JP6752213B2 - 単結晶ダイヤモンド、これを用いた工具及び単結晶ダイヤモンドの製造方法 - Google Patents
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Description
特許文献1の技術では、単結晶ダイヤモンド中の導電層として、ホウ素ドープ層やイオン注入層を形成している。該単結晶ダイヤモンドを用いた工具では、単結晶ダイヤモンドの外部部材との電気的なコンタクトが可能な導電層が露出している側面を、工具の逃げ面となるように配置している。単結晶ダイヤモンド層と導電層とは、不純物濃度が異なるため、結晶性が異なり、このため硬度や摩耗率も異なっている。したがって、該単結晶ダイヤモンドを用いた工具は、使用に伴い逃げ面が偏摩耗するため、被削材を傷つけてしまい、被削材の加工面が均一とならないという問題がある。
[本開示の効果]
上記態様によれば、工具材料として用いた場合に、工具の偏摩耗が抑制された単結晶ダイヤモンド、これを用いた工具及び単結晶ダイヤモンドの製造方法を提供することが可能となる。
最初に本発明の実施態様を列記して説明する。
本発明の実施形態にかかる単結晶ダイヤモンド、工具及び単結晶ダイヤモンドの製造方法の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。本明細書中においては、個別方位を[]、集合方位を<>、個別面を()、集合面を{}でそれぞれ示している。
実施の形態1の単結晶ダイヤモンドについて、図1A、図1B及び図2を用いて説明する。図1A及び図1Bは、それぞれ実施の形態1における単結晶ダイヤモンドの平面図及び斜視図である。図2は、図1A及び図1Bの単結晶ダイヤモンドの主面における不純物濃度を示すグラフである。平面図とは、単結晶ダイヤモンドの主面の上から見た図である。本明細書中、主面とは、単結晶ダイヤモンドの表面を構成する面のうち、最も面積の大きい面を意味する。
実施の形態2の単結晶ダイヤモンドについて、図4A、図4B及び図5を用いて説明する。図4A及び図4Bは、それぞれ実施の形態2における単結晶ダイヤモンドの平面図及び斜視図である。図5は、図4A及び図4Bの単結晶ダイヤモンドの主面における不純物濃度を示すグラフである。平面図とは、単結晶ダイヤモンドの主面の上から見た図である。
実施の形態3の切削バイトについて、図7A乃至図7Dを用いて説明する。図7Aは、実施の形態3の切削バイト6を用いた被削材5の切削を示す図である。図7Bは、被削材5を切削後の実施の形態3の切削バイト6を示す図である。
実施の形態4の切削バイトについて、図8A乃至図8Dを用いて説明する。図8Aは、実施の形態4の切削バイト26を用いた被削材5の切削を示す図である。図8Bは、被削材5を切削後の実施の形態4の切削バイト26を示す図である。
実施の形態5の線引きダイスについて、図9A乃至図9Cを用いて説明する。図9Aは、実施の形態5の線引きダイス7の平面図である。図9Bは、伸線加工に用いた後の実施の形態5の線引きダイス7を示す図である。
(単結晶ダイヤモンド)
5mm×5mm、厚さ0.5mmの人工Ib型単結晶{100}基板を用意して、マイクロ波プラズマCVD法によるエピタキシャル成長を行った。基板温度は1100℃、圧力100torrでおこなった。導入したガスはメタン150sccm(Standard Cubic cm)、水素1000sccmとした。単結晶ダイヤモンドの成長厚が0.7mm〜1mmの範囲になるように成長を行った。
試料1,2,50の単結晶ダイヤモンドを用いて、切削バイトを作製した。具体的には、図7A乃至図7Dに示されるように、単結晶ダイヤモンドの主面を切削バイトのすくい面とし、単結晶ダイヤモンドの側面のうち、主面において第1の方向(X軸方向)に直交する方向(Z軸方向)に平行な側面を切削バイトの逃げ面として作製した。切削バイトの先端角は全て80°とし、先端R、先端位置、先端径の中心位置は表2の通りとした。
被削材:A4032(Al-Si系材料)
切削速度:600m/min
切削距離:20km
送り速度:2μm/rev
取り代:2μm
試料1,2の切削バイトは、均一に摩耗し、欠損は生じなかった。被削材は滑らかに均一に加工されており、傷は発生していなかった。さらに、試料1,2のすくい面の曲面を観察すると、曲面が加工前の真円度を維持していた。すなわち偏摩耗の非常に少ない摩耗であった。
試料3,4,51,52の単結晶ダイヤモンドを用いて、線引きダイスを作製した。具体的には、図9A乃至図9Cに示されるように、線引きダイスは、単結晶ダイヤモンドの主面を線引きダイスの主面とし、単結晶ダイヤモンドの主面に垂直な方向に沿って、対向する一組の主面同士を貫通する穴が形成されている。穴直径、穴の中心位置は表3の通りとした。
被伸線材:SUS306
伸線速度:600m/min
伸線距離:20km
試料3,4の線引きダイスは、均一に摩耗し、穴の偏摩耗は非常に少なかった。被伸線材は滑らかに均一に加工されており、伸線材には傷は発生していなかった。
[実施例2]
(単結晶ダイヤモンド)
5mm×5mm、厚さ0.5mmの人工Ib型単結晶{100}基板を用意して、マイクロ波プラズマCVD法によるエピタキシャル成長を行った。基板温度は1100℃、圧力100torrでおこなった。導入したガスはメタン150sccm(Standard Cubic cm)、水素1000sccmとした。単結晶ダイヤモンドの成長厚が0.7mm〜1mmの範囲になるように成長を行った。
試料11,12,60の単結晶ダイヤモンドを用いて、切削バイトを作製した。具体的には、図7A乃至図7Dに示されるように、単結晶ダイヤモンドの主面を切削バイトのすくい面とし、単結晶ダイヤモンドの側面のうち、主面において第1の方向(X軸方向)に直交する方向(Z軸方向)に平行な側面を切削バイトの逃げ面として作製した。切削バイトの先端角は全て80°、先端R、先端位置、先端径の中心位置は表5の通りとした。
被削材:A4032(Al-Si系材料)
切削速度:600m/min
切削距離:20km
送り速度:2μm/rev
取り代:2μm
試料11,12の切削バイトは、均一に摩耗し、欠損は生じなかった。被削材は滑らかに均一に加工されており、傷は発生していなかった。さらに、試料11,12のすくい面の曲面を観察すると、曲面が加工前の真円度を維持していた。すなわち偏摩耗の非常に少ない摩耗であった。
試料13,14,61,62単結晶ダイヤモンドを用いて、線引きダイスを作製した。具体的には、図9A乃至図9Cに示されるように線引きダイスは、単結晶ダイヤモンドの主面を線引きダイスの主面とし、単結晶ダイヤモンドの主面に垂直な方向に沿って、対向する一組の主面同士を貫通する穴が形成されている。穴直径、穴の中心位置は表6の通りとした。
被伸線材:SUS306
伸線速度:600m/min
伸線距離:20km
試料13,14の線引きダイスは、均一に摩耗し、穴の偏摩耗は非常に少なかった。被伸線材は滑らかに均一に加工されており、伸線材には傷は発生していなかった。
Claims (12)
- 対向する一組の主面を備え、
前記主面において、第1の方向に沿って不純物濃度が変化し、
前記主面において、前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って、前記不純物濃度は略均一であり、
前記不純物濃度は前記第1の方向に沿って周期性を有し、前記主面における一周期の距離は0.1μm以上1000μm以下であり、
前記第2の方向に沿った側面にイオン注入層を有する、
単結晶ダイヤモンド。 - 前記主面において、前記第1の方向と前記第2の方向とは、結晶方位が異なる、
請求項1に記載の単結晶ダイヤモンド。 - 前記不純物濃度は、10ppb以上10000ppm以下である、
請求項1又は請求項2に記載の単結晶ダイヤモンド。 - 前記不純物濃度は、前記第1の方向に沿って中心対称性を有する、
請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の単結晶ダイヤモンド。 - 前記主面に対する前記側面の角度は、55°以上125°以下である、
請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の単結晶ダイヤモンド。 - 前記不純物は、窒素、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、リン及び硫黄からなる群より選ばれる少なくとも1種の元素を含む、
請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の単結晶ダイヤモンド。 - 単結晶ダイヤモンドを備える工具であって、
前記単結晶ダイヤモンドは、
対向する一組の主面を備え、
前記主面において、第1の方向に沿って不純物濃度が変化し、
前記主面において、前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って、前記不純物濃度は略均一であり、
前記第2の方向に沿った側面にイオン注入層を有する、工具。 - 前記工具は切削バイトであり、
前記切削バイトの逃げ面における前記単結晶ダイヤモンドの不純物濃度の変化量は、前記切削バイトのすくい面における前記単結晶ダイヤモンドの不純物濃度の変化量よりも小さい、
請求項7に記載の工具。 - 単結晶ダイヤモンドを備える、工具であって、
前記単結晶ダイヤモンドは、対向する一組の主面を備え、
前記主面において、第1の方向に沿って不純物濃度が変化し、
前記工具は切削バイトであり、
前記切削バイトのすくい面において、面方位の相違に由来する摩耗率の相違と、不純物濃度の相違に由来する摩耗率の相違とが相殺する関係を有する、
工具。 - 前記工具は線引きダイスであり、
前記単結晶ダイヤモンドの主面に垂直な方向に沿って、前記対向する一組の主面同士を貫通する穴が形成される、
請求項7に記載の工具。 - 単結晶ダイヤモンドを備える、工具であって、
前記単結晶ダイヤモンドは、対向する一組の主面を備え、
前記主面において、第1の方向に沿って不純物濃度が変化し、
前記工具は線引きダイスであり、
前記単結晶ダイヤモンドの主面に平行な方向において、面方位の相違に由来する摩耗率の相違と、不純物濃度の相違に由来する摩耗率の相違とが相殺する関係を有する、
工具。 - 単結晶ダイヤモンドの製造方法であって、
前記単結晶ダイヤモンドは、
対向する一組の主面を備え、
前記主面において、第1の方向に沿って不純物濃度が変化し、
前記主面において、前記第1の方向と直交する第2の方向に沿って、前記不純物濃度は略均一であり、
前記第2の方向に沿った側面にイオン注入層を有し、
気相合成法により、結晶成長方向に沿って不純物濃度が変化する合成単結晶ダイヤモンドを得る工程と、
前記合成単結晶ダイヤモンドを、前記不純物濃度が変化する方向に切断する工程とを備える、
単結晶ダイヤモンドの製造方法。
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