JPH03159786A - アゾ系色素を用いた光記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、情報の記録・保存に関する光ディスク（ＷＯ
ＲＭ，ＣＤ−ＷＯＲＭ、相変化型書替えディスク）およ
び光カードなどの光記録媒体に関する． ｔ従来の技術およびその課題〕 光ディスクや光カードなどの光記録媒体の記録層にシア
ニン色素（特開昭５８−１１２７９０　．　５６−４６
２２１など）、フタロシアニン色素（特開昭５８−３６
４９（ｌなと）、ジチオール錯体（特開昭５８−１７５
６９３など）やアントラキノン系色素（特開昭６１−２
９１６５１など）を利用することは知られている。

しかし、シアニン色素は耐光性、耐湿熱安定性が不良な
こと、フタロシアニン色素は感度、ジツターの不良なこ
と、ジチオール錯体、アントラキノン系色素はモル吸光
係数が小さくかつ半導体レーザー領域（６００〜８５０
ｎｍ）での屈折率が小さいなどの理由により、満足でき
る光記録媒体を得ることはできなかった． 〔課題を解決するための手段〕 本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、アゾ
系色素、特に下記一般式（Ｉ）［式中、ｘ１、ｘ２は各
々独立にハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水素原子
を表わし、ＸＩ，　Ｘ２が同時にハロゲン原子または水
素原子となることはない。また、ｉｌｌ％が、Ｒ３およ
びＲ４は水素原子または置換または未置換のアルキル基
を表わし、ＲｌとＲ２またはＲ２とＲ３は連結基を介し
て環を形成しても良い。３で表わされるアゾ化合物を記
録層中に含有してなる光記録媒体が、耐光性、耐候性お
よび感度において良好で、かつ、上記式（Ｉ）の化合物
は記録媒体基板への塗布性も良好であることを見出し、
本発明を完成するに至った． 従来、アゾ系色素を記録層に含有する光記録媒体は得ら
れておらず、本発明はアゾ系色素の新規な用途を提供す
るものである。

以下、特に好ましい一般式（１）の化合物について説明
する． 式（１）中、ｘ＋，　ｘｘで表わされるハロゲン原子と
しては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素である。

また、Ｒｌ，　Ｒｚ，Ｒ′およびＲ４で表される置換ま
たは未置換のアルキル基としては、直鎖または分岐のア
ルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアルコキ
シアルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシアルキ
ル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキシカ
ルボニル才キシアルキル基、アルコキシアルコキシカル
ポニルオキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ヒド
ロキシ７ルコキシアルキル基、ヒドロキシアルコキシア
ルコキシアルキル基、アシル才キシアルキル基、アシル
オキシアルコキシアルキル基、アシルオキシアルコキシ
アルコキシアルキル基およびハロゲン化アルキル基の群
から選ばれる． 直鎖または分岐のアルキル基のとしては、炭素数１〜２
０の炭化水素基で、ポリカーボネート基板、２Ｐ基板、
アクリル基板、エボキシ基板等への塗布による加工性を
考慮すれば、メチル基、エチル基、プロビル基、ｎ−ブ
チル基、ｎ−ヘキシル基、４−エチルベンチル基、２−
エチルヘキシル基、ｎ一才クチル基、３，　５．　５−
　トリメチルヘキシル基、２ーメチル−１−ｉｓｏ−プ
ロビルブロビル基、３−メチル−ｌ−ｉｓｏ−プロビル
ブチル基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プチルブチル基な
どが挙げられる． アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、エ
トキシメチル基、ブロボキシメチル基、ブトキシメチル
基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ブロボキシ
エチル基、ブトキシエチル基、ｎ−へキシルオキシエチ
ル基、４−メチルベントキシエチル基、１．３−ジメチ
ルブトキシエチル基、２−エチルへキシル才キシエチル
基、ｎ−才クチルオキシエチル基、３，　３．　５−　
トリメチルへキシルオキシエチル基、２−メチル−１−
ｊｓｏ−プロビルオキシエチル基、３−メチル−１−ｉ
ｓｏ−プロビルブチル才キシエチル基、２−エトキシ−
１−メチルエチル基、３−メトキシブチル基などの総炭
素数２〜２０のアルコキシアルキル基が挙げられる． アルコキシアルコキシアルキル基の例としては、メトキ
シエトキシエチル基、エトキシエトキシエチル基、プロ
ボキシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエチル基、
ヘキシルオキシエトキシエチル基、１．２−ジメチルブ
ロボキシエトキシエチル基、３−メチル−１−ｉｓｏ−
プチルブトキシエトキシエチル基、２−メトキシー１−
メチルエトキシエチル基、２−ブトキシ−ｌ−メチルエ
トキシエチル基、２−（２゜一エトキシ−ｌ゜−メチル
エトキシ）−１−メチルエチル基などが挙げられる。

アルコキシアルコキシアルコキシアルキル基の例として
は、メトキシエトキシエトキシエチル基、エトキシエト
キシエトキシエチル基、ブトキシエトキシエトキシエチ
ル基、２゜−（２”一エトキシ−ｌ゜゛−メチルエトキ
シ）−ｌ゛−メチルエトキシエチル基などが挙げられる
． アルコキシ力ルポニル７ルキル基の例としては、メトキ
シカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、
ブトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルエチ
ル基、エトキシカルボニルエチル基、ブトキシカルボニ
ルエチル基などが挙げられる． アルコキシカルボニル才キシアルキル基の例としては、
メトキシ力ルポニルオキシエチル基、エトキシ力ルポニ
ルオキシエチル基、ブトキシ力ルポニル才キシエチル基
などが挙げられる。

アルコキシアルコキシカルボニル才キシアルキル基の例
としては、メトキシエトキシカルボニル才キシエチル基
、エトキシエトキシカルボニルオキシエチル基、ブトキ
シエトキシ力ルポニルオキシエチル基などが挙げられる
． ヒドロキシアルキル基の例としては、２−ヒドロキシエ
チル基、４−ヒドロキシブチル基、Ｚ−ヒドロキシ−３
−メトキシブロビル基、２−ヒドロキシ−３−クロロブ
ロビル基、２−ヒドロキシ−３−エトキシブロビル基、
３−ブトキシ−２−ヒドロキシブロビル基、２−ヒドロ
キシ−３−フェノキシブロビル基、２一ヒドロキシプロ
ビル基、２−ヒドロキシブチル基などが挙げられる． ヒドロキシアルコキシアルキル基の例としては、ヒドロ
キシエトキシエチル基、２−（２゜−ヒドロキシ−ｌ゛
−メチルエトキシ）−１−メチルエチル基などが挙げら
れ、ヒドロキシアルコキシアルコキシアルキル基の例と
しては、ヒドロキシエトキシエトキシエチル基、［２゜
一（２゜゜−ヒドロキシ−１”−メチルエトキシ）−１
’−メチルエトキシ〕エトキシエチル基などが挙げられ
る。

アシルオキシアルキル基の例としては、アセトキシエチ
ル基、ブロビ才ニル才キシエチル基、プチリルオキシエ
チル基、バレリル才キシエチル基、ｌ一エチルベンチル
カルボニル才キシエチル基、２，　４．　４−　トリメ
チルベンチルカルボニルオキシエチル基などが挙げられ
、アシルオキシアルコキシアルキル基の例としては、ア
セトキシエトキシエチル基、プロビオニル才キシエトキ
シエチル基、バレリルオキシエトキシエチル基、ｌ一エ
チルベンチルカルボニルオキシエトキシエチル基、２，
　４．　４−トリメチルペンチルカルボニルオキシエト
キシエチル基などが挙げられ、アシルオキシアルコキシ
アルコキシアルキル基の例としては、アセトキシエトキ
シエトキシエチル基、プロビオニルオキシエトキシエト
キシエチル基、バレリル才キシエトキシエトキシエチル
基、ｌ一エチルペンチルカルポニルオキシエトキシエト
キシエチル基などが挙げられる． ハロゲン化アルキル基の例としては、クロルメチル基、
クロルエチル基、２，　２．　２−トリフルオロエチル
基、トリフルオロメチル基、プロムメチル基、ヨウ化エ
チル基などが挙げられる．Ｒ１と８２が連結基を介して
環を形成した例としては、−ＣＨ＊ＣＨｚ−，　−Ｃ｝
ｌｚｃＨｔｃｆｌａ−．連結基を介して環を形成した例
としては、−ＣＨｉＣＨＪＣＨａＣ｝Ｉａ−． Ｈ −ＣＨｚＣｌ｛ＪＣ｝ＩｚＣＨａ−． −ＣＨｊ！Ｎ（ＣＨｓ）！ＣＨｚ−．　−ＣＨｚＣＨｚ
ＣＨ２ＧＨｚＧＨｚ−などが挙げられる． 本発明のアゾ系色素は Ａ−ＮＨ． （Ａは置換または未置換の芳香族残基を示す．）で表わ
される芳香族アミンを常法によりジアゾ化（Ｂは置換ま
たは未置換の芳香族残基、Ｒ’，　Ｒ”は水素原子、ま
たは置換または未置換のアルキル基を示す，）で表わさ
れる芳香族アミンとカップリングすることにより容易に
得ることができる。

本発明の近赤外線吸収剤を用いて光記録媒体を製造する
方法には、透明基板上に本発明の近赤外線吸収剤を含有
する１〜３種の近赤外線吸収剤を１層または２層に塗布
あるいは蒸着する方法があり、塗布法としては、バイン
ダー樹脂２０重量％以下、好ましくはＯ％と、近赤外線
吸収剤０．０５重量％〜２０重量％、好ましくは０．５
重量％〜２０重量％となるように溶媒に溶解し、スピン
コーターで塗布する方法などがある．また蒸着方法とし
ては、１０−’−１０−’ｔｏｒｒ，　　１００〜３０
０℃にて基板上に近赤外線吸収剤を堆積させる方法など
がある。

本発明の光記録媒体に於で用いられる基板としては、光
学的に透明な樹脂で有れば良い．例えば、アクリル樹脂
、ポリエチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン
樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレン樹脂、ポリオレ
フィン共重合樹脂、塩化ビニル共重合樹脂、塩化ビニリ
デン共重合樹脂、スチレン共重合樹脂などが挙げられる
。

また基板は熱硬化性樹脂または紫外線硬化性樹脂により
表面処理がなされていてもよい。

光記録媒体（光ディスク、光カード等）を作製する場合
、コスト面、ユーザーの取扱い面より、基板はポリアク
リレート基板またはボリカーボネート基板を用い、かつ
スビンコート法により塗布されるのが好ましい。

基板の耐溶剤性より、スビンコートに用いる溶媒として
は、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素、テトラクロロエチレン、ジク
ロロジフル才ロエタンなど）、エーテル類（例えば、テ
トラヒドロフラン、ジエチルエーテルなど）、ケトン類
（例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど）、アル
コール類（例えば、メタノール、エタノール、プロバノ
ールなど）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチル
セロソルブなど）、炭化水素類（ヘキサン、シクロヘキ
サン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレンなど）
が好適に用いられる．記録媒体として加工するには、上
記のように記録層を設けた基板をエアーギャップを設け
た保護板で覆う、あるいは２枚の記録層を設けた基板を
エアーギャップを設けて対向させて張合わせる、または
記録層上に反射層（アルミニウムまたは金）を設け、熱
硬化性（光硬化性）樹脂の保護層を積層する方法がある
． 〔実施例Ｊ 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明の実施の態様はこれにより限定されるものではない． 実施例！ ２．４−ジニトロ−６〜ブロモアニリン１３部を９８％
硫酸５０部に溶解し、３０％ニトロシル硫酸２５ｇにて
ジアゾ化することにより対応するジアゾニウム塩の溶液
を得た． 次に下記式（Ａ） で示される芳香族アミン２５部を、５％硫酸水に加え、
続いてＯ℃にて上記ジアゾニウム塩溶液を加えた．Ｏ℃
、３０分攪拌した後、苛性ソーダ水溶液を加えｐＨを４
とした．沈殿物を濾過、水洗、乾燥、生成し、下記式（
Ｉ−１）の色素を２０部得た． 前記化合物（Ｉ−１）１重量部をジブチルエーテル２０
０重量部に溶解し、ボリカーボネート光ディスク基板に
塗布した．この上に金を蒸着し、続いて光硬化型ポリア
クリル樹脂によりオーバーコートして光硬化させた．こ
の様にして製作した光ディスクは線速２．　８ｍ／ｓｅ
ｃ、レーザーバワー１　０ｍＷ（７８０ｎｍ　）におい
てＣ／Ｎ比５５　ｄＢであり、良好な感度であった。ま
た、フェードメーター６３℃／１００ｈｒｓ照射後、記
録層の劣化は観察されなかった。

さらに前記化合物（Ｉ−１）１部をジブチルエーテル１
００部に溶解し、ポリカーボネート光カード基板上に塗
布し記録層面を樹脂で才一バーコートして光カードを作
製した．このカードは反射率３５％、感度は、７８０ｎ
ｍ　，　１０ｍＷ，線速１．　３ｍ／ｓｅａでＣ／Ｎ比
６０　ｄＢであり、また、耐久性も良好であった． 実施例２ 実施例１と同様にして下記式（１−２）のアゾ色素を合
成した． 前記化合物（Ｉ−２）１重量部をジブチルエーテル２０
０重量部に溶解し、ボリカーボネート光ディスク基板に
塗布した．この上に金を蒸着し、続いて光硬化型ポリア
クリル樹脂により才−バーコートして光硬化させた．こ
の様にして製作した光ディスクは線速１．　３ｍ／ｓｅ
ｃ、レーザーパワー１　０ｍＷ（７８０ｎｍ　）におい
てＣ／Ｎ比６０　ｄＢであり、良好な感度であった。ま
た、フェードメーター６３℃／ｌ００ｈｒｓ照射後、記
録層の劣化は観察されなかった。

さらに前記化合物（Ｉ−２）１部をジブチルエーテル１
００部に溶解し、ボリカーボネート光カード基板上に塗
布し記録層面を樹脂で才一バーコートして光カードを作
製した．このカードは反射率３５％、感度は、７８０ｎ
ｍ　，　１０ｍＷ、線速２．　８ｍ／ｓｅｃでＣ／Ｎ比
５０　ｄＢであり、また、耐久性も良好であった． 実施例３ 下記式（Ｂ） ０ ２部をＤ　Ｍ　Ｆ　２０部に加え、続いてＣｕＣＮ　２
部を加え８０℃、３時間反応させた．反応液をアンモニ
ア水に排出し、濾過、乾燥、精製することにより下記式
（１−３）のアゾ色素ｌ部を得た． ０ 前記化合物（Ｉ−３）１重量部をｎ一オクタン２５０重
量部に溶解し、ボリカーボネート光ディスク基板に塗布
した．この上に金を蒸着し、続いて熱硬化型ポリアクリ
ル樹脂によりオーバーコートして熱硬化させた．この様
にして製作した光ディスクは線速２．　８ｍ／ｓｅｃ，
レーザーパワー１０ｍＷ（７８０ｎｍ）においてＣ／Ｎ
比６０　ｄＢであり、良好な感度であった．また、フェ
ードメーター６３℃／！００ｈｒｓ照射後、記録層の劣
化は観察されなかった．実施例４ 実施例３と同様にして、下記式（Ｉ−４）のアゾ色素を
得た． （１−４）のアゾ色素１部を、ｎ−オクタン５０部に溶
解し、ポリカーボネート基板に塗布した。この基板２枚
をスベーサーを介して対向させて張合わせることにより
光記録媒体を得た．８ｍＷ，　　６８０ｎｍのレーザー
光にて記録を行なったところ、Ｃ／Ｎ比６０　ｄＢの信
号が得られた．この媒体の耐久性試験を６０℃、８０％
ＲＨの条件で１０００時間行なったが、得られる信号に
変化は無かった． さらにアゾ色素誘導体（１−４）１部をジブチルエーテ
ル１００部に溶解し、ボリカーボネート光カード基板上
に塗布し記録層面を樹脂でオーバーコートして光カード
を作製した．このカードは反射率３５％、感度は、７８
０ｎｍ　％１０ｍＬ線速２．　８ｍ／ｓｅａでＣ／Ｎ比
５０　ｄＢであり、また、耐久性も良好であった． 実施例５ 下式（Ｉ−５） ０ のアゾ色素１部とウレタンアクリレート型光硬化樹脂才
リゴマ−１部をメチルセロソルブ１００部に溶解し、ボ
リカーボネート樹脂基板に塗布し、光硬化させた．この
ように記録層を形成した基板２枚を記録層が対向するよ
うにスベーサーを介して張合わせ光記録媒体を作製した
． この媒体は６８１］ｎｍ，　１０ｍＷのレーザー光でＣ
／Ｎ比５０ｄＢの記録が可能であった． 実施例６〜２０ 第１表に示される置換基を有する下記一般式で表わされ
るアゾ色素を用いて実施例ｌ〜５と同様な方法にて記録
媒体を試作した． これらの媒体は、記録感度、保存安定性、再生安定性に
優れていた。

［発明の効果１ 以上説明したように、本発明のアゾ系色素を用いた光記
録媒体は、耐光性、耐湿熱安定性が良好で、また感度、
ジッター共に良好なものであり、６００〜８５０ｎｍで
の屈折率も大きく優れた光記録媒体である．

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、アゾ系色素を記録層中に含有してなる光記録媒体。 ２、アゾ系色素が下記一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） ［式中、Ｘ＾１、Ｘ＾２は各々独立にハロゲン原子、ニ
   トロ基、シアノ基、水素原子を表わし、Ｘ＾１、Ｘ＾２
   が同時にハロゲン原子または水素原子となることはない
   。また、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３およびＲ＾４は水素原
   子または置換または未置換のアルキル基を表わし、Ｒ＾
   １とＲ＾２またはＲ＾２とＲ＾３は連結基を介して環を
   形成しても良い。］で表わされるアゾ化合物であること
   を特徴とする請求項１記載の光記録媒体。 ３、置換または未置換のアルキル基が、直鎖または分岐
   のアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシアル
   コキシアルキル基、アルコキシアルコキシアルコキシア
   ルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アルコキ
   シカルボニルオキシアルキル基、アルコキシアルコキシ
   カルボニルオキシアルキル基、ヒドロキシアルキル基、
   ヒドロキシアルコキシアルキル基、ヒドロキシアルコキ
   シアルコキシアルキル基、アシルオキシアルキル基、ア
   シルオキシアルコキシアルキル基、アシルオキシアルコ
   キシアルコキシアルキル基およびハロゲン化アルキル基
   の群から選ばれることを特徴とする請求項２記載の光記
   録媒体