JP5373629B2 - 高一様性のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド材料 - Google Patents
高一様性のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5373629B2 JP5373629B2 JP2009546058A JP2009546058A JP5373629B2 JP 5373629 B2 JP5373629 B2 JP 5373629B2 JP 2009546058 A JP2009546058 A JP 2009546058A JP 2009546058 A JP2009546058 A JP 2009546058A JP 5373629 B2 JP5373629 B2 JP 5373629B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- boron
- layer
- diamond
- single crystal
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000010432 diamond Substances 0.000 title claims abstract description 147
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 146
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 65
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 108
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 title claims description 108
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 72
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 52
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 120
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 37
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 30
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 20
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 18
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 17
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 13
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 claims description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 claims description 12
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 11
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 21
- 230000005669 field effect Effects 0.000 abstract 3
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 abstract 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 27
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 23
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 10
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 238000000840 electrochemical analysis Methods 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000003090 exacerbative effect Effects 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N norethisterone Chemical compound O=C1CC[C@@H]2[C@H]3CC[C@](C)([C@](CC4)(O)C#C)[C@@H]4[C@@H]3CCC2=C1 VIKNJXKGJWUCNN-XGXHKTLJSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004044 response Effects 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000017020 Ipomoea batatas Species 0.000 description 1
- 235000002678 Ipomoea batatas Nutrition 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000003556 assay Methods 0.000 description 1
- 238000004630 atomic force microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
- 238000005136 cathodoluminescence Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000012512 characterization method Methods 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000002484 cyclic voltammetry Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000000835 electrochemical detection Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000000386 microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005424 photoluminescence Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000004439 roughness measurement Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000009827 uniform distribution Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/25—Diamond
- C01B32/28—After-treatment, e.g. purification, irradiation, separation or recovery
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
- C23C16/274—Diamond only using microwave discharges
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/26—Deposition of carbon only
- C23C16/27—Diamond only
- C23C16/278—Diamond only doping or introduction of a secondary phase in the diamond
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/10—Heating of the reaction chamber or the substrate
- C30B25/105—Heating of the reaction chamber or the substrate by irradiation or electric discharge
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B25/00—Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
- C30B25/02—Epitaxial-layer growth
- C30B25/18—Epitaxial-layer growth characterised by the substrate
- C30B25/20—Epitaxial-layer growth characterised by the substrate the substrate being of the same materials as the epitaxial layer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/02—Elements
- C30B29/04—Diamond
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/87—Investigating jewels
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/88—Investigating the presence of flaws or contamination
- G01N21/95—Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N27/00—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
- G01N27/26—Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating electrochemical variables; by using electrolysis or electrophoresis
- G01N27/28—Electrolytic cell components
- G01N27/30—Electrodes, e.g. test electrodes; Half-cells
- G01N27/308—Electrodes, e.g. test electrodes; Half-cells at least partially made of carbon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02367—Substrates
- H01L21/0237—Materials
- H01L21/02373—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/02376—Carbon, e.g. diamond-like carbon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/02521—Materials
- H01L21/02524—Group 14 semiconducting materials
- H01L21/02527—Carbon, e.g. diamond-like carbon
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02518—Deposited layers
- H01L21/0257—Doping during depositing
- H01L21/02573—Conductivity type
- H01L21/02579—P-type
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/0262—Reduction or decomposition of gaseous compounds, e.g. CVD
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02104—Forming layers
- H01L21/02365—Forming inorganic semiconducting materials on a substrate
- H01L21/02612—Formation types
- H01L21/02617—Deposition types
- H01L21/02634—Homoepitaxy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/0405—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising semiconducting carbon, e.g. diamond, diamond-like carbon
- H01L21/041—Making n- or p-doped regions
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/04—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their crystalline structure, e.g. polycrystalline, cubic or particular orientation of crystalline planes
- H01L29/045—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their crystalline structure, e.g. polycrystalline, cubic or particular orientation of crystalline planes by their particular orientation of crystalline planes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/16—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table
- H01L29/1602—Diamond
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/12—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed
- H01L29/16—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table
- H01L29/167—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the materials of which they are formed including, apart from doping materials or other impurities, only elements of Group IV of the Periodic Table further characterised by the doping material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/36—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the concentration or distribution of impurities in the bulk material
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2201/00—Features of devices classified in G01N21/00
- G01N2201/06—Illumination; Optics
- G01N2201/063—Illuminating optical parts
- G01N2201/0636—Reflectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/08—Ion sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/33—Processing objects by plasma generation characterised by the type of processing
- H01J2237/334—Etching
- H01J2237/3341—Reactive etching
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geology (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Conductive Materials (AREA)
- Battery Electrode And Active Subsutance (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Description
今日まで、この課題は、単結晶のダイヤモンド材料を用いることによって克服されると信じられてきた。例えば、米国特許第2005/0109262号明細書は、CVDによるホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドを有する電気化学的合成用電極を教示する。
しかし、本発明者らは、そのような単結晶電極は概して、ホウ素の一様性という点で多結晶質電極に比べて改善されるかもしれないが、上記の課題の多くは、単結晶CVDダイヤモンド電極においても対応していることを見つけた。
国際公開2003/052174号パンフレットは、ダイヤモンド成長が生じる基体を注意深く調製することによって、とりわけ、基体の成長表面の異方性エッチングを行うことによって、低欠陥密度と高一様性とを有するホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの厚い層を合成することができることを教示する。しかし、このアプローチは、緩慢であり、かつ、高コストである。なぜなら、利用可能な成長条件の範囲が、ピット(pit)の形成を回避する必要性によって制限されるからである。あまり制御されていない条件の下では、ダイヤモンドが比較的大きい厚さに成長するとき、ピットは、転位束の上部及び周辺の、成長したままの表面の上にしばしば存在する。それらピットは、成長している層の厚さが大きくなるにつれて、サイズが大きくなり、非一様なホウ素取り込みの領域の拡大と、ホウ素濃度を有する表面の割合の拡大とを引き起こし、従って、該表面の残部と異なる導電性を生じさせる。
電極は、ある機械的完全性を必要とし、加えて、理想的には、電気化学的に活性な表面に対して一様な電位を提供するであろうから、電極の全厚さは、かなり厚いもの(例えば、1mmを超える横方向寸法を有する電極のためには、典型的には100μm超、より典型的には300μm超)である必要がある。電気接点は、a)ダイヤモンド層の全厚さを導電性にすること、b)電気接点を提供する非ダイヤモンド基体の上に導電性のダイヤモンド薄層を接続すること、c)ダイヤモンドバッキング層であってもよい非導電性バッキング層の中を通してドリルで穴を開けて、正面の導電性層の背面との接触を作るのを可能にすること、のいずれかによって作られ得る。解決策(a)は、上述の課題で悩まされるが、解決策(b)及び(c)は、複雑であり、バルクで作るのに高コストとなり、使用中、しばしば壊れ易い。
本発明は、第2の態様において、第1の表面を有するホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層と、前記第1の表面の上のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの導電性層とを有するダイヤモンド材料であって、前記導電性層の導電率が、前記基体層の導電率に比べてより一様である、ダイヤモンド材料を提供する。
用語「一様導電性層(uniformly conductive layer)」は、以下、本発明のダイヤモンド材料のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの導電性層を称するために用いられる。
ダイヤモンド材料の外面のホウ素濃度が高一様性であること、及び/又は、導電性が一様であることの結果として、本発明の材料は、電極であって、それの一様導電性層の露出面が該電極の主要作用面を形成する電極としてとりわけ有用である。
好都合なことに、本発明の電極は、二層構造であって、各々の層がホウ素ドープトダイヤモンドを含有する二層構造を有するので、該電極は、従来のダイヤモンド電極に関連する課題を欠点として持っていない。より具体的には、本発明の電極が二層構造である結果として、デバイス全体の特性を決定するのは、一様導電性層の露出面の特性のみである。なぜなら、使用中、電極の主要作用表面となるのは、この表面であるからである。従って、本発明者らは、電極の作用表面を横切るホウ素の一様な濃度が存在するという条件で、意外にも、ホウ素濃度は材料全体にわたって一様である必要はないということを見出だした。このことは、電極を形成するダイヤモンド材料のバルクが、迅速且つ費用効果の良いやり方で、あまり厳しくない条件の下で、合成され、厚い層を成長させることができるという結果になるということを意味する。
ホウ素の分布は、電極の主要作用表面の少なくとも約40%に渡って、好ましくは少なくとも約50%に渡って、好ましくは少なくとも約60%に渡って、好ましくは少なくとも約75%に渡って、好ましくは少なくとも約85%に渡って、好ましくは少なくとも約90%に渡って、好ましくは少なくとも約95%に渡って、好ましくは少なくとも約98%に渡って一様であることが好ましい。
本発明による電極は、その表面全域で導電率の変動が小さくても問題を生じることのある分析用途及び検定用途としてとりわけ有用である。
このように、本発明は、更なる態様において、上記に規定される電極を、電気化学分析用途及び検出用途で使用する方法を提供する。
前記のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド材料の基体層の表面にホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド材料の第2の層を成長させる工程と、を含む、製造方法を更に提供する。
代替的に、基体層の表面は、材料の深さが該表面上の最深ピットの深さよりも大きい全表面から除去されるような具合に、加工処理され得る。基体層の表面の最深ピットの近似深さは、従来型光学顕微鏡法を用いて決定され得る。ピットが存在することは、全倍率が約20倍〜約100倍の間の従来型反射光顕微鏡法を用いて決定され得る。このように、いつ、材料の十分な深さが表面から除去されるかを決定することは、容易なことである。
導電率(J)=1/抵抗率(ρ)
を行うことによって決定され得る。
材料の抵抗率は、表面抵抗を測定し、次いで、得られた値をバルク抵抗率値に換算することによって計算され得る。
R=V/I
(式中、Vは、2つの測定点の間の電圧差であり、Iは、2つの測定点の間を流れる強制電流である)を用いて、表面抵抗を決定することが可能となる。
ρ=Rπt/ln2
(式中、tは、μm単位のダイヤモンド材料の厚さであり、Rは、mΩ単位の、上記に規定されるとおりに決定された抵抗である)を用いて、該材料の抵抗率を計算することができる。
本明細書で用いられる用語「導電率」とは、300Kでの材料の導電率をいう。
基体層の導電率は、好ましくは約5×103Ω−1cm−1以下、好ましくは約2×103Ω−1cm−1以下、好ましくは約1×103Ω−1cm−1以下、好ましくは約5×102Ω−1cm−1以下、好ましくは約2×102Ω−1cm−1以下、好ましくは約1×102Ω−1cm−1以下である。
基体層の導電率は、好ましくは約1×10−4Ω−1cm−1〜約1×102Ω−1cm−1、好ましくは約5×10−4Ω−1cm−1〜約2×102Ω−1cm−1、好ましくは約2×10−4Ω−1cm−1〜約5×102Ω−1cm−1、好ましくは約1×10−3Ω−1cm−1〜約1×103Ω−1cm−1、好ましくは約5×10−3Ω−1cm−1〜約2×103Ω−1cm−1、好ましくは約1×10−2Ω−1cm−1〜約5×103Ω−1cm−1の範囲にある。
一様導電性層中のホウ素の分布は、基体層中のホウ素の分布に比べてより一様である。
好ましい具体例において、一様導電性層中のホウ素の分布の一様性は、20個以上の測定値について、好ましくは30個以上の測定値について、好ましくは40個以上の測定値について、測定されたホウ素濃度の平均で割られた、測定されたホウ素濃度の標準偏差が、20個以上の測定値について、好ましくは30個以上の測定値について、好ましくは40個以上の測定値について、基体層のホウ素濃度の平均で割られた標準偏差の約80%未満、好ましくは約60%未満、好ましくは約40%未満、好ましくは約30%未満であるようなものである。
代替的に、及び/又は、追加的に、一様導電性層の導電率は、基体層の導電率に比べてより一様である。
基体層の導電率の一様性は、好ましくは、該基体層の合成に起因するピットを除去するために該基体層が加工処理された後であるが、一様導電性層が該基体層の頂部に堆積される前に測定される。一様導電性層における導電率の一様性は、あらゆる後堆積プロセスの前又は後に測定され得る。全ての後堆積プロセスが行われるならば、一様導電性層における導電率の一様性は、全ての後堆積プロセスの後に測定されることが好ましい。該一様層を注意深く除去することによって(例えば、機械的手段により除去することによって)、基体層の一様性を特徴付けることも可能である。
本発明の電極は、多くの異なる形状で用いられ得る。
本発明の電極は、アノード、カソード、又は双極電極として用いられ得る。好ましくは、本発明の電極は、アノードとして用いられる。代替的に、一様導電性層の領域のみを、電解液(例えば、微小電極アレイの電解液)にさらすことができる。
本発明の電極は、単純且つコスト効率の良い方法によって製造され得る。この件について、本発明は、電極の製造方法において、(a)ホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層の表面を、約1μm以下の表面粗さRAに加工処理する工程と、(b)前記基体層の表面にホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの第2の層を成長させて、ホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド電極を作る工程とを含む、製造方法を更に提供する。
ホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの第2の層は、好ましくは、約100μm未満、好ましくは約50μm未満、好ましくは約25μm未満の厚さを有する。
本発明の方法の第1の工程において、ホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層の表面は、約1μm以下、好ましくは約0.1μm以下、好ましくは約0.05μm以下、好ましくは約0.02μm以下、好ましくは約0.01μm以下の表面粗さRqに加工処理される。基体層が合成ダイヤモンドである場合、工程(a)で加工処理される基体層の表面は、通常、該基体層の成長したままの表面である。この工程では、当該技術分野において従来用いられているいかなる技術を使用してもよい。好ましくは、基体層の表面は、機械的に(例えば、スカイフ盤研磨、研磨加工又はラップ仕上げによって)加工処理される。
加えて、エッチング済み表面は、工程(a)の初期に調製された表面と比べてより滑らかであり、とりわけ、好ましくはエッチング済み表面(Rq A)のRqは、好ましくは約10nm未満、好ましくは約5nm未満、好ましくは約2nm未満、好ましくは約1nm未満、好ましくは約0.5nm未満、好ましくは約0.3nm未満である。
表面が、エッチングによって形成される場合、エッチングは、ダイヤモンド層の表面全体を横切って、又は、表面の中に、フォトリソグラフィー等の既知技術を用いてエッチングされた構造的特徴のような表面のある割合を横切って伸びる場合があり、表面のこの部分は、次いで、表面それ自体を形成する。
工程(b)において、工程(a)で加工処理された基体層の表面に、ホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド材料の第2の層が成長される。好都合なことに、基体層の表面は、工程(a)で加工処理されたのであるから、結果として得られた第2の層は、それの成長したままの表面にホウ素濃度の高一様性を有し、第2の層は、検知用途としてとりわけ有用となる。
好ましくは、ホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層は、CVDによるホウ素ドープトダイヤモンドである。その場合、ホウ素ドープトCVDの基体層は、実質的に結晶欠陥のない表面を有するダイヤモンド基体を提供し、ホウ素源を有する原料ガスを提供し、該原料ガスを解離し、次いで、実質的に結晶欠陥のない表面の基体の上にホモエピタキシャルダイヤモンド成長を可能にすることによって作られることが好ましい。
基体の欠陥密度は、最適化されたプラズマエッチング又は化学エッチングを用いてそれら欠陥を露呈した後、光学的評価によって最も容易に特徴付けられる。ホモエピタキシャル成長が生じる基体の表面は、約5×103/mm未満、好ましくは約102/mm未満の欠陥に関連する表面エッチングフィーチャー(surface etch features)の密度を有することが好ましい。
典型的には、本エッチングは、酸素エッチングを行い、次いで、水素エッチングを行い、次いで、炭素源ガスを導入することによって、直ちに合成に移ることから成る。
エッチング時間/温度は、感光処理によるあらゆる残留表面損傷を除去することができるように、且つ、あらゆる表面汚染物が除去されるように、但し、高度に粗くされた表面を形成することなく、且つ、表面を横切って、深いピットを生じさせる拡張欠陥(extended defect)(例えば、転位)に沿って広範囲にわたってエッチングすることなく、選定される。エッチングは攻撃的であるので、室の設計及び室の構成要素のための材料の選定が、該室のいかなる材料も、プラズマによってガス相にも基体表面にも移動しないようなものであることが、この段階のためには、とりわけ重要である。酸素エッチングの後の水素エッチングは、結晶欠陥にとってそれほど特定的ではなく、(そのような欠陥を積極的に攻撃する)酸素エッチングによって引き起こされる角のある形・輪郭に丸みをつけ、次いで、その後の成長のためにより滑らかで、より良好な表面を提供する。
原料ガスの解離は、好ましくは、反応器内でマイクロ波エネルギーを用いて実施される。それの諸実施例は、当該技術分野では知られている。しかし、反応器からのあらゆる不純物の移動は、最小限に抑えられる。ダイヤモンド成長が生じる基体表面、それの取り付け台、基体の運搬体を除くあらゆる表面から、プラズマを確実に離して配置するために、マイクロ波システムを用いることができる。好ましい取り付け台の材料の例は、タングステン、ケイ素及び炭化ケイ素である。好ましい反応器室の材料の例は、ステンレス鋼、アルミニウム、銅、金、及び白金である。
図2は、本発明の方法の具体例を例示する。
図1(a)は、電気化学的電池で用いることのできる長方形の固体ダイヤモンド電極2を示す。電極2は、第1の主要作用表面4と、第2の主要作用表面6とを有する。
図1(b)は、電気化学的電池で用いることのできる、円盤形状の固体ダイヤモンド電極2を示す。電極12は、第1の主要作用表面14と、第2の主要作用表面16とを有する。
1)約270×102Paの圧力及び約753℃の基体温度で、約10分間、O2/Ar/H2の15/75/600sccm(標準立方センチメートル/秒)を用いて、その場酸素プラズマエッチング(in situ oxygen plasma etch)を行った。
2)これは、約758℃の温度で約10分間、ガス流からO2が除去される水素エッチングに割り込みされることなく進んだ。
3)これは、約30sccmのCH4流れと一緒に、炭素源ガス(この場合、CH4)及びドーパントガスを添加することによって、成長プロセスに進んだ。制御を簡単にするためにH2に入っている名目上100ppmのB2H6の目盛り付き源を用いて、本プロセスに、BをB2H6として添加した。Bを添加は、Bについて[B2H6]/[全ガス]{式中、[B2H6]はB2H6のモル数を表し、[全ガス]は存在する全てのガスのモル数を表す}として計算されたppmとして表現される。ガス相のB濃度は、B2H61.4ppmであった。この段階での基体温度は、成長サイクルの全体にわたって約780℃であった。
4)成長サイクルは、層の厚さが約1mm厚に到達するまで続けられた。
CVDによるBドープト層は、次いで、機械的手段(スカイフによる研磨加工)によって、約735μmの厚さのプレートに加工処理され、次いで、約5mm×5mmの外側寸法にレーザー切断された。約50倍の倍率の双眼顕微鏡を用いて決定されるとき、目に見えるピットが表面に全く存在しないように、成長表面から十分な材料を除去した。成長表面のRqは、より良好であった。即ち、約1nmより小さかった。この段階で、ダイヤモンドビュー(登録商標)器具を用いて成長表面を画像化することによって、ピットは除去されてしまったが、それらピットの位置におけるホウ素濃度は、該表面上の他の場所と比べて、依然として、実質的により低かった。
ダイヤモンドビュー(登録商標)を用いた、層の試験によって、より高いホウ素濃度の領域は存在しないことが示される。二次イオン質量分析法(SIMS)による測定によって、ホウ素濃度が約5×1018cm−3であること、及び、それらピットの部位の上にある領域において、この値から有意に外れるものはないことが示される。従って、第2の成長層(即ち、導電性層)におけるホウ素の分布は、第1の成長層(即ち、基体層)におけるホウ素の分布に比べてより一様である。
Claims (14)
- 第1の表面を有するホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層と、前記第1の表面の上にホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの導電性層を有するダイヤモンド材料において、
前記導電性層中のホウ素の分布が、前記基体層中のホウ素の分布に比べてより一様であり、ここで前記導電性層及び前記基体層中のホウ素の一様性は、地点間の距離が500μm以下の20個以上の地点で二次イオン質量分析法(SIMS)測定を行うことにより測定され、前記導電性層は前記基体層と比較してより小さなホウ素濃度の標準偏差を有し、前記導電性層中のホウ素の平均濃度は、1×1018 原子/cm 3 〜8×1021原子/cm3の範囲であり、前記ホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層中のホウ素の平均濃度は、1×1018 原子/cm 3 〜8×1021原子/cm3の範囲であり、かつ、前記導電性層は、100μm以下の厚さを有するCVDダイヤモンドである、ダイヤモンド材料を有する電気化学的電極であって、該導電性層の露出面が該電極の主要作用面を形成する、上記電気化学的電極。 - 前記導電性層の導電率が、前記基体層の導電率に比べてより一様である、請求項1に記載の電気化学的電極。
- 前記基体層は、天然IIbダイヤモンド、高圧高温(HPHT)合成によるIIbダイヤモンド、又はCVDによるホウ素ドープトダイヤモンドである、請求項1又は2に記載の電気化学的電極。
- 前記基体層中のホウ素の平均濃度は、1×1021原子/cm3以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載の電気化学的電極。
- 前記導電性層中のホウ素の平均濃度は、1019〜5×1021原子/cm3の範囲である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の電気化学的電極。
- 前記導電性層は、60μm以下の厚さを有する、請求項1〜5のいずれか1項に記載の電気化学的電極。
- 検出用途における、請求項1から6のいずれか1項に記載の電気化学的電極の使用方法。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の電気化学的電極の製造方法において、
(a)ホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層の表面を、1μm以下の表面粗さRqに加工処理する工程と、
(b)前記のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド材料の基体層の表面にホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド材料の第2の層を成長させて、請求項1〜6のいずれか1項に記載の電気化学的電極を作る工程と、
を含み、前記第2の層中のホウ素の分布が、前記基体層中のホウ素の分布に比べてより一様であり、ここで前記導電性層及び前記基体層中のホウ素の一様性は、地点間の距離が500μm以下の20個以上の地点で二次イオン質量分析法(SIMS)測定を行うことにより測定され、前記導電性層は前記基体層と比較してより小さなホウ素濃度の標準偏差を有し、前記第2の層中のホウ素の平均濃度は、1×1018〜8×1021原子/cm3の範囲であり、前記ホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層中のホウ素の平均濃度は、1×1018〜8×1021原子/cm3の範囲であり、かつ、前記第2の層は、100μm未満の厚さを有するCVDダイヤモンドである、上記製造方法。 - 前記表面粗さRqが、0.1μm以下である、請求項8に記載の方法。
- 工程(a)の後で工程(b)の前に、前記のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層の表面の等方性エッチングを行う、請求項8又は9に記載の方法。
- 等方性エッチングの後のRqが、10nm以下である、請求項10に記載の方法。
- 前記等方性エッチングが、前記のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層の表面から、0.2μm以上の厚さの材料を除去する、請求項10又は11に記載の方法。
- 前記のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンドの基体層は、CVDによるホウ素ドープトダイヤモンドである、請求項8から12のいずれか1項に記載の方法。
- 前記の単結晶ダイヤモンドの第2の層は、ホウ素の源を含有する原料ガスを提供する工程と、前記原料ガスを解離する工程と、前記基体表面にホモエピタキシャル成長を行う工程とによって作られ、ダイヤモンド成長が起こる前記基体表面の上の欠陥に関連する表面エッチングピットの密度が、5×103/mm2未満である、請求項8〜13のいずれか1項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB0701186A GB0701186D0 (en) | 2007-01-22 | 2007-01-22 | Electronic field effect devices and methods for their manufacture |
GB0701186.9 | 2007-01-22 | ||
GB0705524A GB0705524D0 (en) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | Plasma etching of diamond surfaces |
GBGB0705523.9A GB0705523D0 (en) | 2007-01-22 | 2007-03-22 | Diamond electronic devices and methods for their manufacture |
GB0705523.9 | 2007-03-22 | ||
GB0705524.7 | 2007-03-22 | ||
GBGB0709716.5A GB0709716D0 (en) | 2007-01-22 | 2007-05-21 | Diamond electronic devices including a surface and methods for their manufacture |
GB0709716.5 | 2007-05-21 | ||
GB0713464A GB0713464D0 (en) | 2007-07-11 | 2007-07-11 | High uniformity boron doped diamond material |
GB0713464.6 | 2007-07-11 | ||
PCT/IB2008/050214 WO2008090510A1 (en) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | High uniformity boron doped diamond material |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010516600A JP2010516600A (ja) | 2010-05-20 |
JP5373629B2 true JP5373629B2 (ja) | 2013-12-18 |
Family
ID=39644161
Family Applications (6)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009546060A Pending JP2010517261A (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | 電子電界効果デバイス及びそれらの製造方法 |
JP2009546059A Expired - Fee Related JP5341774B2 (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | ダイヤモンド表面のプラズマエッチング |
JP2009546058A Expired - Fee Related JP5373629B2 (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | 高一様性のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド材料 |
JP2009546062A Pending JP2010517263A (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | ダイヤモンド電子デバイス及びそれらの製造方法 |
JP2009546061A Expired - Fee Related JP5725713B2 (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | 表面を含むダイヤモンド電子デバイス及びそれらの製造方法 |
JP2013095241A Active JP5714052B2 (ja) | 2007-01-22 | 2013-04-30 | ダイヤモンド表面のプラズマエッチング |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009546060A Pending JP2010517261A (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | 電子電界効果デバイス及びそれらの製造方法 |
JP2009546059A Expired - Fee Related JP5341774B2 (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | ダイヤモンド表面のプラズマエッチング |
Family Applications After (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009546062A Pending JP2010517263A (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | ダイヤモンド電子デバイス及びそれらの製造方法 |
JP2009546061A Expired - Fee Related JP5725713B2 (ja) | 2007-01-22 | 2008-01-22 | 表面を含むダイヤモンド電子デバイス及びそれらの製造方法 |
JP2013095241A Active JP5714052B2 (ja) | 2007-01-22 | 2013-04-30 | ダイヤモンド表面のプラズマエッチング |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (8) | US8193538B2 (ja) |
EP (6) | EP2719794B1 (ja) |
JP (6) | JP2010517261A (ja) |
WO (5) | WO2008090511A1 (ja) |
Families Citing this family (67)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2719794B1 (en) | 2007-01-22 | 2018-08-22 | Element Six Technologies Limited | Plasma etching of diamond surfaces |
JP5223201B2 (ja) * | 2007-01-29 | 2013-06-26 | 日本電気株式会社 | 電界効果トランジスタ |
GB0813491D0 (en) | 2008-07-23 | 2008-08-27 | Element Six Ltd | Diamond Material |
GB0813490D0 (en) | 2008-07-23 | 2008-08-27 | Element Six Ltd | Solid state material |
GB0816769D0 (en) * | 2008-09-12 | 2008-10-22 | Warwick Ventures | Boron-doped diamond |
GB0819001D0 (en) | 2008-10-16 | 2008-11-26 | Diamond Detectors Ltd | Contacts on diamond |
JP5521132B2 (ja) * | 2008-10-20 | 2014-06-11 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド電子素子 |
US20100101010A1 (en) * | 2008-10-24 | 2010-04-29 | Watkins Manufacturing Corporation | Chlorinator for portable spas |
JP2010161330A (ja) * | 2008-12-08 | 2010-07-22 | Hitachi Cable Ltd | 圧電薄膜素子 |
US8384129B2 (en) * | 2009-06-25 | 2013-02-26 | The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy | Transistor with enhanced channel charge inducing material layer and threshold voltage control |
US8266736B2 (en) * | 2009-07-16 | 2012-09-18 | Watkins Manufacturing Corporation | Drop-in chlorinator for portable spas |
JP5112404B2 (ja) * | 2009-09-01 | 2013-01-09 | 日本電信電話株式会社 | ダイヤモンド電界効果トランジスタ |
GB2479587A (en) | 2010-04-16 | 2011-10-19 | Diamond Detectors Ltd | Diamond microelectrode |
FR2959657B1 (fr) * | 2010-05-06 | 2012-06-22 | Commissariat Energie Atomique | Transducteur de variation temporelle de température, puce électronique incorporant ce transducteur et procédé de fabrication de cette puce |
GB201015270D0 (en) * | 2010-09-14 | 2010-10-27 | Element Six Ltd | Diamond electrodes for electrochemical devices |
JP5747245B2 (ja) * | 2010-10-14 | 2015-07-08 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | 電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
GB201021913D0 (en) | 2010-12-23 | 2011-02-02 | Element Six Ltd | Microwave plasma reactors and substrates for synthetic diamond manufacture |
GB201021865D0 (en) | 2010-12-23 | 2011-02-02 | Element Six Ltd | A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material |
GB201021855D0 (en) | 2010-12-23 | 2011-02-02 | Element Six Ltd | Microwave power delivery system for plasma reactors |
MY173889A (en) * | 2010-12-23 | 2020-02-26 | Element Six Ltd | Controlling doping of synthetic diamond material |
GB201021870D0 (en) | 2010-12-23 | 2011-02-02 | Element Six Ltd | A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material |
GB201021860D0 (en) | 2010-12-23 | 2011-02-02 | Element Six Ltd | A microwave plasma reactor for diamond synthesis |
GB201021853D0 (en) | 2010-12-23 | 2011-02-02 | Element Six Ltd | A microwave plasma reactor for manufacturing synthetic diamond material |
GB201104579D0 (en) * | 2011-03-18 | 2011-05-04 | Element Six Ltd | Diamond based electrochemical sensors |
EP2511229B1 (de) * | 2011-04-12 | 2017-03-08 | GFD Gesellschaft für Diamantprodukte mbH | Flankenverstärktes mikromechanisches Bauteil |
US8624667B2 (en) * | 2011-12-05 | 2014-01-07 | Mitsubishi Electric Research Laboratories, Inc. | High electron mobility transistors with multiple channels |
JP5759398B2 (ja) * | 2012-02-21 | 2015-08-05 | 日本電信電話株式会社 | ダイヤモンド電界効果トランジスタ及びその作成方法 |
GB201204388D0 (en) | 2012-03-13 | 2012-04-25 | Element Six Ltd | Synthetic diamond materials for electrochemical sensing applications |
US9359213B2 (en) * | 2012-06-11 | 2016-06-07 | The Board Of Regents Of The Nevada System Of Higher Education On Behalf Of The University Of Nevada, Las Vegas | Plasma treatment to strengthen diamonds |
EP2888596B1 (en) * | 2012-08-22 | 2022-07-20 | President and Fellows of Harvard College | Nanoscale scanning sensors |
WO2014040650A1 (en) | 2012-09-17 | 2014-03-20 | Element Six Limited | Diamond microelectrode |
GB201310212D0 (en) | 2013-06-07 | 2013-07-24 | Element Six Ltd | Post-synthesis processing of diamond and related super-hard materials |
GB201322837D0 (en) | 2013-12-23 | 2014-02-12 | Element Six Ltd | Polycrystalline chemical vapour deposited diamond tool parts and methods of fabricating mounting and using the same |
CN106574393B (zh) * | 2014-07-22 | 2019-10-08 | 住友电气工业株式会社 | 单晶金刚石及其制造方法、包含单晶金刚石的工具和包含单晶金刚石的部件 |
CN104233216B (zh) * | 2014-10-09 | 2016-04-20 | 南京航空航天大学 | 一种表面具有纳米结构阵列钛基掺硼金刚石电极的制备方法 |
CN108883407A (zh) | 2015-12-16 | 2018-11-23 | 阿马斯坦技术有限责任公司 | 球状脱氢金属和金属合金颗粒 |
KR102496037B1 (ko) * | 2016-01-20 | 2023-02-06 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 식각 방법 및 장치 |
US9922791B2 (en) | 2016-05-05 | 2018-03-20 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University | Phosphorus doped diamond electrode with tunable low work function for emitter and collector applications |
US10121657B2 (en) | 2016-05-10 | 2018-11-06 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University | Phosphorus incorporation for n-type doping of diamond with (100) and related surface orientation |
US10704160B2 (en) | 2016-05-10 | 2020-07-07 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University | Sample stage/holder for improved thermal and gas flow control at elevated growth temperatures |
JP7161158B2 (ja) * | 2016-07-14 | 2022-10-26 | アダマンド並木精密宝石株式会社 | ダイヤモンド基板層の製造方法 |
JP6201025B1 (ja) * | 2016-10-14 | 2017-09-20 | 住友化学株式会社 | 偏光子、偏光板及び画像表示装置 |
US10418475B2 (en) | 2016-11-28 | 2019-09-17 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of Arizona State University | Diamond based current aperture vertical transistor and methods of making and using the same |
US11183390B2 (en) * | 2017-08-15 | 2021-11-23 | Nokomis, Inc. | Method of enhancing a DLC coated surface for enhanced multipaction resistance |
JP6755223B2 (ja) * | 2017-08-25 | 2020-09-16 | 住友化学株式会社 | 偏光子、偏光板及び画像表示装置 |
CN107731915B (zh) * | 2017-10-12 | 2024-01-30 | 中国电子科技集团公司第十三研究所 | 半导体器件及利用突变异质结形成金刚石p型导电沟道的方法 |
DE102018208692A1 (de) | 2018-06-01 | 2019-12-05 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Herstellung homoepitaktischer Diamantschichten |
EP3830321A1 (en) * | 2018-07-27 | 2021-06-09 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Non-contact polishing of a crystalline layer or substrate by ion beam etching |
GB2582942A (en) * | 2019-04-09 | 2020-10-14 | Element Six Uk Ltd | Boron doped synthetic diamond material |
AU2020264446A1 (en) | 2019-04-30 | 2021-11-18 | 6K Inc. | Mechanically alloyed powder feedstock |
WO2020230317A1 (ja) * | 2019-05-16 | 2020-11-19 | 日本電信電話株式会社 | 半導体積層構造 |
KR102272513B1 (ko) * | 2019-08-22 | 2021-07-05 | 한국산업기술대학교산학협력단 | 분극에 의한 계면의 고이동도 이차원 전하를 형성하는 방법 및 다이아몬드반도체 접합 소자 |
US11315951B2 (en) * | 2019-11-11 | 2022-04-26 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Semiconductor device and method of fabricating the same |
AU2020400980A1 (en) | 2019-11-18 | 2022-03-31 | 6K Inc. | Unique feedstocks for spherical powders and methods of manufacturing |
US11590568B2 (en) | 2019-12-19 | 2023-02-28 | 6K Inc. | Process for producing spheroidized powder from feedstock materials |
CN111646633B (zh) * | 2020-05-11 | 2022-11-04 | 南京岱蒙特科技有限公司 | 一种高效节能三维电极有机水处理系统及其处理水的方法 |
CN111647874B (zh) * | 2020-05-11 | 2022-06-21 | 南京岱蒙特科技有限公司 | 一种陶瓷衬底的高比表面积硼掺杂金刚石电极及其制备方法和应用 |
CN111681958A (zh) * | 2020-05-29 | 2020-09-18 | 华南理工大学 | 一种新型异质结构镁扩散制备常关型hemt器件的方法 |
CA3180426A1 (en) | 2020-06-25 | 2021-12-30 | Richard K. Holman | Microcomposite alloy structure |
US11963287B2 (en) | 2020-09-24 | 2024-04-16 | 6K Inc. | Systems, devices, and methods for starting plasma |
AU2021371051A1 (en) | 2020-10-30 | 2023-03-30 | 6K Inc. | Systems and methods for synthesis of spheroidized metal powders |
CN112795945B (zh) * | 2020-12-10 | 2022-03-08 | 深圳先进技术研究院 | 高臭氧催化活性金刚石电极及其制备方法和应用 |
AU2022246797A1 (en) | 2021-03-31 | 2023-10-05 | 6K Inc. | Systems and methods for additive manufacturing of metal nitride ceramics |
US12040162B2 (en) | 2022-06-09 | 2024-07-16 | 6K Inc. | Plasma apparatus and methods for processing feed material utilizing an upstream swirl module and composite gas flows |
US12094688B2 (en) | 2022-08-25 | 2024-09-17 | 6K Inc. | Plasma apparatus and methods for processing feed material utilizing a powder ingress preventor (PIP) |
GB202219497D0 (en) | 2022-12-22 | 2023-02-08 | Element Six Tech Ltd | Single crystal diamond |
GB202404485D0 (en) | 2024-03-05 | 2024-05-15 | Element Six Tech Ltd | Erbium doped single crystal diamond |
Family Cites Families (74)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60246627A (ja) | 1984-05-21 | 1985-12-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | ダイヤモンド半導体素子 |
JP2542608B2 (ja) | 1987-03-09 | 1996-10-09 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド半導体のエツチング方法 |
GB8812216D0 (en) | 1988-05-24 | 1988-06-29 | Jones B L | Diamond transistor method of manufacture thereof |
JPH03205339A (ja) | 1989-12-30 | 1991-09-06 | Kawasaki Refract Co Ltd | 炭素含有耐火物 |
JP2633968B2 (ja) * | 1989-12-30 | 1997-07-23 | キヤノン株式会社 | ダイヤモンド被覆材及びその製造法 |
JP2913765B2 (ja) | 1990-05-21 | 1999-06-28 | 住友電気工業株式会社 | シヨツトキー接合の形成法 |
JPH04240725A (ja) | 1991-01-24 | 1992-08-28 | Sumitomo Electric Ind Ltd | エッチング方法 |
US5173761A (en) | 1991-01-28 | 1992-12-22 | Kobe Steel Usa Inc., Electronic Materials Center | Semiconducting polycrystalline diamond electronic devices employing an insulating diamond layer |
JPH05139889A (ja) * | 1991-11-21 | 1993-06-08 | Canon Inc | ダイヤモンド結晶 |
JPH05299635A (ja) * | 1992-04-23 | 1993-11-12 | Kobe Steel Ltd | 耐熱性オーミック電極を備えたダイヤモンド薄膜及びその製造方法 |
US5276338A (en) | 1992-05-15 | 1994-01-04 | International Business Machines Corporation | Bonded wafer structure having a buried insulation layer |
US5500077A (en) * | 1993-03-10 | 1996-03-19 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Method of polishing/flattening diamond |
US5371383A (en) * | 1993-05-14 | 1994-12-06 | Kobe Steel Usa Inc. | Highly oriented diamond film field-effect transistor |
JPH0786311A (ja) * | 1993-05-14 | 1995-03-31 | Kobe Steel Ltd | 高配向性ダイヤモンド薄膜電界効果トランジスタ |
GB2281254B (en) | 1993-08-23 | 1996-11-27 | Northern Telecom Ltd | Polishing polycrystalline films |
US5609926A (en) | 1994-03-21 | 1997-03-11 | Prins; Johan F. | Diamond doping |
JP3309887B2 (ja) | 1994-08-17 | 2002-07-29 | 住友電気工業株式会社 | 半導体装置 |
US5814194A (en) * | 1994-10-20 | 1998-09-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd | Substrate surface treatment method |
US5711698A (en) | 1995-05-05 | 1998-01-27 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corp | Method of synthetic diamond ablation with an oxygen plasma and synthetic diamonds etched accordingly |
US5803967A (en) * | 1995-05-31 | 1998-09-08 | Kobe Steel Usa Inc. | Method of forming diamond devices having textured and highly oriented diamond layers therein |
JPH111399A (ja) * | 1996-12-05 | 1999-01-06 | Lg Electron Inc | 窒化ガリウム半導体単結晶基板の製造方法並びにその基板を用いた窒化ガリウムダイオード |
US6013191A (en) | 1997-10-27 | 2000-01-11 | Advanced Refractory Technologies, Inc. | Method of polishing CVD diamond films by oxygen plasma |
US6582513B1 (en) * | 1998-05-15 | 2003-06-24 | Apollo Diamond, Inc. | System and method for producing synthetic diamond |
US6074888A (en) * | 1998-08-18 | 2000-06-13 | Trw Inc. | Method for fabricating semiconductor micro epi-optical components |
DE19842396A1 (de) | 1998-09-16 | 2000-04-13 | Fraunhofer Ges Forschung | Elektrode für elektrochemische Prozesse |
KR100305660B1 (ko) * | 1999-02-09 | 2001-09-26 | 김희용 | 이중이온빔법을 이용하여 CuO를 첨가한 황화합물계 가스 센서 |
US6508911B1 (en) | 1999-08-16 | 2003-01-21 | Applied Materials Inc. | Diamond coated parts in a plasma reactor |
US8696875B2 (en) * | 1999-10-08 | 2014-04-15 | Applied Materials, Inc. | Self-ionized and inductively-coupled plasma for sputtering and resputtering |
US6605352B1 (en) * | 2000-01-06 | 2003-08-12 | Saint-Gobain Ceramics & Plastics, Inc. | Corrosion and erosion resistant thin film diamond coating and applications therefor |
US6652763B1 (en) | 2000-04-03 | 2003-11-25 | Hrl Laboratories, Llc | Method and apparatus for large-scale diamond polishing |
KR100839707B1 (ko) | 2000-06-15 | 2008-06-19 | 엘리먼트 씩스 (프티) 리미티드 | 두꺼운 단결정 다이아몬드 층, 이의 제조방법 및 상기층으로부터 제조된 젬스톤 |
CA2412853C (en) | 2000-06-15 | 2009-08-25 | Geoffrey Alan Scarsbrook | Single crystal diamond prepared by cvd |
JP2002057167A (ja) | 2000-08-10 | 2002-02-22 | Kobe Steel Ltd | 半導体素子及びその製造方法 |
JP3908898B2 (ja) | 2000-08-25 | 2007-04-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 炭素系材料のエッチング方法 |
JP2002118257A (ja) * | 2000-10-06 | 2002-04-19 | Kobe Steel Ltd | ダイヤモンド半導体装置 |
US7132309B2 (en) * | 2003-04-22 | 2006-11-07 | Chien-Min Sung | Semiconductor-on-diamond devices and methods of forming |
JP2002226290A (ja) * | 2000-11-29 | 2002-08-14 | Japan Fine Ceramics Center | ダイヤモンド加工体の製造方法、及び、ダイヤモンド加工体 |
JP3681340B2 (ja) * | 2001-04-25 | 2005-08-10 | 日本電信電話株式会社 | 電子素子 |
CA2456847C (en) | 2001-08-08 | 2013-04-23 | Apollo Diamond, Inc. | System and method for producing synthetic diamond |
TW525863U (en) * | 2001-10-24 | 2003-03-21 | Polytronics Technology Corp | Electric current overflow protection device |
GB0130005D0 (en) * | 2001-12-14 | 2002-02-06 | Diamanx Products Ltd | Boron doped diamond |
CA2472271A1 (en) * | 2002-01-03 | 2003-07-17 | Gary M. Hieftje | Simultaneous acquisation of chemical information |
JP2003347580A (ja) | 2002-05-28 | 2003-12-05 | Tokyo Gas Co Ltd | ダイヤモンド紫外線発光素子 |
AU2003242456A1 (en) | 2002-06-18 | 2003-12-31 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | N-type semiconductor diamond producing method and semiconductor diamond |
GB0221949D0 (en) | 2002-09-20 | 2002-10-30 | Diamanx Products Ltd | Single crystal diamond |
GB0227261D0 (en) * | 2002-11-21 | 2002-12-31 | Element Six Ltd | Optical quality diamond material |
JP2004292172A (ja) * | 2003-02-04 | 2004-10-21 | Mitsubishi Materials Corp | ダイヤモンド単結晶基材及びその製造方法 |
JP4076889B2 (ja) * | 2003-03-26 | 2008-04-16 | Tdk株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP4683836B2 (ja) * | 2003-12-12 | 2011-05-18 | 株式会社神戸製鋼所 | ダイヤモンド半導体素子及びその製造方法 |
US7481879B2 (en) * | 2004-01-16 | 2009-01-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Diamond single crystal substrate manufacturing method and diamond single crystal substrate |
JP4525897B2 (ja) | 2004-03-22 | 2010-08-18 | 住友電気工業株式会社 | ダイヤモンド単結晶基板 |
US7033912B2 (en) | 2004-01-22 | 2006-04-25 | Cree, Inc. | Silicon carbide on diamond substrates and related devices and methods |
EP1571241A1 (en) | 2004-03-01 | 2005-09-07 | S.O.I.T.E.C. Silicon on Insulator Technologies | Method of manufacturing a wafer |
US20080117509A1 (en) * | 2004-06-30 | 2008-05-22 | Zeon Corporation | Electromagnetic Wave Shielding Grid Polarizer and Its Manufacturing Method and Grid Polarizer Manufacturing Method |
WO2006013430A1 (en) | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Element Six Limited | Diamond electrodes |
JP4911743B2 (ja) * | 2004-09-10 | 2012-04-04 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 電気化学素子及びその製造方法 |
JP4487035B2 (ja) | 2004-09-10 | 2010-06-23 | 凸版印刷株式会社 | ダイヤモンド膜のパターン形成方法 |
JP2008513225A (ja) * | 2004-09-23 | 2008-05-01 | コムコン・アーゲー | 切削工具、およびこれを製造する方法 |
US7455883B2 (en) * | 2004-10-19 | 2008-11-25 | Guardian Industries Corp. | Hydrophilic DLC on substrate with flame pyrolysis treatment |
EP1848526B1 (en) | 2004-12-09 | 2021-03-17 | Element Six Technologies Limited | A method of improving the crystalline perfection of diamond crystals |
CN101203939B (zh) * | 2005-01-11 | 2010-06-16 | 阿波罗钻石公司 | 加工金刚石的方法以及利用金刚石半导体的器械 |
JP4582542B2 (ja) | 2005-02-02 | 2010-11-17 | 株式会社神戸製鋼所 | ダイヤモンド電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
JP2006269534A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Eudyna Devices Inc | 半導体装置及びその製造方法、その半導体装置製造用基板及びその製造方法並びにその半導体成長用基板 |
JP5002982B2 (ja) | 2005-04-15 | 2012-08-15 | 住友電気工業株式会社 | 単結晶ダイヤモンドの製造方法 |
JPWO2006114999A1 (ja) * | 2005-04-18 | 2008-12-18 | 国立大学法人京都大学 | 化合物半導体装置及び化合物半導体製造方法 |
GB0508889D0 (en) * | 2005-04-29 | 2005-06-08 | Element Six Ltd | Diamond transistor and method of manufacture thereof |
JP2006324465A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
EP1920080B1 (en) | 2005-06-22 | 2011-11-30 | Element Six Limited | High colour diamond |
JP4500745B2 (ja) * | 2005-08-03 | 2010-07-14 | ペルメレック電極株式会社 | 電解用電極の製造方法 |
EP1957689B1 (en) | 2005-12-09 | 2011-04-20 | Element Six Technologies (PTY) LTD | High crystalline quality synthetic diamond |
KR100779078B1 (ko) * | 2005-12-09 | 2007-11-27 | 한국전자통신연구원 | 빛의 방출 효율을 향상시킬 수 있는 실리콘 발광 소자 및그 제조방법 |
US7557378B2 (en) * | 2006-11-08 | 2009-07-07 | Raytheon Company | Boron aluminum nitride diamond heterostructure |
GB0700984D0 (en) * | 2007-01-18 | 2007-02-28 | Element Six Ltd | Polycrystalline diamond elements having convex surfaces |
EP2719794B1 (en) | 2007-01-22 | 2018-08-22 | Element Six Technologies Limited | Plasma etching of diamond surfaces |
-
2008
- 2008-01-22 EP EP13174114.2A patent/EP2719794B1/en active Active
- 2008-01-22 US US12/523,960 patent/US8193538B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-22 EP EP08702488A patent/EP2108063A2/en not_active Withdrawn
- 2008-01-22 JP JP2009546060A patent/JP2010517261A/ja active Pending
- 2008-01-22 WO PCT/IB2008/050215 patent/WO2008090511A1/en active Application Filing
- 2008-01-22 US US12/523,949 patent/US8277622B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-22 US US12/523,956 patent/US9034200B2/en active Active
- 2008-01-22 EP EP08702487A patent/EP2108062A2/en not_active Withdrawn
- 2008-01-22 WO PCT/IB2008/050214 patent/WO2008090510A1/en active Application Filing
- 2008-01-22 JP JP2009546059A patent/JP5341774B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-22 WO PCT/IB2008/050219 patent/WO2008090514A2/en active Application Filing
- 2008-01-22 JP JP2009546058A patent/JP5373629B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-22 JP JP2009546062A patent/JP2010517263A/ja active Pending
- 2008-01-22 US US12/523,968 patent/US20100038653A1/en not_active Abandoned
- 2008-01-22 EP EP08702485.7A patent/EP2108054B1/en active Active
- 2008-01-22 JP JP2009546061A patent/JP5725713B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2008-01-22 US US12/523,963 patent/US20100078652A1/en not_active Abandoned
- 2008-01-22 WO PCT/IB2008/050216 patent/WO2008090512A1/en active Application Filing
- 2008-01-22 EP EP08702486.5A patent/EP2108195B1/en not_active Not-in-force
- 2008-01-22 WO PCT/IB2008/050218 patent/WO2008090513A2/en active Application Filing
- 2008-01-22 EP EP08702484A patent/EP2118335A1/en not_active Withdrawn
-
2012
- 2012-05-08 US US13/466,730 patent/US8362492B2/en active Active
- 2012-12-20 US US13/722,857 patent/US8648354B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-04-30 JP JP2013095241A patent/JP5714052B2/ja active Active
-
2015
- 2015-04-13 US US14/685,553 patent/US10011491B2/en active Active
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5373629B2 (ja) | 高一様性のホウ素ドープト単結晶ダイヤモンド材料 | |
Wang et al. | The structural and electrochemical properties of boron-doped nanocrystalline diamond thin-film electrodes grown from Ar-rich and H2-rich source gases | |
KR101481928B1 (ko) | 합성 다이아몬드 물질의 도핑을 제어하는 방법 | |
US20130327640A1 (en) | Diamond based electrochemical sensors | |
JP4546472B2 (ja) | ダイヤモンドマイクロ電極 | |
JP4754032B2 (ja) | ダイヤモンド放射線検出器 | |
US7314540B2 (en) | Diamond-coated electrode and method for producing same | |
Li et al. | Investigation on crystalline structure, boron distribution, and residual stresses in freestanding boron-doped CVD diamond films | |
Chang et al. | Novel Passivation Dielectrics—The Boron‐or Phosphorus‐Doped Hydrogenated Amorphaus Silicon Carbide Films | |
Arnault et al. | Mechanisms of CVD diamond nucleation and growth on mechanically scratched Si (100) surfaces | |
TWI329143B (en) | Nano thin film diamond electrode and method for producing the same | |
Yu et al. | Preparation, characterization and electrochemical properties of boron-doped diamond films on Nb substrates | |
JP6752213B2 (ja) | 単結晶ダイヤモンド、これを用いた工具及び単結晶ダイヤモンドの製造方法 | |
Ficek et al. | Stable field electron emission and plasma illumination from boron and nitrogen Co‐doped edge‐rich diamond‐enhanced carbon nanowalls | |
Eichfeld et al. | Resistivity measurements of intentionally and unintentionally template-grown doped silicon nanowire arrays | |
Petherbridge et al. | Sulfur doping of diamond films: Spectroscopic, electronic, and gas-phase studies | |
US6902716B2 (en) | Fabrication of single crystal diamond tips and their arrays | |
Yanagisawa et al. | Surface morphology and electrochemical properties of highly boron-doped homoepitaxial diamond films | |
Pleskov et al. | Effect of crystal structure on the electrochemical behaviour of synthetic semiconductor diamond: Comparison of growth and a nucleation surfaces of a coarse-grained polycrystalline film | |
TWI271450B (en) | Boron doped diamond | |
JP7421018B1 (ja) | ダイヤモンド膜堆積基板、およびダイヤモンド膜堆積基板の製造方法 | |
JP7348422B1 (ja) | ダイヤモンド電極、およびダイヤモンド電極の製造方法 | |
Ivashchenko et al. | Gap states in a-SiC from optical measurements and band structure models | |
Ralchenko et al. | Comparative measurements of acceptor concentration at the growth and nucleation side of microwave plasma CVD polycrystalline diamond films | |
Nugera et al. | Effect of CH4 concentration on the early growth stage of patterned diamond using high seeding density and hot filament chemical vapor deposition |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100802 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120821 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120824 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20121122 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130201 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130430 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130509 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20130530 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20130606 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130701 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130917 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130919 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |