JP4516301B2 - ポリアセタール樹脂組成物 - Google Patents
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Description
本発明のアルデヒド抑制剤組成物は、カルボン酸ヒドラジドとヒドロキシ多価カルボン酸金属塩とで構成されている。
カルボン酸ヒドラジドとしては、分子中にヒドラジノカルボニル基[−C(=O)NHNH2]を少なくとも1つ有していればよく、種々のカルボン酸ヒドラジドが使用できる。
ヒドロキシ多価カルボン酸金属塩を形成するヒドロキシ多価カルボン酸としては、少なくとも1つのヒドロキシル基を有するポリカルボン酸、例えば、ジカルボン酸、トリカルボン酸、テトラカルボン酸などが挙げられる。ヒドロキシ多価カルボン酸において、ヒドロキシル基の個数は、特に制限されず、例えば、1〜4個、好ましくは1〜3個、さらに好ましくは1又は2個であってもよい。
本発明のポリアセタール樹脂組成物は、前記アルデヒド抑制剤組成物と、ポリアセタール樹脂とで構成されている。
ポリアセタール樹脂とは、オキシメチレン基(−OCH2−)を主たる構成単位とする高分子化合物であり、ポリアセタールホモポリマー(例えば、米国デュポン社製,商品名「デルリン」、旭化成(株)製、商品名「テナック4010」など)、オキシメチレン基以外に他のコモノマー単位を含有するポリアセタールコポリマー(例えば、ポリプラスチックス(株)製,商品名「ジュラコン」など)が含まれる。コポリマーにおいて、コモノマー単位には、炭素数2〜6程度(好ましくは炭素数2〜4程度)のオキシアルキレン単位(例えば、オキシエチレン基(−OCH2CH2−)、オキシプロピレン基、オキシテトラメチレン基など)が含まれる。コモノマー単位の含有量は、少量、例えば、ポリアセタール樹脂全体に対して、0.01〜20モル%、好ましくは0.03〜15モル%(例えば、0.05〜10モル%)、さらに好ましくは0.1〜10モル%程度の範囲から選択できる。
酸化防止剤には、ヒンダードフェノール系化合物、及びヒンダードアミン系化合物などが含まれる。
加工安定剤としては、(a)長鎖脂肪酸又はその誘導体、(b)ポリオキシアルキレングリコール、(c)シリコーン系化合物などから選択された少なくとも一種が挙げられる。
長鎖脂肪酸は、飽和脂肪酸であってもよく、不飽和脂肪酸であってもよい。また、一部の水素原子がヒドロキシル基などの置換基で置換されたものも使用できる。このような長鎖脂肪酸としては、炭素数10以上の1価又は2価の脂肪酸、例えば、炭素数10以上の一価の飽和脂肪酸[ラウリン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、べヘン酸、モンタン酸などのC10-34飽和脂肪酸など]、炭素数10以上の一価の不飽和脂肪酸[オレイン酸、リノール酸、リノレン酸などのC10-34不飽和脂肪酸など]、炭素数10以上の二価の脂肪酸(二塩基性脂肪酸)[セバシン酸、ドデカン二酸などの二価のC10-30飽和脂肪酸;デセン二酸などの二価のC10-30不飽和脂肪酸など]が例示できる。前記脂肪酸には、1つ又は複数のヒドロキシル基を分子内に有する脂肪酸(例えば、12−ヒドロキシステアリン酸などのヒドロキシ飽和C10-26脂肪酸など)も含まれる。これらの脂肪酸は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
ポリオキシアルキレングリコールには、アルキレングリコール[例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコールなどのC2-6アルキレングリコールなど]の単独又は共重合体、それらの誘導体などが含まれる。
シリコーン系化合物には、(ポリ)オルガノシロキサンなどが含まれる。(ポリ)オルガノシロキサンとしては、ジアルキルシロキサン(例えば、ジメチルシロキサンなど)、アルキルアリールシロキサン(例えば、フェニルメチルシロキサンなど)、ジアリールシロキサン(例えば、ジフェニルシロキサンなど)などのモノオルガノシロキサン、これらの単独重合体(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリフェニルメチルシロキサンなど)又は共重合体などが例示できる。なお、ポリオルガノシロキサンは、オリゴマーであってもよい。
前記耐熱安定剤には、(a)塩基性窒素化合物、(b)有機カルボン酸又は有機カルボン酸金属塩、(c)アルカリ又はアルカリ土類金属化合物、(d)ハイドロタルサイト、(e)ゼオライト及び(f)ホスフィン化合物などが含まれる。
塩基性窒素化合物としては、トリアジン化合物、グアニジン化合物、尿素化合物、アミノ酸化合物、アミノアルコール化合物、イミド化合物、及びアミド化合物から選択された少なくとも一種が使用できる。
有機カルボン酸としては、pKaが3.6以上のカルボキシル基含有化合物が使用できる。このような有機カルボン酸としては、例えば、特開2000−239484号公報に記載の有機カルボン酸などが例示できる。
アルカリ又はアルカリ土類金属化合物には、CaO、MgOなどの金属酸化物、LiOH、Ca(OH)2、Mg(OH)2などの金属水酸化物、金属無機酸塩(Li2CO3、Na2CO3、K2CO3、CaCO3、MgCO3などの金属炭酸塩、ホウ酸塩やリン酸塩などの無機酸塩など)などの無機化合物が含まれ、特に、金属酸化物及び金属水酸化物が好ましい。また、前記化合物のうち、アルカリ土類金属化合物が好ましい。
ハイドロタルサイトとしては、特開昭60−1241号公報及び特開平9−59475号公報などに記載されているハイドロタルサイト類、例えば、下記式で表されるハイドロタルサイト化合物などが使用できる。
(式中、M2+はMg2+、Mn2+、Fe2+、Co2+などの2価金属イオンを示し、M3+はAl3+、Fe3+、Cr3+などの3価金属イオンを示す。An-はCO3 2-、OH-、HPO4 2-、SO4 2-などのn価(特に1価又は2価)のアニオンを示す。xは、0<x<0.5であり、mは、0≦m<1である。)
これらのハイドロタルサイトは、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
ゼオライトとしては、特に制限されないが、H型以外のゼオライト、例えば、特開平7−62142号公報に記載されているゼオライト[最小単位セルがアルカリ及び/又はアルカリ土類金属の結晶性アルミノケイ酸塩であるゼオライト(A型、X型、Y型、L型、及びZSM型ゼオライト、モルデン沸石型ゼオライト;チャバザイト、モルデン沸石、ホージャサイトなどの天然ゼオライトなど)など]などが使用できる。
ホスフィン化合物には、アルキルホスフィン(例えば、トリエチルホスフィンなどのトリ直鎖又は分岐鎖状C1-10アルキルホスフィンなど)、シクロアルキルホスフィン(例えば、トリシクロヘキシルホスフィンなどのトリC5-12シクロアルキルホスフィンなど)、アリールホスフィン(例えば、トリフェニルホスフィン、p−トリルジフェニルホスフィン、ジ−p−トリルフェニルホスフィン、トリ−m−アミノフェニルホスフィン、トリ(2,4−ジメチルフェニル)ホスフィン、トリ(2,4,6−トリメチルフェニル)ホスフィン、トリ(o−、m−又はp−トリル)ホスフィンなどのアミノ基やC1-4アルキル基などの置換基を有していてもよいトリC6-12アリールホスフィンなど)、アラルキルホスフィン(例えば、トリ(o−、m−又はp−アニシルホスフィンなどのトリ(C6-12アリールC1-4アルキル)ホスフィンなど)、アリールアルケニルホスフィン(例えば、ジフェニルビニルホスフィン、アリルジフェニルホスフィンなどのモノ又はジC6-12アリール−ジ又はモノC2-10アルケニルホスフィンなど)、アリールアラルキルホスフィン(例えば、p−アニシルジフェニルホスフィン、ジ(p−アニシル)フェニルホスフィンなどのモノ又はジC6-12アリール−ジ又はモノ(C6-12アリールC1-4アルキル)ホスフィン;メチルフェニル−p−アニシルホスフィンなどのC1-10アルキル基などの置換基を有していてもよいC6-12アリール−(C6-12アリールC1-4アルキル)ホスフィンなど)、ビスホスフィン類[例えば、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタンなどのビス(ジC6-12アリールホスフィノ)C1-10アルカン]などのホスフィン化合物などが例示できる。これらのホスフィン化合物は、単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
耐候(光)安定剤としては、(a)ベンゾトリアゾール系化合物、(b)ベンゾフェノン系化合物、(c)芳香族ベンゾエート系化合物、(d)シアノアクリレート系化合物及び(e)シュウ酸アニリド系化合物、(f)ヒドロキシアリール−1,3,5−トリアジン系化合物などが挙げられる。
ベンゾトリアゾール系化合物としては、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ(t−ブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ(t−アミル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジイソアミルフェニル)ベンゾトリアゾールなどのヒドロキシル基及びC1-6アルキル基で置換されたアリール基を有するベンゾトリアゾール類;2−[2′−ヒドロキシ−3′,5′−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾールなどのヒドロキシル基及びアラルキル(又はアリール)基で置換されたアリール基を有するベンゾトリアゾール類;2−(2′−ヒドロキシ−4′−オクトキシフェニル)ベンゾトリアゾールなどのヒドロキシル基及びアルコキシ(C1-12アルコキシ)基で置換されたアリール基を有するベンゾトリアゾール類などが挙げられる。
ベンゾフェノン系化合物としては、複数のヒドロキシル基を有するベンゾフェノン類(2,4−ジヒドロキシベンゾフェノンなどのジ乃至テトラヒドロキシベンゾフェノン;2−ヒドロキシ−4−オキシベンジルベンゾフェノンなどのヒドロキシル基、及びヒドロキシル置換アリール又はアラルキル基を有するベンゾフェノン類など);ヒドロキシル基及びアルコキシ(C1-16アルコキシ)基を有するベンゾフェノン類(2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2,2′−ジヒドロキシ−4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノンなど)などが挙げられる。
芳香族ベンゾエート系化合物としては、p−t−ブチルフェニルサリシレート、p−オクチルフェニルサリシレートなどのアルキルアリールサリシレート類(特にアルキルフェニルサリシレートなど)が挙げられる。
シアノアクリレート系化合物としては、2−エチルヘキシル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート、エチル−2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレートなどのシアノ基含有ジアリールアクリレート類(特にシアノ基含有ジフェニルアクリレートなど)などが挙げられる。
シュウ酸アニリド系化合物としては、N−(2−エチルフェニル)−N′−(2−エトキシ−5−t−ブチルフェニル)シュウ酸ジアミド、N−(2−エチルフェニル)−N′−(2−エトキシ−フェニル)シュウ酸ジアミドなどの窒素原子上に置換されていてもよいアリール基(フェニル基など)などを有するシュウ酸ジアミド類が挙げられる。
ヒドロキシアリール−1,3,5−トリアジン系化合物としては、2,4−ジC6-10アリール−6−(モノ又はジヒドロキシC6-10アリール)−1,3,5−トリアジン[アリール基にC1-10アルキル基、C1-18アルコキシ基、C1-10アルコキシC1-10アルコキシ基、C6-10アリールオキシ基、C6-10アリールC1-6アルコキシ基などの置換基を有していてもよい2,4−ジC6-10アリール−6−(モノ又はジヒドロキシC6-10アリール)−1,3,5−トリアジン、例えば、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2,4−ジヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジンなどのヒドロキシアリールトリアジン;2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、これらの2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−アルコキシフェニル)−1,3,5−トリアジンに対応する2,4−ジ(p−トリル又は2’,4’−ジメチルフェニル)6−(2−ヒドロキシ−C1-16アルコキシフェニル)−1,3,5−トリアジンなどのヒドロキシアルコキシアリールトリアジン;2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ(p−トリル又は2’,4’−ジメチルフェニル)−6−(2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシフェニル)−1,3,5−トリアジンなどのヒドロキシアラルキルオキシアリールトリアジン;2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−(2−ブトキシエトキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ジ−p−トリル−6−(2−ヒドロキシ−4−(2−ヘキシルオキシエトキシ)フェニル)−1,3,5−トリアジンなどのヒドロキシアルコキシアルコキシアリールトリアジンなどが挙げられる。これらのうち、アリールがフェニルであるヒドロキシフェニル−1,3,5−トリアジン系化合物を用いてもよい。
着色剤としては、各種染料又は顔料が使用できる。染料はソルベント染料が好ましく、アゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、又はナフトキノン系染料などが挙げられる。顔料については、無機顔料及び有機顔料のいずれも使用できる。
本発明のポリアセタール樹脂組成物は、粉粒状混合物や溶融混合物であってもよく、ポリアセタール樹脂と、前記抑制剤組成物と、必要により他の添加剤[安定剤(酸化防止剤、加工安定剤、耐熱安定剤、耐候(光)安定剤)、耐衝撃改良剤、光沢性制御剤、摺動性改良剤、着色剤及び/又は充填剤]とを慣用の方法で混合することにより調製できる。抑制剤組成物は、予めカルボン酸ヒドラジドとヒドロキシ多価カルボン酸金属塩とを混合した後、他の成分(ポリアセタール樹脂及び必要により他の添加剤)と混合してもよく、それぞれの成分と、前記他の成分とを混合してもよい。
本発明には、前記樹脂組成物で形成された成形体も含まれる。本発明の成形体は、ポリアセタール樹脂とアルデヒド抑制剤組成物とを組み合わせて含んでおり、押出及び/又は成形加工安定性に優れるとともに、ホルムアルデヒド発生量が極めて少ない。すなわち、酸化防止剤などの安定剤を含む従来のポリアセタール樹脂で構成された成形品は、比較的多量のホルムアルデヒドを生成し、腐食や変色などの他、生活環境や作業環境を汚染する。例えば、一般に市販されているポリアセタール樹脂成形品からのホルムアルデヒド発生量は、乾式(恒温乾燥雰囲気下)において、表面積1cm2当たり2〜5μg程度及び/又は湿式(恒温湿潤雰囲気下)において、表面積1cm2当たり3〜6μg程度である。
射出成形機を用いて、ポリアセタール樹脂組成物で形成されたペレットから特定形状の平板状の成形品(100mm×40mm×2mm)を成形し、成形品の変色(色相)を目視観察により評価した。
平板状試験片(100mm×40mm×2mm;総表面積85.6cm2)を蒸留水50mLを含むポリエチレン製瓶(容量1L)の蓋に2枚吊下げて密閉し、恒温槽内に温度60℃で3時間放置した後、室温で1時間静置した。ポリエチレン製瓶中の水溶液のホルマリン量をJISK0102,29(ホルムアルデヒドの項)に従って定量し、表面積当たりのホルムアルデヒド発生量(μg/cm2)を算出した。
○:全く染み出しが見られない
△:僅かな染み出しが見られる
×:著しい染み出しが見られる。
試験片(2mm×2mm×50mm)10個(総表面積約40cm2)の樹脂サンプルを密閉容器(容量20mL)に入れ、温度80℃で24時間、恒温構内で加熱した後、室温に空冷し、蒸留水5mLをシリンジにて注入した。この水溶液のホルムアルデヒド量を、JISK0102,29(ホルムアルデヒドの項)に従って定量し、表面積当たりのホルムアルデヒドガス発生量(μg/cm2)を算出した。
ポリアセタール樹脂コポリマー100重量部に、カルボン酸ヒドラジド、ヒドロキシ多価カルボン酸金属塩、酸化防止剤、加工安定剤、耐熱安定剤、着色剤、耐候(光)安定剤を表1に示す割合でプリブレンドした後、1ヶ所の減圧ベント口を有する30mm径の二軸押出機の主フィード口に投入して溶融混合(押出条件:L/D=35、押出温度=200℃、スクリュー回転数=100rpm、ベント真空度=70cmHg(93.1kPa)、吐出量=15Kg/hr、平均滞留時間100秒)し、ペレット状の組成物を調製した。得られたペレットを用いて、射出成形機により、所定の試験片を成形し、加工安定性(成形品の変色性)、試験片からのホルムアルデヒド発生量の評価を行った。結果を表1及び2に示す。
ポリアセタール樹脂コポリマー95重量部に、ヒドロキシ多価カルボン酸金属塩、酸化防止剤、加工安定剤を表1に示す割合でプリブレンドした後、1ヶ所の減圧ベント口を有する30mm径の二軸押出機の主フィード口に投入するとともに、ポリアセタール樹脂コポリマー5重量部とカルボン酸ヒドラジド0.1重量部をサイドフィード口より投入して溶融混合し、ペレット状の組成物を調製した。得られたペレットを用いて、射出成形機により、所定の試験片を成形し、加工安定性(成形品の変色性:色相)、試験片からのホルムアルデヒド発生量の評価を行った。結果を表1に示す。
尚、比較のために、カルボン酸ヒドラジド化合物を添加しない例(比較例1)、ヒドロキシ多価カルボン酸金属塩を添加しない例(比較例2)、脂肪族カルボン酸ヒドラジド化合物とモノカルボン酸金属塩とを添加した例(比較例3)、芳香族族カルボン酸ヒドラジド化合物とモノカルボン酸金属塩を添加した例(比較例4,5)について、上記と同様にして評価した。結果を表3に示す。
実施例2で得られたポリアセタール樹脂組成物のペレットを1ヶ所のベント口を有する30mm径の二軸押出機の主フィード口に投入して溶融混合(押出条件:L/D=35、押出温度=200℃、スクリュー回転数=100rpm、ベント真空度=70cmHg(93.1kPa)、吐出量=15Kg/hr)する方法をもう一度繰り返し、総滞留時間=200秒のペレット状の組成物を調製した。このペレットを用いて、射出成形機により、所定の試験片を成形し、この試験片の色相及びホルムアルデヒド量の評価を行った。その結果、成形品の色相は白色であり、ホルムアルデヒドの発生量は、乾式:0.08μg/cm2、湿式:0.14μg/cm2であった。
比較例1で得られたポリアセタール樹脂組成物のペレット(カルボン酸ヒドラジド未含有)100重量部に、0.1重量部のカルボン酸ヒドラジド(b−1)及び0.01重量部のヒドロキシ多価カルボン酸金属塩(c−1)をポリエチレン袋に入れ、ブレンドしてカルボン酸ヒドラジド及びヒドロキシ多価カルボン酸金属塩を混合したポリアセタール樹脂のペレット組成物を得た。この組成物を用いて射出成形機により所定の試験片を成形した。この試験片の色相及びホルムアルデヒド発生量及び染み出し性の評価を行った。その結果、成形品の色相は白色であり、また、ホルムアルデヒド発生量は、乾式:0.02μg/cm2、湿式:0.05μg/cm2であった。
(a−1):ポリアセタール樹脂コポリマー(メルトインデックス=9g/10分)
(a−2):ポリアセタール樹脂コポリマー(メルトインデックス=27g/10分)
尚、上記メルトインデックスは、ASTM−D1238に準じ、190℃、2169gの条件下で求めた値(g/10分)である。
(b−1):ドデカン二酸ジヒドラジド
(b−2):セバシン酸ジヒドラジド
(b−3):アジピン酸ジヒドラジド
(b−4):イソフタル酸ジヒドラジド
(b−5):2,6−ナフタレンジカルボン酸ジヒドラジド
(b−6):ポリアクリル酸ヒドラジド[大塚化学(株)、アミノポリアクリルアミド、APA(平均分子量1万)]
(c−1):クエン酸三カルシウム四水塩
(c−2):クエン酸三マグネシウム九水塩
(c−3):ステアリン酸カルシウム
(c−4):ステアリン酸マグネシウム
(c−5):酢酸カルシウム。
(d−1):トリエチレングリコールビス[3−(3−t−ブチル5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
(d−2):ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]
(d−3):2,2’−メチレンビス(−4−メチル−6−t−ブチルフェノール)。
(e−1):エチレンビスステアリルアミド
(e−2):ポリエチレンオキシド[分子量:35000]
(e−3):モンタン酸エステル[東洋ペトロライト(株)製、LUZAWAX−EP]
(e−4):グリセリンモノステアレート。
(f−1):酸化マグネシウム
(f−2):ビウレア
(f−3):ナイロン6−66−610[デュポン社製、Elvamide 8063 R]。
(g−1):カーボンブラック(アセチレンブラック)
8.耐候(光)安定剤h
(h−1):2−[2’−ヒドロキシ−3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]ベンゾトリアゾール
(h−2):ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セバケート
Claims (16)
- ポリアセタール樹脂と、アルデヒド生成源からアルデヒドの発生を抑制するためのアルデヒド抑制剤組成物と、酸化防止剤と、加工安定剤とを含むポリアセタール樹脂組成物であって、
前記アルデヒド抑制剤組成物が、カルボン酸ヒドラジドとヒドロキシ多価カルボン酸金属塩とを含み、
前記カルボン酸ヒドラジドが、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジド、ドデカン二酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド及び2,6−ナフタレンジカルボン酸ジヒドラジドから選択された少なくとも一種であり、
前記ヒドロキシ多価カルボン酸金属塩が、クエン酸、リンゴ酸又は酒石酸と、アルカリ土類金属塩との塩であり、
前記ヒドロキシ多価カルボン酸金属塩の割合が、前記カルボン酸ヒドラジド1重量部に対して、0.01〜5重量部であり、
前記酸化防止剤が、ヒンダードフェノール系化合物及びヒンダードアミン系化合物から選択された少なくとも一種であり、かつ
前記加工安定剤が、長鎖脂肪酸又はそのエステルもしくはアミド、ポリオキシアルキレングリコール及びシリコーン系化合物から成る群より選択された少なくとも一種であるポリアセタール樹脂組成物。 - ヒドロキシ多価カルボン酸金属塩が含水塩である請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ヒドロキシ多価カルボン酸金属塩が、クエン酸カルシウム又はクエン酸マグネシウムである請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ヒドロキシ多価カルボン酸金属塩の割合が、カルボン酸ヒドラジド1重量部に対して、0.02〜2重量部である請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- アルデヒド抑制剤組成物の割合が、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.001〜20重量部である請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- さらに、耐熱安定剤、耐候(光)安定剤、耐衝撃性改良剤、光沢性制御剤、摺動性改良剤、着色剤及び充填剤から選択された少なくとも一種を含む請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 耐熱安定剤が、塩基性窒素化合物、ホスフィン系化合物、有機カルボン酸又は有機カルボン酸金属塩、アルカリ又はアルカリ土類金属化合物、ハイドロタルサイト及びゼオライトから成る群より選択された少なくとも一種である請求項6記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 耐熱安定剤が、モノカルボン酸のアルカリ土類金属塩及びアルカリ土類金属酸化物より選択された少なくとも一種である請求項6記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 耐候(光)安定剤が、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、芳香族ベンゾエート系化合物、シアノアクリレート系化合物、シュウ酸アニリド系化合物及びヒドロキシアリール−1,3,5−トリアジン系化合物から成る群より選択された少なくとも一種である請求項6記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 耐衝撃性改良剤が、アクリル系コアシェルポリマー、熱可塑性ポリウレタン系樹脂、スチレン系エラストマー、及び熱可塑性ポリエステル系エラストマーから選択された少なくとも一種である請求項6記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 光沢性制御剤が、アクリル系樹脂及びスチレン系樹脂から選択された少なくとも一種で構成されている請求項6記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 摺動性改良剤が、オレフィン系ポリマー、シリコーン系樹脂及びフッ素系樹脂から選択された少なくとも一種である請求項6記載のポリアセタール樹脂組成物。
- ポリアセタール樹脂のペレットと、アルデヒド抑制剤組成物又はアルデヒド抑制剤組成物を含むマスターバッチとが共存している請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物。
- 請求項1記載のポリアセタール樹脂組成物で構成されたポリアセタール樹脂成形品。
- (1)温度80℃で24時間密閉空間で保存した時、発生ホルムアルデヒド量が成形品の表面積1cm2当り1.0μg以下及び/又は(2)温度60℃、飽和湿度の密閉空間で3時間保存した時、発生ホルムアルデヒド量が成形品の表面積1cm2当り1.2μg以下である請求項14記載のポリアセタール樹脂成形品。
- 成形品が、自動車部品、電気・電子部品、建材・配管部品、生活・化粧品用部品及び医用部品から選択される少なくとも一種である請求項14記載のポリアセタール樹脂成形品。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003380187A JP4516301B2 (ja) | 2003-11-10 | 2003-11-10 | ポリアセタール樹脂組成物 |
EP04792841A EP1683838A4 (en) | 2003-11-10 | 2004-10-22 | ALDEHYDINHIBITOR COMPOSITION AND POLYACETAL RESIN COMPOSITION |
PCT/JP2004/015699 WO2005044916A1 (ja) | 2003-11-10 | 2004-10-22 | アルデヒド抑制剤組成物およびポリアセタール樹脂組成物 |
US10/578,304 US20090143506A1 (en) | 2003-11-10 | 2004-10-22 | Aldehyde inhibitor composition and polyacetal resin composition |
CN2004800401800A CN1902279B (zh) | 2003-11-10 | 2004-10-22 | 醛抑制剂组合物和聚缩醛树脂组合物 |
TW093132682A TWI354687B (en) | 2003-11-10 | 2004-10-28 | Aldehyde inhibiting composition and polyacetyl res |
KR1020067011396A KR101098086B1 (ko) | 2003-11-10 | 2006-06-09 | 알데히드 억제제 조성물 및 폴리아세탈 수지 조성물 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003380187A JP4516301B2 (ja) | 2003-11-10 | 2003-11-10 | ポリアセタール樹脂組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005137785A JP2005137785A (ja) | 2005-06-02 |
JP4516301B2 true JP4516301B2 (ja) | 2010-08-04 |
Family
ID=34567225
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003380187A Expired - Fee Related JP4516301B2 (ja) | 2003-11-10 | 2003-11-10 | ポリアセタール樹脂組成物 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20090143506A1 (ja) |
EP (1) | EP1683838A4 (ja) |
JP (1) | JP4516301B2 (ja) |
KR (1) | KR101098086B1 (ja) |
CN (1) | CN1902279B (ja) |
TW (1) | TWI354687B (ja) |
WO (1) | WO2005044916A1 (ja) |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005033201A1 (ja) * | 2003-10-01 | 2005-04-14 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2005263921A (ja) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物およびそれからなる成形品 |
JP5008256B2 (ja) * | 2004-04-23 | 2012-08-22 | 東レ株式会社 | ポリオキシメチレン樹脂組成物の製造方法 |
JP2005325225A (ja) * | 2004-05-14 | 2005-11-24 | Mitsubishi Engineering Plastics Corp | ポリアセタール樹脂組成物およびそれからなる成形品 |
JP4676167B2 (ja) * | 2004-05-26 | 2011-04-27 | 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物およびそれからなる成形品 |
JP5028758B2 (ja) * | 2004-07-27 | 2012-09-19 | 東レ株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物、およびその製造方法 |
JP4904706B2 (ja) * | 2005-03-22 | 2012-03-28 | 東レ株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物および摺動部品 |
JP2007051205A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-01 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及び樹脂成形体 |
JP2007070574A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及び成形品 |
JP5028793B2 (ja) * | 2005-09-28 | 2012-09-19 | 東レ株式会社 | オキシメチレン共重合体の製造方法 |
JP2007091973A (ja) * | 2005-09-30 | 2007-04-12 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及び成形品 |
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MY159274A (en) * | 2008-02-06 | 2016-12-30 | Basf Se | Coated polyoxymethylenes |
ES2383329T3 (es) * | 2008-02-13 | 2012-06-20 | Basf Se | Polioximetilenos revestidos. |
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CN102711954B (zh) * | 2010-11-15 | 2014-12-10 | 康宁股份有限公司 | 羧酸盐制品及其制备和使用方法 |
US9296874B2 (en) * | 2011-04-28 | 2016-03-29 | Ticona Llc | Polyacetal compositions and molded products made therefrom |
JP5680522B2 (ja) * | 2011-11-28 | 2015-03-04 | ポリプラスチックス株式会社 | 耐燃料性樹脂成形体 |
JP6267464B2 (ja) * | 2013-09-12 | 2018-01-24 | 旭化成株式会社 | 複合成形部品 |
JP6070850B2 (ja) * | 2013-09-13 | 2017-02-01 | 東レ株式会社 | ガス吸着剤およびガス吸着シートならびにエアフィルター |
JP2015101599A (ja) * | 2013-11-21 | 2015-06-04 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリオキシメチレン樹脂組成物の製造方法 |
JP6215017B2 (ja) * | 2013-11-25 | 2017-10-18 | 旭化成株式会社 | ポリアセタール樹脂用マスターバッチ、及びこれを含むポリアセタール樹脂組成物 |
JP6541578B2 (ja) * | 2014-01-28 | 2019-07-10 | 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物および樹脂成形品 |
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JP6592288B2 (ja) * | 2015-06-30 | 2019-10-16 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
EP3426726A4 (en) | 2016-03-08 | 2020-03-04 | Ticona LLC | ORTHOPEDIC DEVICE AND POLYMERIC COMPOSITIONS FOR THE PRODUCTION THEREOF |
CN106213698A (zh) * | 2016-08-24 | 2016-12-14 | 道晟拉链科技(太仓)有限公司 | 一种阻燃型树脂拉链的制备方法 |
CN106136479A (zh) * | 2016-08-24 | 2016-11-23 | 道晟拉链科技(太仓)有限公司 | 一种自润型树脂拉链 |
EP3526289A1 (en) | 2016-10-11 | 2019-08-21 | Celanese Sales Germany GmbH | Wear resistant polymer composition having improved surface appearance |
WO2018187678A1 (en) * | 2017-04-07 | 2018-10-11 | Ticona Llc | Low emission polyoxymethylene composition |
JP6938267B2 (ja) * | 2017-08-03 | 2021-09-22 | 旭化成株式会社 | ポリオキシメチレン樹脂組成物 |
JP6938266B2 (ja) * | 2017-08-03 | 2021-09-22 | 旭化成株式会社 | ポリオキシメチレン樹脂組成物及び成形体 |
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JP3024802B2 (ja) * | 1991-02-04 | 2000-03-27 | ポリプラスチックス株式会社 | ポリアセタール樹脂着色組成物 |
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JP3341783B2 (ja) * | 1993-07-23 | 2002-11-05 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリアセタール樹脂組成物 |
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EP1674526B9 (en) * | 2003-10-01 | 2013-05-29 | Polyplastics Co., Ltd. | Polyacetal resin composition |
WO2005033201A1 (ja) * | 2003-10-01 | 2005-04-14 | Polyplastics Co., Ltd. | ポリアセタール樹脂組成物 |
JP2005112995A (ja) * | 2003-10-07 | 2005-04-28 | Polyplastics Co | ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品 |
CN1875066A (zh) * | 2003-11-07 | 2006-12-06 | 宝理塑料株式会社 | 聚缩醛树脂组合物及其成形品 |
-
2003
- 2003-11-10 JP JP2003380187A patent/JP4516301B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2004
- 2004-10-22 CN CN2004800401800A patent/CN1902279B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2004-10-22 EP EP04792841A patent/EP1683838A4/en not_active Withdrawn
- 2004-10-22 US US10/578,304 patent/US20090143506A1/en not_active Abandoned
- 2004-10-22 WO PCT/JP2004/015699 patent/WO2005044916A1/ja active Application Filing
- 2004-10-28 TW TW093132682A patent/TWI354687B/zh not_active IP Right Cessation
-
2006
- 2006-06-09 KR KR1020067011396A patent/KR101098086B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000026705A (ja) * | 1998-05-07 | 2000-01-25 | Polyplastics Co | ポリアセタ―ル樹脂組成物 |
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JP2002301706A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-10-15 | Otsuka Chem Co Ltd | 合成木質建材の消臭方法、及び消臭合成木質建材の製造方法、及び消臭合成木質建材 |
JP2003192796A (ja) * | 2001-12-12 | 2003-07-09 | Ticona Gmbh | 混合ポリアセタールを有する熱可塑性樹脂の加工処理中におけるホルムアルデヒドの放出を低下させる方法および手段 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1683838A4 (en) | 2008-08-13 |
CN1902279B (zh) | 2010-11-24 |
JP2005137785A (ja) | 2005-06-02 |
CN1902279A (zh) | 2007-01-24 |
WO2005044916A1 (ja) | 2005-05-19 |
KR20070012322A (ko) | 2007-01-25 |
TWI354687B (en) | 2011-12-21 |
TW200519161A (en) | 2005-06-16 |
KR101098086B1 (ko) | 2011-12-26 |
EP1683838A1 (en) | 2006-07-26 |
US20090143506A1 (en) | 2009-06-04 |
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