらに
好ましくは5重量%以下を併用することもできる。本発
明に於いては、上記一般式(1)で表されるフタロシア
ニン色素を含有する記録層の膜厚は通常30〜500n
mであり、50〜250nmがより好ましい。
【0016】本発明に於ける記録層の上に設けられた被
覆層とは、単板型媒体にするためにフタロシアニン色素
からなる記録層を保護するための機能を有する層であ
り、通常2μm 、好ましくは4μm 以上の膜厚の硬い膜
であれば良い。膜厚の上限は特にないが、通常は200
μm 以下である。又該被覆層は記録膜を保護する機能以
外の、例えば反射機能、断熱機能、光エンハンス機能等
を兼ね備える膜であっても良い。このような場合は該被
覆層は2層以上の多層になっても良い。特に市販CDプ
レ−ヤ−との互換性を考慮すれば、記録層の上に金属の
反射層及びその上の保護層からなる被覆層を設け、77
0〜830nmの波長の光に対する反射率を60%以上
にするのが好ましい。被覆層の具体例としては、樹脂、
金属、無機膜等が挙げられ、樹脂としては、アクリル樹
脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬
化樹脂、ポリシロキサン樹脂等、無機膜としては酸化ア
ルミ、酸化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウソ、
沸化マグネシウム、炭化珪素等、金属としては、アル
ミ、金、銀、銅、白金、ニッケル等やこれらの金属を一
成分とする合金などが挙げられる。これらの金属膜は反
射機能も有するが、保護機能を充分には備えていないた
め、通常は該金属膜の上に更に上記した樹脂又は無機膜
を設けるのが好ましい。これらの被覆膜はスピンコ−
ト、蒸着、スパッタ−リング等の手段によって成膜する
ことが出来る。なお、金属膜の厚みは30〜500nm
程度である。
【0017】本発明に於いては、上記した光記録媒体を
回転しながら、集束したレ−ザ−、特に半導体レ−ザ−
光を記録膜に照射し記録が行われる。記録する方法は一
般に2つの方法がある。1つは記録ビットの“1”にピ
ットを形成する方法(ピット間記録)、もう1つは記録
ビットの“1”に於いて記録レ−ザ−パワ−をオンオフ
することに依って記録する方法である。従って記録ビッ
トの“1”と次の“1”との間にある“0”の数の違い
に依って種々の長さのピットが形成される(ピット長記
録)。ピット長記録はピット間記録に比較して記録容量
を大きくできる利点を有するが、他方種々の長さのピッ
トを所定の長さで記録しなければならず記録膜への負担
が大きい。本発明に用いられる記録膜は前記ピット長記
録に適している。ピット長記録を行った場合のピットの
長さの種類は記録コ−ドの変調方法に依って決まる。変
調方法の例としてはFM、MFM、MMFM、8−1
0、EFM等の方法が提案されているが、これらに限定
されるものではないが、コンパクトディスク等に用いら
れているEFM方法が電子部品の互換性の点から好まし
い。
【0018】本発明の光記録媒体は基板を通してレ−ザ
−光を照射し信号の記録及び再生を行う。この際発振波
長640〜850nmの半導体レ−ザ−が用いられる。
市販のCDプレ−ヤ−に用いられているレ−ザ−の発振
波長は770〜830nmであり、CDプレ−ヤ−との
互換性を考慮すれば770〜830nmの波長の半導体
レ−ザ−で記録再生するのが一般的である。しかしなが
ら、本発明に用いられる置換フタロシアニン色素は65
0〜730nmに大きな吸収を有するので、記録に際し
ては650〜730nm、実用性からは650〜700
nmの半導体レ−ザ−を用いれば、高速短時間で記録す
ることも出来る。記録する際は、媒体を回転させながら
記録膜上におけるレ−ザ−の出力を5〜12mW程度に
し、又読み出す場合はレ−ザ−の出力を記録時の1/1
0程度にすればよい。以下、実施例により本発明を具体
的に説明するが、本発明の実施の態様はこれにより限定
されるものではない。
【0019】
【実施例】実施例1 フタロシアニン分子中の4つのそれぞれのベンゼン環の
α位の1つに1個の1−イソプロピル−イソアミルオキ
シ基を有するPd−フタロシアニンを四塩化炭素中で塩
素と40℃で3時間反応し、テトラ(1−イソプロピル
−イソアミルオキシ)Pd−フタロシアニンに一分子中
に平均3個の塩素を導入した。次にこのフタロシアニン
色素の4重量%のオクタン溶液を厚さ1.2mm、直径
130mmのスパイラル状の案内溝(深さ70nm、幅
0.6μm、ピッチ1.6μm)を有する射出成形ポリ
カーボネート樹脂基板の案内溝を有する面の中心部に滴
下したのち、この樹脂基板を1000rpmの速度で1
0秒間回転した。つぎにこの樹脂基板を40℃の雰囲気
で10分間乾燥し、樹脂基板上に実質的にフタロシアニ
ン色素のみからなる記録層成膜した。この記録層の膜
厚は120nmであった。又、この記録層の最大吸収波
長は700nmであり、650〜730nmに大きな吸
収を有していた。又、700nmに於ける吸光度は1.
1であり、770〜830nm域に於ける吸光度は0.
3以下であった。
【0020】この記録層の上に被覆層として厚さ60nm
の金の反射膜をスパッタ−法に依って成膜し、更に金の
反射膜の上にスピンコ−ト法によって紫外線硬化型樹脂
(大日本インキ株式会社製ダイキュアクリアSD−1
7)を塗布した後、紫外線を照射して8μmの保護層を
成膜し媒体を作成した。この媒体の未記録のグル−ブ部
の反射率は785nmの波長の光に対して68%であっ
た。この光記録媒体をタ−ンテ−ブルに乗せ、1.4m
/sの線速度で回転させながら、785nmの発振波長
を有する半導体レ−ザ−を搭載した光学ヘッドを有する
ドライブを用いて、レ−ザ−ビ−ムを樹脂基板を通して
案内溝上の記録層に集束するように制御しながら記録面
上で4〜10mWのレ−ザ−出力でコンパクトディスク
に用いられているのと同一の方法でEFM変調信号の記
録を行った。次に同じ装置を用いて半導体レ−ザ−の出
力を記録面で1mWにして記録した信号の読み出しを行
った。記録レ−ザ−パワ−が8mW時が最良のエラ−レ
−ト及びジッタ−値が得られ、エラ−レ−トは2×10
-3、3Tピット及び3Tピット間のピットのジッタ−は
それぞれ23ns、25nsであり、且つ記録信号の波
形には歪はほとんど観測されず、きわめて良好な記録と
読み出しが行えた。更にこの光記録媒体の耐久性を調べ
るために60℃、90%RHの高湿熱雰囲気に3ケ月
間、耐光性を調べるためにカ−ボンア−ク式耐光性試験
機に200時間それぞれ放置した後、記録膜の反射率の
測定、記録した信号の再読み出し、及び再記録を行なっ
た。反射率、エラ−レ−ト及びジッタ−とも初期と殆ど
変化はなく、耐久性試験及び耐光性試験による記録膜の
劣化はほとんど無かった。
【0021】実施例2 フタロシアニン分子中の4つのそれぞれのベンゼン環の
α位の1つに1個のビスイソプロピルメトキシ基を有す
るNi−フタロシアニンに実施例1と同じようにして臭
素を反応させ、このフタロシアニンに一分子中に平均
2.5個の臭素を導入した。次にこのフタロシアニン色
素を用いる以外は実施例1と同じようにして媒体を作っ
た。この記録層の最大吸収波長は710nmで、650
〜730nmに大きな吸収を有していた。710nmに
於ける吸光度は1.2、770〜830nm域での吸光
度は0.3以下であった。又、この媒体の反射率は78
5nmの波長の光で66%であった。次にこの媒体を実
施例1と同様にして記録、読み出しの評価を行った。、
レ−ザ−パワ−7mWの記録条件でブロックエラ−レ−
ト及びジッタ−は最良の値が得られ、それぞれブロック
エラ−レ−トは5×10-3、ジッタ−は3Tピットが2
2ns、3Tピット間が26nsであった。又、耐久
性、耐光性共に異常はなかった。
【0022】実施例3〜6、比較例1〜2 フタロシアニン分子中の4つのそれぞれのベンゼン環の
α位の1つに1個の表1に示したアルコキシ基、アルキ
ルチオ基又はアルキル基を有し且つ一分子中に表1に示
した種類と数(平均)のハロゲン及び中心金属を有する
フタロシアニン色素を用いて実施例1と同じようにして
媒体を作った。但し、実施例3〜5で用いたフタロシア
ニン色素は、実施例1と同じように、α位に表1に示し
たアルコキシ基又はメルカプトキシ基を有するフタロシ
アニン色素をブロム化することに依って合成した。一
方、実施例6で用いたフタロシアニン色素は、3-(1,3-
ジメチル- ブトキシ) フタロニトリル0.5 モル及び3-
(1,3- ジメチル- ブトキシ)-6-クロル- フタロニトリル
3.5 モルを原料として常法に依って合成した。いづれの
記録層も最大吸収波長は650〜730nm域にあり、
770〜830nm域に於ける記録層の吸光度は最大吸
収波長に於ける吸光度の1/3以下であった。次に実施
例1と同じようにして記録読み出し評価を行った。結果
は表2に纏めた。又、耐久性、耐光性試験を実施例1と
同じようにして実施したが、本発明の実施例はいずれも
異常はなかった。一方、比較例に於いたは、反射率は異
常はなかったが、ジッタ−及びエラ−レ−ト共に大幅に
増大していた。
【0023】
【表1】 (注) BIB-MET: ヒ゛ス(イソフ゛チル)-メトキシ , 4TB-CHO: 4-t-フ゛チル-シクロヘキシルオキシ , TDD-MCT: t-ト゛テ゛シルメルカフ゜トキシ , 13DM-BT: 1,3-シ゛メチル-フ゛トキシ , BIB-MET: ヒ゛ス(イソフ゛チル)-メトキシ , TDD-MCT: t-ト゛テ゛シルメルカフ゜トキシ
【0024】
【表2】
【0025】実施例7〜11 実施例1の記録膜の上に表3に示した被覆層を用いる以
外は実施例1と同じようにして媒体を製作し評価した。
結果は表4に纏めた。又、耐久性、耐光性試験に於いて
も異常はなかった。
【0026】
【表3】 紫外線硬化樹脂A:タ゛イキュアクリア SD-17(大日本インキ株
式会社製品)ポリシロキサン樹脂B:Siコ-ト 2R(大八化
学株式会社製品)紫外線硬化樹脂C:タ゛イキュアクリア SD-101
(大日本インキ株式会社製品)
【0027】
【表4】
【0028】実施例12、13 実施例1及び2の媒体を用いて、670nmの半導体レ
−ザ−を有するヘッドを搭載したレコ−ダ−を用いて
2.8m/sの線速でEFM変調信号の記録を行った。
実施例1の媒体は6.5mwの記録パワ−の時が、エラ
−レ−ト及びジッタ−共に最小となり最適記録条件であ
った。この時のエラ−レ−トは3×10-3、3Tピット
のジッタ−は23ns、3Tピット間のジッタ−は25
nsであった。又、実施例2の媒体は最適記録パワ−が
6.0mWであり、その時のエラ−レ−トは4×10-
3、3Tピットのジッタ−は23ns、3Tピット間の
ジッタ−は25nsであり両媒体共に倍速で良好な記録
が出来た。又、記録した媒体は何れも市販CDプ−ヤ−
により再生可能であった。
【0029】
【発明の効果】実施例から明らかなように本発明に於い
ては、特定のフタロシアニン色素を含有する記録層と被
覆層からなる単板型の光記録媒体にピット長記録した場
合、優れたエラ−レ−ト、ジッタ−特性を有し、且つ耐
久性、耐光性にも優れた媒体である。又、短波長レ−ザ
−により高速で記録できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村上 慎一 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三 井東圧化学株式会社内 (72)発明者 広瀬 純夫 神奈川県横浜市栄区笠間町1190番地 三 井東圧化学株式会社内 (56)参考文献 特開 平1−210388(JP,A) 特開 平1−198391(JP,A) 特開 平2−132656(JP,A) 特開 平2−147286(JP,A) 欧州特許出願公開373643(EP,A 2) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B41M 5/26 G11B 7/24

Claims (14)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明な射出成形樹脂基板上に下記一般式
    (1)で表されるフタロシアニン色素を含有する記録層
    を設け、更に該記録層の上に被覆層が設けられたピット
    長記録可能な単板型光記録媒体。 【化1】 〔式(1)に於ける置換基において、Z1とZ4、Z5
    8、Z9とZ12、Z13とZ16の組合せに於て、いずれか
    一方の置換基が下記a〜cから選ばれ、他方の置換基及
    びZ2、Z3、Z6、Z7、Z10、Z11、Z14、Z15の置換
    基が水素又はハロゲンであり、ハロゲンの数が1個以上
    4個未満である。 a.R1 b.OR2 c.SR3 (ここで、R1〜R3は、未置換又は置換アルキル基、ア
    リール基を示す。但し、上記a〜cから選ばれる置換基
    の炭素数の合計は16から100個である。)〕。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の光記録媒体に集束レーザ
    ービームによりピット長記録を行う光記録方法。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の光記録媒体に集束ビーム
    によりピット長記録により記録された光記録媒体。
  4. 【請求項4】 式(1)の色素を含有する記録層の最大
    吸収波長域が650〜730nmであり、770〜83
    0nmに於ける記録層の吸光度が最大吸収波長に於ける
    吸光度の1/3以下である請求項1記載の光記録媒体
  5. 【請求項5】 請求項4記載の光記録媒体に集束レーザ
    ービームによりピット長記録を行う光記録方法。
  6. 【請求項6】 請求項4記載の光記録媒体に集束レーザ
    ービームによりピット長記録された光記録媒体。
  7. 【請求項7】 前記被覆層が金属反射層及び保護層から
    なり、基板を通して測定した770〜830nmの波長
    の光に対する反射率が60%以上を有する光記録媒体で
    ある請求項1又は4記載の光記録媒体。
  8. 【請求項8】 前記被覆層が金属反射層及び保護層から
    なり、基板を通して測定した770〜830nmの波長
    の光に対する反射率が60%以上を有する光記録媒体を
    用いた請求項2又は5記載の光記録方法。
  9. 【請求項9】 前記被覆層が金属反射層及び保護層から
    なり、基板を通して測定した770〜830nmの波長
    の光に対する反射率が60%以上を有する光記録媒体を
    用いた請求項3又は6記載の光記録媒体。
  10. 【請求項10】 EFM変調方法によってピット長記録
    しうる請求項1、4又は7記載の光記録媒体。
  11. 【請求項11】 EFM変調方法によってピット長記録
    する請求項2、5又は8記載の光記録方法。
  12. 【請求項12】 EFM変調方法によってピット長記録
    した請求項3、6又は9記載の光記録媒体。
  13. 【請求項13】 650〜700nmの発振波長を有す
    るレーザーによって記録しうる請求項1、4、7又は1
    0記載の光記録媒体。
  14. 【請求項14】 650〜700nmの発振波長を有す
    るレーザーによって記録する請求項2、5、8又は11
    記載の光記録方法。
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