JP5226111B2 - Icモジュール及びその製造方法、並びにicモジュールを用いる埋め込み印刷回路基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
11 チップ
13 保護層
15 ホール
17 銅シード層
19 再配線層
21 メッキ層
100 埋め込み印刷回路基板
110 コア
112 キャビティ
116 絶縁層
119 回路層
Claims (13)
- 上面に電極パッドが形成されたチップと、
パターニングによって形成されたホールを有し、前記チップ上の全面に形成された保護層と、
前記ホールが設けられた前記保護層上の全面に形成された銅シード層と、
前記銅シード層の上面の一部に形成された再配線層と、
前記再配線層の上面及び該再配線層が形成されていない銅シード層上の全面に形成されたメッキ層と、
を含むICモジュール。 - 前記メッキ層は、銅からなる請求項1に記載のICモジュール。
- キャビティが形成されたコア層と、
前記キャビティに実装されたICモジュールと、
前記コア層の上下面に形成された回路層と、
を含み、
前記ICモジュールは、
上面に電極パッドが形成されたチップと、
パターニングによって形成されたホールを有し、前記チップ上の全面に形成された保護層と、
前記ホールが設けられた前記保護層上の全面に形成された銅シード層と、
前記銅シード層の上面の一部に形成された再配線層と、
前記再配線層の上面及び該再配線層が形成されていない銅シード層上の全面に形成されたメッキ層と、
を含む埋め込み印刷回路基板。 - 前記回路層は、銅からなる請求項3に記載の埋め込み印刷回路基板。
- 前記メッキ層は、銅からなる請求項3に記載の埋め込み印刷回路基板。
- 前記回路層は、前記ICモジュールの銅メッキ層と該ICモジュールの下面に積層された銅メッキ層とに同時に形成される請求項5に記載の埋め込み印刷回路基板。
- 前記埋め込み印刷回路基板は、前記回路層の上面に形成された絶縁層をさらに含む請求項3に記載の埋め込み印刷回路基板。
- 電極パターンが形成されたチップを提供するステップと、
該チップの上面に保護層を形成するステップと、
前記保護層上にパターニングによってホールを形成して、前記電極パターンの一部を露出させるステップと、
前記ホールが設けられた前記保護層の上面に銅シード層を形成するステップと、
前記銅シード層の上面の一部に再配線層を形成するステップと、
前記再配線層及び該再配線層が形成されていない銅シード層の上の全面にメッキを行うステップと、
を含むICモジュール製造方法。 - 前記メッキは、銅からなる請求項8に記載のICモジュール製造方法。
- キャビティが形成されたコア層を配置するステップと、
前記キャビティにICモジュールを実装するステップと、
銅箔を積層するステップと、
前記コア層の上下面に銅メッキを行うステップと、
回路層を形成するステップと、
を含み、
前記ICモジュールは、
上面に電極パッドが形成されたチップと、
パターニングによって形成されたホールを有し、前記チップ上の全面に形成された保護層と、
前記ホールが設けられた前記保護層上の全面に形成された銅シード層と、
前記銅シード層の上面の一部に形成された再配線層と、
前記再配線層の上面及び該再配線層が形成されていない銅シード層上の全面に形成されたメッキ層と、
を含む埋め込み印刷回路基板製造方法。 - 前記ICモジュールは、下部の全面に形成された銅メッキ層を含む請求項10に記載の埋め込み印刷回路基板製造方法。
- 前記回路層を形成するステップは、前記ICモジュールの銅メッキ層と該ICモジュールの下面に積層された銅メッキ層とに同時に回路を形成する請求項11に記載の埋め込み印刷回路基板製造方法。
- 前記銅箔を積層するステップの前に、
前記コア層の上面に絶縁層を形成するステップを、さらに含む請求項10に記載の埋め込み印刷回路基板製造方法。
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