JP2020184604A - 埋め込み部品パッケージ構造およびその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 105
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 187
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 21
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 21
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 17
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 5
- 238000011161 development Methods 0.000 description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 3
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
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- H01L23/31—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape
- H01L23/3107—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed
- H01L23/3121—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the arrangement or shape the device being completely enclosed a substrate forming part of the encapsulation
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
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- H01L21/4846—Leads on or in insulating or insulated substrates, e.g. metallisation
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- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
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- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
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- H01L23/49827—Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
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- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
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Abstract
Description
Claims (23)
- 誘電体構造物と、
前記誘電体構造物内に埋め込まれた半導体チップと、
前記半導体チップを覆っていて第1の厚さを有する第1の高分子層であって、前記第1の高分子層に対応して上方配置されている前記誘電体構造物の第2の厚さよりも前記第1の厚さが大きい第1の高分子層と、
前記誘電体構造物の上面を覆い且つ前記高分子層の上方に延在していて前記半導体チップに電気的に接続されているパターニングされた導電層と
を備える埋め込み部品パッケージ構造。 - 前記第1の高分子層が感光性樹脂硬化物である、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 前記第1の厚さが3μmよりも大きい、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 前記第2の厚さが4.5μmよりも小さいか、または0に等しい、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 前記第1の厚さおよび前記第2の厚さの和が3μm以上、7.5μm以下である、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 前記半導体チップの側面が、前記高分子層の側面と略面一である、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 前記パターニングされた導電層が、前記誘電体構造物および前記高分子層を通過し、前記半導体チップに電気的に接続されている、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 前記誘電体構造物の前記上面が、前記第1の高分子層の上面よりも高いか、または前記第1の高分子層の前記上面と面一である、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 前記誘電体構造物の前記上面が、前記第1の高分子層の上面よりも低い、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 第2の高分子層と、再配線層とをさらに備え、前記再配線層が、前記第1の高分子層と前記第2の高分子層との間に積層されている、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 前記第1の高分子層が第1の開口を有し、前記誘電体構造物が第2の開口を有し、前記第1の開口が、前記第2の開口よりも小さい、請求項1に記載のパッケージ構造。
- 誘電体構造物と、
前記誘電体構造物内に埋め込まれた半導体チップと、
前記半導体チップを覆っていて第1の厚さを有する第1の高分子層であって、前記第1の高分子層に対応して上方に配置されている前記誘電体構造物の第2の厚さよりも前記第1の厚さが大きく、前記第1の高分子層は第1の開口を有し、前記誘電体構造物は第2の開口を有し、前記第1の開口は前記第2の開口よりも小さい第1の高分子層と、
前記誘電体構造物の上面を覆い、且つ前記高分子層の上方に、前記第1の開口内に、および前記第2の開口内に延在していて前記半導体チップに電気的に接続されているパターニングされた導電層と
を備える埋め込み部品パッケージ構造。 - 前記第1の高分子層が感光性樹脂硬化物である、請求項12に記載のパッケージ構造。
- 前記第1の厚さが3μmよりも大きい、請求項12に記載のパッケージ構造。
- 前記第2の厚さが4.5μmよりも小さく、且つ0に等しくない、請求項12に記載のパッケージ構造。
- 前記第1の厚さおよび前記第2の厚さの和が3μm以上、7.5μm以下である、請求項12に記載のパッケージ構造。
- 前記半導体チップは、少なくとも1つの電気パッドと、絶縁層とを備え、前記第1の高分子層は前記絶縁層の上に配置され、前記パターニングされた導電層は前記絶縁層を通過して前記少なくとも1つの電気パッドに電気的に接続される、請求項12に記載のパッケージ構造。
- 前記誘電体構造物の前記上面が、前記第1の高分子層の上面よりも高い、請求項12に記載のパッケージ構造。
- 第2の高分子層と再配線層とをさらに備え、前記再配線層が、前記第1の高分子層と前記第2の高分子層との間に積層されている、請求項12に記載のパッケージ構造。
- 高分子層を備える半導体チップをキャリア上に設ける工程と、
前記半導体チップを覆うように前記キャリア上に誘電体構造物を設ける工程であって、前記高分子層の厚さが、前記高分子層に対応して上方にある前記誘電体構造物の厚さよりも大きい工程と、
前記高分子層の上方に延在するパターニングされた導電層を前記誘電体構造物の上面上に形成する工程と
を備える、埋め込み部品パッケージ構造の製造方法。 - 前記誘電体構造物の一部を除去して前記高分子層を露出させる工程をさらに備える、請求項20に記載の製造方法。
- 前記誘電体構造物は、さらに、前記高分子層の開口内に充填され、前記誘電体構造物の前記一部を除去する工程は、前記開口内の前記誘電体構造物を除去する工程をさらに備え、さらに、前記パターニングされた導電層が前記開口内に形成される、請求項21に記載の製造方法。
- 前記高分子層が第1の開口を有し、前記誘電体構造物が第2の開口を有し、前記第1の開口が前記第2の開口よりも小さく、前記パターニングされた導電層は、前記パターニングされた導電層が前記半導体チップに電気的に接続されるように前記第1の開口内に、および前記第2の開口内にさらに延在する、請求項20に記載の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US16/397,530 US11296030B2 (en) | 2019-04-29 | 2019-04-29 | Embedded component package structure and manufacturing method thereof |
US16/397,530 | 2019-04-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020184604A true JP2020184604A (ja) | 2020-11-12 |
JP6891224B2 JP6891224B2 (ja) | 2021-06-18 |
Family
ID=72917309
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019118677A Active JP6891224B2 (ja) | 2019-04-29 | 2019-06-26 | 埋め込み部品パッケージ構造およびその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11296030B2 (ja) |
JP (1) | JP6891224B2 (ja) |
CN (1) | CN111863735A (ja) |
TW (1) | TWI765165B (ja) |
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- 2019-07-08 TW TW108124002A patent/TWI765165B/zh active
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US20200343187A1 (en) | 2020-10-29 |
CN111863735A (zh) | 2020-10-30 |
US11296030B2 (en) | 2022-04-05 |
TWI765165B (zh) | 2022-05-21 |
JP6891224B2 (ja) | 2021-06-18 |
TW202040757A (zh) | 2020-11-01 |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |