JP4994501B2 - 半導体ウエハの洗浄方法及び装置 - Google Patents
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Description
2.HF:H2O:1:(50〜1000),温度範囲:20〜25℃
3.NH4OH:H2O2:H2O=1:(1〜2):(5〜100),温度範囲:25〜70℃
4.HCl:H2O2:H2O=1:1:(5〜100),温度範囲:25〜75℃
洗浄液の純度を高度に保つためには、洗浄液は部分的に再利用又は再生するのが好ましい。概して、使用された洗浄液の第1の部分が再利用又は再生される。洗浄液の一部を再利用及び再生する作業工程は、洗浄サイクルが僅かに異なっている点を除き、上述した工程と同様である。この状態の下でIthの洗浄液を用いる洗浄サイクルは、次の工程を含む。
図の1Eに示すように、洗浄液の廃棄又は再利用は、三方切替バルブ1015によって制御することができる。この場合、トレイ1008は、1つの受容器1014の上に留まって、洗浄液を廃棄するか再利用するかいずれかが決定され、バルブ1015はその経路に開かれる。ここで、廃棄するIthの洗浄液を集める受容器と、Ithの洗浄液を集めて再利用する受容器とは同じでも異なっていてもよい点は注目されるべきである。
Claims (17)
- 半導体基材の表面を洗浄及び調整するための装置であって、
半導体基材を支持するチャックと、
前記チャックを軸回りに回転駆動する第1の回転手段と、
チャンバー本体と、
洗浄液を噴出する少なくとも1つのノズルと、
少なくとも1つのドレン排出口を有する内部トレイと、
少なくとも1つのドレン排出口を有する外部収集体と、
洗浄液を分離して、前記内部トレイ又は前記外部収集体に当該洗浄液を導く可動のシュラウドと、
前記内部トレイを軸回りに回転駆動する第2の回転手段と、
前記内部トレイの下方に配置される、少なくとも1つの洗浄液の受容器と、
を備え、
前記洗浄液の受容器は、前記内部トレイを回転することによって前記内部トレイの前記ドレン排出口と直線状に並ばせることができる、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記シュラウドが、前記内部トレイの上方に配置され、アクチュエータによって垂直方向に上下する、装置。 - 請求項2に記載の装置において、
前記シュラウドが、セラミクス、テフロン(登録商標)、Peek、PVDFのいずれか1つから形成されている、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
更に、前記内部トレイを、前記半導体基材を搬入又は搬出する前記チャックの第1の位置に下降させ、洗浄又は調整工程を実行する第2の位置に上昇させる駆動手段を備える、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記内部トレイが、セラミクス、テフロン(登録商標)、Peek、PVDFのいずれか1つから形成されている、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記チャックは、垂直に移動するディスクを有し、
前記ディスクは、前記半導体基材を搬入又は搬出する第1の位置に移動し、そして、前記半導体基材を前記チャックに載置する第2の位置に移動する、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記半導体基材を搬入又は搬出する第1の位置と、洗浄又は調整工程を実行する第2の位置とに、前記チャックを移動させる垂直方向の移動機構を備える、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記内部トレイが、その表面から使用された洗浄液を取り除く少なくとも1つの窒素ノズルを備えている、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記内部トレイが、内側の環状羽根部と、外側の環状羽根部とを有している、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記ドレン排出口を開閉するために、前記内部トレイの前記ドレン排出口の下に配置された空気で膨張するシールを備える、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
ドレン排出口と受容器の間に配置された空気で膨張するドーナツ形状のシールを備える、装置。 - 請求項11に記載の装置において、
前記ドレン排出口が、使用された洗浄水を前記内部トレイから吸引するポンプを備える、装置。 - 請求項12に記載の装置において、
前記ポンプが、加圧ガス駆動のVenturaポンプである、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記内部トレイの外側に前記外部収集体が配置されている、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記内部トレイ及び前記外部収集体の一部の上方に前記可動のシュラウドが配置されている、装置。 - 請求項1に記載の装置において、
前記外部収集体は、可動の収集体であり、前記内部トレイの外側に配置されたアクチュエータによって駆動され、
前記アクチュエータは、前記外部収集体を、前記半導体基材を搬入又は搬出する前記チャックの第1の位置へ降下させ、前記半導体基材を洗浄又は調整する間は第2の位置に上昇させる、装置。 - 請求項16に記載の装置において、
使用した洗浄液を前記外部収集体に導き、そして、使用された洗浄液が前記内部トレイのドレン排出口に流入するのを防ぐために、前記シュラウドを備える、装置。
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