JP2002280296A - 液処理装置 - Google Patents

液処理装置

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JP2002280296A JP2001347139A JP2001347139A JP2002280296A JP 2002280296 A JP2002280296 A JP 2002280296A JP 2001347139 A JP2001347139 A JP 2001347139A JP 2001347139 A JP2001347139 A JP 2001347139A JP 2002280296 A JP2002280296 A JP 2002280296A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像処理装置を多段に重ねて設けた場合にお
いてもメンテナンスを好適に行えるようにする。 【解決手段】 フレーム１５内に，Ｘ方向に沿ってレー
ル１０７を設ける。フレーム１５内に搭載されたカップ
収容部７０の下方に基台を設け，カップ収容部７０を基
台上に固定する。基台は，レール１０７上に移動自在に
設けられる。カップ収容部７０内の雰囲気を排気する排
気管８０と当該雰囲気を塗布現像処理システム外に排気
する排気ダクト３６を着脱自在にする。これによって，
カップ収容部７０が排気管８０等に拘束されずにフレー
ム１５から引き出し自在となり，メンテナンスを好適に
行うことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，基板の液処理装置
に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば半導体デバイスの製造プロセスに
おけるフォトリソグラフィー工程では，ウェハ表面にレ
ジスト膜を形成するレジスト塗布処理，ウェハにパター
ンを照射して露光する露光処理，露光後のウェハに対し
て現像を行う現像処理，塗布処理前，露光処理前後及び
現像処理後の加熱処理，冷却処理等が行われ，これらの
一連の処理は，塗布現像処理システム内に設けられた各
種処理装置において行わている。
【０００３】近年，塗布現像処理システムの処理能力の
向上が望まれており，より多くのウェハを並行処理する
ために，一台の塗布現像処理システム内に上述したレジ
スト塗布処理を行うレジスト塗布装置や現像処理を行う
現像処理装置をより多く設けることが必要になってきて
いる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら，当該レ
ジスト塗布装置等を多数設けると，塗布現像処理システ
ムが大型化し，フットプリントが増大することが懸念さ
れる。
【０００５】そこで，かかる低フットプリント化を考慮
し，レジスト塗布装置や現像処理装置を薄型化して，当
該現像処理装置等を従来より多い３段以上に重ねて設け
ることが提案される。
【０００６】しかし，高さ制限のある塗布現像処理シス
テムに，当該装置を多段に設けると，各装置間の隙間が
狭くなり，当該装置のメンテナンスができなくなる。ま
た，メンテナンスができたとしても当該作業が非常に困
難になる。特にレジスト塗布装置や現像処理装置は，現
像液等の処理液を使用するため，装置内が汚染されやす
く，頻繁に洗浄等のメンテナンスをする必要があり，現
像処理装置等を多段に重ねて設けるにあたり大きな障害
となる。
【０００７】本発明は，かかる点に鑑みてなされたもの
であり，レジスト塗布装置や現像処理装置等の液処理装
置を多段に重ねて設けた場合においてもメンテナンスを
好適に行うことのできる液処理装置を提供することをそ
の目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明におい
て，収納容器内において，基板に処理液を供給して当該
基板を処理する液処理装置であって，前記収納容器を搭
載するフレームを有し，前記収納容器は，前記フレーム
から所定方向に引き出し自在に構成されていることを特
徴とする液処理装置が提供される。
【０００９】このように，収納容器を引き出し自在にす
ることによって，メンテナンス時に収納容器をフレーム
から引き出し，当該メンテナンスを行うための作業スペ
ースを十分に確保することができるので，当該メンテナ
ンス作業を好適に行うことができる。
【００１０】かかる請求項１の発明において，請求項２
のように前記フレームには，レールが前記所定方向に沿
って設けられており，前記収納容器は，前記レールに沿
って移動可能に構成されているようにしてもよい。この
ように，前記所定方向，すなわち引き出す方向に沿った
レールをフレームに設けることによって，収納容器の所
定方向の引き出しを好適に行うことができる。また，収
納容器が固定されたレール上を移動するので，メンテナ
ンスが終了して収納容器を再びフレーム内に搭載すると
きの位置ずれを防止することができる。
【００１１】かかる請求項１又は２の液処理装置におい
て，請求項３に記載したように前記フレームには，前記
収納容器内に気体を供給するための供給ダクトが取り付
けられており，前記供給ダクトは，前記収納容器内に前
記気体を供給する気体供給部に接続されており，前記気
体供給部は，前記フレームに取り付けられるようにして
もよい。このように，供給ダクトと気体供給部をフレー
ム側に取り付けることにより，収納容器をフレームから
引き出す際に，収納容器からその都度切り離す必要が無
く，上述した収納容器の引き出しを好適に行うことがで
きる。
【００１２】この請求項３の液処理装置において，請求
項４のように前記供給ダクトが，前記所定方向以外の前
記フレームの側面に取り付けられていてもよい。このよ
うに，供給ダクトを前記所定方向，すなわち引き出し方
向以外のフレーム側面に取り付けることによって，収納
容器の前記所定方向の移動を妨げる事がなくなり，収納
容器の引き出しが好適に行われる。
【００１３】この請求項４の液処理装置において，請求
項５のように前記収納容器が前記フレームに垂直方向に
多段に搭載されており，前記各収納容器に接続された各
供給ダクトは，集約されて前記フレームの側面に沿って
垂直方向に設けられるようにしてもよい。このように，
収納容器が多段に搭載されている場合に，前記各供給ダ
クトを引き出し方向以外のフレーム側面に沿って設け，
それらを集約して設けることによって，各供給ダクトが
収納容器の引き出しを妨げることが無くなり，また各供
給ダクトの配管設計を単純化できる。なお，各供給ダク
トを集約するとは，各供給ダクトを一箇所に集合させて
設ける場合のみならず，各供給ダクトに気体を供給する
ための統一した一の供給ダクトを設ける場合をも含む。
【００１４】これらの各液処理装置において，請求項６
のように前記収納容器に接続され，前記収納容器内の雰
囲気を排気する排気管と，前記フレーム外に前記雰囲気
を排気する排気ダクトとを有し，前記排気ダクトの接続
端部は，前記排気管の接続端部と接続，分離自在に構成
されるようにしてもよい。このように，収納容器に接続
された排気管と，当該排気管からの雰囲気をフレーム外
に排気するための排気ダクトを接続，分離自在にするこ
とによって，収納容器を引き出す際に排気管と排気ダク
トとを切り離し，当該排気ダクトによって収納容器の移
動が制限されることを防止できる。従って，収納容器の
引き出しが適切に行われ，メンテナンス作業が好適に行
われる。
【００１５】かかる請求項６の発明において，請求項７
のように前記所定方向は水平方向であり，前記排気ダク
トの接続端部は，前記所定方向に対して直角方向のフレ
ームの側部に設けられており，前記排気ダクトの接続端
部は，平面から見て前記所定方向と逆方向側が前記排気
管の接続端部側に突出するように形成されており，前記
排気管の接続端部は，前記排気ダクトの接続端部と適合
するように，平面から見て前記所定方向側が前記排気ダ
クトの接続端部側に突出するように形成されていてもよ
い。このように，排気管の接続端部の前記所定方向，す
なわち引き出し方向側を排気ダクト側に突出させた形状
にし，排気ダクトの接続端部の前記逆方向側を排気管側
に突出させた形状にすることによって，収納容器を引き
出す方向に移動させた際に，排気管の接続端部と排気ダ
クトの接続端部との余計な接触が防止され，当該接続部
の接続，切り離しを好適に行うことができる。
【００１６】また，この請求項７における前記排気ダク
トの接続端部と前記排気管の接続端部が，請求項８のよ
うに平面から見て斜めに形成されていてもよい。
【００１７】また前記排気ダクトの接続端部は，前記所
定方向に対して直角方向のフレームの側部に設けられて
おり，前記排気ダクトの接続端部は，平面から見て前記
所定方向側に開口した挿入口であり， 前記排気管の接
続端部は，前記排気ダクトの挿入口に挿入可能な，平面
から見て前記所定方向とは逆側に突出した形状としても
よい。かかる構成によれば，排気ダクトと排気管との接
続，分離がさらに簡易，迅速に行える。
【００１８】この場合，排気管の接続端部は，先細りと
なるテーパ形状とすれば，確実に挿入口内に排気管の接
続端部を挿入して接続をおこなうことができる。また前
記挿入口の内壁表面に機密性を確保するシール材やスポ
ンジ材を設ければ，より気密性の高い接続が行える。
【００１９】これらの液処理装置において，請求項１３
のように前記収納容器が前記フレームに垂直方向に多段
に搭載されており，前記収納容器の各排気管に接続され
る各排気ダクトは，集約されて前記所定方向以外の前記
フレームの側面に沿って垂直方向に設けられていてもよ
い。このように，収納容器が多段に搭載されている場合
に，前記各排気ダクトを引き出し方向以外のフレーム側
面に沿って設け，それらを集約して設けることによっ
て，各排気ダクトが収納容器の引き出しを妨げることが
無くなり，また各排気ダクトの配管設計を単純化でき
る。なお，各排気ダクトを集約するとは，各排気ダクト
を一箇所に集合させて設ける場合のみならず，各排気管
からの雰囲気をまとめて排気する統一した一の排気ダク
トを設ける場合をも含む。
【００２０】上述した請求項１〜１３の各液処理装置に
おいて，請求項１４のように前記収納容器内には，基板
を昇降可能とする昇降ピンが設けられているようにして
もよい。このように，昇降ピンを設けることによって，
従来のように比較的上下方向に長さがあり，移動するの
ためにスペースが必要なスピンチャック等によって基板
を昇降する必要がなく，上下方向にスペースを取らない
昇降ピンによって基板の昇降を行うことができる。これ
によって，収納容器の上下方向の薄型化が図られ，メン
テナンスのためのスペースが確保される。また，高さの
限られたスペースにおいてもより多くの収納容器を積層
することができ，液処理装置の低フットプリント化が図
られる。
【００２１】また，以上で記載した各液処理装置におい
て，前記収納容器内には，基板の外周を囲む処理容器が
設けられており，前記処理容器を昇降可能とする昇降機
構を有するようにしてもよい。このように処理容器を昇
降可能とする昇降機構を設けることによって，例えば基
板に処理液を供給する供給ノズルが前記処理容器外から
処理容器内に移動する際に，当該処理容器を下降させる
ことができるので，その分前記処理容器を回避するため
に必要な供給ノズルの上昇距離が短くて済む。したがっ
て，収納容器全体の上下方向の薄型化が図られ，その分
メンテナンスのためのスペースが確保される。なお，前
記処理容器を昇降可能とするとは，処理容器全体が昇降
する場合のみならず，処理容器の一部が昇降する場合を
も含む。
【００２２】さらに上述の各液処理装置において，前記
液処理装置が，基板を現像処理する現像処理装置の場
合，前記収納容器は，平面から見て四角形状に形成され
ており，前記基板に現像液を供給する複数の現像液供給
部と，前記現像液供給部を洗浄する洗浄槽とを有し，前
記複数の現像液供給部は，前記収納容器の四角形状に沿
った一の方向に伸びる同一レール上で移動自在に構成さ
れており，前記洗浄槽は，前記一の方向の前記収納容器
の両側部に設けられるようにしてもい。
【００２３】このように，現像液供給部を複数備える場
合に，当該現像液供給部を同一レール上に設けることに
よって，各現像液供給部を同一水平面上に位置させるこ
とができる。また，当該現像液供給部の洗浄槽を前記収
納容器の両側部に設けることによって，各現像液供給部
の待機位置が洗浄槽のある収納容器の両端部に振り分け
られ，一の現像液供給部が使用されている際に，他の現
像液供給部が一の現像液供給部の移動を妨げない遠方の
洗浄槽で待機することができる。したがって，現像液供
給部同士の干渉が防止されつつ，現像液を適切に供給す
ることができる。これによって，従来のように高さの異
なる複数のレールに現像処理装置を設ける必要がないの
で，その分収納容器の高さを制限することができ，収納
容器の薄型化が図られる。
【００２４】この場合，さらに前記一の方向が，前記所
定方向に対して直角方向であってもよい。このように，
現像液供給部のレールを引き出し方向と直角方向に備え
ることによって，複数の現像液供給部に現像液を供給す
るための配管を引き出し方向に伸びるように設け，収納
容器の引き出しの際に，配管が収納容器の移動を妨げた
り，配管同士が干渉し合わないないように前記配管を配
置することができる。
【００２５】上述の液処理装置において，基板に洗浄液
を供給する洗浄液供給装置を有し，前記洗浄液供給装置
は，前記一の方向と直角方向をなす他の方向に移動自在
に構成されていてもよい。このように，洗浄液供給装置
を前記他の方向に移動自在に設けることによって，上述
した現像液供給部との干渉を避けるために現像液供給部
と高さを違える必要が無くなるため，その分収納容器の
高さを制限できる。従って，収納容器の薄型化が図ら
れ，メンテナンスのスペースがより多く確保される。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下，本発明の好ましい実施の形
態について説明する。図１は，本発明にかかる現像処理
装置を有する塗布現像処理システム１の概略を示す平面
図であり，図２は，塗布現像処理システム１の正面図で
あり，図３は，塗布現像処理システム１の背面図であ
る。
【００２７】塗布現像処理システム１は，図１に示すよ
うに，例えば２５枚のウェハＷをカセット単位で外部か
ら塗布現像処理システム１に対して搬入出したり，カセ
ットＣに対してウェハＷを搬入出したりするカセットス
テーション２と，塗布現像処理工程の中で枚葉式に所定
の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理ステ
ーション３と，この処理ステーション３に隣接して設け
られている図示しない露光装置との間でウェハＷの受け
渡しをするインターフェイス部４とを一体に接続した構
成を有している。
【００２８】カセットステーション２では，載置部とな
るカセット載置台５上の所定の位置に，複数のカセット
ＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置自在とな
っている。そして，このカセット配列方向（Ｘ方向）と
カセットＣに収容されたウェハＷのウェハ配列方向（Ｚ
方向；鉛直方向）に対して移送可能なウェハ搬送体７が
搬送路８に沿って移動自在に設けられており，各カセッ
トＣに対して選択的にアクセスできるようになってい
る。
【００２９】ウェハ搬送体７は，ウェハＷの位置合わせ
を行うアライメント機能を備えている。このウェハ搬送
体７は後述するように処理ステーション３側の第３の処
理装置群G３に属するエクステンション装置４２に対し
てもアクセスできるように構成されている。
【００３０】処理ステーション３では，その中心部に主
搬送装置１３が設けられており，この主搬送装置１３の
周辺には各種処理装置が多段に配置されて処理装置群を
構成している。該塗布現像処理システム１においては，
４つの処理装置群G1，G2，G3，G4が配置されており，第
１及び第２の処理装置群G1，G2は塗布現像処理システム
１の正面側に配置され，第３の処理装置群G3は，カセッ
トステーション２に隣接して配置され，第４の処理装置
群G4は，インターフェイス部４に隣接して配置されてい
る。さらにオプションとして破線で示した第５の処理装
置群G5を背面側に別途配置可能となっている。前記主搬
送装置１３は，これらの処理装置群Ｇ１，Ｇ２，Ｇ３，
Ｇ４に配置されている後述する各種処理装置に対して，
ウェハＷを搬入出可能である。なお，処理装置群の数や
配置は，ウェハＷに施される処理の種類によって異な
り，処理装置群の数は，１以上であれば４つで無くても
よい。
【００３１】第１の処理装置群G1には，図２に示すよう
に上下方向に長い略直方体の枠形状で，上下方向に複数
の部屋を有するように区画されたフレーム１５が設けら
れており，フレーム１５内には，複数の処理装置を多段
に配置できるようになっている。当該フレーム１５内に
は，ウェハＷにレジスト液を供給し，レジスト膜を形成
するレジスト塗布装置１６，１７と，本実施の形態にか
かる液処理装置としての現像処理装置１８，１９とが下
から順に４段に重ねられて設けられている。処理装置群
G2の場合も同様に，フレーム２０内には，レジスト塗布
装置２１，２２と，現像処理装置２３，２４とが下から
順に４段に積み重ねられている。
【００３２】フレーム１５のＹ方向正方向側（図１の右
方向）の側面には，図４に示すように処理装置群Ｇ１の
各処理装置，すなわちレジスト塗布装置１６，１７及び
現像処理装置１８，１９に所定の温湿度に調節されたエ
アを供給するための供給ダクト３０，３１，３２，３３
が集約されて設けられている。各供給ダクト３０〜３３
は，当該各処理装置の後述する各エア供給部に接続され
ており，当該各エア供給部からフレーム１５の側面に沿
って上方に向かって設けられており，図示しない上方の
エア供給源からのエアを当該各処理装置内に供給できる
ようになっている。
【００３３】また，フレーム１５のＹ方向負方向側（図
１の左方向）の側面には，図５に示すように処理装置群
Ｇ１の各処理装置，すなわちレジスト塗布装置１６，１
７及び現像処理装置１８，１９内の雰囲気を排気するた
めの排気ダクト３４，３５，３６，３７が集約されて設
けられている。これらの排気ダクト３４〜３７は，それ
ぞれ後述する当該各処理装置の各排気管に接続されてお
り，当該各排気管からフレーム１５の側面に沿ってフレ
ーム１５の下方に向かって設けられており，当該各処理
装置からの雰囲気をフレーム１５から塗布現像処理シス
テム１外に排気できるようになっている。
【００３４】第３の処理装置群G3では，例えば図３に示
すように，ウェハＷを冷却処理するクーリング装置４
０，レジスト液とウェハＷとの定着性を高めるためのア
ドヒージョン装置４１，ウェハＷを待機させるエクステ
ンション装置４２，レジスト液中の溶剤を乾燥させるプ
リベーキング装置４３，４４及び現像処理後の加熱処理
を施すポストベーキング装置４５，４６等が下から順に
例えば７段に重ねられている。
【００３５】第４の処理装置群G4では，例えばクーリン
グ装置５０，載置したウェハＷを自然冷却させるエクス
テンション・クーリング装置５１，エクステンション装
置５２，クーリング装置５３，露光後の加熱処理を行う
ポストエクスポージャーベーキング装置５４，５５，ポ
ストベーキング装置５６，５７等が下から順に例えば８
段に積み重ねられている。
【００３６】インターフェイス部４の中央部にはウェハ
搬送体６０が設けられている。このウェハ搬送体６０は
Ｘ方向（図１中の上下方向），Ｚ方向（垂直方向）の移
動とθ方向（Ｚ軸を中心とする回転方向）の回転が自在
にできるように構成されており，第４の処理装置群G4に
属するエクステンション・クーリング装置５１，エクス
テンション装置５２，周辺露光装置６１及び図示しない
露光装置に対してアクセスして，各々に対してウェハＷ
を搬送できるように構成されている。
【００３７】次に，上述した現像処理装置１８の構成に
ついて詳しく説明する。図６は，現像処理装置１８の概
略を示す縦断面の説明図であり，図７は，現像処理装置
１８の横断面の説明図である。
【００３８】現像処理装置１８は，図６，図７に示すよ
うにフレーム１５内に，上面が開口した箱状の収納容器
としてのカップ収容部７０を有している。当該カップ収
容部７０内の中央部には，水平かつ円形状に形成された
上面部７１ａを有するスピンチャック７１が設けられて
おり，ウェハＷを水平に載置可能に構成されている。当
該スピンチャック７１には，例えばその上面部７１ａに
図示しない吸引口が設けられており，ウェハＷを吸着保
持できるようになっている。
【００３９】スピンチャック７１の下方には，当該スピ
ンチャック７１等を駆動させる駆動機構７２が設けられ
ている。当該駆動機構７２は，スピンチャック７１を回
転可能とするモータ等を備えた図示しない回転駆動部
と，後述する昇降ピン７３を昇降可能とするシリンダ等
を備えた図示しない昇降駆動部とを有している。駆動機
構７２の回転駆動部によって，スピンチャック７１に保
持されたウェハＷを所定の回転速度で回転できるように
なっている。
【００４０】また，当該スピンチャック７１の上面部７
１ａの周辺部は，ウェハＷを支持し，昇降させるための
複数の昇降ピン７３が設けられている。当該昇降ピン７
３は，上述したように駆動機構７２によって所定の高さ
に昇降可能に構成されており，スピンチャック７１の上
面部７１ａに設けられた図示しない貫通孔内を上下方向
に移動して，ウェハＷをスピンチャック７１上方の所定
位置に配置したり，スピンチャック７１上に載置したり
できるようになっている。
【００４１】スピンチャック７１の外周外方には，当該
スピンチャック７１を取り囲むようにして，上面が開口
した略筒状の処理容器としてのカップ７５が設けられて
おり，ウェハＷが回転された際に飛散する現像液等を受
け止め，現像処理装置１８内の汚染を抑制できるように
なっている。カップ７５は，主に飛散した現像液等を受
け止めるカップ側部７６と，当該受け止めた現像液等を
回収するカップ底部７７とを有している。
【００４２】カップ側部７６には，カップ側部７６のみ
を上下動させる昇降機構７８が取り付けられており，必
要に応じてカップ側部７６を昇降させることができるよ
うになっている。
【００４３】カップ底部７７は，斜めに傾斜されて設け
られており，その低い部分には，カップ側部７６で回収
した現像液等を排液するドレイン管７９が設けられてい
る。また，カップ底部７７には，カップ７５内からフレ
ーム１５のＹ方向負方向（図６の右方向）側の側部まで
延伸する排気管８０が設けられている。当該排気管８０
は，上述した排気ダクト３６に接続されており，カップ
収容部７０内の雰囲気を排気ダクト３６を通じて，塗布
現像処理システム１外に排気できるようになっている。
【００４４】排気ダクト３６は，図８に示すように排気
ダクト３６の接続端部３６ａと排気管８０の接続端部８
０ａとを着脱自在にする留め具８１を有している。留め
具８１は，例えばその一端８１ａが排気管８０の接続端
部８０ａ側に固定されて設けられており，留め具８１の
他端８１ｂは，排気ダクト３６の接続端部３６ａに着脱
自在になっている。これによって，排気ダクト３６と排
気管８０とを接続する際に，留め具８１の他端８１ｂを
接続端部３６ａに係止させることで，排気ダクト３６の
接続端部３６ａと排気管８０の接続端部８０ａとの接続
状態を維持できる。
【００４５】排気管８０の接続端部８０ａは，平面から
見て当該接続端部８０ａの所定方向としてのＸ方向正方
向側（図８の下側）が排気ダクト３６側に突出するよう
に斜めに形成されており，一方排気ダクト３６の接続端
部３６ａは，当該排気管８０の接続端部８０ａに適合す
るように，当該接続端部３６ａのＸ方向負方向側が排気
管８０側に突出して斜めに形成されている。これによっ
て，カップ収容部７０をＸ方向正方向，すなわち引き出
す方向に移動させることで，排気管８０と排気ダクト３
６とを分離し，逆にカップ収容部７０をＸ方向負方向，
すなわち押し込む方向に移動させることで，排気管８０
と排気ダクト３６とを接続することができる。
【００４６】カップ側部７６の下端部とカップ底部７７
との間には，図６に示すように隙間８２が設けられてお
り，上方から一旦カップ７５外に流れた気体を当該隙間
８２からカップ７５内に取り入れ，排気管８０から排気
できるように構成されている。また，当該隙間８２は，
上述したカップ側部７６の上下動によって，その広狭が
調節できるようになっており，必要に応じて当該隙間８
２を変動させ，隙間８２を流れる気体の流量を調節でき
るようになっている。
【００４７】カップ７５の外周外方には，カップ７５と
カップ収容部７０との隙間を覆う回収板８４が設けられ
ており，カップ７５外に漏れた現像液等を回収できるよ
うになっている。回収板８４は，カップ７５側が低くな
るように斜めに設けられている。また，回収板８４に
は，図７に示すように多数の通気孔８５が設けられてお
り，カップ７５外に流れた上方からの気体が当該通気孔
８５を通過し，隙間８２に流れるようになっている。
【００４８】カップ７５の外周とカップ収容部７０の内
周との間であって，カップ収容部７０の底部には，上述
したカップ７５外に漏れた現像液等を排液するドレイン
管８６が設けられている。
【００４９】カップ収容部７０上方のフレーム１５に
は，カップ収容部７０内に気体，例えばエアを供給する
気体供給部としてのエア供給装置８７が取り付けられて
いる。当該エア供給装置８７は，上述した供給ダクト３
２に接続されている。エア供給装置８７は，供給ダクト
３２からのエアに含まれる不純物を除去する機能と，当
該エアをカップ収容部７０全体に一様に供給する機構を
有しており，供給ダクト３２からのエアを清浄化し，カ
ップ収容部７０全体に一様な下降気流を形成して，カッ
プ収容部７０内をパージできるようになっている。
【００５０】カップ収容部７０の一の方向としてのＹ方
向正方向側，Ｙ方向負方向側の側壁には，図６，７に示
すようにウェハＷ上に現像液を供給する現像液供給部と
しての現像液供給ノズル９０，９１が配置されている。
各現像液供給ノズル９０，９１は，それぞれ異なる現像
液を供給できるようになっており，現像処理の際には，
現像処理のレシピに適合したどちらか一方の現像液供給
ノズル９０又は９１が使用される。現像液供給ノズル９
０，９１は，細長形状に形成されており，その長さは，
少なくともウェハＷの直径よりも長くなっている。
【００５１】図９に示すように，現像液供給ノズル９０
上部には，図示しない現像液供給源からの現像液を現像
液供給ノズル９０内に流入させる配管９２の一端が接続
されている。現像液供給ノズル９０の下部には，複数の
現像液吐出口９３が，長手方向に一列に設けられてい
る。これによって，配管９２から流入された現像液が，
現像液供給ノズル９０の各現像液吐出口９３から同時に
同流量で吐出されるようになっている。また，現像液供
給ノズル９１も現像液供給ノズル９０と全く同じ構成を
有している。
【００５２】現像液供給ノズル９０，９１は，図７に示
すようにアーム９５，９６によって長手方向がＸ方向に
なるように保持されている。当該アーム９５，９６は，
Ｙ方向に伸びる同じレール９７上を図示しない駆動制御
機構によって移動可能に設けられている。レール９７
は，カップ収容部７０のＸ方向正方向側の外側面に取り
付けられ，カップ収容部７０側部のＹ方向正方向側の端
部からＹ方向負方向側の端部まで伸びている。また，ア
ーム９５，９６の移動は，図示しない駆動制御機構によ
ってその移動速度や移動タイミングを制御できるように
なっている。したがって，アーム９５，９６にそれぞれ
保持された現像液供給ノズル９０，９１は，所定流量の
現像液を吐出しながら，所定速度でウェハＷの一端から
他端まで移動して，ウェハＷ表面全面に現像液を供給
し，ウェハＷ上に所定膜厚の現像液の液膜を形成するこ
とができる。また，アーム９５，９６には，当該アーム
９５，９６を上下方向に移動可能とする図示しない移動
機構が設けられており，現像液供給ノズル９０，９１と
ウェハＷとの距離等を調節可能に構成されている。
【００５３】また，カップ収容部７０のＹ方向の両側部
には，現像液供給ノズル９０，９１を洗浄する洗浄槽９
８，９９が設けられており，現像液供給時以外は，現像
液供給ノズル９０，９１は，当該洗浄槽９８，９９で待
機できるようになっている。これらの洗浄槽９８，９９
は，細長の現像液供給ノズル９０，９１を受容するよう
に断面が凹状に形成されており，洗浄槽９８，９９内に
は，現像液供給ノズル９０，９１に付着した現像液を洗
浄するための洗浄液，例えば純水が貯留されている。
【００５４】一方，カップ収容部７０のＸ方向負方向側
の外方，すなわち現像液供給ノズル９０，９１の移動す
る方向と直角方向側の外方には，ウェハＷに洗浄液を供
給するための洗浄液供給ノズル１００が設けられてい
る。洗浄液供給ノズル１００は，アーム１０１に保持さ
れており，アーム１０１は，Ｘ方向に伸びるレール１０
２上を移動自在に構成されている。レール１０２は，例
えばカップ収容部７０のＸ方向負方向側からスピンチャ
ック７１の中央部を越える位置まで伸びており，フレー
ム１５に固定されて設けられている。アーム１０１に
は，図示しない駆動機構が設けられており，アーム１０
１がレール１０２上を移動可能になっている。これによ
って，洗浄液供給ノズル１００は，必要に応じてカップ
収容部７０の前記外方からウェハＷの中心部まで移動
し，ウェハＷの中心に洗浄液を供給できるようになって
いる。なお，アーム１０１には，アーム１０１を上下方
向に移動可能とする図示しない移動機構が設けられてお
り，必要に応じてウェハＷとの距離等を調節できるよう
になっている。
【００５５】カップ収容部７０の下方には，図１０に示
すように厚みがあり，平面から見て略四角形状の基台１
０５が設けられている。基台１０５上には，カップ収容
部７０を下から支持する複数の支持部材１０６が設けら
れている。支持部材１０６は，カップ収容部７０と基台
１０５に固定されて設けられており，カップ収容部７０
は，基台１０５と一体となって移動するようになってい
る。
【００５６】基台１０５の下面には，Ｘ方向に伸びる２
本のレール１０７がフレーム１５に固定されて設けられ
ており，基台１０５は，当該レール１０７上を移動自在
に構成されている。このレール１０７は，フレーム１５
のＸ方向正方向側の側部まで延伸しており，基台１０５
をレール１０７に沿って移動させ，カップ収容部７０を
フレーム１５内から引き出すことができるようになって
いる。
【００５７】次に，以上のように構成されている現像処
理装置１８の作用について，塗布現像処理システム１で
行われるフォトリソグラフィー工程のプロセスと共に説
明する。
【００５８】先ず，ウェハ搬送体７がカセットＣから未
処理のウェハＷを１枚取りだし，第３の処理装置群G3に
属するアドヒージョン装置４１に搬入する。このアドヒ
ージョン装置４１において，レジスト液との密着性を向
上させるHMDSなどの密着強化剤を塗布されたウェハＷ
は，主搬送装置１３によって，クーリング装置４０に搬
送され，所定の温度に冷却される。その後，ウェハＷ
は，レジスト塗布装置１６，１７，２１又２２，プリベ
ーキング装置４４又は４５に順次搬送され，所定の処理
が施される。その後，ウェハＷは，エクステンション・
クーリング装置５１に搬送される。
【００５９】次いで，ウェハＷはエクステンション・ク
ーリング装置５１からウェハ搬送体６０によって取り出
され，その後，周辺露光装置６１を経て露光装置（図示
せず）に搬送される。露光処理の終了したウェハＷは，
ウェハ搬送体６０によりエクステンション装置５２に搬
送された後，主搬送装置１３に保持される。次いで，こ
のウェハＷはポストエクスポージャベーキング装置５４
又は５５，クーリング装置５３に順次搬送され，これら
の処置装置にて所定の処理が施された後，現像処理装置
１８，１９，２３又は２４に搬送される。
【００６０】そして現像処理の終了したウェハＷは，再
び主搬送装置１３によってポストベーキング装置４５，
４６，５６又は５７，クーリング装置４０と順次搬送さ
れ，各装置において所定の処理が施される。その後，ウ
ェハＷは，エクステンション装置４２を介して，ウェハ
搬送体７によってカセットＣに戻され，一連の所定の塗
布現像処理が終了する。
【００６１】次に上述した現像処理装置１８の作用につ
いて詳しく説明する。先ず，現像処理が開始される前
に，図示しないエア供給源から供給ダクト３２を通じて
エア供給装置８７に所定の温湿度に調節されたエアが供
給され始め，当該エア供給装置８７で清浄化された当該
エアがカップ収容部７０全体に供給され，カップ収容部
７０内に一様な下降気流が形成される。また，カップ収
容部７０内の雰囲気は，排気管８０から常時一定の流量
で排気され，カップ収容部７０内がパージされる。なお
排気管８０から排気された雰囲気は，排気ダクト３６を
通じて，フレーム１５の下方から塗布現像処理システム
１外に排気される。
【００６２】そして，現像処理が開始されると，先ず昇
降ピン７３がカップ７５の上端部よりも高い位置に上昇
され，主搬送装置１３によってフレーム１５内に搬入さ
れたウェハＷが当該昇降ピン７３上に支持される。次
に，カップ側部７６が下降され，カップ７５の上端部の
位置を下げると共に，昇降ピン７３が下降され，ウェハ
Ｗがカップ７５の上端部よりもわずかに高い位置，例え
ばカップ７５よりも１ｍｍ程度高い位置に配置される。
【００６３】次に，洗浄槽９８で待機していた現像液供
給ノズル９０が，当該洗浄槽９８から洗浄槽９８とカッ
プ側部７６との間の回収板８４上に移動される。この地
点において，現像液供給ノズル９０からの現像液の吐出
が開始され，その吐出状態が安定するまで試し出しされ
る。
【００６４】現像液の吐出状態が安定すると，現像液供
給ノズル９０が，現像液を吐出しながらカップ７５上端
部を越えてウェハＷ上を移動し，洗浄槽９９側のカップ
側部７６の外方まで移動する。このときウェハＷ全面に
現像液が供給され，ウェハＷ上に現像液の液膜が形成さ
れる。
【００６５】その後，現像液供給ノズル９０は洗浄槽９
８に戻され，ウェハＷ上では所定時間の静止現像が開始
される。このときカップ側部７６は上昇され，カップ側
部７６の上端部がウェハＷの位置より高くなる。なお，
静止現像中は，カップ側部７６の上昇によって隙間８２
が広くなり，上方から供給されているエアは，主にカッ
プ７５の外方を流れ当該隙間８２から再びカップ７５内
に流入し，排気管８０から排気される。
【００６６】所定時間が経過し，静止現像が終了する
と，昇降ピン７３が下降され，ウェハＷがスピンチャッ
ク７１上に吸着保持される。また，カップ側部７６も下
降され，ウェハＷをカップ７５の中央部に位置させる共
に，隙間８２を狭めて，上方から供給されるエアが主に
カップ７５内に直接流入されるようにする。このとき，
洗浄液供給ノズル１００は，レール１０２に沿ってウェ
ハＷ中心上方まで移動される。
【００６７】次に，ウェハＷが所定の回転速度，例えば
２０００ｒｐｍで回転され，ウェハＷの中心に洗浄液が
供給される。これによって，ウェハＷ上の現像液が遠心
力によって振り切られる。このとき，当該振り切りによ
って現像液等のミストが発生するが，そのほとんどがカ
ップ側部７６によって回収され，カップ７５外に漏れた
ミストは，カップ７５外方において上方からのエアによ
って下降され，回収板８５によって回収される。
【００６８】そして所定時間経過後，洗浄液の吐出が停
止され，ウェハＷの回転速度が，例えば４０００ｒｐｍ
に増大される。これによって，ウェハＷ上の洗浄液が振
り切られ，ウェハＷが乾燥される。当該乾燥が所定時間
行われた後，ウェハＷの回転が停止され，乾燥処理が終
了される。
【００６９】その後，ウェハＷは昇降ピン７３によって
再びカップ７５上端部上方まで上昇される。そして，ウ
ェハＷは搬入時と同様にして主搬送装置１３に受け渡さ
れ，フレーム１５外に搬出されて，一連の現像処理が終
了する。
【００７０】次に，カップ７５の洗浄等のメンテナンス
を行う際の現像処理装置１８の作用について説明する。
先ず，留め具８１を排気ダクト３６の接続端部３６ａか
ら取り外して，排気管８０の接続端部８０ａと排気ダク
ト３６の接続端部３６ａとの接続を解除する。これによ
ってカップ収容部７０が自由に移動できるようになる。
次に，カップ収容部７０をレール１０７に沿ってＸ方向
正方向に移動させ，図１１に示すようにフレーム１５外
に引き出す。そして，カップ７５や現像液供給ノズル９
０，９１等がカップ収容部７０から取り外され，カップ
７５の洗浄等のメンテナンスが行われる。
【００７１】その後，カップ７５の洗浄等が終了する
と，再びレール１０７に沿ってカップ収容部７０をＸ方
向負方向に移動させ，フレーム１５内に収容する。そし
て，留め具８１によって排気管８０と排気ダクト３６と
を固定し，排気ルートを確保して，メンテナンスが終了
する。
【００７２】以上の実施の形態によれば，カップ収容部
７０をフレーム１５から引き出し可能にしたため，メン
テナンス時にカップ収容部７０を引き出し，メンテナン
スのためのスペースを確保することができる。特に本実
施の形態のように現像処理装置１８，１９を多段に配置
した場合においても，カップ収容部７０を引き出し，メ
ンテナンス作業を好適に行うことができる。
【００７３】また，排気管８０と排気ダクト３６を着脱
可能にし，エア供給装置８７をフレーム１５に取り付け
たため，配管系の多い現像処理装置１８においても，カ
ップ収容部７０の移動を可能にした。特に排気管８０の
接続端部８０ａと排気ダクト３６の接続端部３６ａを斜
めに形成したため，カップ収容部７０の移動方向に対す
る着脱が好適に行われる。
【００７４】カップ側部７６が上下動可能に設けられた
ため，現像液供給ノズル９０がウェハＷ上に移動する際
にカップ側部７６を下降させることができるので，現像
液供給ノズル９０がカップ７５を回避して上昇する距離
が短くて済み，現像処理装置１８全体の薄型化を図るこ
とができる。
【００７５】また，現像液供給ノズル９０，９１をそれ
ぞれカップ収容部７０の異なる両側部に待機可能にした
ため，現像液供給ノズル９０，９１双方を移動させるた
めのレールが一本で足りる。これによって，高さの異な
る二本のレールを設ける必要が無く，その分現像処理装
置１８の高さを抑えることができるので，現像処理装置
１８の薄型化が図られれる。
【００７６】さらに，現像液供給ノズル９０，９１をカ
ップ収容部７０のＹ方向の両側部に設けたことに伴っ
て，洗浄液供給ノズル１００をカップ収容部７０のＸ方
向の側部に設けるようにしたため，洗浄液を供給する配
管と現像液を供給する配管との干渉を防止することがで
きる。
【００７７】ウェハＷの昇降を昇降ピン７３を用いて行
うようにしたため，スピンチャック７１と駆動機構７２
とを合わせた全体を昇降させていた従来に比べて，昇降
の際の上下方向のスペースを確保する必要が無くなり，
その分カップ収容部７０の高さを制限することができる
ため，現像処理装置１８の薄型化が図られる。
【００７８】フレーム１５内の各液処理装置に接続され
た供給ダクト３０〜３３及び排気ダクト３４〜３７をそ
れぞれ異なる面に集約させて設けたので，本実施の形態
のように現像処理装置１８，１９及びレジスト塗布装置
１６，１７を多段に配置した場合においても，複数の供
給ダクト及び排気ダクトの配置が単純化され，ダクトの
設置の容易化，ダクトと他の配管との干渉等の防止が図
られれる。
【００７９】前記実施の形態では，排気ダクト３６の接
続端部３６ａと排気管８０の接続端部８０ａとの形状を
斜めにしたが，他の形状であってもよい。例えば，図１
２に示すように排気管１１０の接続端部１１０ａの平面
から見てＸ方向正方向側（図１２の下側）を凸状に突出
させる。一方，排気ダクト１１１の接続端部１１１ａの
Ｘ方向負方向側を，接続端部１１０ａに適合するように
凸状に突出させる。接続端部１１０ａの凸部と接続端部
１１１ａの凸部を着脱自在とする留め具１１２を設け
る。これによっても，カップ収容部７０をＸ方向に移動
させ，フレーム１５内からカップ収容部７０を引き出し
又は押し込む際に排気管１１０と排気ダクト１１１とを
好適に接続，分離することができる。
【００８０】さらに排気ダクト３６の接続端部と排気管
８０の接続端部との接続方式は図１３，１４に示した例
も提案できる。
【００８１】この例では，排気管８０の先端部を先細り
のテーパ形状となし，引出方向とは逆の方向に突出した
接続端部８０ｂを有している。一方排気ダクト３６の接
続端部は，前記引出方向側に開口した挿入口３６ｂとし
て形成されている。また挿入口３６ｂの内壁表面には，
気密性を向上させるためスポンジ材１２１が設けられて
いる。
【００８２】このような例に従えば，カップ収容部７０
を手前に引き出すだけで排気管８０と排気ダクト３６と
の分離が簡単に行える。また排気管８０と排気ダクト３
６を接続する場合でも，カップ収容部７０を押し込むだ
けで排気管８０の先端部の接続端部８０ｂが排気ダクト
３６の挿入口３６ｂに挿入され，簡単に接続作業が完了
する。このとき排気管８０の先端部は，先細りのテーパ
形状であって，その端部に挿入口３６ｂが形成されてい
るので，挿入口３６ｂ内に確実に排気管８０の接続端部
８０ｂを挿入して接続することができる。
【００８３】しかも挿入口３６ｂの内壁表面にはスポン
ジ材１２１が設けられているから，気密性は確保されて
いる。スポンジ材に代えて各種のシール材，例えば弾力
性のある物質等を用いてもよい。
【００８４】また，以上の実施の形態では，排気管や排
気ダクトは，断面が丸形の円形ダクトを使用していた
が，断面が四角形状の角ダクトを使用してよい。特に，
角ダクトを使用した場合には，上述した凸状の接続端部
１１０ａ及び接続端部１１１ａの方が成形しやすいメリ
ットがある。
【００８５】以上の実施の形態は，現像処理装置１８と
して具体化されたものであったが，他の液処理装置，例
えばレジスト塗布装置１６，１７，２１又は２２，現像
処理装置１９，２３又は２４についても応用できる。ま
た，当該現像処理装置１９，２３，２４及びレジスト塗
布装置１６，１７，２１又は２２の全部について適用し
てもよいし，その中の任意のものにのみ適用してもよ
い。
【００８６】また，以上で説明した実施の形態は，半導
体ウェハデバイス製造プロセスのフォトリソグラフィー
工程におけるウェハの現像処理装置であったが，本発明
は半導体ウェハ以外の基板，例えばＬＣＤ基板の液処理
装置においても応用できる。
【００８７】
【発明の効果】本発明では，液処理装置を多段に配置し
た場合であってもメンテナンスを行うための作業スペー
スを十分に確保することができるので，液処理装置のメ
ンテナンス作業をより効率的に，容易に行うことができ
る。
【００８８】また本発明によれば，液処理装置の薄型化
が図られるので，液処理装置をより多く積層することが
できるので，低フットプリント化が図られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態にかかる現像処理装置を有する塗
布現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図２】図１の塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１の塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】フレームに取り付けられた供給ダクトの配置例
を示す斜視図である。
【図５】フレームに取り付けられた排気ダクトの配置例
を示す斜視図である。
【図６】本実施の形態にかかる現像処理装置の縦断面の
説明図である。
【図７】図４の現像処理装置の横断面の説明図である。
【図８】排気管と排気ダクトの接続部を平面から見た場
合の説明図である
【図９】現像処理装置で用いられる現像液供給ノズルの
斜視図である。
【図１０】現像処理装置の概略を示す斜視図である。
【図１１】カップ収容部を引き出した状態を示す現像処
理装置の平面図である。
【図１２】排気管と排気ダクトの接続部の他の構成例を
示す説明図である。
【図１３】他の例においてカップ収容部を引き出した状
態を示す現像処理装置の平面図である。
【図１４】図１３の例における排気管と排気ダクトの接
続部の接続態を示す説明図である。
【符号の説明】
１ 塗布現像処理システム １５ フレーム １８ 現像処理装置 ３２ 供給ダクト ３６ 排気ダクト ７０ カップ収容部 ７１ スピンチャック ７５ カップ ８０ 排気管 １０５ 基台 １０７ レール Ｗ ウェハ

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 収納容器内において，基板に処理液を供
    給して当該基板を処理する液処理装置であって，前記収
    納容器を搭載するフレームを有し，前記収納容器は，前
    記フレームから所定方向に引き出し自在に構成されてい
    ることを特徴とする，液処理装置。
  2. 【請求項２】 前記フレームには，レールが前記所定方
    向に沿って設けられており，前記収納容器は，前記レー
    ルに沿って移動可能に構成されていることを特徴とす
    る，請求項１に記載の液処理装置。
  3. 【請求項３】 前記フレームには，前記収納容器内に気
    体を供給するための供給ダクトが取り付けられており，
    前記供給ダクトは，前記収納容器内に前記気体を供給す
    る気体供給部に接続されており，前記気体供給部は，前
    記フレームに取り付けられていることを特徴とする，請
    求項１又は２のいずれかに記載の液処理装置。
  4. 【請求項４】 前記供給ダクトは，前記所定方向以外の
    前記フレームの側面に取り付けられていることを特徴と
    する，請求項３に記載の液処理装置。
  5. 【請求項５】 前記収納容器が前記フレームに垂直方向
    に多段に搭載されており，前記各収納容器に接続された
    各供給ダクトは，集約されて前記フレームの側面に沿っ
    て垂直方向に設けられていることを特徴とする，請求項
    ４に記載の液処理装置。
  6. 【請求項６】 前記収納容器に接続され，前記収納容器
    内の雰囲気を排気する排気管と，前記フレーム外に前記
    雰囲気を排気する排気ダクトとを有し，前記排気ダクト
    の接続端部は，前記排気管の接続端部と接続，分離自在
    に構成されていることを特徴とする，請求項１，２，
    ３，４又は５のいずれかに記載の液処理装置。
  7. 【請求項７】 前記所定方向は水平方向であり，前記排
    気ダクトの接続端部は，前記所定方向に対して直角方向
    のフレームの側部に設けられており，前記排気ダクトの
    接続端部は，平面から見て前記所定方向と逆方向側が前
    記排気管の接続端部側に突出するように形成されてお
    り，前記排気管の接続端部は，前記排気ダクトの接続端
    部と適合するように，平面から見て前記所定方向側が前
    記排気ダクトの接続端部側に突出するように形成されて
    いることを特徴とする，請求項６に記載の液処理装置。
  8. 【請求項８】 前記排気ダクトの接続端部と前記排気管
    の接続端部は，平面から見て斜めに形成されていること
    を特徴とする，請求項７に記載の液処理装置。
  9. 【請求項９】 前記所定方向は水平方向であり，前記排
    気ダクトの接続端部は，前記所定方向に対して直角方向
    のフレームの側部に設けられており，前記排気ダクトの
    接続端部は，平面から見て前記所定方向側に開口した挿
    入口であり，前記排気管の接続端部は，前記排気ダクト
    の挿入口に挿入可能な，平面から見て前記所定方向とは
    逆側に突出した形状を有していることを特徴とする，請
    求項６に記載の液処理装置。
  10. 【請求項１０】 前記排気管の接続端部は，先細りとな
    るテーパ形状を有していることを特徴とする，請求項９
    に記載の液処理装置。
  11. 【請求項１１】 前記挿入口は，その内壁表面に機密性
    を確保するシール材を有することを特徴とする，請求項
    ９又は１０に記載の液処理装置。
  12. 【請求項１２】 前記挿入口は，その内壁表面にスポン
    ジ体を有することを特徴とする，請求項９又は１０に記
    載の液処理装置。
  13. 【請求項１３】 前記収納容器が前記フレームに垂直方
    向に多段に搭載されており，前記収納容器の各排気管に
    接続される各排気ダクトは，集約されて前記所定方向以
    外の前記フレームの側面に沿って垂直方向に設けられて
    いることを特徴とする，請求項６，７，８，９，１０，
    １１又は１２のいずれかに記載の液処理装置。
  14. 【請求項１４】 前記収納容器内には，基板を昇降させ
    る昇降ピンが設けられていることを特徴とする，請求項
    １，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１
    ２又は１３のいずれかに記載の液処理装置。
  15. 【請求項１５】 前記収納容器内には，基板の外周を囲
    む処理容器が設けられており，前記処理容器を昇降させ
    る昇降機構を有することを特徴とする，請求項１，２，
    ３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３
    又は１４のいずれかに記載の液処理装置。
  16. 【請求項１６】 前記液処理装置は，基板を現像処理す
    る現像処理装置であって，前記収納容器は，平面から見
    て四角形状に形成されており，前記基板に現像液を供給
    する複数の現像液供給部と，前記現像液供給部を洗浄す
    る洗浄槽とを有し，前記複数の現像液供給部は，前記収
    納容器の四角形状に沿った一の方向に伸びる同一レール
    上で移動自在に構成されており，前記洗浄槽は，前記一
    の方向の前記収納容器の両側部に設けられていることを
    特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６，７，８，
    ９，１０，１１，１２，１３，１４又は１５のいずれか
    に記載の液処理装置。
  17. 【請求項１７】 前記一の方向は，前記所定方向に対し
    て直角方向であることを特徴とする，請求項１６に記載
    の液処理装置。
  18. 【請求項１８】 基板に洗浄液を供給する洗浄液供給装
    置を有し，前記洗浄液供給装置は，前記一の方向と直角
    方向をなす他の方向に移動自在に構成されていることを
    特徴とする，請求項１６又は１７のいずれかに記載の液
    処理装置。
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