JP4873049B2 - 電子部品 - Google Patents

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Description

本発明は、電子部品に関し、より特定的には、コイルを内蔵している電子部品に関する。
従来の電子部品としては、例えば、特許文献1に記載の積層チップインダクタが知られている。図9は、特許文献1に記載の積層チップインダクタ500の透視図である。
積層チップインダクタ500は、図9に示すように、積層体502、外部電極504a,504b、ビアホール導体506a,506b及びコイルLを備えている。積層体502は、絶縁体層が積層されてなり、コイルLを内蔵している。コイルLは、積層方向(図9の上下方向)に延びるコイル軸を有する螺旋状のコイルである。外部電極504a,504bは、積層体502の底面に設けられている。ビアホール導体506a,506bはそれぞれ、積層体502の側面において露出した状態で積層方向に延在するように設けられており、コイルLの端部と外部電極504a,504bとを接続している。
ここで、ビアホール導体506a,506bについてより詳細に説明する。ビアホール導体506a,506bは、積層方向から平面視したときに、半円形状をなしている。これは、ビアホール導体506a,506bは、積層方向に延在する円柱形状のビアホール導体を2つに分割することにより形成されるためである。すなわち、マザー積層体を個別の積層体502にカットする際に、2つの積層体502に跨って形成されているビアホール導体を2つビアホール導体に分割している。
以上のような積層チップインダクタ500では、コイルLの径を大きくすることができ、大きなインダクタンス値を得ることができる。より詳細には、ビアホール導体506a,506bは、積層体502の側面に露出するように設けられている。よって、積層チップインダクタ500では、ビアホール導体506a,506bが積層体502内に設けられている場合に比べて、コイルLを形成できる領域が広くなる。よって、積層チップインダクタ500では、コイルLの径を大きくすることができ、大きなインダクタンス値を得ることができる。
しかしながら、積層チップインダクタ500は、以下に説明するように、外部電極504a,504b間の抵抗値にばらつきが発生してしまうという問題を有する。より詳細には、コイルLは、外部電極504a,504bに対してビアホール導体506a,506bを介して接続されている。ビアホール導体506a,506bは、前記の通り、円柱形状のビアホール導体が2つに分割されることにより形成されている。よって、マザー積層体のカットの際のカット位置のばらつきにより、ビアホール導体506a,506bの形状にばらつきが発生してしまう。その結果、ビアホール導体506a,506bの抵抗値にばらつきが発生してしまい、外部電極504a,504b間の抵抗値にばらつきが発生してしまう。
特開2002−260925号公報
そこで、本発明の目的は、大きなインダクタンス値を得ることができ、かつ、抵抗値のばらつきを低減できる電子部品を提供することである。
本発明の一形態に係る電子部品は、長方形状の複数の絶縁体層が積層されてなる積層体と、第1の端部が第2の端部よりも積層方向の上側に位置する状態で前記積層体内に設けられているコイルと、前記積層体の下面に設けられている外部電極と、前記積層体内に設けられ、かつ、前記第1の端部と前記外部電極とを接続しているビアホール導体と、を備え、前記コイルは、積層方向から平面視したときに、互いに重なり合って環状の軌道を形成している複数のコイル導体が接続されることにより構成されており、前記環状の軌道は、前記絶縁体層の対角線の交点を通過し、かつ、該絶縁体層の短辺に平行な直線によって、第1の軌道と第2の軌道とに区分され、前記第1の軌道が前記直線に対して線対称に移動することにより得られる軌道を第3の軌道とした場合に、前記第2の軌道の一部分は、該第3の軌道の一部分に重なっており、該第2の軌道の残余の部分は、該第3の軌道の残余の部分よりも前記交点の近くに位置しており、前記ビアホール導体は、前記第2の軌道の残余の部分と前記第3の軌道の残余の部分とにより囲まれて形成される領域に設けられていると共に、前記絶縁体層の長辺方向及び短辺方向から平面視したときに、前記第2の軌道と重なる位置に設けられていること、を特徴とする。
本発明によれば、大きなインダクタンス値を得ることができ、かつ、抵抗値のばらつきを低減できる。
実施形態に係る電子部品の斜視図である。 一実施形態に係る電子部品の積層体の分解斜視図である。 積層体をz軸方向から透視した図である。 比較例に係る電子部品の積層体をz軸方向から透視した図である。 シミュレーション結果を示したグラフである。 シミュレーション結果を示したグラフである。 第1の変形例に係る電子部品の積層体をz軸方向から透視した図である。 第2の変形例に係る電子部品の積層体をz軸方向から透視した図である。 特許文献1に記載の積層チップインダクタの透視図である。
以下に、本発明の実施形態に係る電子部品について説明する。
(電子部品の構成)
以下に、本発明の一実施形態に係る電子部品について図面を参照しながら説明する。図1は、実施形態に係る電子部品10の斜視図である。図2は、一実施形態に係る電子部品10の積層体12の分解斜視図である。以下、電子部品10の積層方向をz軸方向と定義し、電子部品10の短辺に沿った方向をx軸方向と定義し、電子部品10の長辺に沿った方向をy軸方向と定義する。x軸、y軸及びz軸は互いに直交している。
電子部品10は、図1及び図2に示すように、積層体12、外部電極14a,14b、コイルL及びビアホール導体V1,V2(図1には図示せず)を備えている。積層体12は、直方体状をなしており、コイルL及びビアホール導体V1,V2を内蔵している。
外部電極14a,14bはそれぞれ、ビアホール導体V1,V2を介してコイルLに対して電気的に接続されており、積層体12のz軸方向の負方向側に位置する底面(下面)に設けられている。本実施形態では、外部電極14aは、積層体12の底面において、y軸方向の正方向側に位置する辺に沿って設けられており、外部電極14bは、積層体12の底面において、y軸方向の負方向側に位置する辺に沿って設けられている。
積層体12は、図2に示すように、絶縁体層16a,17a〜17j,16bがz軸方向においてこの順に積層されることにより構成されている。絶縁体層16a,17a〜17j,16bはそれぞれ、長方形状をなしており、例えば、Ni−Cu−Zn系フェライトからなる磁性体材料により作製されている。
コイルLは、図2に示すように、コイル導体18a〜18j及びビアホール導体v12〜v20により構成されている。すなわち、コイルLは、コイル導体18a〜18jがビアホール導体v12〜v20により接続されることにより構成されている。コイルLは、z軸方向に延在するコイル軸を有しており、時計回り方向(矢印Aの方向)に旋廻しながらz軸方向の正方向側に向かって進行する螺旋状をなしている。また、コイルLの端部t1は、コイルLの端部t2よりもz軸方向の正方向側に位置している。
コイル導体18a〜18jはそれぞれ、図2に示すように、絶縁体層17a〜17j上に設けられている。また、コイル導体18a〜18jはそれぞれ、Agからなる導電性材料からなり、7/8ターンのターン数を有しており、線状導体が折り曲げて形成されている。ただし、コイル導体18aは、3/4ターンのターン数を有している。すなわち、コイル導体18a〜18jは、環状の軌道の一部(コイル導体18aでは1/4、コイル導体18b〜18jでは1/8)が切り欠かれた形状をなしている。そして、コイル導体18a〜18jは、z軸方向から平面視したときに、互いに重なり合って、環状の軌道Rを構成している。また、コイルLの端部t1は、コイル導体18aの矢印Aの方向の下流側の端部であり、コイルLの端部t2は、コイル導体18jの矢印Aの方向の上流側の端部である。
ビアホール導体v12〜v20は、コイル導体18a〜18jを接続している。より詳細には、ビアホール導体v12は、コイル導体18aの端部t1から矢印Aの方向に5/8ターンだけ離れた位置とコイル導体18bの矢印Aの方向の下流側の端部とを接続している。ビアホール導体v13は、コイル導体18bの矢印Aの方向の上流側の端部とコイル導体18cの矢印Aの方向の下流側の端部とを接続している。ビアホール導体v14は、コイル導体18cの矢印Aの方向の上流側の端部とコイル導体18dの矢印Aの方向の下流側の端部とを接続している。ビアホール導体v15は、コイル導体18dの矢印Aの方向の上流側の端部とコイル導体18eの矢印Aの方向の下流側の端部とを接続している。ビアホール導体v16は、コイル導体18eの矢印Aの方向の上流側の端部とコイル導体18fの矢印Aの方向の下流側の端部とを接続している。ビアホール導体v17は、コイル導体18fの矢印Aの方向の上流側の端部とコイル導体18gの矢印Aの方向の下流側の端部とを接続している。ビアホール導体v18は、コイル導体18gの矢印Aの方向の上流側の端部とコイル導体18hの矢印Aの方向の下流側の端部とを接続している。ビアホール導体v19は、コイル導体18hの矢印Aの方向の上流側の端部とコイル導体18iの矢印Aの方向の下流側の端部とを接続している。ビアホール導体v20は、コイル導体18iの矢印Aの方向の上流側の端部とコイル導体18jの矢印Aの方向の下流側の端部とを接続している。
ビアホール導体v1〜v11は、図2に示すように、絶縁体層17a〜17j,16bをz軸方向に貫通しており、一直線に繋がることにより1本のビアホール導体V1を構成している。ビアホール導体V1は、積層体12内に設けられ、かつ、コイルLの端部t1と外部電極14aとを接続している。すなわち、ビアホール導体V1のz軸方向の正方向側に位置する端部は、コイル導体18aの矢印Aの方向の下流側の端部に接続され、ビアホール導体V1のz軸方向の負方向側に位置する端部は、外部電極14aに接続されている。
ビアホール導体v21,v22(V2)は、図2に示すように、絶縁体層17j,16bをz軸方向に貫通している。ビアホール導体v21,v22(V2)は、積層体12内に設けられ、かつ、コイルLの端部t2と外部電極14bとを接続している。すなわち、ビアホール導体V2のz軸方向の正方向側に位置する端部は、コイル導体18jの矢印Aの方向の上流側の端部に接続され、ビアホール導体V2のz軸方向の負方向側に位置する端部は、外部電極14bに接続されている。
次に、ビアホール導体V1と軌道Rとの位置関係について図面を参照しながら説明する。図3は、積層体12をz軸方向から透視した図である。
ビアホール導体V1は、図3(a)に示すように、コイル導体18a〜18jからなる軌道Rの外側に設けられている。これにより、ビアホール導体V1は、コイルLの内部を通過することがなくなり、コイルLが発生した磁束を妨げることがない。
また、軌道Rは、図3(a)に示すように、絶縁体層16aの対角線C1,C2の交点を通過し、かつ、絶縁体層16aの短辺に平行な直線L1によって、軌道R1と軌道R2とに区分されている。具体的には、軌道Rにおいて、直線L1よりもy軸方向の負方向側に位置する部分が軌道R1であり、直線L1よりもy軸方向の正方向側に位置する部分が軌道R2である。そして、図3(b)に示すように、軌道R1が直線L1に対して線対称に移動することにより得られる軌道を軌道R3とした場合に、軌道R2の一部分(以下、軌道r2と称す)は、軌道R3の一部分(以下、軌道r3と称す)に重なっている。更に、軌道R2の残余の部分(以下、軌道r4と称す)は、軌道R3の残余の部分(以下、軌道r5)よりも交点Pの近くに位置している。なお、軌道R2,R3の残余の部分(軌道r4,r5)とは、軌道R2,R3において、軌道r2,r3以外の部分を意味する。
また、軌道R1及び軌道R3は、図3(b)に示すように、組み合わさることによって、長方形状の軌道をなしている。そして、軌道r5は、軌道R1及び軌道R3からなる長方形状の軌道の角を構成している。
更に、ビアホール導体V1は、z軸方向から平面視したときに、図3に示すように、軌道r4と軌道r5とにより囲まれて形成される領域Eに設けられている。更に、ビアホール導体V1は、絶縁体層16aの長辺方向(すなわち、y軸方向)及び短辺方向(すなわち、x軸方向)から平面視したときに、軌道R2と重なる位置に設けられている。本実施形態では、ビアホール導体V1は、z軸方向から平面視したときに、軌道r5により構成されている角に位置している。また、軌道r4は、交点Pに向って突出する円弧であって、ビアホール導体V1を中心とする円弧をなしている。これにより、図2に示すように、コイル導体18b〜18f,18h〜18jとビアホール導体V1との最近接距離が一定となっている。
(効果)
以上のような電子部品10によれば、大きなインダクタンス値を得ることができる。より詳細には、電子部品10では、ビアホール導体V1は、コイルLの外部においてz軸方向に延在しており、コイルLの内部を通過していない。よって、ビアホール導体V1は、コイルLの内部を通過する磁束を妨げない。よって、電子部品10では、大きなインダクタンス値を得ることができる。
更に、電子部品10では、ビアホール導体V1は、z軸方向から平面視したときに、図3に示すように、軌道r4と軌道r5とにより囲まれて形成される領域Eに設けられ、かつ、絶縁体層16aの長辺方向及び短辺方向から平面視したときに、軌道R2と重なる位置に設けられている。すなわち、コイル導体18a〜18jは、長方形状の軌道を描いていると共に、ビアホール導体V1の近傍のみ、対角線C1,C2の交点P側に突出する円弧をなすことにより、ビアホール導体V1を避けている。これにより、コイル導体18a〜18jの各辺を絶縁体層17a〜17jの各辺にできるだけ近づけることができると共に、ビアホール導体V1とコイル導体18a〜18jとの接触を避けることができる。よって、電子部品10では、コイルLを大きくすることができるようになり、大きなインダクタンス値を得ることができるようになる。
更に、電子部品10では、外部電極14a,14b間の抵抗値のばらつきを低減できる。より詳細には、特許文献1に記載の積層チップインダクタ500では、ビアホール導体506a,506bは、前記の通り、円柱形状のビアホール導体が2つに分割されることにより形成されている。よって、マザー積層体のカットの際のカット位置のばらつきにより、ビアホール導体506a,506bの形状にばらつきが発生してしまう。その結果、ビアホール導体506a,506bの抵抗値にばらつきが発生してしまい、外部電極504a,504b間の抵抗値にばらつきが発生してしまう。
一方、電子部品10では、ビアホール導体V1,V2は、分割されていない。よって、電子部品10では、ビアホール導体V1,V2の抵抗値にばらつきが発生しにくいので、外部電極14a,14b間の抵抗値のばらつきを低減できる。
また、電子部品10では、図3に示すように、軌道r4は、交点Pに向って突出する円弧であって、ビアホール導体V1を中心とする円弧をなしている。これにより、図2に示すように、コイル導体18b〜18f,18h〜18jとビアホール導体V1との最近接距離が一定となっている。すなわち、電子部品10では、コイル導体18b〜18f,18h〜18jとビアホール導体V1との絶縁状態を維持した状態で、コイル導体18b〜18f,18h〜18jとビアホール導体V1との距離を小さくできる。その結果、電子部品10では、コイルLをできるだけ大きくすることができ、大きなインダクタンス値を得ることができる。
また、電子部品10では、図3に示すように、ビアホール導体V1は、z軸方向から平面視したときに、軌道r5により構成されている角に位置している。これにより、ビアホール導体V1の存在により、z軸方向から平面視したときのコイルLの面積の減少量を、中心角が90度である扇形の面積に押えることができる。よって、電子部品10では、大きなインダクタンス値を得ることができる。
(シミュレーション結果)
本願発明者は、電子部品10が奏する効果をより明確なものとするために、以下に説明するコンピュータシミュレーションを行った。図4は、比較例に係る電子部品の積層体112をz軸方向から透視した図である。
本願発明者は、第1のモデルとして、図1及び図2に示す構造を有する電子部品10のモデルを作製した。また、比較例である第2のモデルとして、図4に示す積層体112を有する電子部品のモデルを作製した。図3と図4とを比較して分かるように、第1のモデルの方が第2のモデルよりもコイルLの面積が大きい。なお、その他のシミュレーション条件は以下の通りである。
チップサイズ:2.5mm×2.0mm×1.1mm
ビアホール導体の径:100μm〜150μm
コイル導体の線幅:250μm〜250μm
コイル導体の厚み:20μm〜60μm
コイルLのターン数:8.5ターン
ビアホール導体V1とコイルLとの最近接距離:200μm
z軸方向から平面視したときのコイルLの面積:1.0mm2〜1.5mm2
絶縁体層16aの数:10〜30層
なお、絶縁体層17a,17d,17hには、非磁性体層を用いた。
以上のような第1のモデル及び第2のモデルを用いて、コイルLに流れる電流値とインダクタンス値との関係を調べた。図5及び図6は、シミュレーション結果を示したグラフである。図5において、縦軸は、インダクタンス値を示し、横軸は、電流値を示している。図6において、縦軸は、インダクタンス値変化率を示し、横軸は、電流値を示している。インダクタンス値変化率とは、(各電流値におけるインダクタンス値−電流値0におけるインダクタンス値)/電流値0におけるインダクタンス値×100で得られる値である。
図5に示すシミュレーション結果によれば、第1のモデルの方が、第2のモデルよりも大きなインダクタンス値を得ることができている。よって、電子部品10では、大きなインダクタンス値を得ることができていることが分かる。
また、図6に示すシミュレーション結果によれば、第1のモデルの方が、第2のモデルよりも、電流値が大きくなったときのインダクタンス値変化率の減少が少ないことが分かる。よって、第1のモデルの直流重畳特性の方が、第2のモデルの直流重畳特性よりも優れていることが分かる。これは、第1のモデルのコイルLの面積の方が、第2のモデルのコイルLの面積より大きいため、磁気飽和が発生しにくいためと考えられる。
(電子部品の製造方法)
以下に、電子部品10の製造方法について図面を参照しながら説明する。なお、以下では、複数の電子部品10を同時に作成する際の電子部品10の製造方法について説明する。
まず、図2の絶縁体層16a,16b,17a〜17jとなるべきセラミックグリーンシートを準備する。具体的には、酸化第二鉄(Fe23)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化銅(CuO)及び酸化ニッケル(NiO)を所定の比率で秤量したそれぞれの材料を原材料としてボールミルに投入し、湿式調合を行う。得られた混合物を乾燥してから粉砕し、得られた粉末を800℃で1時間仮焼する。得られた仮焼粉末をボールミルにて湿式粉砕した後、乾燥してから解砕して、フェライトセラミック粉末を得る。
このフェライトセラミック粉末に対して結合剤(酢酸ビニル、水溶性アクリル等)と可塑剤、湿潤材、分散剤を加えてボールミルで混合を行い、その後、減圧により脱泡を行う。得られたセラミックスラリーをドクターブレード法により、キャリアシート上にシート状に形成して乾燥させ、絶縁体層16a,16b,17a〜17jとなるべきセラミックグリーンシートを作製する。
次に、図2に示すように、絶縁体層17a〜17j,16bとなるべきセラミックグリーンシートのそれぞれに、ビアホール導体v1〜v22を形成する。具体的には、絶縁体層17a〜17j,16bとなるべきセラミックグリーンシートにレーザビームを照射してビアホールを形成する。次に、このビアホールに対して、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などの導電性ペーストを印刷塗布などの方法により充填する。
次に、図2に示すように、絶縁体層17a〜17jとなるべきセラミックグリーンシートのz軸方向の正方向側の主面(以下、表面と称す)上にコイル導体18a〜18jを形成する。具体的には、絶縁体層17a〜17jとなるべきセラミックグリーンシートの表面上に、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などを主成分とする導電性ペーストをスクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法などの方法で塗布することにより、コイル導体18a〜18jを形成する。なお、コイル導体18a〜18jを形成する工程とビアホールに対して導電性ペーストを充填する工程とは、同じ工程において行われてもよい。
また、図2に示すように、絶縁体層16bとなるべきセラミックグリーンシートのz軸方向の負方向側の主面(以下、裏面と称す)上に外部電極14a,14bを形成する。具体的には、絶縁体層16bとなるべきセラミックグリーンシートの裏面上に、Ag,Pd,Cu,Auやこれらの合金などを主成分とする導電性ペーストをスクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法などの方法で塗布することにより、外部電極14a,14bを形成する。
次に、図2に示すように、絶縁体層16a,17a〜17j,16bとなるべきセラミックグリーンシートをこの順に並ぶように積層・圧着して、未焼成のマザー積層体を得る。絶縁体層16a,17a〜17j,16bとなるべきセラミックグリーンシートの積層・圧着は、1枚ずつ積層して仮圧着してマザー積層体を得た後、未焼成のマザー積層体を静水圧プレスなどにより加圧して本圧着を行う。
次に、マザー積層体をカット刃により所定寸法(2.5mm×2.0mm×1.1mm)の積層体12にカットする。これにより未焼成の積層体12が得られる。この未焼成の積層体12には、脱バインダー処理及び焼成がなされる。脱バインダー処理は、例えば、低酸素雰囲気中において500℃で2時間の条件で行う。焼成は、例えば、800℃〜900℃で2.5時間の条件で行う。以上の工程により、図1に示すような電子部品10が完成する。
(変形例)
以下に変形例に係る電子部品10a,10bについて図面を参照しながら説明する。図7は、第1の変形例に係る電子部品10aの積層体12aをz軸方向から透視した図である。
図7に示す積層体12aでは、コイルLは、電子部品10のコイルLと同様に時計回り方向(矢印Aの方向)に旋廻しながらz軸方向の正方向側に進行する螺線形状をなしている。そして、コイルLの端部t1は、図7に示すように、x軸方向の正方向側であってかつy軸方向の正方向側の角に位置している。一方、コイルLの端部t2は、図7に示すように、x軸方向の正方向側であってかつy軸方向の負方向側の角に位置している。すなわち、端部t1は、端部t2から見て、矢印Aの方向に最も離れた位置にある角に設けられている。これにより、端部t1と端部t2との間の距離を大きくすることができ、コイルLのターン数を大きくすることができる。
図8は、第2の変形例に係る電子部品10bの積層体12bをz軸方向から透視した図である。図8に示すように、軌道r4は、軌道R1,R3からなる長方形状の軌道において、角ではなく、短辺上に設けられていてもよい。この場合には、軌道r4は、ビアホール導体V1を中心とする半円形状の軌道を描く。また、図示しないが、軌道r4は、軌道R1,R3からなる長方形状の軌道において、長辺上に設けられていてもよい。ただし、この場合には、外部電極14aは、積層体12aの底面において、x軸方向の負方向側に位置する辺に沿って設けられ、外部電極14bは、積層体12aの底面において、x軸方向の正方向側に位置する辺に沿って設けられることになる。
また、電子部品10,10a,10bでは、軌道R1,R3からなる軌道は、長方形状をなしている。しかしながら、該軌道R1,R3からなる軌道は、長方形状に限らない。
また、軌道r4は、円弧をなしている。しかしながら、軌道r4は、円弧でなく、直線の組み合わせで構成されていてもよい。
本発明は、電子部品に有用であり、特に、大きなインダクタンス値を得ることができ、かつ、抵抗値のばらつきを低減できる点において優れている。
C1,C2 対角線
E 領域
L コイル
L1 直線
P 交点
R,R1〜R3,r2〜r5 軌道
V1,V2,v1〜v22 ビアホール導体
t1,t2 端部
10,10a,10b 電子部品
12,12a,12b 積層体
14a,14b 外部電極
16a,16b,17a〜17j 絶縁体層
18a〜18j コイル導体

Claims (5)

  1. 長方形状の複数の絶縁体層が積層されてなる積層体と、
    第1の端部が第2の端部よりも積層方向の上側に位置する状態で前記積層体内に設けられているコイルと、
    前記積層体の下面に設けられている外部電極と、
    前記積層体内に設けられ、かつ、前記第1の端部と前記外部電極とを接続しているビアホール導体と、
    を備え、
    前記コイルは、積層方向から平面視したときに、互いに重なり合って環状の軌道を形成している複数のコイル導体が接続されることにより構成されており、
    前記環状の軌道は、前記絶縁体層の対角線の交点を通過し、かつ、該絶縁体層の短辺に平行な直線によって、第1の軌道と第2の軌道とに区分され、
    前記第1の軌道が前記直線に対して線対称に移動することにより得られる軌道を第3の軌道とした場合に、前記第2の軌道の一部分は、該第3の軌道の一部分に重なっており、該第2の軌道の残余の部分は、該第3の軌道の残余の部分よりも前記交点の近くに位置しており、
    前記ビアホール導体は、前記第2の軌道の残余の部分と前記第3の軌道の残余の部分とにより囲まれて形成される領域に設けられていると共に、前記絶縁体層の長辺方向及び短辺方向から平面視したときに、前記第2の軌道と重なる位置に設けられていること、
    を特徴とする電子部品。
  2. 前記第1の軌道及び前記第3の軌道は、組み合わさることによって長方形状の軌道をなしていること、
    を特徴とする請求項1に記載の電子部品。
  3. 前記第3の軌道の残余の部分は、長方形状の軌道の角を構成していること、
    を特徴とする請求項2に記載の電子部品。
  4. 前記コイルは、所定方向に旋廻しながら積層方向の上方向側に進行する螺旋形状をなしており、
    前記第2の端部は、前記第1の端部から見て、前記所定方向に最も離れた位置にある角に設けられていること、
    を特徴とする請求項3に記載の電子部品。
  5. 前記第2の軌道の残余の部分は、前記ビアホール導体を中心とする円弧状をなしていること、
    を特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の電子部品。
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