JP4739450B2 - プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - Google Patents

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Description

本発明は、プロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。
電子写真感光体としては、低価格及び高生産性などの利点から、光導電性物質(電荷発生物質や電荷輸送物質)として有機材料を用いた感光層(有機感光層)を支持体上に設けてなる電子写真感光体、いわゆる有機電子写真感光体が普及している。有機電子写真感光体としては、高感度及び材料設計の多様性などの利点から、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とを積層してなる感光層、いわゆる積層型感光層を有する電子写真感光体が主流である。なお、この電荷発生物質としては、光導電性染料や光導電性顔料などが挙げられ、電荷輸送物質としては、光導電性ポリマーや光導電性低分子化合物などが挙げられる。
電子写真感光体は、その表面に、帯電、露光、現像、転写、クリーニングなどの電気的外力及び/又は機械的外力が直接加えられるため、これらに対する耐性が要求される。具体的には、クリーニングブレードや紙による表面の傷や摩耗の発生に対する耐久性、光に対する耐メモリー性、当接部材との摩擦帯電に対する耐メモリー性、当接部材によるクラック及び凹みに対する耐性、及びトナーに対する耐付着性が要求される。
上述のような様々な課題のひとつとして、摺擦メモリーという現象が挙げられる。この現象は、感光体と感光体に当接している帯電部材やクリーニングブレードが、物流による振動や落下による衝撃を受けたときに、それらが摺擦されて感光体表面にプラス電荷が発生することに起因したメモリー現象のひとつである。
このような問題に対して、特開平10−142813号公報には、バインダの末端にフッ素を置換したフェニル基を導入することにより、クリーニングブレードとの摩擦を低減する技術が開示されている。特開2000−75517号公報には、特定構造の電荷輸送物質と特定構造のポリカーボネート樹脂を組み合わせることでメモリーの発生を抑制する技術が開示されている。
また、感光体と帯電部材やブレードとの摩擦を低減するという観点から、感光体の表面形状を変化させることが一つの手段と考えられる。例えば、特開2001−066814号公報には、井戸型の凹凸のついたスタンパを用いて電子写真感光体の表面を圧縮成型加工する技術が開示されている。
発明の開示
しかしながら、特開平10−142813号公報及び特開2000−75517号公報に記載されている電子写真感光体を用いた場合でも、より厳しい条件下では特に帯電部材との摩擦に起因したメモリーが発生する場合があり、さらなる改善が求められている。
また、特開2001−066814号公報に記載されている微小な加工がなされた電子写真感光体を用いた場合、凹形状が浅い感光体では感光体表面と弾性体である帯電部材やクリーニングブレードとの接触面積を低減させることができない。そのために摺擦メモリーに対する抑制効果が得られないことがあった。
本発明の課題は、摺擦メモリーの生じ難い電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することである。
本発明者らは、鋭意検討した結果、電子写真感光体の表面に、所定の凹形状部および所定の正孔輸送物質を有することによって、上述の課題を効果的に改善することができることを見いだし、本発明に至った。
即ち、本発明は、支持体および該支持体上に設けられた感光層を有する電子写真感光体と、該電子写真感光体の表面に接している帯電部材を有する帯電手段と、該電子写真感光体の表面に接しているクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、を一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジであって、
該電子写真感光体と該帯電部材および該クリーニングブレードとが摺擦した場合には、該電子写真感光体の表面にプラス電荷が発生しうるプロセスカートリッジにおいて、
該電子写真感光体が、表面層の表面の全域に単位面積(100μm×100μm)あたり625個以上1000000個以下の各々独立した凹形状部を有しており、該凹形状部が、凹形状部の短軸径をRpcとし、凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さをRdvとした場合に、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が0.10以上0.40以下の凹形状部であり、
該電子写真感光体の表面の該帯電部材と接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該帯電部材と接しており、該電子写真感光体の表面の該クリーニングブレードと接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該クリーニングブレードと接しており、
該凹形状部の開孔部の面積率が、20%以上50%以下であり、
該感光層が、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、イオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.2eV以下の正孔輸送物質を含有する電荷輸送層と、を積層してなる感光層であり、
該電荷輸送層が、該電子写真感光体の表面層であり、
該電荷輸送層が、結着樹脂としてポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂を含有する
ことを特徴とするプロセスカートリッジに関する。
さらに本発明は、支持体および該支持体上に設けられた感光層を有する電子写真感光体、該電子写真感光体の表面に接している帯電部材を有する帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、ならびに、該電子写真感光体の表面に接しているクリーニングブレードを有するクリーニング手段を有する電子写真装置であって、
該電子写真感光体と該帯電部材および該クリーニングブレードとが摺擦した場合には、該電子写真感光体の表面にプラス電荷が発生しうる電子写真装置において、
該電子写真感光体が、表面層の表面の全域に単位面積(100μm×100μm)あたり625個以上1000000個以下の各々独立した凹形状部を有しており、該凹形状部が、凹形状部の短軸径をRpcとし、凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さをRdvとした場合に、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が0.10以上0.40以下の凹形状部であり、
該電子写真感光体の表面の該帯電部材と接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該帯電部材と接しており、該電子写真感光体の表面の該クリーニングブレードと接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該クリーニングブレードと接しており、
該凹形状部の開孔部の面積率が、20%以上50%以下であり、
該感光層が、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、イオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.2eV以下の正孔輸送物質を含有する電荷輸送層と、を積層してなる感光層であり、
該電荷輸送層が、該電子写真感光体の表面層であり、
該電荷輸送層が、結着樹脂としてポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂を含有する
ことを特徴とする電子写真装置に関する。
本発明の電子写真感光体は、摺擦メモリーの生じ難い電子写真感光体を具備するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供できる。
以下、本発明をより詳細に説明する。
本発明のプロセスカートリッジは、上述のとおり、支持体および該支持体上に設けられた感光層を有する電子写真感光体と、該電子写真感光体の表面に接している帯電部材を有する帯電手段と、該電子写真感光体の表面に接しているクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、を一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジであって、該電子写真感光体と該帯電部材および該クリーニングブレードとが摺擦した場合には、該電子写真感光体の表面にプラス電荷が発生しうるプロセスカートリッジにおいて、該電子写真感光体が、表面層の表面の全域に単位面積(100μm×100μm)あたり625個以上1000000個以下の各々独立した凹形状部を有しており、該凹形状部が、凹形状部の短軸径をRpcとし、凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さをRdvとした場合に、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が0.10以上0.40以下の凹形状部であり、該電子写真感光体の表面の該帯電部材と接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該帯電部材と接しており、該電子写真感光体の表面の該クリーニングブレードと接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該クリーニングブレードと接しており、該凹形状部の開孔部の面積率が、20%以上50%以下であり、該感光層が、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、イオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.2eV以下の正孔輸送物質を含有する電荷輸送層と、を積層してなる感光層であり、該電荷輸送層が、該電子写真感光体の表面層であり、該電荷輸送層が、結着樹脂としてポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂を含有することを特徴とするプロセスカートリッジである。
さらに本発明の電子写真装置は、上述の通り、支持体および該支持体上に設けられた感光層を有する電子写真感光体、該電子写真感光体の表面に接している帯電部材を有する帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、ならびに、該電子写真感光体の表面に接しているクリーニングブレードを有するクリーニング手段を有する電子写真装置であって、該電子写真感光体と該帯電部材および該クリーニングブレードとが摺擦した場合には、該電子写真感光体の表面にプラス電荷が発生しうる電子写真装置において、該電子写真感光体が、表面層の表面の全域に単位面積(100μm×100μm)あたり625個以上1000000個以下の各々独立した凹形状部を有しており、該凹形状部が、凹形状部の短軸径をRpcとし、凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さをRdvとした場合に、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が0.10以上0.40以下の凹形状部であり、該電子写真感光体の表面の該帯電部材と接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該帯電部材と接しており、該電子写真感光体の表面の該クリーニングブレードと接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該クリーニングブレードと接しており、該凹形状部の開孔部の面積率が、20%以上50%以下であり、該感光層が、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、イオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.2eV以下の正孔輸送物質を含有する電荷輸送層と、を積層してなる感光層であり、該電荷輸送層が、該電子写真感光体の表面層であり、該電荷輸送層が、結着樹脂としてポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂を含有することを特徴とする電子写真装置である。
本発明における各々独立した凹形状部とは、個々の凹形状部が、他の凹形状部と明確に区分されている状態を示す。本発明における電子写真感光体の表面に形成されている凹形状部は、感光体表面の観察では、例えば、直線により構成される形状、曲線により構成される形状あるいは直線および曲線により構成される形状が挙げられる。感光体表面の凹形状部の例を図1A乃至1Gに示す。直線により構成される形状としては、例えば、三角形(図1E)、四角形(図1C、1D)、五角形(図1F)あるいは六角形(図1G)が挙げられる。曲線により構成される形状としては、例えば、円形状(図1A)あるいは楕円形状(図1B)が挙げられる。直線および曲線により構成される形状としては、例えば、角の円い四角形、角の円い六角形あるいは扇形が挙げられる。また、本発明における電子写真感光体の表面の凹形状部は、感光体断面の観察では、例えば、直線により構成される形状、曲線により構成される形状あるいは直線および曲線により構成される形状が挙げられる。直線により構成される形状としては、例えば、三角形、四角形あるいは五角形が挙げられる。曲線により構成される形状としては、例えば、部分円形状あるいは部分楕円形状が挙げられる。直線および曲線により構成される形状としては、例えば、角の円い四角形あるいは扇形が挙げられる。本発明における電子写真感光体表面の凹形状部の具体例としては、図1A乃至1G(凹形状部の形状例(表面))および図2A乃至2G(凹形状部の形状例(断面))で示される凹形状部が挙げられる。本発明における電子写真感光体表面の凹形状部の断面形状としては、例えば、円錐、四角錘、三角錘、半球状などのように感光体表面から見たときの面積が表面開孔部で最も大きく、内部のほうが面積が小さい形状であるほうが、摺擦メモリー特性の点から好ましい。本発明における電子写真感光体表面の凹形状部は、個々に異なる形状、大きさあるいは深さを有してもよく、また、すべての凹形状部が同一の形状、大きさあるいは深さであってもよい。さらに、電子写真感光体の表面は、個々に異なる形状、大きさあるいは深さを有する凹形状部と、同一の形状、大きさあるいは深さを有する凹形状部が組み合わされた表面であってもよい。
上記凹形状部は、電子写真感光体の少なくとも表面に形成されている。感光体表面の凹形状部の領域は、表面層上の表面全域であってもよいし、表面の一部分に形成されていてもよいが、表面全域であるほうが摺擦メモリー特性の点から好ましい。
本発明における短軸径とは、図1A乃至1G中の矢印で示されている長さ(L)および図2A乃至2G中の短軸径(Rpc)で示されているように、電子写真感光体における凹形状部の開孔部周囲の表面を基準とし、各凹形状部における最小長さのことを示す。例えば、凹形状部の表面形状が円状の場合は直径を示し(図1A)、表面形状が楕円状の場合は短径を示し(図1B)、表面形状が長方形の場合は短辺を示す(図1D)。
本発明における深さとは、各凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す。具体的には、図2A乃至2G中の深さ(Rdv)で示されているように、電子写真感光体における凹形状部の開孔部周囲の表面を基準(基準面(S))とし、凹形状部の最深部と開孔面との距離のことを示す。
本発明の電子写真感光体は、電子写真感光体表面に上述の凹形状部の短軸径Rpcに対する深さRdvの比(Rdv/Rpc)が1.0以下である凹形状部を有する電子写真感光体である。これは電子写真感光体表面に、短軸径よりも小さな深さを有する凹形状部を有する電子写真感光体であることを示している。このような本発明の短軸径よりも小さな深さを有する凹形状部を表面に有する電子写真感光体を用いることにより、摺擦メモリーが生じ難くなり、それによる画像欠陥の発生が抑制される。その理由は明確には理解されていないが、電子写真感光体表面に、短軸径よりも小さな深さを有する凹形状部、およびイオン化ポテンシャルが5.3eV以下の正孔輸送物質を有することにより帯電部材やクリーニングブレードとの摩擦により発生したプラス電荷を効率的に低減することに起因していると考えられる。本発明の凹形状部は、短軸径よりも小さな深さを有するため、弾性体である帯電部材やクリーニングブレードとの当接圧は小さくなるが、ほとんどが当接部材と接した状態で保たれている。この状態で摩擦されると、凹形状部を有している部分ではプラス電荷の発生は小さくなるが、接触部材と接している感光体表面全体にプラス電荷が生じる。本発明の電子写真感光体は各々独立した凹形状部を有することにより通常の感光体と比べて表面積が大きくなり、プラス電荷がより広い範囲に発生した状態となる。本発明者らは、イオン化ポテンシャルが5.3eV以下の正孔輸送物質を用いると、表面積の大きい感光体表面上に発生したプラス電荷を効果的に低減させることができることを見出し、本発明に至った。
電子写真感光体表面の凹形状部の短軸径Rpcに対する深さRdvの比(Rdv/Rpc)は、1.0以下であることが摺擦メモリー特性の点から好ましい。更には、電子写真感光体表面の凹形状部の短軸径Rpcに対する深さRdvの比(Rdv/Rpc)が0.10以上0.40以下であることが摺擦メモリー特性の点からより好ましい。電子写真感光体表面の凹形状部の短軸径Rpcに対する深さRdvの比(Rdv/Rpc)が、1.0より大きいと、帯電部材やクリーニングブレードとの接触面積が低下し、接触部材との摩擦によりプラス電荷が発生する表面積が小さくなるため、本発明の凹形状部および正孔輸送物質との組み合わせによるプラス電荷の低減効果が得られにくくなる。
本発明の電子写真感光体の表面には、上述の凹形状部の短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部を、電子写真感光体表面の100μm四方あたり、即ち、単位面積(100μm×100μm)あたり100個以上有することが好ましい。特定の凹形状部を単位面積あたり多く有することにより、イオン化ポテンシャルが5.3eV以下の正孔輸送物質との相乗効果により良好な摺擦メモリー特性を有する電子写真感光体となる。さらには、凹形状部の短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部を、100μm四方あたり、即ち、単位面積(100μm×100μm)あたり250個以上有することが好ましく、また、250個以上1000000個以下有することが好ましい。さらに、625個以上1000000個以下有することがより好ましい。また、電子写真感光体の表面には、上述の凹形状部の短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下を満たさない凹形状部を単位面積中に有しても良い。
また、本発明の電子写真感光体における凹形状部の深さは、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の範囲内で任意であるが、凹形状部の深さRdvが0.01μm以上3.00μm以下であることが、良好な摺擦メモリー特性の点で好ましい。さらには、凹形状部の深さRdvが0.05μm以上1.20μm以下であることが、良好な摺擦メモリー特性の点でより好ましい。
また、本発明の電子写真感光体の表面における、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部の配列は任意である。詳しくは、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部が、ランダムに配置されてもよいし、規則性を持って配置されてもよい。摺擦メモリー特性に対する表面の均一性を高める上では、規則性を持って配置されることが好ましい。
本発明において、電子写真感光体の表面の凹形状部は、例えば、市販のレーザー顕微鏡、光学顕微鏡、電子顕微鏡あるいは原子力間顕微鏡を用いて測定可能である。
レーザー顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。超深度形状測定顕微鏡VK−8550、超深度形状測定顕微鏡VK−9000および超深度形状測定顕微鏡VK−9500(いずれも(株)キーエンス社製):表面形状測定システムSurface Explorer SX−520DR型機((株)菱化システム社製):走査型共焦点レーザー顕微鏡OLS3000(オリンパス(株)社製):リアルカラーコンフォーカル顕微鏡オプリテクスC130(レーザーテック(株)社製)。
光学顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。デジタルマイクロスコープVHX−500およびデジタルマイクロスコープVHX−200(いずれも(株)キーエンス社製):3DデジタルマイクロスコープVC−7700(オムロン(株)社製)。
電子顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。3Dリアルサーフェスビュー顕微鏡VE−9800および3Dリアルサーフェスビュー顕微鏡VE−8800(いずれも(株)キーエンス社製):走査型電子顕微鏡コンベンショナル/VariablePressure SEM(エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)社製):走査型電子顕微鏡SUPERSCAN SS−550((株)島津製作所社製)。
原子力間顕微鏡としては、例えば、以下の機器が利用可能である。ナノスケールハイブリッド顕微鏡VN−8000((株)キーエンス社製):走査型プローブ顕微鏡NanoNaviステーション(エスアイアイ・ナノテクノロジー(株)社製):走査型プローブ顕微鏡SPM−9600((株)島津製作所社製)。
上記顕微鏡を用いて、所定の倍率により、測定視野内の凹形状部の短軸径および深さを計測することが出来る。さらには、単位面積あたりの凹形状部の開孔部面積率を計算により求めることが出来る。
一例として、Surface Explorer SX−520DR型機による解析プログラムを利用した測定例について説明する。測定対象の電子写真感光体をワーク置き台に設置し、チルト調整して水平を合わせ、ウェーブモードで電子写真感光体の周面の3次元形状データを取り込む。その際、対物レンズの倍率を50倍とし、100μm×100μm(10000μm)の視野観察としてもよい。
次に、データ解析ソフト中の粒子解析プログラムを用いて電子写真感光体の表面の等高線データを表示する。
凹形状部の形状、短軸径、深さおよび開孔部面積のような凹形状部の孔解析パラメーターは、形成された凹形状部によって各々最適化することが出来る。例えば、短軸径10μm程度の凹形状部の観察及び測定を行なう場合、短軸径上限を15μm、短軸径下限を1μm、深さ下限を0.1μmおよび体積下限を1μm以上としてもよい。そして、解析画面上で凹形状部と判別できる凹形状部の個数をカウントし、これを凹形状部の個数とする。
また、上記と同様の視野及び解析条件で、上記粒子解析プログラムを用いて求められる各凹形状部の開孔部面積の合計から凹形状部の合計開孔部面積を算出し、以下の式から凹形状部の開孔部面積率(以下、単に面積率と表記したものは、この開孔部面積率を示す)を算出することができる。
(凹形状部の合計開孔部面積/(凹形状部の合計開孔部面積+非凹形状部の合計面積))×100[%]
本発明の電子写真感光体の表面には、上述の凹形状部の短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部を、凹形状部の開孔部面積率で16%以上有することが良好な摺擦メモリー特性の点から好ましい。さらには、凹形状部の短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部を、凹形状部の開孔部面積率で20%以上50%以下有することが良好な摺擦メモリー特性の点からより好ましい。
なお、凹形状部の短軸径が1μm程度以下の凹形状部については、レーザー顕微鏡および光学顕微鏡による観察が可能であるが、より測定精度を高める場合には、電子顕微鏡による観察及び測定を併用することが望ましい。
次に、本発明による電子写真感光体の表面の形成方法について説明する。表面形状の形成方法としては、上記の凹形状部に係る要件を満たし得る方法であれば、特に制限はない。電子写真感光体表面の形成方法の例としては、パルス幅が100ns(ナノ秒)以下である出力特性を有するレーザー照射による電子写真感光体の表面の形成方法、所定の形状を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し形状転写を行なう表面の形成方法、電子写真感光体の表面層形成時に表面を結露させた表面の形成方法が挙げられる。
パルス幅が100ns(ナノ秒)以下である出力特性を有するレーザー照射による電子写真感光体の表面の形成方法について説明する。この方法で用いるレーザーの具体的な例としては、ArF、KrF、XeFあるいはXeClのようなガスをレーザー媒質とするエキシマレーザーや、チタンサファイアを媒質とするフェムト秒レーザーが挙げられる。さらに、上記、レーザー照射における、レーザー光の波長は、1,000nm以下であることが好ましい。
上記、エキシマレーザーは、以下の工程で放出されるレーザー光である。まず、Ar、KrおよびXeのような希ガスと、FおよびClのようなハロゲンガスとの混合気体に、例えば、放電、電子ビームおよびX線でエネルギーを与えて、上述の元素を励起して結合させる。その後、基底状態に落ちることで解離する際、エキシマレーザー光が放出される。上記、エキシマレーザーにおいて用いるガスとしては、ArF、KrF、XeClおよびXeFが挙げられるが、いずれを用いてもよい。特には、KrF、ArFが好ましい。
凹形状部の形成方法としては、図3に示されているレーザー光遮蔽部aとレーザー光透過部bとを適宣配列したマスクを使用する。マスクを透過したレーザー光のみがレンズで集光され、電子写真感光体の表面に照射されることにより、所望の形状と配列を有した凹形状部の形成が可能となる。上記、レーザー照射による電子写真感光体の表面の形成方法では、一定面積内の多数の凹形状部を、凹形状部の形状あるいは面積に関わらず瞬時に、かつ同時に加工できるため、表面形成工程は短時間ですむ。マスクを用いたレーザー照射により、1回照射当たり電子写真感光体の表面の数mmから数cmの領域が加工される。レーザー加工においては、図4に示すように、まず、ワーク回転用モーターdにより電子写真感光体fを自転させる。自転させながら、ワーク移動装置eにより、レーザー照射位置を電子写真感光体の軸方向上にずらしていくことにより、エキシマレーザー光照射器cからエキシマレーザー光を照射することにより、電子写真感光体の表面全域に効率良く凹形状部を形成することができる。
上記、レーザー照射による電子写真感光体の表面の形成方法により、表面層に複数の各々独立した凹形状部を有し、かつ凹形状部の短軸径をRpcとし、凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さをRdvとした場合に、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部を有する電子写真感光体を作製することができる。凹形状部の深さは、上記範囲内で任意であり、レーザー照射による電子写真感光体の表面を形成する場合は、レーザー照射時間、回数のような製造条件の調整で、凹形状部の深さは制御できる。製造上の精度あるいは生産性の観点から、レーザー照射による電子写真感光体の表面を形成する場合は、一回の照射による凹形状部の深さは0.01μm以上2.0μm以下とすることが望ましく、さらには0.01μm以上1.2μm以下であることが好ましい。レーザー照射による電子写真感光体の表面の形成方法を用いることにより、凹形状部の大きさ、形状および配列の制御性が高く、高精度且つ自由度の高い電子写真感光体の表面加工が実現できる。
また、レーザー照射による電子写真感光体の表面の形成方法では、同じマスクパターンを用いて上記の表面の形成方法を複数の部位あるいは感光体表面全域に施されてもよい。この方法により、感光体表面全体に均一性の高い凹形状部を形成することができる。その結果、電子写真感光体と帯電部材やクリーニングブレードとの当接部における摺擦メモリー低減効果は均一となる。また、図5に示すように、感光体の任意の周方向線(図5の点線矢印)上に、凹形状部h及び凹形状非形成部gの双方が存在する配列となるようにマスクパターンを形成することにより、摺擦メモリーの偏在は一層防止できる。
更に、摺擦メモリーの低減効果をより均一とするために、凹形状部を形成した後に加熱工程を行なってもよい。加熱温度は100℃以上とすることが好ましい。加熱温度の上限は摺擦メモリーの点からは特に制限されないが、電子写真特性の点から150℃以下とすることが好ましい。
次に、所定の形状を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し形状転写を行なう表面の形成方法について説明する。
図6は、本発明におけるモールドによる圧接形状転写加工装置の概略図の例を示す図である。加圧及び解除が繰り返し行なえる加圧装置Aに所定のモールドBを取り付けた後、感光体Cに対して所定の圧力でモールドを当接させて形状転写を行なう。その後、加圧を一旦解除し、感光体Cを回転させた後に、再度加圧そして形状転写工程を行なう。この工程を繰り返すことにより、感光体全周にわたって所定の凹形状部を形成することが可能である。
また、例えば図7に示されているように、加圧装置Aに感光体Cの全周長程度の長さを持つ所定形状を有するモールドBを取り付けた後、感光体Cに対して所定の圧力をかけながら、感光体を回転、移動させることにより、感光体全周にわたって所定の凹形状部を形成してもよい。
また、シート状のモールドをロール状の加圧装置と感光体との間に挟み、モールドシートを送りながら感光体の表面加工を行うことも可能である。
また、形状転写を効率的に行なう目的で、モールドや感光体を加熱してもよい。モールドおよび感光体の加熱温度は、本発明の感光体の表面の形状が形成できる範囲で任意に設定できるが、形状転写時のモールドの温度(℃)を支持体上の感光層のガラス転移温度(℃)より高くするように加熱されていることが好ましい。さらには、モールドの加熱に加えて、形状転写時の支持体の温度(℃)を感光層のガラス転移温度(℃)より低く制御されていることが、感光体表面に転写された凹形状部を安定的に形成するうえで好ましい。
また、本発明の感光体が電荷輸送層を有する感光体である場合は、形状転写時のモールドの温度(℃)を支持体上の電荷輸送層のガラス転移温度(℃)より高くするように加熱されていることが好ましい。さらには、モールドの加熱に加えて、形状転写時の支持体の温度(℃)を電荷輸送層のガラス転移温度(℃)より低く制御されていることが、感光体表面に転写された凹形状部を安定的に形成するうえで好ましい。
更に、本発明においては、摺擦メモリーの低減効果をより均一とするために、形状転写時のモールドの加熱温度を100℃以上とすることがより好ましい。
モールド自体の材質や大きさ、形状は適宜選択することが出来る。材質としては、微細表面加工された金属およびシリコンウエハーの表面にレジストによりパターニングをしたもの、微粒子が分散された樹脂フィルムおよび所定の微細表面形状を有する樹脂フィルムに金属コーティングされたものが挙げられる。モールド形状の一例を図8Aおよび8Bに示す。図8Aおよび8Bにおいて、(1)はモールド形状を上から見た図であり、(2)はモールド形状を横から見た図である。
また、感光体に対して圧力の均一性を付与する目的で、モールドと加圧装置との間に弾性体を設けてもよい。
上記、所定の形状を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し形状転写を行なう表面の形成方法により、表面層に複数の各々独立した凹形状部を有し、かつ凹形状部の短軸径をRpcおよび凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さをRdvとした場合に、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部を有する電子写真感光体を作製することができる。凹形状部の深さは、上記範囲内で任意であるが、所定の形状を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し形状転写を行なう表面の形成を行う場合は、深さは0.01μm以上3.00μm以下とすることが望ましい。所定の形状を有するモールドを電子写真感光体の表面に圧接し形状転写を行なう表面の形成方法を用いることにより、凹形状部の大きさ、形状および配列の制御性が高く、高精度且つ自由度の高い電子写真感光体の表面加工が実現できる。
次に、電子写真感光体の表面層形成時に表面を結露させた表面の形成方法を説明する。電子写真感光体の表面層形成時に表面を結露させた表面の形成方法とは、結着樹脂および特定の芳香族有機溶剤を含有し、芳香族有機溶剤の含有量が表面層用塗布液中の全溶剤質量に対し50質量%以上80質量%以下である表面層用塗布液を作製し、該塗布液を塗布する塗布工程、次いで、該塗布液を塗布された支持体を保持し、該塗布液を塗布された支持体の表面を結露させた結露工程、その後、支持体を加熱乾燥する乾燥工程により表面に各々独立した凹形状部が形成された表面層を作製することを特徴とする電子写真感光体製造方法を示す。
上記、結着樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキッド樹脂および不飽和樹脂が挙げられる。特には、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂あるいはジアリルフタレート樹脂が好ましい。さらには、ポリカーボネート樹脂あるいはポリアリレート樹脂であることが好ましい。これらは単独、混合または共重合体として1種または2種以上用いることができる。
上記、特定の芳香族有機溶剤は、水に対して親和性の低い溶剤である。具体的には、1,2−ジメチルベンゼン、1,3−ジメチルベンゼン、1,4−ジメチルベンゼン、1,3,5−トリメチルベンゼンあるいはクロロベンゼンが挙げられる。
上記、表面層塗布液中に、芳香族有機溶剤を含有していることが重要であるが、凹形状部を安定的に作製する目的で、表面層塗布液中に、さらに水との親和性の高い有機溶剤あるいは水を表面層用塗布液中に含有してもよい。水との親和性の高い有機溶剤としては、(メチルスルフィニル)メタン(慣用名:ジメチルスルホキシド)、チオラン−1,1−ジオン(慣用名:スルホラン)、N,N−ジメチルカルボキシアミド、N,N−ジエチルカルボキシアミド、ジメチルアセトアミドあるいは1−メチルピロリジン−2−オンであることが好ましい。これらの有機溶剤は単独で含有することも、2種以上混合して含有することができる。
上記、支持体の表面を結露させる結露工程とは、表面層塗布液を塗布された支持体を、支持体の表面が結露する雰囲気下に一定時間保持する工程を示す。この表面形成方法における結露とは、水の作用により表面層塗布液を塗布された支持体に液滴が形成されたことを指す。支持体の表面を結露させる条件は、支持体を保持する雰囲気の相対湿度および塗布液溶剤の揮発条件(例えば気化熱)によって影響されるが、表面層塗布液中に、芳香族有機溶剤を全溶剤質量に対し50質量%以上含有しているため、塗布液溶剤の揮発条件の影響は少なく、支持体を保持する雰囲気の相対湿度に主に依存する。支持体の表面を結露させる相対湿度は、40%〜100%である。さらに相対湿度70%以上であることが好ましい。結露工程には、結露による液滴形成が行われるのに必要な時間があればよい。生産性の観点から好ましくは1秒〜300秒であり、さらには10秒から180秒程度であることが好ましい。結露工程には、相対湿度が重要であるが、雰囲気温度としては20℃以上80℃以下であることが好ましい。
上記、加熱乾燥する乾燥工程により、結露工程によって表面に生じた液滴を、感光体表面の凹形状部として形成できる。均一性の高い凹形状部を形成するためには、速やかな乾燥であることが重要であるため、加熱乾燥が行われる。乾燥工程における乾燥温度は、100℃〜150℃であることが好ましい。加熱乾燥する乾燥工程時間は、支持体上に塗布された塗布液中の溶剤および結露工程によって形成した水滴が除去される時間があればよい。乾燥工程時間は、20分〜120分であることが好ましく、さらには40分〜100分であることがより好ましい。
上記、電子写真感光体の表面層形成時に表面を結露させた表面の形成方法により、感光体の表面には、各々独立した凹形状部が形成される。電子写真感光体の表面層形成時に表面を結露させた表面の形成方法は、水の作用により形成される液滴を、水との親和性の低い溶剤および結着樹脂を用いて凹形状部を形成する方法である。この製造方法により作製された電子写真感光体表面に形成された凹形状部の個々の形は、水の凝集力により形成されるため、均一性の高い凹形状部となっている。この製造方法は、液滴あるいは液滴が十分に成長した状態から液滴を除去する工程を経る製造方法であるため、電子写真感光体の表面の凹形状部は、例えば、液滴形状あるいはハニカム形状(六角形状)の凹形状部が形成される。液滴形状の凹形状部とは、感光体表面の観察では、例えば、円形状あるいは楕円形状に観察される凹形状部であり、感光体断面の観察では、例えば、部分円状あるいは部分楕円状に観察される凹形状部を示す。また、ハニカム形状(六角形状)の凹形状部とは、例えば、電子写真感光体の表面に液滴が最密充填されたことにより形成された凹形状部である。具体的には、感光体表面の観察では、例えば、凹形状部が円状、六角形状あるいは角の円い六角形状であり、感光体断面の観察では、例えば、部分円状あるいは角柱のような凹形状部を示す。
電子写真感光体の表面層形成時に表面を結露させた表面の形成方法により、表面層に複数の各々独立した凹形状部を有し、かつ凹形状部の短軸径をRpcとし、凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さをRdvとした場合に、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部を有する電子写真感光体を作製することができる。凹形状部の深さは、上記範囲内で任意に設定できるが、個々の凹形状部の深さが、0.01μm以上3.00μm以下となる製造条件であることが好ましい。
上記、凹形状部は、製造方法で示した範囲内で製造条件の調整を行うことにより制御可能である。凹形状部は、例えば、本明細書に記載の表面層塗布液中の溶剤種、溶剤含有量、結露工程における相対湿度、結露工程における支持体保持時間、加熱乾燥温度により制御可能である。
次に、本発明における正孔輸送物質について説明する。
本発明の電子写真感光体は、イオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.3eV以下の正孔輸送物質を有することを特徴とする。イオン化ポテンシャルの小さい正孔輸送物質と特定の凹部形状との相乗効果により、プラス電荷を効果的に低減させ、摺擦メモリーを抑制することができる。詳しくは、イオン化ポテンシャルが5.3eV以下であることが摺擦メモリー特性の点から好ましい。さらには、5.2eV以下であることが摺擦メモリー特性の点からより好ましい。イオン化ポテンシャルの下限は摺擦メモリー特性の点からは特に制限はないが、一般的にイオン化ポテンシャルが4.5eV未満になると、化合物が容易に酸化されやすくなるため、電子写真特性の点からは好ましくない。
正孔輸送物質のイオン化ポテンシャルは、大気下光電子分析法(理研計器製、光電子分光装置AC−2)によって測定することができる。
本発明に用いられるイオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.3eV以下の正孔輸送物質の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されない。
Figure 0004739450
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式(1−6)中、nは平均重合度を示す。
Figure 0004739450
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本発明においては、イオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.3eV以下の正孔輸送物質を単独で用いても良いし、2種以上の電荷輸送物質を混合して用いても良い。また、プラス電荷を効果的に低減させ、摺擦メモリーを抑制することができるという効果に影響しない範囲でイオン化ポテンシャルが5.3eVより大きい正孔輸送物質を混合して用いても良い。
次に、本発明による電子写真感光体の構成について説明する。
上記のとおり、本発明の電子写真感光体は、支持体と、該支持体上に設けられた有機感光層(以下、単に「感光層」ともいう。)とを有する。本発明による電子写真感光体は、一般的には、円筒状支持体上に感光層を形成した円筒状有機電子写真感光体が広く用いられるが、ベルト状或いはシート状などの形状も可能である。
感光層は、電荷発生物質を含有する電荷発生層と正孔輸送物質を含有する電荷輸送層とに分離した積層型(機能分離型)感光層が好ましい。また、積層型感光層は、支持体側から電荷発生層、電荷輸送層の順に積層した順層型感光層が好ましい。また、電荷発生層を積層構造としてもよく、また、電荷輸送層を積層構成としてもよい。さらに、耐久性能向上等を目的とし感光層上に保護層を設けることも可能である。
支持体としては、導電性を有するもの(導電性支持体)が好ましく、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金またはステンレスのような金属製の支持体を用いることができる。アルミニウムまたはアルミニウム合金の場合は、ED管、EI管や、これらを切削、電解複合研磨(電解作用を有する電極と電解質溶液による電解および研磨作用を有する砥石による研磨)、湿式または乾式ホーニング処理したものも用いることができる。また、アルミニウム、アルミニウム合金または酸化インジウム−酸化スズ合金を真空蒸着によって被膜形成された層を有する上記金属製支持体や樹脂製支持体(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレン又はポリスチレン樹脂)を用いることもできる。また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子または銀粒子のような導電性粒子を樹脂や紙に含浸した支持体や、導電性結着樹脂を有するプラスチックを用いることもできる。
支持体の表面は、レーザー光などの散乱による干渉縞の防止などを目的として、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などを施してもよい。
支持体の体積抵抗率は、支持体の表面が導電性を付与するために設けられた層である場合、その層の体積抵抗率は、1×1010Ω・cm以下であることが好ましく、特には1×106Ω・cm以下であることがより好ましい。
支持体と、後述の中間層又は感光層(電荷発生層、電荷輸送層)との間には、レーザー光などの散乱による干渉縞の防止や、支持体の傷の被覆を目的とした導電層を設けてもよい。これは導電性粉体を適当な結着樹脂に分散させた塗布液を塗工することにより形成される層である。
このような導電性粉体としては、以下のようなものが挙げられる。カーボンブラック、アセチレンブラック;アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛又は銀のような金属粉;導電性酸化スズ又はITOのような金属酸化物粉体。
また、同時に用いられる結着樹脂としては、以下の熱可塑樹脂、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂が挙げられる。ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルトルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂又はアルキッド樹脂。
導電層は、上記導電性粉体と結着樹脂を、テトラヒドロフラン又はエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル系溶剤;メタノールのようなアルコール系溶剤;メチルエチルケトンのようなケトン系溶剤;トルエンのような芳香族炭化水素溶剤に分散し、または溶解し、これを塗布することにより形成することができる。導電層の平均膜厚は0.2μm以上40μm以下であることが好ましく、1μm以上35μm以下であることがより好ましく、さらには5μm以上30μm以下であることがより一層好ましい。
支持体又は導電層と、感光層(電荷発生層、電荷輸送層)との間には、バリア機能や接着機能を有する中間層を設けてもよい。中間層は、例えば、感光層の接着性改良、塗工性改良、支持体からの電荷注入性改良、感光層の電気的破壊に対する保護のために形成される。
中間層は、硬化性樹脂を塗布後硬化させて樹脂層を形成する、あるいは、結着樹脂を含有する中間層用塗布液を導電層上に塗布し、乾燥することによって形成することができる。
中間層の結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。ポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリアクリル酸類、メチルセルロース、エチルセルロース、ポリグルタミン酸又はカゼインのような水溶性樹脂;ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド酸樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂又はポリグルタミン酸エステル樹脂。電気的バリア性を効果的に発現させるためには、また、塗工性、密着性、耐溶剤性および抵抗のような観点から、中間層の結着樹脂は熱可塑性樹脂が好ましい。具体的には、熱可塑性ポリアミド樹脂が好ましい。ポリアミド樹脂としては、溶液状態で塗布できるような低結晶性または非結晶性の共重合ナイロンが好ましい。中間層の平均膜厚は、0.05μm以上7μm以下であることが好ましく、さらには0.1μm以上2μm以下であることがより好ましい。
また、中間層において電荷(キャリア)の流れが滞らないようにするために、中間層中に、半導電性粒子を分散させる、あるいは、電子輸送物質(アクセプターのような電子受容性物質)を含有させてもよい。
次に本発明における感光層について説明する。
本発明の電子写真感光体に用いられる電荷発生物質としては、以下のものが挙げられる。モノアゾ、ジスアゾ又はトリスアゾのようなアゾ顔料;金属フタロシアニン又は非金属フタロシアニンのようなフタロシアニン顔料;インジゴ又はチオインジゴのようなインジゴ顔料;ペリレン酸無水物又はペリレン酸イミドのようなペリレン顔料;アンスラキノン又はピレンキノンのような多環キノン顔料;スクワリリウム色素、ピリリウム塩又はチアピリリウム塩、トリフェニルメタン色素;セレン、セレン−テルル又はアモルファスシリコンのような無機物質;キナクリドン顔料、アズレニウム塩顔料、シアニン染料、キサンテン色素、キノンイミン色素又はスチリル色素。これら電荷発生材料は1種のみ用いてもよく、2種以上用いてもよい。これらの中でも、特にオキシチタニウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンあるいはクロロガリウムフタロシアニンのような金属フタロシアニンは、高感度であるため、好ましい。
感光層が積層型感光層である場合、電荷発生層に用いる結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ブチラール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂又は塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂。特には、ブチラール樹脂が好ましい。これらは単独、混合または共重合体として1種または2種以上用いることができる。
電荷発生層は、電荷発生物質を結着樹脂および溶剤と共に分散して得られる電荷発生層用塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。また、電荷発生層は、電荷発生物質の蒸着膜としてもよい。分散方法としては、ホモジナイザー、超音波、ボールミル、サンドミル、アトライター又はロールミルを用いた方法が挙げられる。電荷発生物質と結着樹脂との割合は、10:1〜1:10(質量比)の範囲が好ましく、特には3:1〜1:1(質量比)の範囲がより好ましい。
電荷発生層用塗布液に用いる溶剤は、使用する結着樹脂や電荷発生物質の溶解性や分散安定性から選択される。有機溶剤としては、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤又は芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。
電荷発生層の平均膜厚は5μm以下であることが好ましく、特には0.1〜2μmであることがより好ましい。
また、電荷発生層には、種々の増感剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤および/または可塑剤を必要に応じて添加することもできる。また、電荷発生層において電荷(キャリア)の流れが滞らないようにするために、電荷発生層には、電子輸送物質(アクセプターのような電子受容性物質)を含有させてもよい。
本発明の電子写真感光体に用いられる正孔輸送物質としては、イオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.3eV以下のものであればよいが、例えば、トリアリールアミン化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、スチルベン化合物、ピラゾリン化合物、オキサゾール化合物、チアゾール化合物又はトリアリルメタン化合物が挙げられる。これら正孔輸送物質は1種のみ用いてもよく、2種以上用いてもよい。
電荷輸送層は、正孔輸送物質と結着樹脂とを溶剤に溶解させることによって得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、これを乾燥させることによって形成することができる。また、上記正孔輸送物質のうち単独で成膜性を有するものは、結着樹脂を用いずにそれ単独で成膜し、電荷輸送層とすることもできる。
感光層が積層型感光層である場合、電荷輸送層に用いる結着樹脂としては、以下のものが挙げられる。アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンオキシド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、アルキッド樹脂又は不飽和樹脂。特には、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂又はジアリルフタレート樹脂が好ましい。これらは単独、混合または共重合体として1種または2種以上用いることができる。
電荷輸送層は、正孔輸送物質と結着樹脂を溶剤に溶解して得られる電荷輸送層用塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。正孔輸送物質と結着樹脂との割合は、2:1〜1:2(質量比)の範囲が好ましい。
電荷輸送層用塗布液に用いる溶剤としては、以下のものが挙げられる。アセトン又はメチルエチルケトンのようなケトン系溶剤;酢酸メチル又は酢酸エチルのようなエステル系溶剤;テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジメトキシメタン又はジメトキシエタンのようなエーテル系溶剤;トルエン、キシレン又はクロロベンゼンのような芳香族炭化水素溶剤。これら溶剤は、単独で使用してもよいが、2種類以上を混合して使用してもよい。これらの溶剤の中でも、エーテル系溶剤又は芳香族炭化水素溶剤を使用することが、樹脂溶解性のような観点から好ましい。
電荷輸送層の平均膜厚は5〜50μmであることが好ましく、特には10〜35μmであることがより好ましい。
また、電荷輸送層には、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤および/または可塑剤を必要に応じて添加することもできる。
本発明の電子写真感光体の各層には各種添加剤を添加することができる。添加剤としては、酸化防止剤や紫外線吸収剤などの劣化防止剤や、フッ素原子含有樹脂粒子などの潤滑剤などが挙げられる。
本発明の電子写真感光体は、上記の通り、特定の凹形状部を電子写真感光体の表面に有する。本発明の凹形状部は、特定の正孔輸送物質を有する感光体に適用したときに効果的に作用する。
次に、本発明によるプロセスカートリッジ及び電子写真装置について説明する。図9は、本発明による電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。
図9において、1は円筒状の電子写真感光体であり、軸2を中心に矢印方向に所定の周速度で回転駆動される。
回転駆動される電子写真感光体1の表面は、帯電手段(一次帯電手段:例えば帯電ローラー)3により、正又は負の所定電位に均一に帯電される。次いで、スリット露光やレーザービーム走査露光のような露光手段(図示せず)から出力される露光光(画像露光光)4を受ける。こうして電子写真感光体1の表面に、目的の画像に対応した静電潜像が順次形成されていく。
電子写真感光体1の表面に形成された静電潜像は、現像手段5の現像剤に含まれるトナーにより現像されてトナー像となる。次いで、電子写真感光体1の表面に形成担持されているトナー像が、転写手段(例えば転写ローラー)6からの転写バイアスによって、転写材供給手段(図示せず)から電子写真感光体1と転写手段6との間(当接部)に電子写真感光体1の回転と同期して給送された転写材(例えば紙)Pに順次転写されていく。
トナー像の転写を受けた転写材Pは、電子写真感光体1の表面から分離されて定着手段8へ導入されて像定着を受けることにより画像形成物(プリント、コピー)として装置外へプリントアウトされる。
トナー像転写後の電子写真感光体1の表面は、クリーニング手段(例えばクリーニングブレード)7によって転写残りの現像剤(トナー)の除去を受けて清浄面化される。さらに、電子写真感光体1の表面は、前露光手段(図示せず)からの前露光光(図示せず)により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、図9に示すように、帯電手段3が、例えば帯電ローラーを用いた接触帯電手段である場合は、前露光は必ずしも必要ではない。
上記の電子写真感光体1、帯電手段3、現像手段5及びクリーニング手段7の構成要素のうち、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとして一体に結合して構成してもよい。また、このプロセスカートリッジを複写機やレーザービームプリンターのような電子写真装置本体に対して着脱自在に構成してもよい。図9では、電子写真感光体1と、帯電手段3、現像手段5及びクリーニング手段7とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールのような案内手段10を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ9としている。
(実施例)
以下に、具体的な実施例を挙げて本発明をより詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。
(実施例1)
直径30mm、長さ260.5mmの表面切削加工されたアルミニウムシリンダーを支持体(円筒状支持体)とした。
次に、以下の成分からなる溶液を約20時間、ボールミルで分散し導電層用塗料を調製した。
酸化スズの被覆層を有する硫酸バリウム粒子からなる粉体(商品名:パストランPC1、三井金属鉱業(株)製) 60部
酸化チタン(商品名:TITANIX JR、テイカ(株)製) 15部
レゾール型フェノール樹脂(商品名:フェノライトJ−325、大日本インキ化学工業(株)製、固形分70%) 43部
シリコーンオイル(商品名:SH28PA、東レシリコーン(株)製)
0.015部
シリコーン樹脂(商品名:トスパール120、東芝シリコーン(株)製)
3.6部
2−メトキシ−1−プロパノール 50部
メタノール 50部
上記方法にて調製した導電層用塗料を、上記支持体上に浸漬法によって塗布し、140℃に加熱されたオーブン内で1時間、加熱硬化することにより、支持体上端から170mmの位置の平均膜厚が15μmの導電層を形成した。
次に、以下の成分をメタノール400部/n−ブタノール200部の混合液に溶解した中間層用塗料を、上記導電層上に浸漬塗布し、100℃に加熱されたオーブン内で30分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から170mm位置の平均膜厚が0.45μmの中間層を形成した。
共重合ナイロン樹脂(商品名:アミランCM8000、東レ(株)製)
10部
メトキシメチル化6ナイロン樹脂(商品名:トレジンEF−30T、帝国化学(株)製) 30部
次に、以下の成分を、直径1mmガラスビーズを用いたサンドミル装置で4時間分散した後、酢酸エチル700部を加えて電荷発生層用塗料を調製した。
ヒドロキシガリウムフタロシアニン(CuKα特性X線回折において、7.5°、9.9°、16.3°、18.6°、25.1°、28.3°(ブラッグ角度(2θ±0.2°))に強い回折ピーク有するもの) 20部
下記構造式(2)
Figure 0004739450
で示されるカリックスアレーン化合物 0.2部
ポリビニルブチラール(商品名:エスレックBX−1、積水化学製)10部
シクロヘキサノン 600部
上記電荷発生層用塗料を中間層上に浸漬コーティング法で塗布し、80℃に加熱されたオーブン内で15分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から170mm位置の平均膜厚が0.17μmの電荷発生層を形成した。
次いで、以下の成分をクロロベンゼン600部及びメチラール200部の混合溶媒中に溶解して電荷輸送層用塗料を調製した。これを用いて、上記電荷発生層上に電荷輸送層を浸漬塗布し、110℃に加熱されたオーブン内で30分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から170mm位置の平均膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。
下記構造式(1−5)
Figure 0004739450
で示される正孔輸送物質 50部
ポリカーボネート樹脂 100部
(ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)社製)
上記の方法により作製された電子写真感光体に対して、図7に示された装置において、図10に示された形状転写用のモールドを設置し表面加工を行なった。加工時の電子写真感光体及びモールドの温度は110℃に制御し、50kg/cmの圧力で加圧しながら、感光体を周方向に回転させ形状転写を行なった。図10において、(1)はモールド形状を上から見た図であり、(2)はモールド形状を横から見た図である。
<電子写真感光体の表面形状測定>
上記の方法により作製された電子写真感光体に対して、超深度形状測定顕微鏡VK−9500((株)キーエンス社製)を用いて表面観察を行った。測定対象の電子写真感光体を円筒状支持体を固定できるよう加工された置き台に設置し、電子写真感光体の上端から170mm離れた位置の表面観察を行った。その際、対物レンズ倍率50倍とし、感光体表面の100μm四方を視野観察とし、測定を行った。測定視野内に観察された凹形状部を解析プログラムを用いて解析を行った。
測定視野内にある各凹形状部の表面部分の形状、短軸径(Rpc)および凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さ(Rdv)を測定した。電子写真感光体の表面には、図11に示される円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部の100μm四方あたり、即ち、単位面積(100μm×100μm)あたりの個数を算出すると、2,500個であった。また、凹形状部の表面部分の短軸径Rpcは、1.0μmであった。また、凹形状部と、その凹形状部と最も近い距離にある凹形状部との平均距離(以下、凹形状部間隔(I)と表記する)は、1.0μmの間隔で形成されていた。また、凹形状部の深さRdvは、0.4μmであった。さらに、面積率を算出すると、20%であった。結果を表1に示す。(表1中、個数は、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部の100μm四方あたり、即ち、単位面積(100μm×100μm)あたりの個数を示す。Rpcは、100μm四方あたり、即ち、単位面積(100μm×100μm)あたりの凹形状部の平均短軸径を示す。Rdvは、100μm四方あたり、即ち、単位面積(100μm×100μm)あたりの凹形状部の平均深さを示す。Rdv/Rpcは、100μm四方あたり、即ち、単位面積(100μm×100μm)あたりの凹形状部の平均短軸径に対する平均深さの比を示す。)
<正孔輸送物質のイオン化ポテンシャル測定>
上記の方法により作製された電子写真感光体に対して、イオン化ポテンシャルの測定を行った。測定は、大気下光電子分析法(理研計器製、光電子分光装置AC−2)により、行った。測定は、照射エネルギー範囲を4.2eV〜6.2eVとし、規格化光量子収率のベースラインと立ち上がりライン(線形近似)の交点から算出した。
<電子写真感光体の摺擦メモリー特性評価>
上記の方法により作製された電子写真感光体を、ヒューレットパッカード社製レーザービームプリンターレーザージェット4250のプロセスカートリッジを改造したものに装着し、以下のような振動試験により評価を行なった。改造は、帯電部材のバネ圧を1.5倍に変更した。
振動試験は、物流試験基準(JIS Z0230)に従い、15℃、10%RH環境下で行った。プロセスカートリッジを振動試験装置(EMIC CORP.Model 905−FN)に設置して、x、y、z軸の各方向において、周波数10Hz〜100Hz、加速度1G、掃引方向LIN SWEEP、往復掃引時間5分、試験時間1時間で振動試験を行った後、2時間静置してから上述のプリンターでハーフトーン画像を出力して評価を行った。画像評価は目視にて行い、メモリーが発生していないものをA、僅かに発生しているものをB、発生しているものをC、明らかなメモリーが発生しているものをD、とした。結果を表1に示す。
<電子写真感光体のプラス帯電減衰特性評価>
上記の方法により作製された電子写真感光体を、上述のヒューレットパッカード社製レーザービームプリンターレーザージェット4250のプロセスカートリッジを改造したものに装着し、以下のような方法により評価を行なった。
評価は、15℃、10%RH環境下で行った。カートリッジの帯電ローラをドラムに対して従動しないように固定し、そのカートリッジをプリンターに装着して帯電および露光を行わない状態で感光体がプラス50V帯電するまで回転駆動させた後、回転駆動を停止し、1分間静置した状態でのプラス帯電の減衰量を測定し、プラス帯電減衰率を測定した。プラス帯電減衰率は、以下の式により求めた。ただし、5分間回転駆動しても50Vまで帯電しなかったものは、5分後に回転駆動を停止し、その後のプラス帯電減衰率を測定した。結果を表1に示す。
プラス帯電減衰率=プラス減衰量/プラス帯電量×100%
(実施例2)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから0.5μm、Eで示された間隔を1.0μmから0.5μmおよびFで示された高さを0.8μmから0.4μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.5μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例3)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから0.2μm、Eで示された間隔を1.0μmから0.2μmおよびFで示された高さを0.8μmから0.16μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.2μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例4)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから0.1μm、Eで示された間隔を1.0μmから0.1μmおよびFで示された高さを0.8μmから0.08μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.1μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例5)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから0.05μm、Eで示された間隔を1.0μmから0.05μmおよびFで示された高さを0.8μmから0.04μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.05μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例6)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから2.0μm、Eで示された間隔を1.0μmから2.0μmおよびFで示された高さを0.8μmから1.6μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、2.0μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
参考例7)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから3.0μm、Eで示された間隔を1.0μmから3.0μmおよびFで示された高さを0.8μmから2.4μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、3.0μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
参考例8)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから3.0μm、Eで示された間隔を1.0μmから3.0μmおよびFで示された高さを0.8μmから6.0μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、3.0μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
参考例9)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから0.5μm、およびEで示された間隔を1.0μmから0.5μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.5μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例10)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから0.5μm、Eで示された間隔を1.0μmから0.5μmおよびFで示された高さを0.8μmから0.2μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.5μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例11)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから0.5μm、Eで示された間隔を1.0μmから0.5μmおよびFで示された高さを0.8μmから0.1μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.5μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
参考例12)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから0.5μm、Eで示された間隔を1.0μmから0.6μmおよびFで示された高さを0.8μmから0.4μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.6μmの間隔で形成され、面積率を算出すると16%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例13)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから0.5μm、Eで示された間隔を1.0μmから0.3μmおよびFで示された高さを0.8μmから0.4μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.3μmの間隔で形成され、面積率を算出すると31%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例14)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドを図12に示した山型形状のモールドに代えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。図12において、(1)はモールド形状を上から見た図であり、(2)はモールド形状を横から見た図である。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、図13に示される山状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔(I)は、0.5μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例15)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドを図14に示した四角錘形状のモールドに代えた以外は実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。図14において、(1)はモールド形状を上から見た図であり、(2)はモールド形状を横から見た図である。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、図15に示される四角錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔(I)は、0.5μmの間隔で形成され、面積率を算出すると25%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
参考例16)
実施例1の正孔輸送物質を式(1−9)に変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例3で使用したモールドを使用し、実施例3と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錐状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.5μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例17)
実施例1の正孔輸送物質を式(1−2)に変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例3で使用したモールドを使用し、実施例3と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錐状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.5μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
参考例18)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから3.0μm、Eで示された間隔を1.0μmから7.0μmおよびFで示された高さを0.8μmから2.4μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、7.0μmの間隔で形成され、面積率を算出すると4%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例19)
実施例1と同様に支持体上に導電層、中間層および電荷発生層を作製した。
次いで、以下の成分をクロロベンゼン600部及びメチラール200部の混合溶媒中に溶解して電荷輸送層用塗料を調製した。これを用いて、上記電荷発生層上に電荷輸送層を浸漬塗布し、110℃に加熱されたオーブン内で30分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から170mm位置の平均膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。
上記式(1−5)で示される正孔輸送物質 50部
下記構造式(3)
Figure 0004739450
で示されるポリアリレート樹脂 100部
なお、上記ポリアリレート樹脂の重量平均分子量(Mw)は、130,000である。
本発明において、樹脂の重量平均分子量は、常法に従い、以下のようにして測定されたものである。
すなわち、測定対象樹脂をテトラヒドロフラン中に入れ、数時間放置した後、振盪しながら測定対象樹脂とテトラヒドロフランとをよく混合し(測定対象樹脂の合一体がなくなるまで混合し)、さらに12時間以上静置した。
その後、東ソー(株)製のサンプル処理フィルターマイショリディスクH−25−5を通過させたものをGPC(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー)用試料とした。
次に、40℃のヒートチャンバー中でカラムを安定化させ、この温度におけるカラムに、溶媒としてテトラヒドロフランを毎分1mlの流速で流し、GPC用試料を10μl注入して、測定対象樹脂の重量平均分子量を測定した。カラムには、東ソー(株)製のカラムTSKgel SuperHM−Mを用いた。
測定対象樹脂の重量平均分子量の測定にあたっては、測定対象樹脂が有する分子量分布を、数種の単分散ポリスチレン標準試料により作成された検量線の対数値とカウント数との関係から算出した。検量線作成用の標準ポリスチレン試料には、アルドリッチ社製の単分散ポリスチレンの分子量が、3,500、12,000、40,000、75,000、98,000、120,000、240,000、500,000、800,000、1,800,000のものを10点用いた。検出器にはRI(屈折率)検出器を用いた。
上記の方法により作製された電子写真感光体に対して、実施例1と同様に表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、1.0μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例20〜24、28〜33、35及び参考例25〜27、34、36)
実施例19と同様にして電子写真感光体を作製した。次いで、実施例2〜6、10、11、13〜15、17及び参考例7〜9、12、16、18と同様にして電子写真感光体の表面の加工をそれぞれ行なった。更に、実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例37)
実施例1と同様に支持体上に導電層、中間層および電荷発生層を作製した。
次いで、以下の成分をクロロベンゼン600部及びメチラール200部の混合溶媒中に溶解して電荷輸送層用塗料を調製した。これを用いて、上記電荷発生層上に電荷輸送層を浸漬塗布し、110℃に加熱されたオーブン内で30分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から170mm位置の平均膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。
上記式(1−5)で示される正孔輸送物質 50部
下記構造式(4)
Figure 0004739450
で示される共重合型ポリアリレート樹脂 100部
(式中、mおよびnは、繰り返し単位の本樹脂における比(共重合比)を示し、本樹脂においては、m:n=7:3である。)
また、上記ポリアリレート樹脂の重量平均分子量(Mw)は、120,000である。
上記の方法により作製された電子写真感光体に対して、実施例2で使用したモールドを用いて実施例1と同様に表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.5μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例38)
実施例37と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例3で使用したモールドを用いて実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.2μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。また、実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例39)
実施例37と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例4で使用したモールドを用いて実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、0.1μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。また、実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例40)
実施例1と同様に支持体上に導電層、中間層および電荷発生層を作製した。
次いで、以下の成分をクロロベンゼン600部及びメチラール200部の混合溶媒中に溶解して電荷輸送層用塗料を調製した。これを用いて、上記電荷発生層上に電荷輸送層を浸漬塗布し、110℃に加熱されたオーブン内で30分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から170mm位置の平均膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。
上記式(1−7)で示される正孔輸送物質 50部
上記構造式(3)で示されるポリアリレート樹脂 100部
なお、上記ポリアリレート樹脂の重量平均分子量(Mw)は、130,000である。
上記の方法により作製された電子写真感光体に対して、実施例1と同様に表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、1.0μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(実施例41〜45、49、50、52〜54及び参考例46〜48、51
実施例40と同様にして電子写真感光体を作製した。次いで、実施例2〜6、10、11、13〜15及び参考例7〜9、12と同様にして電子写真感光体の表面の加工をそれぞれ行なった。更に、実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
参考例55)
実施例40と同様にして電子写真感光体を作製した。次いで、参考例18と同様にして電子写真感光体の表面の加工を行なった。更に、実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(比較例1)
実施例1の正孔輸送物質を下記構造式(5)に変更した以外は、実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。しかし、電子写真感光体の表面の加工は行わなかった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
Figure 0004739450
(比較例2)
比較例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、参考例18と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(比較例3)
比較例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例2と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(比較例4)
実施例1と同様に支持体上に導電層、中間層および電荷発生層を作製した。
次いで、以下の成分をテトラヒドロフラン600部中に溶解、混合してシリカ粒子分散液を調製した。
一次粒径0.1μmのシリカ粒子 50部
ポリカーボネート樹脂(ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)社製) 50部
この液を高圧分散機(マイクロフルイタイザーM−110:みずほ工業(株)製)を用いて分散を行なった。分散は、50MPaの分散圧で3回行なった。
上述の分散液を用いて、以下の成分となるように電荷輸送層用塗料を調製した。これを用いて、上記電荷発生層上に電荷輸送層を浸漬塗布し、110℃に加熱されたオーブン内で30分間、加熱乾燥することにより、支持体上端から170mm位置の平均膜厚が20μmの電荷輸送層を形成した。
上記構造式(1−7)で示される正孔輸送物質 50部
ポリカーボネート樹脂(ユーピロンZ400、三菱エンジニアリングプラスチックス(株)社製) 100部
一次粒径0.1μmのシリカ粒子 20部
クロロベンゼン 400部
テトラヒドロフラン 400部
上記の方法により作製された電子写真感光体に対して、実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
(参考例1)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。次いで、実施例1で使用したモールドにおいて、図10中のDで示された短軸径を1.0μmから3.0μm、Eで示された間隔を1.0μmから3.0μmおよびFで示された高さを0.8μmから8.0μmとした以外は、実施例1と同様に電子写真感光体の表面の加工を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、円錘状の凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表1に示す。また、凹形状部間隔は、3.0μmの間隔で形成され、面積率を算出すると20%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表1に示す。
Figure 0004739450
以上の結果より、本発明の実施例1乃至6、10、11、13乃至15、17、19乃至24、28乃至33、35、37乃至45、49、50、52乃至54と、比較例1乃至4を比較することにより、電子写真感光体の表面に短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部、及びイオン化ポテンシャルが5.3eV以下の正孔輸送物質を有していることにより、電子写真感光体の摺擦メモリーを良化できることが判った。本発明の凹形状部、及びイオン化ポテンシャルが5.3eV以下の正孔輸送物質を有する電子写真感光体のプラス帯電減衰率の結果から、本発明の凹形状部、及びイオン化ポテンシャルが5.3eV以下の正孔輸送物質を有する電子写真感光体では、プラス電荷が効果的に低減されていることが判った。
参考例8及び参考例1を比較すると、参考例1では本発明の特徴であるプラス帯電減衰率は参考例8に比べて小さく、本発明の効果が得られていないことが判った。これは参考例1の凹形状部が深いために帯電部材との接触面積が減少し、その結果、感光体に発生するプラス帯電の領域が小さくなったためと推測される。
(実施例56)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製した。得られた電子写真感光体の表面に対して、図4で示されるようなKrFエキシマレーザー(波長λ=248nm)を用いた凹形状部作製方法を用いて、凹形状部を形成した。その際に、図16で示すように直径10μmの円形のレーザー光透過部が5.0μm間隔で図のように配列するパターンを有する石英ガラス製のマスクを用い、照射エネルギーを0.9J/cmとした。さらに、1回照射あたりの照射面積は2mm四方で行い、2mm四方の照射部位あたり1回のレーザー光照射を行った。同様の凹形状部の作製を、図4に示すように、電子写真感光体を回転させ、照射位置を軸方向にずらす方法により、感光体表面に対する凹形状部の形成を行った。さらに、作製した感光体を120℃に加熱されたオーブン内で30分間、加熱処理を行った。
実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、図17に示される凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表2に示す。また、凹形状部間隔は、1.4μmの間隔で形成され、面積率は41%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表2に示す。
参考例57)
実施例1と同様に電子写真感光体を作製し、図18で示される直径5.0μmの円形のレーザー光透過部が2.0μm間隔で図のように配列するパターンを有する石英ガラス製のマスクを用いた以外は、実施例56と同様に表面形状形成を行った。実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、図19で示される凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表2に示す。また、凹形状部間隔は、0.6μmの間隔で形成され、面積率は44%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表2に示す。
(実施例58)
実施例1と同様に支持体上に導電層、中間層および電荷発生層を作製した。
次に、実施例1と同様の表面層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティングし、支持体上に表面層用塗布液を塗布した。表面層用塗布液を塗布する工程は、相対湿度45%および雰囲気温度25℃の状態で行った。塗布工程終了から180秒後、予め装置内を相対湿度70%および雰囲気温度45℃の状態にされていた結露工程用装置内に、表面層用塗布液が塗布された支持体を30秒間保持した。結露工程終了から60秒後、予め装置内が120℃に加熱されていた送風乾燥機内に、支持体を入れ、乾燥工程を60分間行った。このようにして、電荷輸送層が表面層である電子写真感光体を作製した。支持体上端から170mm位置の平均膜厚は20μmであった。
実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、凹形状部が形成されていることが確認された。図20に、本実施例で作製された電子写真感光体の表面のレーザー顕微鏡による画像を示す。測定結果を表2に示す。また、凹形状部間隔は、0.6μmの間隔で形成され、面積率は46%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表2に示す。
(実施例59)
実施例1と同様に支持体上に導電層、中間層および電荷発生層を作製した。
次に、実施例19と同様の表面層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティングし、支持体上に表面層用塗布液を塗布した。表面層用塗布液を塗布する工程は、相対湿度45%および雰囲気温度25℃の状態で行った。塗布工程終了から180秒後、予め装置内を相対湿度70%および雰囲気温度45℃の状態にされていた結露工程用装置内に、表面層用塗布液が塗布された支持体を30秒間保持した。結露工程終了から60秒後、予め装置内が120℃に加熱されていた送風乾燥機内に、支持体を入れ、乾燥工程を60分間行った。
このようにして、電荷輸送層が表面層である電子写真感光体を作製した。支持体上端から170mm位置の平均膜厚は20μmであった。
実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表2に示す。また、凹形状部間隔は、0.6μmの間隔で形成され、面積率は45%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表2に示す。
(実施例60)
実施例1と同様に支持体上に導電層、中間層および電荷発生層を作製した。
次に、実施例40と同様の表面層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬コーティングし、支持体上に表面層用塗布液を塗布した。表面層用塗布液を塗布する工程は、相対湿度45%および雰囲気温度25℃の状態で行った。塗布工程終了から180秒後、予め装置内を相対湿度70%および雰囲気温度45℃の状態にされていた結露工程用装置内に、表面層用塗布液が塗布された支持体を30秒間保持した。結露工程終了から60秒後、予め装置内が120℃に加熱されていた送風乾燥機内に、支持体を入れ、乾燥工程を60分間行った。
このようにして、電荷輸送層が表面層である電子写真感光体を作製した。支持体上端から170mm位置の平均膜厚は20μmであった。
実施例1と同様に表面形状測定を行ったところ、凹形状部が形成されていることが確認された。測定結果を表2に示す。また、凹形状部間隔は、0.6μmの間隔で形成され、面積率は45%であった。実施例1と同様に電子写真感光体の特性評価を行なった。結果を表2に示す。
Figure 0004739450
実施例56、58乃至60の結果より、電子写真感光体の表面に短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が1.0以下の凹形状部を有し、かつイオン化ポテンシャルが5.3eV以下以下の正孔輸送物質を有していることにより、電子写真感光体の摺擦メモリーを良化できることが判った。
この出願は2007年3月27日に出願された日本国特許出願第2007−080967号からの優先権を主張するものであり、その内容を引用してこの出願の一部とするものである。
図1Aは、本発明における凹形状部の一形状例(表面)を示す図である。 図1Bは、本発明における凹形状部の一形状例(表面)を示す図である。 図1Cは、本発明における凹形状部の一形状例(表面)を示す図である。 図1Dは、本発明における凹形状部の一形状例(表面)を示す図である。 図1Eは、本発明における凹形状部の一形状例(表面)を示す図である。 図1Fは、本発明における凹形状部の一形状例(表面)を示す図である。 図1Gは、本発明における凹形状部の一形状例(表面)を示す図である。 図2Aは、本発明における凹形状部の一形状例(断面)を示す図である。 図2Bは、本発明における凹形状部の一形状例(断面)を示す図である。 図2Cは、本発明における凹形状部の一形状例(断面)を示す図である。 図2Dは、本発明における凹形状部の一形状例(断面)を示す図である。 図2Eは、本発明における凹形状部の一形状例(断面)を示す図である。 図2Fは、本発明における凹形状部の一形状例(断面)を示す図である。 図2Gは、本発明における凹形状部の一形状例(断面)を示す図である。 図3は、本発明におけるマスクの配列パターンの例(部分拡大図)を示す図である。 図4は、本発明におけるレーザー加工装置の概略図の例を示す図である。 図5は、本発明により得られた感光体最表面の凹形状部の配列パターンの例(部分拡大図)を示す図である。 図6は、本発明におけるモールドによる圧接形状転写加工装置の概略図の例を示す図である。 図7は、本発明におけるモールドによる圧接形状転写加工装置の概略図の別の例を示す図である。 図8Aは、本発明におけるモールドの形状の例を示す図である。 図8Bは、本発明におけるモールドの形状の例を示す図である。 図9は、本発明による電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。 図10は、実施例1で使用したモールドの形状(部分拡大図)を示す図である。 図11は、実施例1により得られた感光体最表面の凹形状部の配列パターン(部分拡大図)を示す図である。 図12は、実施例14で使用したモールドの形状(部分拡大図)を示す図である。 図13は、実施例14により得られた感光体最表面の凹形状部の配列パターン(部分拡大図)を示す図である。 図14は、実施例15で使用したモールドの形状(部分拡大図)を示す図である。 図15は、実施例15により得られた感光体最表面の凹形状部の配列パターン(部分拡大図)を示す図である。 図16は、実施例56で使用したモールドの形状(部分拡大図)を示す図である。 図17は、実施例56により得られた感光体最表面の凹形状部の配列パターン(部分拡大図)を示す図である。 図18は、参考例57で使用したマスクの配列パターンを示す図(部分拡大図)である。 図19は、参考例57により得られた感光体最表面の凹形状部の配列パターン(部分拡大図)を示す図である。

Claims (6)

  1. 支持体および該支持体上に設けられた感光層を有する電子写真感光体と、該電子写真感光体の表面に接している帯電部材を有する帯電手段と、該電子写真感光体の表面に接しているクリーニングブレードを有するクリーニング手段と、を一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であるプロセスカートリッジであって、
    該電子写真感光体と該帯電部材および該クリーニングブレードとが摺擦した場合には、該電子写真感光体の表面にプラス電荷が発生しうるプロセスカートリッジにおいて、
    該電子写真感光体が、表面層の表面の全域に単位面積(100μm×100μm)あたり625個以上1000000個以下の各々独立した凹形状部を有しており、該凹形状部が、凹形状部の短軸径をRpcとし、凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さをRdvとした場合に、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が0.10以上0.40以下の凹形状部であり、
    該電子写真感光体の表面の該帯電部材と接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該帯電部材と接しており、該電子写真感光体の表面の該クリーニングブレードと接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該クリーニングブレードと接しており、
    該凹形状部の開孔部の面積率が、20%以上50%以下であり、
    該感光層が、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、イオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.2eV以下の正孔輸送物質を含有する電荷輸送層と、を積層してなる感光層であり、
    該電荷輸送層が、該電子写真感光体の表面層であり、
    該電荷輸送層が、結着樹脂としてポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂を含有する
    ことを特徴とするプロセスカートリッジ。
  2. 前記凹形状部の深さRdvが、0.01μm以上3.00μm以下である請求項1に記載のプロセスカートリッジ。
  3. 前記凹形状部の深さRdvが、0.05μm以上1.20μm以下である請求項1または2に記載のプロセスカートリッジ。
  4. 支持体および該支持体上に設けられた感光層を有する電子写真感光体、該電子写真感光体の表面に接している帯電部材を有する帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、ならびに、該電子写真感光体の表面に接しているクリーニングブレードを有するクリーニング手段を有する電子写真装置であって、
    該電子写真感光体と該帯電部材および該クリーニングブレードとが摺擦した場合には、該電子写真感光体の表面にプラス電荷が発生しうる電子写真装置において、
    該電子写真感光体が、表面層の表面の全域に単位面積(100μm×100μm)あたり625個以上1000000個以下の各々独立した凹形状部を有しており、該凹形状部が、凹形状部の短軸径をRpcとし、凹形状部の最深部と開孔面との距離を示す深さをRdvとした場合に、短軸径に対する深さの比(Rdv/Rpc)が0.10以上0.40以下の凹形状部であり、
    該電子写真感光体の表面の該帯電部材と接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該帯電部材と接しており、該電子写真感光体の表面の該クリーニングブレードと接している部分においては、該凹形状部を含む全体で該クリーニングブレードと接しており、
    該凹形状部の開孔部の面積率が、20%以上50%以下であり、
    該感光層が、電荷発生物質を含有する電荷発生層と、イオン化ポテンシャルが4.5eV以上5.2eV以下の正孔輸送物質を含有する電荷輸送層と、を積層してなる感光層であり、
    該電荷輸送層が、該電子写真感光体の表面層であり、
    該電荷輸送層が、結着樹脂としてポリカーボネート樹脂またはポリアリレート樹脂を含有する
    ことを特徴とする電子写真装置。
  5. 前記凹形状部の深さRdvが、0.01μm以上3.00μm以下である請求項4に記載の電子写真装置。
  6. 前記凹形状部の深さRdvが、0.05μm以上1.20μm以下である請求項4または5に記載の電子写真装置。
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