JP3910827B2 - 液処理装置 - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，基板の液処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では，ウェハ表面にレジスト膜を形成するレジスト塗布処理，ウェハにパターンを照射して露光する露光処理，露光後のウェハに対して現像を行う現像処理，塗布処理前，露光処理前後及び現像処理後の加熱処理，冷却処理等が行われ，これらの一連の処理は，塗布現像処理システム内に設けられた各種処理装置において行わている。
【０００３】
近年，塗布現像処理システムの処理能力の向上が望まれており，より多くのウェハを並行処理するために，一台の塗布現像処理システム内に上述したレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置や現像処理を行う現像処理装置をより多く設けることが必要になってきている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，当該レジスト塗布装置等を多数設けると，塗布現像処理システムが大型化し，フットプリントが増大することが懸念される。
【０００５】
そこで，かかる低フットプリント化を考慮し，レジスト塗布装置や現像処理装置を薄型化して，当該現像処理装置等を従来より多い３段以上に重ねて設けることが提案される。
【０００６】
しかし，高さ制限のある塗布現像処理システムに，当該装置を多段に設けると，各装置間の隙間が狭くなり，当該装置のメンテナンスができなくなる。また，メンテナンスができたとしても当該作業が非常に困難になる。特にレジスト塗布装置や現像処理装置は，現像液等の処理液を使用するため，装置内が汚染されやすく，頻繁に洗浄等のメンテナンスをする必要があり，現像処理装置等を多段に重ねて設けるにあたり大きな障害となる。
【０００７】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，レジスト塗布装置や現像処理装置等の液処理装置を多段に重ねて設けた場合においてもメンテナンスを好適に行うことのできる液処理装置を提供することをその目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明において，収納容器内において，基板に処理液を供給して当該基板を処理する液処理装置であって，前記収納容器を搭載するフレームを有し，
前記収納容器は，前記フレームから所定方向に引き出し自在に構成され，前記収納容器に接続され，前記収納容器内の雰囲気を排気する排気管と，前記フレーム外に前記雰囲気を排気する排気ダクトとを有し，前記排気ダクトの接続端部は，前記排気管の接続端部と接続，分離自在に構成され，前記所定方向は水平方向であり，前記排気ダクトの接続端部は，前記所定方向に対して直角方向のフレームの側部に設けられており，前記排気ダクトの接続端部は，平面から見て前記所定方向と逆方向側が前記排気管の接続端部側に突出するように形成されており，前記排気管の接続端部は，前記排気ダクトの接続端部と適合するように，平面から見て前記所定方向側が前記排気ダクトの接続端部側に突出するように形成されていることを特徴とする液処理装置が提供される。
【０００９】
このように，収納容器を引き出し自在にすることによって，メンテナンス時に収納容器をフレームから引き出し，当該メンテナンスを行うための作業スペースを十分に確保することができるので，当該メンテナンス作業を好適に行うことができる。
【００１０】
かかる請求項１の発明において，請求項２のように前記排気ダクトの接続端部と前記排気管の接続端部が斜めに形成されていてもよい。
【００１１】
かかる請求項１又は２の液処理装置において，請求項３に記載したように前記フレームには，前記収納容器内に気体を供給するための供給ダクトが取り付けられており，前記供給ダクトは，前記収納容器内に前記気体を供給する気体供給部に接続されており，前記気体供給部は，前記フレームに取り付けられるようにしてもよい。このように，供給ダクトと気体供給部をフレーム側に取り付けることにより，収納容器をフレームから引き出す際に，収納容器からその都度切り離す必要が無く，上述した収納容器の引き出しを好適に行うことができる。
【００１２】
この請求項３の液処理装置において，請求項４のように前記供給ダクトが，前記所定方向以外の前記フレームの側面に取り付けられていてもよい。このように，供給ダクトを前記所定方向，すなわち引き出し方向以外のフレーム側面に取り付けることによって，収納容器の前記所定方向の移動を妨げる事がなくなり，収納容器の引き出しが好適に行われる。
【００１３】
この請求項４の液処理装置において，請求項５のように前記収納容器が前記フレームに垂直方向に多段に搭載されており，前記各収納容器に接続された各供給ダクトは，集約されて前記フレームの側面に沿って垂直方向に設けられるようにしてもよい。このように，収納容器が多段に搭載されている場合に，前記各供給ダクトを引き出し方向以外のフレーム側面に沿って設け，それらを集約して設けることによって，各供給ダクトが収納容器の引き出しを妨げることが無くなり，また各供給ダクトの配管設計を単純化できる。なお，各供給ダクトを集約するとは，各供給ダクトを一箇所に集合させて設ける場合のみならず，各供給ダクトに気体を供給するための統一した一の供給ダクトを設ける場合をも含む。
【００２０】
上述した請求項１〜６の各液処理装置において，請求項７のように前記収納容器内には，基板を昇降可能とする昇降ピンが設けられているようにしてもよい。このように，昇降ピンを設けることによって，従来のように比較的上下方向に長さがあり，移動するためにスペースが必要なスピンチャック等によって基板を昇降する必要がなく，上下方向にスペースを取らない昇降ピンによって基板の昇降を行うことができる。これによって，収納容器の上下方向の薄型化が図られ，メンテナンスのためのスペースが確保される。また，高さの限られたスペースにおいてもより多くの収納容器を積層することができ，液処理装置の低フットプリント化が図られる。
【００２１】
また，以上で記載した各液処理装置において，前記収納容器内には，基板の外周を囲む処理容器が設けられており，前記処理容器を昇降可能とする昇降機構を有するようにしてもよい。このように処理容器を昇降可能とする昇降機構を設けることによって，例えば基板に処理液を供給する供給ノズルが前記処理容器外から処理容器内に移動する際に，当該処理容器を下降させることができるので，その分前記処理容器を回避するために必要な供給ノズルの上昇距離が短くて済む。したがって，収納容器全体の上下方向の薄型化が図られ，その分メンテナンスのためのスペースが確保される。なお，前記処理容器を昇降可能とするとは，処理容器全体が昇降する場合のみならず，処理容器の一部が昇降する場合をも含む。
【００２２】
さらに上述の各液処理装置において，前記液処理装置が，基板を現像処理する現像処理装置の場合，前記収納容器は，平面から見て四角形状に形成されており，前記基板に現像液を供給する複数の現像液供給部と，前記現像液供給部を洗浄する洗浄槽とを有し，前記複数の現像液供給部は，前記収納容器の四角形状に沿った一の方向に伸びる同一レール上で移動自在に構成されており，前記洗浄槽は，前記一の方向の前記収納容器の両側部に設けられるようにしてもい。
【００２３】
このように，現像液供給部を複数備える場合に，当該現像液供給部を同一レール上に設けることによって，各現像液供給部を同一水平面上に位置させることができる。また，当該現像液供給部の洗浄槽を前記収納容器の両側部に設けることによって，各現像液供給部の待機位置が洗浄槽のある収納容器の両端部に振り分けられ，一の現像液供給部が使用されている際に，他の現像液供給部が一の現像液供給部の移動を妨げない遠方の洗浄槽で待機することができる。したがって，現像液供給部同士の干渉が防止されつつ，現像液を適切に供給することができる。これによって，従来のように高さの異なる複数のレールに現像処理装置を設ける必要がないので，その分収納容器の高さを制限することができ，収納容器の薄型化が図られる。
【００２４】
この場合，さらに前記一の方向が，前記所定方向に対して直角方向であってもよい。このように，現像液供給部のレールを引き出し方向と直角方向に備えることによって，複数の現像液供給部に現像液を供給するための配管を引き出し方向に伸びるように設け，収納容器の引き出しの際に，配管が収納容器の移動を妨げたり，配管同士が干渉し合わないないように前記配管を配置することができる。
【００２５】
上述の液処理装置において，基板に洗浄液を供給する洗浄液供給装置を有し，前記洗浄液供給装置は，前記一の方向と直角方向をなす他の方向に移動自在に構成されていてもよい。このように，洗浄液供給装置を前記他の方向に移動自在に設けることによって，上述した現像液供給部との干渉を避けるために現像液供給部と高さを違える必要が無くなるため，その分収納容器の高さを制限できる。従って，収納容器の薄型化が図られ，メンテナンスのスペースがより多く確保される。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本発明にかかる現像処理装置を有する塗布現像処理システム１の概略を示す平面図であり，図２は，塗布現像処理システム１の正面図であり，図３は，塗布現像処理システム１の背面図である。
【００２７】
塗布現像処理システム１は，図１に示すように，例えば２５枚のウェハＷをカセット単位で外部から塗布現像処理システム１に対して搬入出したり，カセットＣに対してウェハＷを搬入出したりするカセットステーション２と，塗布現像処理工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理ステーション３と，この処理ステーション３に隣接して設けられている図示しない露光装置との間でウェハＷの受け渡しをするインターフェイス部４とを一体に接続した構成を有している。
【００２８】
カセットステーション２では，載置部となるカセット載置台５上の所定の位置に，複数のカセットＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在となっている。そして，このカセット配列方向（Ｘ方向）とカセットＣに収容されたウェハＷのウェハ配列方向（Ｚ方向；鉛直方向）に対して移送可能なウェハ搬送体７が搬送路８に沿って移動自在に設けられており，各カセットＣに対して選択的にアクセスできるようになっている。
【００２９】
ウェハ搬送体７は，ウェハＷの位置合わせを行うアライメント機能を備えている。このウェハ搬送体７は後述するように処理ステーション３側の第３の処理装置群G３に属するエクステンション装置４２に対してもアクセスできるように構成されている。
【００３０】
処理ステーション３では，その中心部に主搬送装置１３が設けられており，この主搬送装置１３の周辺には各種処理装置が多段に配置されて処理装置群を構成している。該塗布現像処理システム１においては，４つの処理装置群G1，G2，G3，G4が配置されており，第１及び第２の処理装置群G1，G2は塗布現像処理システム１の正面側に配置され，第３の処理装置群G3は，カセットステーション２に隣接して配置され，第４の処理装置群G4は，インターフェイス部４に隣接して配置されている。さらにオプションとして破線で示した第５の処理装置群G5を背面側に別途配置可能となっている。前記主搬送装置１３は，これらの処理装置群Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４に配置されている後述する各種処理装置に対して，ウェハＷを搬入出可能である。なお，処理装置群の数や配置は，ウェハＷに施される処理の種類によって異なり，処理装置群の数は，１以上であれば４つで無くてもよい。
【００３１】
第１の処理装置群G1には，図２に示すように上下方向に長い略直方体の枠形状で，上下方向に複数の部屋を有するように区画されたフレーム１５が設けられており，フレーム１５内には，複数の処理装置を多段に配置できるようになっている。当該フレーム１５内には，ウェハＷにレジスト液を供給し，レジスト膜を形成するレジスト塗布装置１６，１７と，本実施の形態にかかる液処理装置としての現像処理装置１８，１９とが下から順に４段に重ねられて設けられている。処理装置群G2の場合も同様に，フレーム２０内には，レジスト塗布装置２１，２２と，現像処理装置２３，２４とが下から順に４段に積み重ねられている。
【００３２】
フレーム１５のＹ方向正方向側（図１の右方向）の側面には，図４に示すように処理装置群Ｇ１の各処理装置，すなわちレジスト塗布装置１６，１７及び現像処理装置１８，１９に所定の温湿度に調節されたエアを供給するための供給ダクト３０，３１，３２，３３が集約されて設けられている。各供給ダクト３０〜３３は，当該各処理装置の後述する各エア供給部に接続されており，当該各エア供給部からフレーム１５の側面に沿って上方に向かって設けられており，図示しない上方のエア供給源からのエアを当該各処理装置内に供給できるようになっている。
【００３３】
また，フレーム１５のＹ方向負方向側（図１の左方向）の側面には，図５に示すように処理装置群Ｇ１の各処理装置，すなわちレジスト塗布装置１６，１７及び現像処理装置１８，１９内の雰囲気を排気するための排気ダクト３４，３５，３６，３７が集約されて設けられている。これらの排気ダクト３４〜３７は，それぞれ後述する当該各処理装置の各排気管に接続されており，当該各排気管からフレーム１５の側面に沿ってフレーム１５の下方に向かって設けられており，当該各処理装置からの雰囲気をフレーム１５から塗布現像処理システム１外に排気できるようになっている。
【００３４】
第３の処理装置群G3では，例えば図３に示すように，ウェハＷを冷却処理するクーリング装置４０，レジスト液とウェハＷとの定着性を高めるためのアドヒージョン装置４１，ウェハＷを待機させるエクステンション装置４２，レジスト液中の溶剤を乾燥させるプリベーキング装置４３，４４及び現像処理後の加熱処理を施すポストベーキング装置４５，４６等が下から順に例えば７段に重ねられている。
【００３５】
第４の処理装置群G4では，例えばクーリング装置５０，載置したウェハＷを自然冷却させるエクステンション・クーリング装置５１，エクステンション装置５２，クーリング装置５３，露光後の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキング装置５４，５５，ポストベーキング装置５６，５７等が下から順に例えば８段に積み重ねられている。
【００３６】
インターフェイス部４の中央部にはウェハ搬送体６０が設けられている。このウェハ搬送体６０はＸ方向（図１中の上下方向），Ｚ方向（垂直方向）の移動とθ方向（Ｚ軸を中心とする回転方向）の回転が自在にできるように構成されており，第４の処理装置群G4に属するエクステンション・クーリング装置５１，エクステンション装置５２，周辺露光装置６１及び図示しない露光装置に対してアクセスして，各々に対してウェハＷを搬送できるように構成されている。
【００３７】
次に，上述した現像処理装置１８の構成について詳しく説明する。図６は，現像処理装置１８の概略を示す縦断面の説明図であり，図７は，現像処理装置１８の横断面の説明図である。
【００３８】
現像処理装置１８は，図６，図７に示すようにフレーム１５内に，上面が開口した箱状の収納容器としてのカップ収容部７０を有している。当該カップ収容部７０内の中央部には，水平かつ円形状に形成された上面部７１ａを有するスピンチャック７１が設けられており，ウェハＷを水平に載置可能に構成されている。当該スピンチャック７１には，例えばその上面部７１ａに図示しない吸引口が設けられており，ウェハＷを吸着保持できるようになっている。
【００３９】
スピンチャック７１の下方には，当該スピンチャック７１等を駆動させる駆動機構７２が設けられている。当該駆動機構７２は，スピンチャック７１を回転可能とするモータ等を備えた図示しない回転駆動部と，後述する昇降ピン７３を昇降可能とするシリンダ等を備えた図示しない昇降駆動部とを有している。駆動機構７２の回転駆動部によって，スピンチャック７１に保持されたウェハＷを所定の回転速度で回転できるようになっている。
【００４０】
また，当該スピンチャック７１の上面部７１ａの周辺部は，ウェハＷを支持し，昇降させるための複数の昇降ピン７３が設けられている。当該昇降ピン７３は，上述したように駆動機構７２によって所定の高さに昇降可能に構成されており，スピンチャック７１の上面部７１ａに設けられた図示しない貫通孔内を上下方向に移動して，ウェハＷをスピンチャック７１上方の所定位置に配置したり，スピンチャック７１上に載置したりできるようになっている。
【００４１】
スピンチャック７１の外周外方には，当該スピンチャック７１を取り囲むようにして，上面が開口した略筒状の処理容器としてのカップ７５が設けられており，ウェハＷが回転された際に飛散する現像液等を受け止め，現像処理装置１８内の汚染を抑制できるようになっている。カップ７５は，主に飛散した現像液等を受け止めるカップ側部７６と，当該受け止めた現像液等を回収するカップ底部７７とを有している。
【００４２】
カップ側部７６には，カップ側部７６のみを上下動させる昇降機構７８が取り付けられており，必要に応じてカップ側部７６を昇降させることができるようになっている。
【００４３】
カップ底部７７は，斜めに傾斜されて設けられており，その低い部分には，カップ側部７６で回収した現像液等を排液するドレイン管７９が設けられている。また，カップ底部７７には，カップ７５内からフレーム１５のＹ方向負方向（図６の右方向）側の側部まで延伸する排気管８０が設けられている。当該排気管８０は，上述した排気ダクト３６に接続されており，カップ収容部７０内の雰囲気を排気ダクト３６を通じて，塗布現像処理システム１外に排気できるようになっている。
【００４４】
排気ダクト３６は，図８に示すように排気ダクト３６の接続端部３６ａと排気管８０の接続端部８０ａとを着脱自在にする留め具８１を有している。留め具８１は，例えばその一端８１ａが排気管８０の接続端部８０ａ側に固定されて設けられており，留め具８１の他端８１ｂは，排気ダクト３６の接続端部３６ａに着脱自在になっている。これによって，排気ダクト３６と排気管８０とを接続する際に，留め具８１の他端８１ｂを接続端部３６ａに係止させることで，排気ダクト３６の接続端部３６ａと排気管８０の接続端部８０ａとの接続状態を維持できる。
【００４５】
排気管８０の接続端部８０ａは，平面から見て当該接続端部８０ａの所定方向としてのＸ方向正方向側（図８の下側）が排気ダクト３６側に突出するように斜めに形成されており，一方排気ダクト３６の接続端部３６ａは，当該排気管８０の接続端部８０ａに適合するように，当該接続端部３６ａのＸ方向負方向側が排気管８０側に突出して斜めに形成されている。これによって，カップ収容部７０をＸ方向正方向，すなわち引き出す方向に移動させることで，排気管８０と排気ダクト３６とを分離し，逆にカップ収容部７０をＸ方向負方向，すなわち押し込む方向に移動させることで，排気管８０と排気ダクト３６とを接続することができる。
【００４６】
カップ側部７６の下端部とカップ底部７７との間には，図６に示すように隙間８２が設けられており，上方から一旦カップ７５外に流れた気体を当該隙間８２からカップ７５内に取り入れ，排気管８０から排気できるように構成されている。また，当該隙間８２は，上述したカップ側部７６の上下動によって，その広狭が調節できるようになっており，必要に応じて当該隙間８２を変動させ，隙間８２を流れる気体の流量を調節できるようになっている。
【００４７】
カップ７５の外周外方には，カップ７５とカップ収容部７０との隙間を覆う回収板８４が設けられており，カップ７５外に漏れた現像液等を回収できるようになっている。回収板８４は，カップ７５側が低くなるように斜めに設けられている。また，回収板８４には，図７に示すように多数の通気孔８５が設けられており，カップ７５外に流れた上方からの気体が当該通気孔８５を通過し，隙間８２に流れるようになっている。
【００４８】
カップ７５の外周とカップ収容部７０の内周との間であって，カップ収容部７０の底部には，上述したカップ７５外に漏れた現像液等を排液するドレイン管８６が設けられている。
【００４９】
カップ収容部７０上方のフレーム１５には，カップ収容部７０内に気体，例えばエアを供給する気体供給部としてのエア供給装置８７が取り付けられている。当該エア供給装置８７は，上述した供給ダクト３２に接続されている。エア供給装置８７は，供給ダクト３２からのエアに含まれる不純物を除去する機能と，当該エアをカップ収容部７０全体に一様に供給する機構を有しており，供給ダクト３２からのエアを清浄化し，カップ収容部７０全体に一様な下降気流を形成して，カップ収容部７０内をパージできるようになっている。
【００５０】
カップ収容部７０の一の方向としてのＹ方向正方向側，Ｙ方向負方向側の側壁には，図６，７に示すようにウェハＷ上に現像液を供給する現像液供給部としての現像液供給ノズル９０，９１が配置されている。各現像液供給ノズル９０，９１は，それぞれ異なる現像液を供給できるようになっており，現像処理の際には，現像処理のレシピに適合したどちらか一方の現像液供給ノズル９０又は９１が使用される。現像液供給ノズル９０，９１は，細長形状に形成されており，その長さは，少なくともウェハＷの直径よりも長くなっている。
【００５１】
図９に示すように，現像液供給ノズル９０上部には，図示しない現像液供給源からの現像液を現像液供給ノズル９０内に流入させる配管９２の一端が接続されている。現像液供給ノズル９０の下部には，複数の現像液吐出口９３が，長手方向に一列に設けられている。これによって，配管９２から流入された現像液が，現像液供給ノズル９０の各現像液吐出口９３から同時に同流量で吐出されるようになっている。また，現像液供給ノズル９１も現像液供給ノズル９０と全く同じ構成を有している。
【００５２】
現像液供給ノズル９０，９１は，図７に示すようにアーム９５，９６によって長手方向がＸ方向になるように保持されている。当該アーム９５，９６は，Ｙ方向に伸びる同じレール９７上を図示しない駆動制御機構によって移動可能に設けられている。レール９７は，カップ収容部７０のＸ方向正方向側の外側面に取り付けられ，カップ収容部７０側部のＹ方向正方向側の端部からＹ方向負方向側の端部まで伸びている。また，アーム９５，９６の移動は，図示しない駆動制御機構によってその移動速度や移動タイミングを制御できるようになっている。したがって，アーム９５，９６にそれぞれ保持された現像液供給ノズル９０，９１は，所定流量の現像液を吐出しながら，所定速度でウェハＷの一端から他端まで移動して，ウェハＷ表面全面に現像液を供給し，ウェハＷ上に所定膜厚の現像液の液膜を形成することができる。また，アーム９５，９６には，当該アーム９５，９６を上下方向に移動可能とする図示しない移動機構が設けられており，現像液供給ノズル９０，９１とウェハＷとの距離等を調節可能に構成されている。
【００５３】
また，カップ収容部７０のＹ方向の両側部には，現像液供給ノズル９０，９１を洗浄する洗浄槽９８，９９が設けられており，現像液供給時以外は，現像液供給ノズル９０，９１は，当該洗浄槽９８，９９で待機できるようになっている。これらの洗浄槽９８，９９は，細長の現像液供給ノズル９０，９１を受容するように断面が凹状に形成されており，洗浄槽９８，９９内には，現像液供給ノズル９０，９１に付着した現像液を洗浄するための洗浄液，例えば純水が貯留されている。
【００５４】
一方，カップ収容部７０のＸ方向負方向側の外方，すなわち現像液供給ノズル９０，９１の移動する方向と直角方向側の外方には，ウェハＷに洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル１００が設けられている。洗浄液供給ノズル１００は，アーム１０１に保持されており，アーム１０１は，Ｘ方向に伸びるレール１０２上を移動自在に構成されている。レール１０２は，例えばカップ収容部７０のＸ方向負方向側からスピンチャック７１の中央部を越える位置まで伸びており，フレーム１５に固定されて設けられている。アーム１０１には，図示しない駆動機構が設けられており，アーム１０１がレール１０２上を移動可能になっている。これによって，洗浄液供給ノズル１００は，必要に応じてカップ収容部７０の前記外方からウェハＷの中心部まで移動し，ウェハＷの中心に洗浄液を供給できるようになっている。なお，アーム１０１には，アーム１０１を上下方向に移動可能とする図示しない移動機構が設けられており，必要に応じてウェハＷとの距離等を調節できるようになっている。
【００５５】
カップ収容部７０の下方には，図１０に示すように厚みがあり，平面から見て略四角形状の基台１０５が設けられている。基台１０５上には，カップ収容部７０を下から支持する複数の支持部材１０６が設けられている。支持部材１０６は，カップ収容部７０と基台１０５に固定されて設けられており，カップ収容部７０は，基台１０５と一体となって移動するようになっている。
【００５６】
基台１０５の下面には，Ｘ方向に伸びる２本のレール１０７がフレーム１５に固定されて設けられており，基台１０５は，当該レール１０７上を移動自在に構成されている。このレール１０７は，フレーム１５のＸ方向正方向側の側部まで延伸しており，基台１０５をレール１０７に沿って移動させ，カップ収容部７０をフレーム１５内から引き出すことができるようになっている。
【００５７】
次に，以上のように構成されている現像処理装置１８の作用について，塗布現像処理システム１で行われるフォトリソグラフィー工程のプロセスと共に説明する。
【００５８】
先ず，ウェハ搬送体７がカセットＣから未処理のウェハＷを１枚取りだし，第３の処理装置群G3に属するアドヒージョン装置４１に搬入する。このアドヒージョン装置４１において，レジスト液との密着性を向上させるHMDSなどの密着強化剤を塗布されたウェハＷは，主搬送装置１３によって，クーリング装置４０に搬送され，所定の温度に冷却される。その後，ウェハＷは，レジスト塗布装置１６，１７，２１又２２，プリベーキング装置４４又は４５に順次搬送され，所定の処理が施される。その後，ウェハＷは，エクステンション・クーリング装置５１に搬送される。
【００５９】
次いで，ウェハＷはエクステンション・クーリング装置５１からウェハ搬送体６０によって取り出され，その後，周辺露光装置６１を経て露光装置（図示せず）に搬送される。露光処理の終了したウェハＷは，ウェハ搬送体６０によりエクステンション装置５２に搬送された後，主搬送装置１３に保持される。次いで，このウェハＷはポストエクスポージャベーキング装置５４又は５５，クーリング装置５３に順次搬送され，これらの処置装置にて所定の処理が施された後，現像処理装置１８，１９，２３又は２４に搬送される。
【００６０】
そして現像処理の終了したウェハＷは，再び主搬送装置１３によってポストベーキング装置４５，４６，５６又は５７，クーリング装置４０と順次搬送され，各装置において所定の処理が施される。その後，ウェハＷは，エクステンション装置４２を介して，ウェハ搬送体７によってカセットＣに戻され，一連の所定の塗布現像処理が終了する。
【００６１】
次に上述した現像処理装置１８の作用について詳しく説明する。先ず，現像処理が開始される前に，図示しないエア供給源から供給ダクト３２を通じてエア供給装置８７に所定の温湿度に調節されたエアが供給され始め，当該エア供給装置８７で清浄化された当該エアがカップ収容部７０全体に供給され，カップ収容部７０内に一様な下降気流が形成される。また，カップ収容部７０内の雰囲気は，排気管８０から常時一定の流量で排気され，カップ収容部７０内がパージされる。なお排気管８０から排気された雰囲気は，排気ダクト３６を通じて，フレーム１５の下方から塗布現像処理システム１外に排気される。
【００６２】
そして，現像処理が開始されると，先ず昇降ピン７３がカップ７５の上端部よりも高い位置に上昇され，主搬送装置１３によってフレーム１５内に搬入されたウェハＷが当該昇降ピン７３上に支持される。次に，カップ側部７６が下降され，カップ７５の上端部の位置を下げると共に，昇降ピン７３が下降され，ウェハＷがカップ７５の上端部よりもわずかに高い位置，例えばカップ７５よりも１ｍｍ程度高い位置に配置される。
【００６３】
次に，洗浄槽９８で待機していた現像液供給ノズル９０が，当該洗浄槽９８から洗浄槽９８とカップ側部７６との間の回収板８４上に移動される。この地点において，現像液供給ノズル９０からの現像液の吐出が開始され，その吐出状態が安定するまで試し出しされる。
【００６４】
現像液の吐出状態が安定すると，現像液供給ノズル９０が，現像液を吐出しながらカップ７５上端部を越えてウェハＷ上を移動し，洗浄槽９９側のカップ側部７６の外方まで移動する。このときウェハＷ全面に現像液が供給され，ウェハＷ上に現像液の液膜が形成される。
【００６５】
その後，現像液供給ノズル９０は洗浄槽９８に戻され，ウェハＷ上では所定時間の静止現像が開始される。このときカップ側部７６は上昇され，カップ側部７６の上端部がウェハＷの位置より高くなる。なお，静止現像中は，カップ側部７６の上昇によって隙間８２が広くなり，上方から供給されているエアは，主にカップ７５の外方を流れ当該隙間８２から再びカップ７５内に流入し，排気管８０から排気される。
【００６６】
所定時間が経過し，静止現像が終了すると，昇降ピン７３が下降され，ウェハＷがスピンチャック７１上に吸着保持される。また，カップ側部７６も下降され，ウェハＷをカップ７５の中央部に位置させる共に，隙間８２を狭めて，上方から供給されるエアが主にカップ７５内に直接流入されるようにする。このとき，洗浄液供給ノズル１００は，レール１０２に沿ってウェハＷ中心上方まで移動される。
【００６７】
次に，ウェハＷが所定の回転速度，例えば２０００ｒｐｍで回転され，ウェハＷの中心に洗浄液が供給される。これによって，ウェハＷ上の現像液が遠心力によって振り切られる。このとき，当該振り切りによって現像液等のミストが発生するが，そのほとんどがカップ側部７６によって回収され，カップ７５外に漏れたミストは，カップ７５外方において上方からのエアによって下降され，回収板８５によって回収される。
【００６８】
そして所定時間経過後，洗浄液の吐出が停止され，ウェハＷの回転速度が，例えば４０００ｒｐｍに増大される。これによって，ウェハＷ上の洗浄液が振り切られ，ウェハＷが乾燥される。当該乾燥が所定時間行われた後，ウェハＷの回転が停止され，乾燥処理が終了される。
【００６９】
その後，ウェハＷは昇降ピン７３によって再びカップ７５上端部上方まで上昇される。そして，ウェハＷは搬入時と同様にして主搬送装置１３に受け渡され，フレーム１５外に搬出されて，一連の現像処理が終了する。
【００７０】
次に，カップ７５の洗浄等のメンテナンスを行う際の現像処理装置１８の作用について説明する。先ず，留め具８１を排気ダクト３６の接続端部３６ａから取り外して，排気管８０の接続端部８０ａと排気ダクト３６の接続端部３６ａとの接続を解除する。これによってカップ収容部７０が自由に移動できるようになる。次に，カップ収容部７０をレール１０７に沿ってＸ方向正方向に移動させ，図１１に示すようにフレーム１５外に引き出す。そして，カップ７５や現像液供給ノズル９０，９１等がカップ収容部７０から取り外され，カップ７５の洗浄等のメンテナンスが行われる。
【００７１】
その後，カップ７５の洗浄等が終了すると，再びレール１０７に沿ってカップ収容部７０をＸ方向負方向に移動させ，フレーム１５内に収容する。そして，留め具８１によって排気管８０と排気ダクト３６とを固定し，排気ルートを確保して，メンテナンスが終了する。
【００７２】
以上の実施の形態によれば，カップ収容部７０をフレーム１５から引き出し可能にしたため，メンテナンス時にカップ収容部７０を引き出し，メンテナンスのためのスペースを確保することができる。特に本実施の形態のように現像処理装置１８，１９を多段に配置した場合においても，カップ収容部７０を引き出し，メンテナンス作業を好適に行うことができる。
【００７３】
また，排気管８０と排気ダクト３６を着脱可能にし，エア供給装置８７をフレーム１５に取り付けたため，配管系の多い現像処理装置１８においても，カップ収容部７０の移動を可能にした。特に排気管８０の接続端部８０ａと排気ダクト３６の接続端部３６ａを斜めに形成したため，カップ収容部７０の移動方向に対する着脱が好適に行われる。
【００７４】
カップ側部７６が上下動可能に設けられたため，現像液供給ノズル９０がウェハＷ上に移動する際にカップ側部７６を下降させることができるので，現像液供給ノズル９０がカップ７５を回避して上昇する距離が短くて済み，現像処理装置１８全体の薄型化を図ることができる。
【００７５】
また，現像液供給ノズル９０，９１をそれぞれカップ収容部７０の異なる両側部に待機可能にしたため，現像液供給ノズル９０，９１双方を移動させるためのレールが一本で足りる。これによって，高さの異なる二本のレールを設ける必要が無く，その分現像処理装置１８の高さを抑えることができるので，現像処理装置１８の薄型化が図られれる。
【００７６】
さらに，現像液供給ノズル９０，９１をカップ収容部７０のＹ方向の両側部に設けたことに伴って，洗浄液供給ノズル１００をカップ収容部７０のＸ方向の側部に設けるようにしたため，洗浄液を供給する配管と現像液を供給する配管との干渉を防止することができる。
【００７７】
ウェハＷの昇降を昇降ピン７３を用いて行うようにしたため，スピンチャック７１と駆動機構７２とを合わせた全体を昇降させていた従来に比べて，昇降の際の上下方向のスペースを確保する必要が無くなり，その分カップ収容部７０の高さを制限することができるため，現像処理装置１８の薄型化が図られる。
【００７８】
フレーム１５内の各液処理装置に接続された供給ダクト３０〜３３及び排気ダクト３４〜３７をそれぞれ異なる面に集約させて設けたので，本実施の形態のように現像処理装置１８，１９及びレジスト塗布装置１６，１７を多段に配置した場合においても，複数の供給ダクト及び排気ダクトの配置が単純化され，ダクトの設置の容易化，ダクトと他の配管との干渉等の防止が図られれる。
【００７９】
前記実施の形態では，排気ダクト３６の接続端部３６ａと排気管８０の接続端部８０ａとの形状を斜めにしたが，他の形状であってもよい。例えば，図１２に示すように排気管１１０の接続端部１１０ａの平面から見てＸ方向正方向側（図１２の下側）を凸状に突出させる。一方，排気ダクト１１１の接続端部１１１ａのＸ方向負方向側を，接続端部１１０ａに適合するように凸状に突出させる。接続端部１１０ａの凸部と接続端部１１１ａの凸部を着脱自在とする留め具１１２を設ける。これによっても，カップ収容部７０をＸ方向に移動させ，フレーム１５内からカップ収容部７０を引き出し又は押し込む際に排気管１１０と排気ダクト１１１とを好適に接続，分離することができる。
【００８０】
さらに排気ダクト３６の接続端部と排気管８０の接続端部との接続方式は図１３，１４に示した例も提案できる。
【００８１】
この例では，排気管８０の先端部を先細りのテーパ形状となし，引出方向とは逆の方向に突出した接続端部８０ｂを有している。一方排気ダクト３６の接続端部は，前記引出方向側に開口した挿入口３６ｂとして形成されている。また挿入口３６ｂの内壁表面には，気密性を向上させるためスポンジ材１２１が設けられている。
【００８２】
このような例に従えば，カップ収容部７０を手前に引き出すだけで排気管８０と排気ダクト３６との分離が簡単に行える。また排気管８０と排気ダクト３６を接続する場合でも，カップ収容部７０を押し込むだけで排気管８０の先端部の接続端部８０ｂが排気ダクト３６の挿入口３６ｂに挿入され，簡単に接続作業が完了する。このとき排気管８０の先端部は，先細りのテーパ形状であって，その端部に挿入口３６ｂが形成されているので，挿入口３６ｂ内に確実に排気管８０の接続端部８０ｂを挿入して接続することができる。
【００８３】
しかも挿入口３６ｂの内壁表面にはスポンジ材１２１が設けられているから，気密性は確保されている。スポンジ材に代えて各種のシール材，例えば弾力性のある物質等を用いてもよい。
【００８４】
また，以上の実施の形態では，排気管や排気ダクトは，断面が丸形の円形ダクトを使用していたが，断面が四角形状の角ダクトを使用してよい。特に，角ダクトを使用した場合には，上述した凸状の接続端部１１０ａ及び接続端部１１１ａの方が成形しやすいメリットがある。
【００８５】
以上の実施の形態は，現像処理装置１８として具体化されたものであったが，他の液処理装置，例えばレジスト塗布装置１６，１７，２１又は２２，現像処理装置１９，２３又は２４についても応用できる。また，当該現像処理装置１９，２３，２４及びレジスト塗布装置１６，１７，２１又は２２の全部について適用してもよいし，その中の任意のものにのみ適用してもよい。
【００８６】
また，以上で説明した実施の形態は，半導体ウェハデバイス製造プロセスのフォトリソグラフィー工程におけるウェハの現像処理装置であったが，本発明は半導体ウェハ以外の基板，例えばＬＣＤ基板の液処理装置においても応用できる。
【００８７】
【発明の効果】
本発明では，液処理装置を多段に配置した場合であってもメンテナンスを行うための作業スペースを十分に確保することができるので，液処理装置のメンテナンス作業をより効率的に，容易に行うことができる。
【００８８】
また本発明によれば，液処理装置の薄型化が図られるので，液処理装置をより多く積層することができるので，低フットプリント化が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態にかかる現像処理装置を有する塗布現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図２】図１の塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１の塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】フレームに取り付けられた供給ダクトの配置例を示す斜視図である。
【図５】フレームに取り付けられた排気ダクトの配置例を示す斜視図である。
【図６】本実施の形態にかかる現像処理装置の縦断面の説明図である。
【図７】図４の現像処理装置の横断面の説明図である。
【図８】排気管と排気ダクトの接続部を平面から見た場合の説明図である
【図９】現像処理装置で用いられる現像液供給ノズルの斜視図である。
【図１０】現像処理装置の概略を示す斜視図である。
【図１１】カップ収容部を引き出した状態を示す現像処理装置の平面図である。
【図１２】排気管と排気ダクトの接続部の他の構成例を示す説明図である。
【図１３】他の例においてカップ収容部を引き出した状態を示す現像処理装置の平面図である。
【図１４】図１３の例における排気管と排気ダクトの接続部の接続態を示す説明図である。
【符号の説明】
１ 塗布現像処理システム
１５ フレーム
１８ 現像処理装置
３２ 供給ダクト
３６ 排気ダクト
７０ カップ収容部
７１ スピンチャック
７５ カップ
８０ 排気管
１０５ 基台
１０７ レール
Ｗ ウェハ
【発明の属する技術分野】
本発明は，基板の液処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では，ウェハ表面にレジスト膜を形成するレジスト塗布処理，ウェハにパターンを照射して露光する露光処理，露光後のウェハに対して現像を行う現像処理，塗布処理前，露光処理前後及び現像処理後の加熱処理，冷却処理等が行われ，これらの一連の処理は，塗布現像処理システム内に設けられた各種処理装置において行わている。
【０００３】
近年，塗布現像処理システムの処理能力の向上が望まれており，より多くのウェハを並行処理するために，一台の塗布現像処理システム内に上述したレジスト塗布処理を行うレジスト塗布装置や現像処理を行う現像処理装置をより多く設けることが必要になってきている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら，当該レジスト塗布装置等を多数設けると，塗布現像処理システムが大型化し，フットプリントが増大することが懸念される。
【０００５】
そこで，かかる低フットプリント化を考慮し，レジスト塗布装置や現像処理装置を薄型化して，当該現像処理装置等を従来より多い３段以上に重ねて設けることが提案される。
【０００６】
しかし，高さ制限のある塗布現像処理システムに，当該装置を多段に設けると，各装置間の隙間が狭くなり，当該装置のメンテナンスができなくなる。また，メンテナンスができたとしても当該作業が非常に困難になる。特にレジスト塗布装置や現像処理装置は，現像液等の処理液を使用するため，装置内が汚染されやすく，頻繁に洗浄等のメンテナンスをする必要があり，現像処理装置等を多段に重ねて設けるにあたり大きな障害となる。
【０００７】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，レジスト塗布装置や現像処理装置等の液処理装置を多段に重ねて設けた場合においてもメンテナンスを好適に行うことのできる液処理装置を提供することをその目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明において，収納容器内において，基板に処理液を供給して当該基板を処理する液処理装置であって，前記収納容器を搭載するフレームを有し，
前記収納容器は，前記フレームから所定方向に引き出し自在に構成され，前記収納容器に接続され，前記収納容器内の雰囲気を排気する排気管と，前記フレーム外に前記雰囲気を排気する排気ダクトとを有し，前記排気ダクトの接続端部は，前記排気管の接続端部と接続，分離自在に構成され，前記所定方向は水平方向であり，前記排気ダクトの接続端部は，前記所定方向に対して直角方向のフレームの側部に設けられており，前記排気ダクトの接続端部は，平面から見て前記所定方向と逆方向側が前記排気管の接続端部側に突出するように形成されており，前記排気管の接続端部は，前記排気ダクトの接続端部と適合するように，平面から見て前記所定方向側が前記排気ダクトの接続端部側に突出するように形成されていることを特徴とする液処理装置が提供される。
【０００９】
このように，収納容器を引き出し自在にすることによって，メンテナンス時に収納容器をフレームから引き出し，当該メンテナンスを行うための作業スペースを十分に確保することができるので，当該メンテナンス作業を好適に行うことができる。
【００１０】
かかる請求項１の発明において，請求項２のように前記排気ダクトの接続端部と前記排気管の接続端部が斜めに形成されていてもよい。
【００１１】
かかる請求項１又は２の液処理装置において，請求項３に記載したように前記フレームには，前記収納容器内に気体を供給するための供給ダクトが取り付けられており，前記供給ダクトは，前記収納容器内に前記気体を供給する気体供給部に接続されており，前記気体供給部は，前記フレームに取り付けられるようにしてもよい。このように，供給ダクトと気体供給部をフレーム側に取り付けることにより，収納容器をフレームから引き出す際に，収納容器からその都度切り離す必要が無く，上述した収納容器の引き出しを好適に行うことができる。
【００１２】
この請求項３の液処理装置において，請求項４のように前記供給ダクトが，前記所定方向以外の前記フレームの側面に取り付けられていてもよい。このように，供給ダクトを前記所定方向，すなわち引き出し方向以外のフレーム側面に取り付けることによって，収納容器の前記所定方向の移動を妨げる事がなくなり，収納容器の引き出しが好適に行われる。
【００１３】
この請求項４の液処理装置において，請求項５のように前記収納容器が前記フレームに垂直方向に多段に搭載されており，前記各収納容器に接続された各供給ダクトは，集約されて前記フレームの側面に沿って垂直方向に設けられるようにしてもよい。このように，収納容器が多段に搭載されている場合に，前記各供給ダクトを引き出し方向以外のフレーム側面に沿って設け，それらを集約して設けることによって，各供給ダクトが収納容器の引き出しを妨げることが無くなり，また各供給ダクトの配管設計を単純化できる。なお，各供給ダクトを集約するとは，各供給ダクトを一箇所に集合させて設ける場合のみならず，各供給ダクトに気体を供給するための統一した一の供給ダクトを設ける場合をも含む。
【００２０】
上述した請求項１〜６の各液処理装置において，請求項７のように前記収納容器内には，基板を昇降可能とする昇降ピンが設けられているようにしてもよい。このように，昇降ピンを設けることによって，従来のように比較的上下方向に長さがあり，移動するためにスペースが必要なスピンチャック等によって基板を昇降する必要がなく，上下方向にスペースを取らない昇降ピンによって基板の昇降を行うことができる。これによって，収納容器の上下方向の薄型化が図られ，メンテナンスのためのスペースが確保される。また，高さの限られたスペースにおいてもより多くの収納容器を積層することができ，液処理装置の低フットプリント化が図られる。
【００２１】
また，以上で記載した各液処理装置において，前記収納容器内には，基板の外周を囲む処理容器が設けられており，前記処理容器を昇降可能とする昇降機構を有するようにしてもよい。このように処理容器を昇降可能とする昇降機構を設けることによって，例えば基板に処理液を供給する供給ノズルが前記処理容器外から処理容器内に移動する際に，当該処理容器を下降させることができるので，その分前記処理容器を回避するために必要な供給ノズルの上昇距離が短くて済む。したがって，収納容器全体の上下方向の薄型化が図られ，その分メンテナンスのためのスペースが確保される。なお，前記処理容器を昇降可能とするとは，処理容器全体が昇降する場合のみならず，処理容器の一部が昇降する場合をも含む。
【００２２】
さらに上述の各液処理装置において，前記液処理装置が，基板を現像処理する現像処理装置の場合，前記収納容器は，平面から見て四角形状に形成されており，前記基板に現像液を供給する複数の現像液供給部と，前記現像液供給部を洗浄する洗浄槽とを有し，前記複数の現像液供給部は，前記収納容器の四角形状に沿った一の方向に伸びる同一レール上で移動自在に構成されており，前記洗浄槽は，前記一の方向の前記収納容器の両側部に設けられるようにしてもい。
【００２３】
このように，現像液供給部を複数備える場合に，当該現像液供給部を同一レール上に設けることによって，各現像液供給部を同一水平面上に位置させることができる。また，当該現像液供給部の洗浄槽を前記収納容器の両側部に設けることによって，各現像液供給部の待機位置が洗浄槽のある収納容器の両端部に振り分けられ，一の現像液供給部が使用されている際に，他の現像液供給部が一の現像液供給部の移動を妨げない遠方の洗浄槽で待機することができる。したがって，現像液供給部同士の干渉が防止されつつ，現像液を適切に供給することができる。これによって，従来のように高さの異なる複数のレールに現像処理装置を設ける必要がないので，その分収納容器の高さを制限することができ，収納容器の薄型化が図られる。
【００２４】
この場合，さらに前記一の方向が，前記所定方向に対して直角方向であってもよい。このように，現像液供給部のレールを引き出し方向と直角方向に備えることによって，複数の現像液供給部に現像液を供給するための配管を引き出し方向に伸びるように設け，収納容器の引き出しの際に，配管が収納容器の移動を妨げたり，配管同士が干渉し合わないないように前記配管を配置することができる。
【００２５】
上述の液処理装置において，基板に洗浄液を供給する洗浄液供給装置を有し，前記洗浄液供給装置は，前記一の方向と直角方向をなす他の方向に移動自在に構成されていてもよい。このように，洗浄液供給装置を前記他の方向に移動自在に設けることによって，上述した現像液供給部との干渉を避けるために現像液供給部と高さを違える必要が無くなるため，その分収納容器の高さを制限できる。従って，収納容器の薄型化が図られ，メンテナンスのスペースがより多く確保される。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本発明にかかる現像処理装置を有する塗布現像処理システム１の概略を示す平面図であり，図２は，塗布現像処理システム１の正面図であり，図３は，塗布現像処理システム１の背面図である。
【００２７】
塗布現像処理システム１は，図１に示すように，例えば２５枚のウェハＷをカセット単位で外部から塗布現像処理システム１に対して搬入出したり，カセットＣに対してウェハＷを搬入出したりするカセットステーション２と，塗布現像処理工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理ステーション３と，この処理ステーション３に隣接して設けられている図示しない露光装置との間でウェハＷの受け渡しをするインターフェイス部４とを一体に接続した構成を有している。
【００２８】
カセットステーション２では，載置部となるカセット載置台５上の所定の位置に，複数のカセットＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在となっている。そして，このカセット配列方向（Ｘ方向）とカセットＣに収容されたウェハＷのウェハ配列方向（Ｚ方向；鉛直方向）に対して移送可能なウェハ搬送体７が搬送路８に沿って移動自在に設けられており，各カセットＣに対して選択的にアクセスできるようになっている。
【００２９】
ウェハ搬送体７は，ウェハＷの位置合わせを行うアライメント機能を備えている。このウェハ搬送体７は後述するように処理ステーション３側の第３の処理装置群G３に属するエクステンション装置４２に対してもアクセスできるように構成されている。
【００３０】
処理ステーション３では，その中心部に主搬送装置１３が設けられており，この主搬送装置１３の周辺には各種処理装置が多段に配置されて処理装置群を構成している。該塗布現像処理システム１においては，４つの処理装置群G1，G2，G3，G4が配置されており，第１及び第２の処理装置群G1，G2は塗布現像処理システム１の正面側に配置され，第３の処理装置群G3は，カセットステーション２に隣接して配置され，第４の処理装置群G4は，インターフェイス部４に隣接して配置されている。さらにオプションとして破線で示した第５の処理装置群G5を背面側に別途配置可能となっている。前記主搬送装置１３は，これらの処理装置群Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３，Ｇ４に配置されている後述する各種処理装置に対して，ウェハＷを搬入出可能である。なお，処理装置群の数や配置は，ウェハＷに施される処理の種類によって異なり，処理装置群の数は，１以上であれば４つで無くてもよい。
【００３１】
第１の処理装置群G1には，図２に示すように上下方向に長い略直方体の枠形状で，上下方向に複数の部屋を有するように区画されたフレーム１５が設けられており，フレーム１５内には，複数の処理装置を多段に配置できるようになっている。当該フレーム１５内には，ウェハＷにレジスト液を供給し，レジスト膜を形成するレジスト塗布装置１６，１７と，本実施の形態にかかる液処理装置としての現像処理装置１８，１９とが下から順に４段に重ねられて設けられている。処理装置群G2の場合も同様に，フレーム２０内には，レジスト塗布装置２１，２２と，現像処理装置２３，２４とが下から順に４段に積み重ねられている。
【００３２】
フレーム１５のＹ方向正方向側（図１の右方向）の側面には，図４に示すように処理装置群Ｇ１の各処理装置，すなわちレジスト塗布装置１６，１７及び現像処理装置１８，１９に所定の温湿度に調節されたエアを供給するための供給ダクト３０，３１，３２，３３が集約されて設けられている。各供給ダクト３０〜３３は，当該各処理装置の後述する各エア供給部に接続されており，当該各エア供給部からフレーム１５の側面に沿って上方に向かって設けられており，図示しない上方のエア供給源からのエアを当該各処理装置内に供給できるようになっている。
【００３３】
また，フレーム１５のＹ方向負方向側（図１の左方向）の側面には，図５に示すように処理装置群Ｇ１の各処理装置，すなわちレジスト塗布装置１６，１７及び現像処理装置１８，１９内の雰囲気を排気するための排気ダクト３４，３５，３６，３７が集約されて設けられている。これらの排気ダクト３４〜３７は，それぞれ後述する当該各処理装置の各排気管に接続されており，当該各排気管からフレーム１５の側面に沿ってフレーム１５の下方に向かって設けられており，当該各処理装置からの雰囲気をフレーム１５から塗布現像処理システム１外に排気できるようになっている。
【００３４】
第３の処理装置群G3では，例えば図３に示すように，ウェハＷを冷却処理するクーリング装置４０，レジスト液とウェハＷとの定着性を高めるためのアドヒージョン装置４１，ウェハＷを待機させるエクステンション装置４２，レジスト液中の溶剤を乾燥させるプリベーキング装置４３，４４及び現像処理後の加熱処理を施すポストベーキング装置４５，４６等が下から順に例えば７段に重ねられている。
【００３５】
第４の処理装置群G4では，例えばクーリング装置５０，載置したウェハＷを自然冷却させるエクステンション・クーリング装置５１，エクステンション装置５２，クーリング装置５３，露光後の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキング装置５４，５５，ポストベーキング装置５６，５７等が下から順に例えば８段に積み重ねられている。
【００３６】
インターフェイス部４の中央部にはウェハ搬送体６０が設けられている。このウェハ搬送体６０はＸ方向（図１中の上下方向），Ｚ方向（垂直方向）の移動とθ方向（Ｚ軸を中心とする回転方向）の回転が自在にできるように構成されており，第４の処理装置群G4に属するエクステンション・クーリング装置５１，エクステンション装置５２，周辺露光装置６１及び図示しない露光装置に対してアクセスして，各々に対してウェハＷを搬送できるように構成されている。
【００３７】
次に，上述した現像処理装置１８の構成について詳しく説明する。図６は，現像処理装置１８の概略を示す縦断面の説明図であり，図７は，現像処理装置１８の横断面の説明図である。
【００３８】
現像処理装置１８は，図６，図７に示すようにフレーム１５内に，上面が開口した箱状の収納容器としてのカップ収容部７０を有している。当該カップ収容部７０内の中央部には，水平かつ円形状に形成された上面部７１ａを有するスピンチャック７１が設けられており，ウェハＷを水平に載置可能に構成されている。当該スピンチャック７１には，例えばその上面部７１ａに図示しない吸引口が設けられており，ウェハＷを吸着保持できるようになっている。
【００３９】
スピンチャック７１の下方には，当該スピンチャック７１等を駆動させる駆動機構７２が設けられている。当該駆動機構７２は，スピンチャック７１を回転可能とするモータ等を備えた図示しない回転駆動部と，後述する昇降ピン７３を昇降可能とするシリンダ等を備えた図示しない昇降駆動部とを有している。駆動機構７２の回転駆動部によって，スピンチャック７１に保持されたウェハＷを所定の回転速度で回転できるようになっている。
【００４０】
また，当該スピンチャック７１の上面部７１ａの周辺部は，ウェハＷを支持し，昇降させるための複数の昇降ピン７３が設けられている。当該昇降ピン７３は，上述したように駆動機構７２によって所定の高さに昇降可能に構成されており，スピンチャック７１の上面部７１ａに設けられた図示しない貫通孔内を上下方向に移動して，ウェハＷをスピンチャック７１上方の所定位置に配置したり，スピンチャック７１上に載置したりできるようになっている。
【００４１】
スピンチャック７１の外周外方には，当該スピンチャック７１を取り囲むようにして，上面が開口した略筒状の処理容器としてのカップ７５が設けられており，ウェハＷが回転された際に飛散する現像液等を受け止め，現像処理装置１８内の汚染を抑制できるようになっている。カップ７５は，主に飛散した現像液等を受け止めるカップ側部７６と，当該受け止めた現像液等を回収するカップ底部７７とを有している。
【００４２】
カップ側部７６には，カップ側部７６のみを上下動させる昇降機構７８が取り付けられており，必要に応じてカップ側部７６を昇降させることができるようになっている。
【００４３】
カップ底部７７は，斜めに傾斜されて設けられており，その低い部分には，カップ側部７６で回収した現像液等を排液するドレイン管７９が設けられている。また，カップ底部７７には，カップ７５内からフレーム１５のＹ方向負方向（図６の右方向）側の側部まで延伸する排気管８０が設けられている。当該排気管８０は，上述した排気ダクト３６に接続されており，カップ収容部７０内の雰囲気を排気ダクト３６を通じて，塗布現像処理システム１外に排気できるようになっている。
【００４４】
排気ダクト３６は，図８に示すように排気ダクト３６の接続端部３６ａと排気管８０の接続端部８０ａとを着脱自在にする留め具８１を有している。留め具８１は，例えばその一端８１ａが排気管８０の接続端部８０ａ側に固定されて設けられており，留め具８１の他端８１ｂは，排気ダクト３６の接続端部３６ａに着脱自在になっている。これによって，排気ダクト３６と排気管８０とを接続する際に，留め具８１の他端８１ｂを接続端部３６ａに係止させることで，排気ダクト３６の接続端部３６ａと排気管８０の接続端部８０ａとの接続状態を維持できる。
【００４５】
排気管８０の接続端部８０ａは，平面から見て当該接続端部８０ａの所定方向としてのＸ方向正方向側（図８の下側）が排気ダクト３６側に突出するように斜めに形成されており，一方排気ダクト３６の接続端部３６ａは，当該排気管８０の接続端部８０ａに適合するように，当該接続端部３６ａのＸ方向負方向側が排気管８０側に突出して斜めに形成されている。これによって，カップ収容部７０をＸ方向正方向，すなわち引き出す方向に移動させることで，排気管８０と排気ダクト３６とを分離し，逆にカップ収容部７０をＸ方向負方向，すなわち押し込む方向に移動させることで，排気管８０と排気ダクト３６とを接続することができる。
【００４６】
カップ側部７６の下端部とカップ底部７７との間には，図６に示すように隙間８２が設けられており，上方から一旦カップ７５外に流れた気体を当該隙間８２からカップ７５内に取り入れ，排気管８０から排気できるように構成されている。また，当該隙間８２は，上述したカップ側部７６の上下動によって，その広狭が調節できるようになっており，必要に応じて当該隙間８２を変動させ，隙間８２を流れる気体の流量を調節できるようになっている。
【００４７】
カップ７５の外周外方には，カップ７５とカップ収容部７０との隙間を覆う回収板８４が設けられており，カップ７５外に漏れた現像液等を回収できるようになっている。回収板８４は，カップ７５側が低くなるように斜めに設けられている。また，回収板８４には，図７に示すように多数の通気孔８５が設けられており，カップ７５外に流れた上方からの気体が当該通気孔８５を通過し，隙間８２に流れるようになっている。
【００４８】
カップ７５の外周とカップ収容部７０の内周との間であって，カップ収容部７０の底部には，上述したカップ７５外に漏れた現像液等を排液するドレイン管８６が設けられている。
【００４９】
カップ収容部７０上方のフレーム１５には，カップ収容部７０内に気体，例えばエアを供給する気体供給部としてのエア供給装置８７が取り付けられている。当該エア供給装置８７は，上述した供給ダクト３２に接続されている。エア供給装置８７は，供給ダクト３２からのエアに含まれる不純物を除去する機能と，当該エアをカップ収容部７０全体に一様に供給する機構を有しており，供給ダクト３２からのエアを清浄化し，カップ収容部７０全体に一様な下降気流を形成して，カップ収容部７０内をパージできるようになっている。
【００５０】
カップ収容部７０の一の方向としてのＹ方向正方向側，Ｙ方向負方向側の側壁には，図６，７に示すようにウェハＷ上に現像液を供給する現像液供給部としての現像液供給ノズル９０，９１が配置されている。各現像液供給ノズル９０，９１は，それぞれ異なる現像液を供給できるようになっており，現像処理の際には，現像処理のレシピに適合したどちらか一方の現像液供給ノズル９０又は９１が使用される。現像液供給ノズル９０，９１は，細長形状に形成されており，その長さは，少なくともウェハＷの直径よりも長くなっている。
【００５１】
図９に示すように，現像液供給ノズル９０上部には，図示しない現像液供給源からの現像液を現像液供給ノズル９０内に流入させる配管９２の一端が接続されている。現像液供給ノズル９０の下部には，複数の現像液吐出口９３が，長手方向に一列に設けられている。これによって，配管９２から流入された現像液が，現像液供給ノズル９０の各現像液吐出口９３から同時に同流量で吐出されるようになっている。また，現像液供給ノズル９１も現像液供給ノズル９０と全く同じ構成を有している。
【００５２】
現像液供給ノズル９０，９１は，図７に示すようにアーム９５，９６によって長手方向がＸ方向になるように保持されている。当該アーム９５，９６は，Ｙ方向に伸びる同じレール９７上を図示しない駆動制御機構によって移動可能に設けられている。レール９７は，カップ収容部７０のＸ方向正方向側の外側面に取り付けられ，カップ収容部７０側部のＹ方向正方向側の端部からＹ方向負方向側の端部まで伸びている。また，アーム９５，９６の移動は，図示しない駆動制御機構によってその移動速度や移動タイミングを制御できるようになっている。したがって，アーム９５，９６にそれぞれ保持された現像液供給ノズル９０，９１は，所定流量の現像液を吐出しながら，所定速度でウェハＷの一端から他端まで移動して，ウェハＷ表面全面に現像液を供給し，ウェハＷ上に所定膜厚の現像液の液膜を形成することができる。また，アーム９５，９６には，当該アーム９５，９６を上下方向に移動可能とする図示しない移動機構が設けられており，現像液供給ノズル９０，９１とウェハＷとの距離等を調節可能に構成されている。
【００５３】
また，カップ収容部７０のＹ方向の両側部には，現像液供給ノズル９０，９１を洗浄する洗浄槽９８，９９が設けられており，現像液供給時以外は，現像液供給ノズル９０，９１は，当該洗浄槽９８，９９で待機できるようになっている。これらの洗浄槽９８，９９は，細長の現像液供給ノズル９０，９１を受容するように断面が凹状に形成されており，洗浄槽９８，９９内には，現像液供給ノズル９０，９１に付着した現像液を洗浄するための洗浄液，例えば純水が貯留されている。
【００５４】
一方，カップ収容部７０のＸ方向負方向側の外方，すなわち現像液供給ノズル９０，９１の移動する方向と直角方向側の外方には，ウェハＷに洗浄液を供給するための洗浄液供給ノズル１００が設けられている。洗浄液供給ノズル１００は，アーム１０１に保持されており，アーム１０１は，Ｘ方向に伸びるレール１０２上を移動自在に構成されている。レール１０２は，例えばカップ収容部７０のＸ方向負方向側からスピンチャック７１の中央部を越える位置まで伸びており，フレーム１５に固定されて設けられている。アーム１０１には，図示しない駆動機構が設けられており，アーム１０１がレール１０２上を移動可能になっている。これによって，洗浄液供給ノズル１００は，必要に応じてカップ収容部７０の前記外方からウェハＷの中心部まで移動し，ウェハＷの中心に洗浄液を供給できるようになっている。なお，アーム１０１には，アーム１０１を上下方向に移動可能とする図示しない移動機構が設けられており，必要に応じてウェハＷとの距離等を調節できるようになっている。
【００５５】
カップ収容部７０の下方には，図１０に示すように厚みがあり，平面から見て略四角形状の基台１０５が設けられている。基台１０５上には，カップ収容部７０を下から支持する複数の支持部材１０６が設けられている。支持部材１０６は，カップ収容部７０と基台１０５に固定されて設けられており，カップ収容部７０は，基台１０５と一体となって移動するようになっている。
【００５６】
基台１０５の下面には，Ｘ方向に伸びる２本のレール１０７がフレーム１５に固定されて設けられており，基台１０５は，当該レール１０７上を移動自在に構成されている。このレール１０７は，フレーム１５のＸ方向正方向側の側部まで延伸しており，基台１０５をレール１０７に沿って移動させ，カップ収容部７０をフレーム１５内から引き出すことができるようになっている。
【００５７】
次に，以上のように構成されている現像処理装置１８の作用について，塗布現像処理システム１で行われるフォトリソグラフィー工程のプロセスと共に説明する。
【００５８】
先ず，ウェハ搬送体７がカセットＣから未処理のウェハＷを１枚取りだし，第３の処理装置群G3に属するアドヒージョン装置４１に搬入する。このアドヒージョン装置４１において，レジスト液との密着性を向上させるHMDSなどの密着強化剤を塗布されたウェハＷは，主搬送装置１３によって，クーリング装置４０に搬送され，所定の温度に冷却される。その後，ウェハＷは，レジスト塗布装置１６，１７，２１又２２，プリベーキング装置４４又は４５に順次搬送され，所定の処理が施される。その後，ウェハＷは，エクステンション・クーリング装置５１に搬送される。
【００５９】
次いで，ウェハＷはエクステンション・クーリング装置５１からウェハ搬送体６０によって取り出され，その後，周辺露光装置６１を経て露光装置（図示せず）に搬送される。露光処理の終了したウェハＷは，ウェハ搬送体６０によりエクステンション装置５２に搬送された後，主搬送装置１３に保持される。次いで，このウェハＷはポストエクスポージャベーキング装置５４又は５５，クーリング装置５３に順次搬送され，これらの処置装置にて所定の処理が施された後，現像処理装置１８，１９，２３又は２４に搬送される。
【００６０】
そして現像処理の終了したウェハＷは，再び主搬送装置１３によってポストベーキング装置４５，４６，５６又は５７，クーリング装置４０と順次搬送され，各装置において所定の処理が施される。その後，ウェハＷは，エクステンション装置４２を介して，ウェハ搬送体７によってカセットＣに戻され，一連の所定の塗布現像処理が終了する。
【００６１】
次に上述した現像処理装置１８の作用について詳しく説明する。先ず，現像処理が開始される前に，図示しないエア供給源から供給ダクト３２を通じてエア供給装置８７に所定の温湿度に調節されたエアが供給され始め，当該エア供給装置８７で清浄化された当該エアがカップ収容部７０全体に供給され，カップ収容部７０内に一様な下降気流が形成される。また，カップ収容部７０内の雰囲気は，排気管８０から常時一定の流量で排気され，カップ収容部７０内がパージされる。なお排気管８０から排気された雰囲気は，排気ダクト３６を通じて，フレーム１５の下方から塗布現像処理システム１外に排気される。
【００６２】
そして，現像処理が開始されると，先ず昇降ピン７３がカップ７５の上端部よりも高い位置に上昇され，主搬送装置１３によってフレーム１５内に搬入されたウェハＷが当該昇降ピン７３上に支持される。次に，カップ側部７６が下降され，カップ７５の上端部の位置を下げると共に，昇降ピン７３が下降され，ウェハＷがカップ７５の上端部よりもわずかに高い位置，例えばカップ７５よりも１ｍｍ程度高い位置に配置される。
【００６３】
次に，洗浄槽９８で待機していた現像液供給ノズル９０が，当該洗浄槽９８から洗浄槽９８とカップ側部７６との間の回収板８４上に移動される。この地点において，現像液供給ノズル９０からの現像液の吐出が開始され，その吐出状態が安定するまで試し出しされる。
【００６４】
現像液の吐出状態が安定すると，現像液供給ノズル９０が，現像液を吐出しながらカップ７５上端部を越えてウェハＷ上を移動し，洗浄槽９９側のカップ側部７６の外方まで移動する。このときウェハＷ全面に現像液が供給され，ウェハＷ上に現像液の液膜が形成される。
【００６５】
その後，現像液供給ノズル９０は洗浄槽９８に戻され，ウェハＷ上では所定時間の静止現像が開始される。このときカップ側部７６は上昇され，カップ側部７６の上端部がウェハＷの位置より高くなる。なお，静止現像中は，カップ側部７６の上昇によって隙間８２が広くなり，上方から供給されているエアは，主にカップ７５の外方を流れ当該隙間８２から再びカップ７５内に流入し，排気管８０から排気される。
【００６６】
所定時間が経過し，静止現像が終了すると，昇降ピン７３が下降され，ウェハＷがスピンチャック７１上に吸着保持される。また，カップ側部７６も下降され，ウェハＷをカップ７５の中央部に位置させる共に，隙間８２を狭めて，上方から供給されるエアが主にカップ７５内に直接流入されるようにする。このとき，洗浄液供給ノズル１００は，レール１０２に沿ってウェハＷ中心上方まで移動される。
【００６７】
次に，ウェハＷが所定の回転速度，例えば２０００ｒｐｍで回転され，ウェハＷの中心に洗浄液が供給される。これによって，ウェハＷ上の現像液が遠心力によって振り切られる。このとき，当該振り切りによって現像液等のミストが発生するが，そのほとんどがカップ側部７６によって回収され，カップ７５外に漏れたミストは，カップ７５外方において上方からのエアによって下降され，回収板８５によって回収される。
【００６８】
そして所定時間経過後，洗浄液の吐出が停止され，ウェハＷの回転速度が，例えば４０００ｒｐｍに増大される。これによって，ウェハＷ上の洗浄液が振り切られ，ウェハＷが乾燥される。当該乾燥が所定時間行われた後，ウェハＷの回転が停止され，乾燥処理が終了される。
【００６９】
その後，ウェハＷは昇降ピン７３によって再びカップ７５上端部上方まで上昇される。そして，ウェハＷは搬入時と同様にして主搬送装置１３に受け渡され，フレーム１５外に搬出されて，一連の現像処理が終了する。
【００７０】
次に，カップ７５の洗浄等のメンテナンスを行う際の現像処理装置１８の作用について説明する。先ず，留め具８１を排気ダクト３６の接続端部３６ａから取り外して，排気管８０の接続端部８０ａと排気ダクト３６の接続端部３６ａとの接続を解除する。これによってカップ収容部７０が自由に移動できるようになる。次に，カップ収容部７０をレール１０７に沿ってＸ方向正方向に移動させ，図１１に示すようにフレーム１５外に引き出す。そして，カップ７５や現像液供給ノズル９０，９１等がカップ収容部７０から取り外され，カップ７５の洗浄等のメンテナンスが行われる。
【００７１】
その後，カップ７５の洗浄等が終了すると，再びレール１０７に沿ってカップ収容部７０をＸ方向負方向に移動させ，フレーム１５内に収容する。そして，留め具８１によって排気管８０と排気ダクト３６とを固定し，排気ルートを確保して，メンテナンスが終了する。
【００７２】
以上の実施の形態によれば，カップ収容部７０をフレーム１５から引き出し可能にしたため，メンテナンス時にカップ収容部７０を引き出し，メンテナンスのためのスペースを確保することができる。特に本実施の形態のように現像処理装置１８，１９を多段に配置した場合においても，カップ収容部７０を引き出し，メンテナンス作業を好適に行うことができる。
【００７３】
また，排気管８０と排気ダクト３６を着脱可能にし，エア供給装置８７をフレーム１５に取り付けたため，配管系の多い現像処理装置１８においても，カップ収容部７０の移動を可能にした。特に排気管８０の接続端部８０ａと排気ダクト３６の接続端部３６ａを斜めに形成したため，カップ収容部７０の移動方向に対する着脱が好適に行われる。
【００７４】
カップ側部７６が上下動可能に設けられたため，現像液供給ノズル９０がウェハＷ上に移動する際にカップ側部７６を下降させることができるので，現像液供給ノズル９０がカップ７５を回避して上昇する距離が短くて済み，現像処理装置１８全体の薄型化を図ることができる。
【００７５】
また，現像液供給ノズル９０，９１をそれぞれカップ収容部７０の異なる両側部に待機可能にしたため，現像液供給ノズル９０，９１双方を移動させるためのレールが一本で足りる。これによって，高さの異なる二本のレールを設ける必要が無く，その分現像処理装置１８の高さを抑えることができるので，現像処理装置１８の薄型化が図られれる。
【００７６】
さらに，現像液供給ノズル９０，９１をカップ収容部７０のＹ方向の両側部に設けたことに伴って，洗浄液供給ノズル１００をカップ収容部７０のＸ方向の側部に設けるようにしたため，洗浄液を供給する配管と現像液を供給する配管との干渉を防止することができる。
【００７７】
ウェハＷの昇降を昇降ピン７３を用いて行うようにしたため，スピンチャック７１と駆動機構７２とを合わせた全体を昇降させていた従来に比べて，昇降の際の上下方向のスペースを確保する必要が無くなり，その分カップ収容部７０の高さを制限することができるため，現像処理装置１８の薄型化が図られる。
【００７８】
フレーム１５内の各液処理装置に接続された供給ダクト３０〜３３及び排気ダクト３４〜３７をそれぞれ異なる面に集約させて設けたので，本実施の形態のように現像処理装置１８，１９及びレジスト塗布装置１６，１７を多段に配置した場合においても，複数の供給ダクト及び排気ダクトの配置が単純化され，ダクトの設置の容易化，ダクトと他の配管との干渉等の防止が図られれる。
【００７９】
前記実施の形態では，排気ダクト３６の接続端部３６ａと排気管８０の接続端部８０ａとの形状を斜めにしたが，他の形状であってもよい。例えば，図１２に示すように排気管１１０の接続端部１１０ａの平面から見てＸ方向正方向側（図１２の下側）を凸状に突出させる。一方，排気ダクト１１１の接続端部１１１ａのＸ方向負方向側を，接続端部１１０ａに適合するように凸状に突出させる。接続端部１１０ａの凸部と接続端部１１１ａの凸部を着脱自在とする留め具１１２を設ける。これによっても，カップ収容部７０をＸ方向に移動させ，フレーム１５内からカップ収容部７０を引き出し又は押し込む際に排気管１１０と排気ダクト１１１とを好適に接続，分離することができる。
【００８０】
さらに排気ダクト３６の接続端部と排気管８０の接続端部との接続方式は図１３，１４に示した例も提案できる。
【００８１】
この例では，排気管８０の先端部を先細りのテーパ形状となし，引出方向とは逆の方向に突出した接続端部８０ｂを有している。一方排気ダクト３６の接続端部は，前記引出方向側に開口した挿入口３６ｂとして形成されている。また挿入口３６ｂの内壁表面には，気密性を向上させるためスポンジ材１２１が設けられている。
【００８２】
このような例に従えば，カップ収容部７０を手前に引き出すだけで排気管８０と排気ダクト３６との分離が簡単に行える。また排気管８０と排気ダクト３６を接続する場合でも，カップ収容部７０を押し込むだけで排気管８０の先端部の接続端部８０ｂが排気ダクト３６の挿入口３６ｂに挿入され，簡単に接続作業が完了する。このとき排気管８０の先端部は，先細りのテーパ形状であって，その端部に挿入口３６ｂが形成されているので，挿入口３６ｂ内に確実に排気管８０の接続端部８０ｂを挿入して接続することができる。
【００８３】
しかも挿入口３６ｂの内壁表面にはスポンジ材１２１が設けられているから，気密性は確保されている。スポンジ材に代えて各種のシール材，例えば弾力性のある物質等を用いてもよい。
【００８４】
また，以上の実施の形態では，排気管や排気ダクトは，断面が丸形の円形ダクトを使用していたが，断面が四角形状の角ダクトを使用してよい。特に，角ダクトを使用した場合には，上述した凸状の接続端部１１０ａ及び接続端部１１１ａの方が成形しやすいメリットがある。
【００８５】
以上の実施の形態は，現像処理装置１８として具体化されたものであったが，他の液処理装置，例えばレジスト塗布装置１６，１７，２１又は２２，現像処理装置１９，２３又は２４についても応用できる。また，当該現像処理装置１９，２３，２４及びレジスト塗布装置１６，１７，２１又は２２の全部について適用してもよいし，その中の任意のものにのみ適用してもよい。
【００８６】
また，以上で説明した実施の形態は，半導体ウェハデバイス製造プロセスのフォトリソグラフィー工程におけるウェハの現像処理装置であったが，本発明は半導体ウェハ以外の基板，例えばＬＣＤ基板の液処理装置においても応用できる。
【００８７】
【発明の効果】
本発明では，液処理装置を多段に配置した場合であってもメンテナンスを行うための作業スペースを十分に確保することができるので，液処理装置のメンテナンス作業をより効率的に，容易に行うことができる。
【００８８】
また本発明によれば，液処理装置の薄型化が図られるので，液処理装置をより多く積層することができるので，低フットプリント化が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態にかかる現像処理装置を有する塗布現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図２】図１の塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１の塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】フレームに取り付けられた供給ダクトの配置例を示す斜視図である。
【図５】フレームに取り付けられた排気ダクトの配置例を示す斜視図である。
【図６】本実施の形態にかかる現像処理装置の縦断面の説明図である。
【図７】図４の現像処理装置の横断面の説明図である。
【図８】排気管と排気ダクトの接続部を平面から見た場合の説明図である
【図９】現像処理装置で用いられる現像液供給ノズルの斜視図である。
【図１０】現像処理装置の概略を示す斜視図である。
【図１１】カップ収容部を引き出した状態を示す現像処理装置の平面図である。
【図１２】排気管と排気ダクトの接続部の他の構成例を示す説明図である。
【図１３】他の例においてカップ収容部を引き出した状態を示す現像処理装置の平面図である。
【図１４】図１３の例における排気管と排気ダクトの接続部の接続態を示す説明図である。
【符号の説明】
１ 塗布現像処理システム
１５ フレーム
１８ 現像処理装置
３２ 供給ダクト
３６ 排気ダクト
７０ カップ収容部
７１ スピンチャック
７５ カップ
８０ 排気管
１０５ 基台
１０７ レール
Ｗ ウェハ
Claims (11)
- 収納容器内において，基板に処理液を供給して当該基板を処理する液処理装置であって，
前記収納容器を搭載するフレームを有し，
前記収納容器は，前記フレームから所定方向に引き出し自在に構成され，
前記収納容器に接続され，前記収納容器内の雰囲気を排気する排気管と，
前記フレーム外に前記雰囲気を排気する排気ダクトとを有し，
前記排気ダクトの接続端部は，前記排気管の接続端部と接続，分離自在に構成され，
前記所定方向は水平方向であり，
前記排気ダクトの接続端部は，前記所定方向に対して直角方向のフレームの側部に設けられており，
前記排気ダクトの接続端部は，平面から見て前記所定方向と逆方向側が前記排気管の接続端部側に突出するように形成されており，
前記排気管の接続端部は，前記排気ダクトの接続端部と適合するように，平面から見て前記所定方向側が前記排気ダクトの接続端部側に突出するように形成されていることを特徴とする，液処理装置。 - 前記排気ダクトの接続端部と前記排気管の接続端部は，平面から見て斜めに形成されていることを特徴とする，請求項１に記載の液処理装置。
- 前記フレームには，前記収納容器内に気体を供給するための供給ダクトが取り付けられており，
前記供給ダクトは，前記収納容器内に前記気体を供給する気体供給部に接続されており，
前記気体供給部は，前記フレームに取り付けられていることを特徴とする，請求項１又は２のいずれかに記載の液処理装置。 - 前記供給ダクトは，前記所定方向以外の前記フレームの側面に取り付けられていることを特徴とする，請求項３に記載の液処理装置。
- 前記収納容器が前記フレームに垂直方向に多段に搭載されており，
前記各収納容器に接続された各供給ダクトは，集約されて前記フレームの側面に沿って垂直方向に設けられていることを特徴とする，請求項４に記載の液処理装置。 - 前記フレームには，レールが前記所定方向に沿って設けられており，前記収納容器は，前記レールに沿って移動可能に構成されていることを特徴とする，請求項１〜５のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記収納容器内には，基板を昇降させる昇降ピンが設けられていることを特徴とする，請求項１〜６のいずれかに記載の液処理装置。
- 前記収納容器内には，基板の外周を囲む処理容器が設けられており，
前記処理容器を昇降させる昇降機構を有することを特徴とする，請求項１〜７のいずれかに記載の液処理装置。 - 前記液処理装置は，基板を現像処理する現像処理装置であって，
前記収納容器は，平面から見て四角形状に形成されており，
前記基板に現像液を供給する複数の現像液供給部と，
前記現像液供給部を洗浄する洗浄槽とを有し，
前記複数の現像液供給部は，前記収納容器の四角形状に沿った一の方向に伸びる同一レール上で移動自在に構成されており，
前記洗浄槽は，前記一の方向の前記収納容器の両側部に設けられていることを特徴とする，請求項１〜８のいずれかに記載の液処理装置。 - 前記一の方向は，前記所定方向に対して直角方向であることを特徴とする，請求項９に記載の液処理装置。
- 基板に洗浄液を供給する洗浄液供給装置を有し，
前記洗浄液供給装置は，前記一の方向と直角方向をなす他の方向に移動自在に構成されていることを特徴とする，請求項９又は１０のいずれかに記載の液処理装置。
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