JPH03100066A - アシロキシスズフタロシアニンおよびそれを用いた情報記録材料 - Google Patents

アシロキシスズフタロシアニンおよびそれを用いた情報記録材料

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JPH03100066A
JPH03100066A JP1235732A JP23573289A JPH03100066A JP H03100066 A JPH03100066 A JP H03100066A JP 1235732 A JP1235732 A JP 1235732A JP 23573289 A JP23573289 A JP 23573289A JP H03100066 A JPH03100066 A JP H03100066A
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貴久 小口
Naoto Ito
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野1 本発明は情報記録、表示、センサー、保護眼鏡などオプ
トエレクトロニクス関連に重要な役割を果すフタロシア
ニン及びそれを用いて作製される光記録媒体、光カード
、近赤外光の捕集、遮断に関するフィルター(眼鏡を含
む)、近赤外光を用いた液晶表示素子に関する。
[従来の技術] 従来、レーザー光線により情報を記録、再生する光学的
情報記録媒体の材料として、Te合金、Te酸化物等の
無機物および種々の有機色素類が多数提案されている。
有機色素類は無機物に比べ、無公害で高感度の媒体をよ
り安価に作製できる可能性を有している0例えば、フタ
ロシアニン系、シアニン系、メロシアニン系、スクワリ
リウム基糸、ビリリウム基糸、アントラキノン系、トリ
フェニルメタン系等が挙げられるが、光学的情報記録媒
体として用いるための必要特性、すなわち、吸収波長・
感度・安定性・薄膜加工性等を全て満足するものはまだ
見出されていないのが現状である。
上記の有機色素類の中で、フタロシアニン系色素は、古
くから青色〜緑色の顔料として知られ、安定性の優れた
色素として広く用いられている。
光学的情報記録媒体の分野においても、たとえば銅フタ
ロシアニン、鉛フタロシアニン、チタニウムフタロシア
ニン、バナジルフタロシアニン、錫フタロシアニン等を
該媒体の材料として用いる提案が数多くなされている(
特開昭55−97033号公報、特開昭56−1307
42号公報、特開昭58−36490号公報、特開昭5
9−11292号公報)。
〔発明が解決しようとする課題〕
これら金属フタロシアニン系色素は吸光特性的には該記
録媒体の材料として使用可能なものであるが、欠点とし
て、有機溶媒等への溶解性に乏しく、溶液塗工による薄
膜形成が行なえないために、真空蒸着法等の物理的手段
に頼らざるを得ず、大型設備が必要になり、そのため、
加工コストも高くなるという問題があった。
本発明は前記の欠点を解決するべくなされたもので、溶
媒、液晶への溶解性、樹脂への相溶性が良好なフタロシ
アニンを見出すとともに、それを用いて、高反射率、高
感度な光記録媒体、光カード、フィルター、液晶表示素
子を提供することを目的とする。
[課題を解決する手段] 本発明者らは、前項の課題を解決すべく鋭意検討の結果
、下記一般式(I)で示される化合物を見出した。
即ち本発明は、 ’0−1.−R” [式(I)中、Y’、Y”、Y’、Y’、Y’、Y’、
Y’、Y”、Y’、Ylo、Yl、Yl2.Yl3.1
/+4、Ylll、Yl8は各々独立に、水素原子、ハ
ロゲン原子、置換または未置換のアルキル基、置換また
は未置換のアリール基、置換または未置換のアラルキル
基、置換または未置換のアルコキシ基、置換または未置
換のアリールオキシ基、置換または未置換のアルキルチ
オ基、置換または未置換のアリールチオ基な表わし、R
,R’は各々独立に置換または未置換のアルキル基、置
換または未置換のアリール基、置換または未置換のアラ
ルキル基を表わす。] で示されるアシロキシスズフタロシアニンであり、それ
を用いて作製される光記録媒体、光カード、近赤外線吸
収フィルターおよび液晶表示素子である。
本発明の上記フタロシアニンは、溶剤および樹脂溶解性
が大きく、情報記録材料としたとき、その吸光特性、反
射特性により良好な情報記録材料を得ることができる。
式(I)中のYl、Y2、Y3、Y4、YS%Y6、Y
7、Y8、Y9、Ylo、Y口、Ylll、Y13、Y
14、YIByy+6で表わされる置換または未置換の
アルキル基の例としては、炭素数1〜20の直鎖、環状
または分岐の炭化水素基;メトキシメチル、エトキシメ
チル、メトキシエチル、エトキシエチル、プロポキシエ
チル、メトキシブチル、フェノキシエチル等の直鎖また
は分岐の総炭素数1〜30のアルコキシまたはアリール
オキシアルキル基:メチルチオメチル、フェニルチオメ
チル、エチルチオエチル、メチルチオブチル等の直鎖ま
たは分岐の総炭素数1〜30のアルキルチオまたはアリ
ールチオアルキル基;N−メチルアミノメチル、N、N
−ジメチルアミノメチル、N、N−ジエチルアミノメチ
ル、N−ブチルアミノメチル、N、N−ジブチルアミノ
メチル、N、N−ジメチルアミノエチル等の直鎖または
分岐の総炭素数1〜30のアルキルアミノアルキル基;
クロルメチル、クロルエチル、クロルブチル、フロロメ
チル、フロロエチル、ブロムメチル、ブロムエチル、ヨ
ウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化ブチルなどの炭素数
1〜20のハロゲノアルキル基;トリフロロメチル、ト
リクロロメチル、ジブロムメチル、ペンタフロロエチル
、ヘプタフロロプロピル等のバーハロゲノアルキル基な
どが挙げられる。
ハロゲン原子の例としては、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子およびヨウ素原子が挙げられる。
置換または未置換のアリール基の例としては、フェニル
、ナフチル、トリル基などのフェニル誘導体、ナフチル
誘導体が挙げられ、置換または未置換のアラルキル基の
例としては、ベンジル、フェニルエチル基などが挙げら
れる。
置換または未置換のアルコキシ基の例としては、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘ
キシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ基のよ
うな炭素数1〜20の直鎖または分岐の炭化水素オキシ
基:メトキシエトキシ、ニドキシエトキシ、プロポキシ
エトキシ、ブトキシエトキシ、フェノキシエトキシ、メ
トキシエトキシエトキシ、エトキシエトキシエトキシ、
メトキシエトキシエトキシエトキシ、ヒドロキシエチル
オキシ、ヒドロキシエトキシエトキシ基など一般式A−
(OC)IK’CI(K”)u−0−[式中Aは、水素
原子、炭素数1〜6のアルキル基、またはアリール基、
に1およびに2は各々独立に水素原子、メチル基、クロ
ルメチル基、アルコキシメチル基、Uは1〜5の整数を
表わす、]で示されるオリゴエチルオキシ誘導体、N、
N−ジメチルアミノエトキシ、N、N−ジエチルアミノ
エトキシ、N、N−ジメチルアミンプロポキシ基などの
アルキルアミノアルコキシ基;エチルチオエトキシ、メ
チルチオエトキシ、フェニルチオエトキシ、メチルチオ
プロポキシ、エチルチオプロポキシ基などのアルキルチ
オまたはアリールチオアルコキシ基などが挙げられる。
置換または未置換のアリールオキシ基の例としては、フ
ェニルオキシ、ナフチルオキシ、アルキルフェニルオキ
シ、アルキルアミノフェニルオキシ、ハロゲン置換フェ
ニルオキシ、ニトロフェニルオキシ、アルコキシフェニ
ルオキシ、アルキルチオフェニルオキシ基などが挙げら
れる。
置換または未置換のアルキルチオ基の例とじては、メチ
ルチオ、エチルチオ基などの炭素数1〜30の直鎖また
は分岐の炭化水素チオ基;メトキシメチルチオ、メトキ
シエチルチオ、エトキシエチルチオ、ブトキシエチルチ
オ、メトキシエトキシエチルチオなどのオリゴアルコキ
シアルキルチオ基:メチルチオメチルチオ、エチルチオ
エチルチオ基などのオリゴアルキルチオアルキルチオ基
ユN、N−ジメチルアミンエチルチオ、N、N−ジエチ
ルアミノエチルチオ、N−メチルアミノプロピルチオ基
などのアルキルアミノアルキルチオ基;クロルエチルチ
オ、ブロムエチルチオ、ヨウ化エチルチオ、フロロエチ
ルチオ、ジクロロエチルチオ基などのハロゲン化アルキ
ルチオ基などが挙げられ、置換または未置換のアリール
チオ基の例としては、フェニルチオ、ナフチルチオ、ア
ルキルフェニルチオ、アミノフェニルチオ、アルキルア
ミノフェニルチオ、アルコキシフェニルチオ基などが挙
げられる。
また、RおよびR゛で示される置換または未置換のアル
キル基の例としては、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、2−エチルヘキシル、3.5
.5− トリメチルヘキシル、シクロヘキシル基なとの
直鎖、分岐または環状の炭素数1〜20の炭化水素基が
挙げられ、置換または未置換のアリール基の例としては
、フェニル、ナフチル、4−t−ブチルフェニル基など
の芳香族炭化水素基が挙げられ、置換または未置換のア
ラルキル基の例としては、ベンジル、フェネチル、4−
t−ブチルベンジル基等が挙げられる。
本発明の前記一般式(I)で表わされるフタロシアニン
は、スキーム1に示すように、既知の方法[例えば、J
、 Am、 Chem、 Soc、、 105.153
9(I983) ] を利用して合成できる。
〈スキーム1〉 すなわち、スキーム1に示すように、化合物(4)を得
るために、ジオール体(3)にアシル化剤を作用させて
いる。
本発明のフタロシアニンを用いてライトワンス(WOR
M)用光記録媒体を製造する方法には、透明基板上にフ
タロシアニンを塗布あるいは蒸着する方法があり、塗布
法としては、バインダー樹脂20重量%以下、好ましく
は0%と、フタロシアニン0.05重量%〜20重量%
、好ましくは0.5重量%〜20重量%となるように溶
媒に溶解し、スピンコーターで塗布する方法などがある
。また蒸着方法としては、10−”−10−’torr
、 100〜300℃にて基板上にフタロシアニンを堆
積させる方法などがある。
基板としては、光学的に透明な樹脂であればよい。例え
ばアクリル樹脂、ポリエチレン樹脂、塩化ビニール樹脂
、塩化ビニリデン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレ
ン樹脂、ポリオレフィン共重合樹脂、塩化ビニール共重
合樹脂、塩化ビニリデン共重合樹脂、スチレン共重合樹
脂などが挙げられる。
また基板は熱硬化性樹脂又は紫外線硬化性樹脂により表
面処理がなされていてもよい。
塗布溶媒としては、ハロゲン化炭化水素(例えば、ジク
ロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロ
エチレン、ジクロロジフロロエタンなど)、エーテル類
(例えば、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなど
)、ケトンB(例えば、アセトン、メチルエチルケトン
など)、アルコール類(例えば、メタノール、エタノー
ル、プロパツールなど)、セロソルブ類(メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブなど)、炭化水素類(ヘキサン
、シクロヘキサン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなど)が好適に用いられる。
CD−WO用先光記録媒体製造方法としては、色素層の
上に金、アルミニウム等の金属を蒸着あるいはスパッタ
リング等により反射層として設け、さらに紫外線硬化性
樹脂または熱硬化性樹脂等で保護層を積層する方法があ
る。
また、本発明のフタロシアニンを用いて近赤外線吸収フ
ィルターを作製する場合、その化合物の重要な性質とし
ては、樹脂と混線が出来る耐熱性を有すること、ないし
は樹脂基板を溶媒中より染色出来ることが挙げられ、か
つ、作製した成型物の光吸収特性がシャープで、しかも
高い吸収率を有する必要がある。
一般式(I)のフタロシアニンを用いて近赤外線吸収フ
ィルターを製造する方法は、樹脂と一般式(I)のフタ
ロシアニンを混合し成型する、樹脂モノマーに一般式(
I)のフタロシアニンを混ぜ注型重合する、樹脂成型物
に一般式(I)のフタロシアニンを染色する、基板材料
の表面に一般式(I)のフタロシアニンを塗布、蒸着す
る方法がある。
フィルター基材として用いる樹脂としては、透明であれ
ばよく、例えばポリスチレン、ポリメチルメタアクリレ
ート、ポリカーボネートポリエチレン、ポリプロピレン
などの熱可塑性樹脂、CR−39(PPG■、商品名)
、MR−3(三井東圧化学、商品名)、MR−6(三井
東圧化学、商品名)などの熱硬化性樹脂が好ましい。
また、表示材料として液晶と共に用いる場合、液晶への
溶解性が高い必要があり、かつ電界をかけたり、熱をか
けて液晶の状態を変化させるに際してフタロシアニンが
その変化を妨げないことが必要である。
表示材料として混合して用いる液晶としてはネマチック
液晶、スメタティック液晶、コレステリック液晶が挙げ
られ、表示方法の例としては、ゲストホスト型表示、液
晶パネル(液晶中にフタロシアニンを入れてレーザー光
にて画面を書込む)などが挙げられる。
さらに、光カードは、前記光記録媒体と同様の材質の透
明基板上に塗布または蒸着により、本発明の一般式(I
)のフタロシアニンよりなる記録層を形成することによ
って得られる。
〔実施例] 以下実施例により本発明を具体的に説明する。
但し、実施例中の部は全て重量部を示す。
夫皇ヨユ 下記構造式(A) Il で示されるジヒドロキシフタロシアニン3.0g、2一
エチルヘキサン酸クロライド15gとβ−ピコリン40
mf2を混合し、150℃で10時間反応させた。室温
まで冷却した後、3%塩酸水200m℃に排出し、析出
した結晶を濾過し、シリカゲルクロマトグラフィ(展開
溶媒 トルエン:クロロホルム=i:1)により下記構
造式(I−1)で示されるフタロシアニン誘導体900
mgを得た。
’0−C−CHC411s   CJs 元素分析 C4at(4eNaO4Sn C)IN 計算値(%)  62.15 5.00 12.08実
測値(%)  62.25 4.91 11.90前記
化合物(I−1)1部をクロロホルム20部に溶解し、
ポリカーボネート光デイスク基板に塗布した。この上に
金を蒸着し、続いて光硬化型ポリアクリル樹脂によりオ
ーバーコートした。この様にして製作した光記録媒体は
線速2.8m/secでレーザーパワー(780部m)
 10mWでC/N比60dBであり、良好な感度であ
った。また、フェードメーター 63℃/100hrs
照射後、記録層には劣化がなかった。
X皿透l 実施例1で得られたフタロシアニン誘導体(T−1)4
部をポリスチレン樹脂1000部と加熱混合し、板状に
成型した。このようにして作製したフィルターは680
〜780部mの光をよく吸収した。
夾嵐■ユ 実施例1で得られたフタロシアニン誘導体(I−1)1
部をジプチルエーテル100部に溶解し、ポリカーボネ
ート光カード基板上に塗布し、記録層面を樹脂でオーバ
ーコートして光カードを作製した。このカードは、反射
率35%、感度は780部m 、10mW、線速2.8
m/secでC/N比50dBであり、また、耐久性も
良好であった。
夫皇孤A 前記式(A)のジヒドロキシフタロシアニン2g、3,
5.5−トリメチルヘキサン酸20gとβ−ピコリン5
0mj2を混合し、 150℃で10時間加熱反応し、
反応液を実施例1と同様にして処理することにより下記
構造式(I−2)で示されるフタロシアニン誘導体60
0mgを得た。
Q   l;:Hs  C)+3 元素分析   Caol(aoNao<SnCHN 計算値(%)  62.84 5.27 11.73実
測値(%)  62.72 5.25 11.61得ら
れたフタロシアニン誘導体(I−2)4部をポリスチレ
ン樹脂1000部と加熱混合し、板状に成形した。この
ようにして作製されたフィルターは680〜780部m
の光をよく吸収した。
夾立旦二 実施例4で得られたフタロシアニン誘導体(I−2)1
部をクロロホルム20部に溶解し、ポリカーボネート光
デイスク基板に塗布した。この上に金を蒸着し、続いて
光硬化型ポリアクリル樹脂によりオーバーコートした。
この様にして製作した光記録媒体は線速2.8m/se
cでレーザーパワー(780部m) 10mWでC/N
比50dBであり、良好な感度を示した。また、フェー
ドメーター63℃/100hrs照射後、記録層には劣
化がなかった。
X血勇互 下記構造式(B) 0■ で示されるジヒドロキシフタロシアニン1g、3,5゜
5−トリメチルヘキサン酸クロライド10gとβ−ピコ
リン50gを混合し、 150℃で12時間加熱反応さ
せ、反応液を実施例1と同様にして処理することにより
下記構造式(I−3)で示されるフタロシアニン誘導体
を300mg得た。
9F)。
Z=OC)bcHzc)ICHs 元素分析   COO旧5oNaO+zsnC)IN 計算値(%)  65.72 7.97 6.81実測
値(%)  65.55 7.93 6.80得られた
フタロシアニン誘導体(I−3)1部をオクタン100
部に溶解し、ポリカーボネート光デイスク基板に塗布し
た。この光記録媒体の反射率は780nrQで33%、
感度は8 mW、  780部mのレーザーでC/N比
60dBであり、耐久性は再生光0.5mWで100万
回読み出しても変化がなかった。また耐湿熱性は温度6
0℃、湿度80%の条件で100時間変化がなかった。
夾立廻ユ 実施例6で得られたフタロシアニン誘導体(I−3)5
部をポリスチレン樹脂1000部と加熱混合し、板状に
成型した。このようにして作製したフィルターは700
〜820nmの光をよく吸収した。
衷息皿互 実施例6で得られたフタロシアニン誘導体(I−3)1
部をジブチルエーテル100部に溶解し、ポリカーボネ
ート光カード基板上に塗布し、記録層面を樹脂でオーバ
ーコートして光カードを作製した。このカードは、反射
率36%、感度は780部m 、 8mW 、線速2.
8m/secでC/N比60dBであり、また、耐久性
も良好であった。
X血」旦 下記式(C) 50gを混合し、150℃で9時間加熱反応し、反応液
を実施例1と同様にして処理することにより下記構造式
(I−4)で示されるフタロシアニン誘導体50(Im
gを得た。
 CJs ′0−υ9HC4He OC21(I1 H Q= s@ で示されるジヒドロキシフタロシアニン2g、2−エチ
ルヘキサン酸クロライド15gとβ−ピコリン−s−Q 元素分析 C5aHtaNaO4SaSn IN 計算値(%) 64.31 実測値(%)64□50 4.39 4.22 6.25 6.23 14、31 14、19 得られたフタロシアニン誘導体(I−4)1部をオクタ
ン1[10部に溶解し、ポリカーボネート光デイスク基
板に塗布した。この光記録媒体の反射率は830nmで
36%、感度は911J  830nmのレーザーでC
/N比60dBであり、耐久性は再生光0.5mWで1
00万回読み出しても変化がなかった。また耐湿熱性は
温度60℃、湿度80%の条件で100時間変化がなか
った。
K皿皿且 実施例9で得られたフタロシアニン誘導体(I−4)5
部をポリスチレン樹脂1000部と加熱混合し、板状に
成型した。このようにして作製したフィルターは750
〜880nmの光をよく吸収した。
火遊■1巳 実施例9で得られたフタロシアニン誘導体(I−4)7
部をシアノビフェニル液晶混合物1000部に溶解し、
液晶パネルを作製し、レーザー光による書込みを行なっ
たところ、鮮明な画像が得られた。
夾施ヱuk二旦 第1表に示す置換基を有する下記一般式で示される化合
物を実施例1に準じて合成し、光記録媒体として評価し
たところ、いずれも反射率、耐久性、耐樹脂相溶性など
に良好な結果を得た。
’0−C−R” [発明の効果] 以上説明したように、本発明のフタロシアニンは、溶媒
、液晶への溶解性、樹脂との相溶性が良好なものである
。更に本発明のフタロシアニンを用いた情報記録材料は
、光記録媒体、光カードとした場合、成膜時の反射率が
高く、耐久性、耐樹脂相溶性などが良好であり、フィル
ターとした場合、光吸収特性がシャープでかつ高い吸収
率を示し、液晶表示素子とした場合、コントラストが良
好である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式( I )中、Y^1、Y^2、Y^3、Y^4、Y
    ^5、Y^6、Y^7、Y^8、Y^9、Y^1^0、
    Y^1^1、Y^1^2、Y^1^3、Y^1^4、Y
    ^1^5、Y^1^6は各々独立に、水素原子、ハロゲ
    ン原子、置換または未置換のアルキル基、置換または未
    置換のアリール基、置換または未置換のアラルキル基、
    置換または未置換のアルコキシ基、置換または未置換の
    アリールオキシ基、置換または未置換のアルキルチオ基
    、置換または未置換のアリールチオ基を表わし、R、R
    ^・は各々独立に置換または未置換のアルキル基、置換
    または未置換のアリール基、置換または未置換のアラル
    キル基を表わす。〕で示されるアシロキシスズフタロシ
    アニン。 2、請求項1記載のフタロシアニンを記録層に含有して
    なる光記録媒体。 3、請求項1記載のフタロシアニンを記録層に含有して
    なる光カード。 4、請求項1記載のフタロシアニンを含有してなる近赤
    外線吸収フィルター。 5、請求項1記載のフタロシアニンを含有してなる液晶
    表示素子。
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