JP2018125559A5 - - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 26
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 8
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 12
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims 2
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 2
- LIRZNCFVMPOMGF-UHFFFAOYSA-N (2-phenyl-2-prop-2-enoyloxyethyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(OC(=O)C=C)C1=CC=CC=C1 LIRZNCFVMPOMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- OOGRWVMCAMQXMO-UHFFFAOYSA-N (2-phenyl-3-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C(C=C)(=O)OCC(COC(C=C)=O)C1=CC=CC=C1 OOGRWVMCAMQXMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- WUGVSRAAQKDLJT-UHFFFAOYSA-N [3-(prop-2-enoyloxymethyl)phenyl]methyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC(COC(=O)C=C)=C1 WUGVSRAAQKDLJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N diphenylphosphoryl-(2,4,6-trimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(OC)=C1C(=O)P(=O)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 PODOEQVNFJSWIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 1
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019226322A JP6907293B2 (ja) | 2014-12-19 | 2019-12-16 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014257798 | 2014-12-19 | ||
| JP2014257798 | 2014-12-19 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015232535A Division JP6324363B2 (ja) | 2014-12-19 | 2015-11-28 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019226322A Division JP6907293B2 (ja) | 2014-12-19 | 2019-12-16 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2018125559A JP2018125559A (ja) | 2018-08-09 |
| JP2018125559A5 true JP2018125559A5 (enExample) | 2019-07-11 |
Family
ID=56242897
Family Applications (3)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015232535A Active JP6324363B2 (ja) | 2014-12-19 | 2015-11-28 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
| JP2018076976A Pending JP2018125559A (ja) | 2014-12-19 | 2018-04-12 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
| JP2019226322A Active JP6907293B2 (ja) | 2014-12-19 | 2019-12-16 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015232535A Active JP6324363B2 (ja) | 2014-12-19 | 2015-11-28 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2019226322A Active JP6907293B2 (ja) | 2014-12-19 | 2019-12-16 | インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11003073B2 (enExample) |
| JP (3) | JP6324363B2 (enExample) |
| KR (3) | KR102246568B1 (enExample) |
| CN (1) | CN107112208B (enExample) |
| TW (1) | TWI596431B (enExample) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110312619B (zh) * | 2017-02-24 | 2021-03-09 | 夏普株式会社 | 装饰膜 |
| US11474429B2 (en) * | 2017-06-09 | 2022-10-18 | Mitsui Chemicals, Inc. | Method of producing substrate with fine uneven pattern, resin composition, and laminate |
| JP6550434B2 (ja) * | 2017-09-29 | 2019-07-24 | シャープ株式会社 | 防汚性フィルムの製造方法 |
| CN111796385A (zh) * | 2019-04-08 | 2020-10-20 | 三营超精密光电(晋城)有限公司 | 光学镜头、应用该光学镜头的镜头模组及电子装置 |
| US20200339828A1 (en) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Photocurable composition |
| JP2024090185A (ja) | 2022-12-22 | 2024-07-04 | デクセリアルズ株式会社 | インプリント用光硬化性アクリルレジン |
| EP4443202A4 (en) | 2021-12-24 | 2025-04-23 | Dexerials Corporation | Wire grid polarizer, method for manufacturing wire grid polarizer, projection display device, vehicle, and photo-curable acrylic resin for imprinting |
| JP2023125842A (ja) * | 2022-02-28 | 2023-09-07 | キヤノン株式会社 | パターン形成方法、及び物品製造方法 |
| WO2024135836A1 (ja) | 2022-12-22 | 2024-06-27 | デクセリアルズ株式会社 | ワイヤグリッド偏光素子、ワイヤグリッド偏光素子の製造方法、投影表示装置及び車両 |
| WO2024135835A1 (ja) | 2022-12-22 | 2024-06-27 | デクセリアルズ株式会社 | ワイヤグリッド偏光素子、ワイヤグリッド偏光素子の製造方法、投影表示装置及び車両 |
| US20240411225A1 (en) * | 2023-06-09 | 2024-12-12 | Canon Kabushiki Kaisha | System including heating means and actinic radiation source and a method of using the same |
| TWI863515B (zh) * | 2023-08-18 | 2024-11-21 | 光群雷射科技股份有限公司 | 壓印光罩製造方法 |
Family Cites Families (47)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA1099435A (en) | 1971-04-01 | 1981-04-14 | Gwendyline Y. Y. T. Chen | Photosensitive block copolymer composition and elements |
| US4323636A (en) | 1971-04-01 | 1982-04-06 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Photosensitive block copolymer composition and elements |
| US4423135A (en) | 1981-01-28 | 1983-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours & Co. | Preparation of photosensitive block copolymer elements |
| US4414278A (en) | 1982-04-22 | 1983-11-08 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Crosslinked triacrylate polymer beads |
| JP2002200623A (ja) * | 2000-10-26 | 2002-07-16 | Dainippon Ink & Chem Inc | 樹脂複合体の製造法 |
| CN1977221A (zh) * | 2004-05-31 | 2007-06-06 | 富士胶片株式会社 | 图案形成方法及滤色片的制造方法以及滤色片及液晶显示装置 |
| CN101116035A (zh) | 2004-06-15 | 2008-01-30 | 富士胶片株式会社 | 感光性组合物及图案形成方法及永久图案 |
| AU2006282042B2 (en) * | 2005-06-17 | 2011-12-22 | The University Of North Carolina At Chapel Hill | Nanoparticle fabrication methods, systems, and materials |
| JP4770354B2 (ja) | 2005-09-20 | 2011-09-14 | 日立化成工業株式会社 | 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法 |
| US7670530B2 (en) * | 2006-01-20 | 2010-03-02 | Molecular Imprints, Inc. | Patterning substrates employing multiple chucks |
| JP4929722B2 (ja) | 2006-01-12 | 2012-05-09 | 日立化成工業株式会社 | 光硬化型ナノプリント用レジスト材及びパターン形成法 |
| JP5306903B2 (ja) | 2008-07-02 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、これを用いた硬化物およびその製造方法、並びに、液晶表示装置用部材 |
| JP2010037541A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-02-18 | Fujifilm Corp | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP2010106062A (ja) | 2008-10-28 | 2010-05-13 | Fujifilm Corp | ナノインプリント用組成物、パターンおよびその形成方法 |
| US8840830B2 (en) | 2008-12-01 | 2014-09-23 | Aji Co., Ltd. | Method of molding |
| JP2010132762A (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-17 | Nippon Paint Co Ltd | 光硬化性樹脂組成物および凹凸フィルムの製造方法 |
| JP5665329B2 (ja) | 2009-03-09 | 2015-02-04 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP2011082347A (ja) * | 2009-10-07 | 2011-04-21 | Fujifilm Corp | インプリント用硬化性組成物、硬化物の製造方法および硬化物 |
| JP5511415B2 (ja) | 2010-02-02 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| US20110300367A1 (en) | 2010-06-07 | 2011-12-08 | Ching-Kee Chien | Optical Fiber With Photoacid Coating |
| JP2012072269A (ja) | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Fujifilm Corp | 微細構造体 |
| JP2012227190A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Nippon Shokubai Co Ltd | ナノインプリント用硬化性樹脂組成物 |
| JP5829177B2 (ja) * | 2011-07-12 | 2015-12-09 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP5710553B2 (ja) * | 2011-08-25 | 2015-04-30 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP2013065813A (ja) | 2011-08-29 | 2013-04-11 | Fujifilm Corp | インプリントシステムおよびインプリントシステムのメンテナンス方法 |
| JP5806903B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-11-10 | 富士フイルム株式会社 | ナノインプリント方法およびそれに用いられるレジスト組成物 |
| JP5767615B2 (ja) * | 2011-10-07 | 2015-08-19 | 富士フイルム株式会社 | インプリント用下層膜組成物およびこれを用いたパターン形成方法 |
| JP6108765B2 (ja) | 2011-12-19 | 2017-04-05 | キヤノン株式会社 | 光硬化性組成物およびパターン形成方法 |
| JP5838826B2 (ja) | 2012-01-23 | 2016-01-06 | 大日本印刷株式会社 | パターン構造体の製造方法とナノインプリントリソグラフィ方法およびインプリント装置 |
| JP2013170227A (ja) * | 2012-02-21 | 2013-09-02 | Fujifilm Corp | 光重合性組成物 |
| JP5846974B2 (ja) * | 2012-03-13 | 2016-01-20 | 富士フイルム株式会社 | 光インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン |
| JP5930832B2 (ja) | 2012-04-27 | 2016-06-08 | キヤノン株式会社 | 光硬化物の製造方法 |
| JP2014074165A (ja) * | 2012-09-12 | 2014-04-24 | Sanyo Chem Ind Ltd | 感光性組成物 |
| JP6379458B2 (ja) | 2012-09-13 | 2018-08-29 | 日立化成株式会社 | パターンを有する樹脂層を製造する方法、及びそれに用いられる樹脂組成物 |
| JP6278645B2 (ja) | 2012-09-24 | 2018-02-14 | キヤノン株式会社 | 光硬化性組成物及びこれを用いた膜の製造方法 |
| TWI589994B (zh) * | 2012-10-09 | 2017-07-01 | 佳能股份有限公司 | 光可固化的組成物及製造膜的方法 |
| CN102911052B (zh) | 2012-10-13 | 2015-03-25 | 江苏和成显示科技股份有限公司 | 聚合性星形化合物及其聚合产物和在液晶装置中的应用 |
| JP6058371B2 (ja) * | 2012-12-07 | 2017-01-11 | 日本合成化学工業株式会社 | ディスプレイ用プラスチックシートの製造方法 |
| CN103113900B (zh) | 2013-02-01 | 2015-02-04 | 江苏和成显示科技股份有限公司 | 一种聚合物稳定配向型液晶组合物及其应用 |
| KR101811116B1 (ko) * | 2013-05-09 | 2017-12-20 | 캐논 가부시끼가이샤 | 화합물, 광경화성 조성물, 및 광경화성 조성물을 사용하여 패턴 형상을 갖는 막, 광학 부품, 회로 기판, 전자 부품을 제조하는 방법, 및 경화물 |
| JP6080813B2 (ja) * | 2013-08-30 | 2017-02-15 | キヤノン株式会社 | 光インプリント用組成物、これを用いた、膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
| JP6460672B2 (ja) | 2013-09-18 | 2019-01-30 | キヤノン株式会社 | 膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法及び電子部品の製造方法 |
| CN106164112B (zh) * | 2014-03-27 | 2018-02-06 | 瓦克化学公司 | 纸张涂料组合物的粘合剂 |
| JP6643802B2 (ja) * | 2014-05-09 | 2020-02-12 | キヤノン株式会社 | 硬化性組成物、その硬化物、硬化物の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法 |
| JP6424481B2 (ja) * | 2014-06-11 | 2018-11-21 | 中西金属工業株式会社 | 磁気エンコーダ及びその製造方法 |
| JP6779611B2 (ja) * | 2014-12-19 | 2020-11-04 | キヤノン株式会社 | インプリント用光硬化性組成物、硬化膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法 |
| WO2019189443A1 (ja) * | 2018-03-30 | 2019-10-03 | 大日本塗料株式会社 | 印刷物 |
-
2015
- 2015-11-28 JP JP2015232535A patent/JP6324363B2/ja active Active
- 2015-12-15 CN CN201580069521.5A patent/CN107112208B/zh active Active
- 2015-12-15 KR KR1020197037480A patent/KR102246568B1/ko active Active
- 2015-12-15 KR KR1020177019229A patent/KR101988782B1/ko active Active
- 2015-12-15 KR KR1020197016193A patent/KR102059314B1/ko active Active
- 2015-12-15 US US15/537,320 patent/US11003073B2/en active Active
- 2015-12-18 TW TW104142771A patent/TWI596431B/zh active
-
2018
- 2018-04-12 JP JP2018076976A patent/JP2018125559A/ja active Pending
-
2019
- 2019-12-16 JP JP2019226322A patent/JP6907293B2/ja active Active
-
2021
- 2021-04-01 US US17/220,759 patent/US20210223690A1/en active Pending
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