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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6584074B2 (ja) * 2014-02-26 2019-10-02 キヤノン株式会社 光硬化性組成物、硬化物、これを用いた、パターン形状を有する膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
JP6624808B2 (ja) 2014-07-25 2019-12-25 キヤノン株式会社 光硬化性組成物、これを用いた硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法
JP6324363B2 (ja) * 2014-12-19 2018-05-16 キヤノン株式会社 インプリント用光硬化性組成物、これを用いた膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
WO2016098345A1 (en) * 2014-12-19 2016-06-23 Canon Kabushiki Kaisha Photocurable composition for imprint, method for producing film using the same, method for producing optical component using the same, method for producing circuit board using the same, and method for producing electronic component using the same
JP6779611B2 (ja) * 2014-12-19 2020-11-04 キヤノン株式会社 インプリント用光硬化性組成物、硬化膜の製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、電子部品の製造方法
JP2016164977A (ja) * 2015-02-27 2016-09-08 キヤノン株式会社 ナノインプリント用液体材料、ナノインプリント用液体材料の製造方法、硬化物パターンの製造方法、光学部品の製造方法、回路基板の製造方法、および電子部品の製造方法
US11194247B2 (en) 2018-01-31 2021-12-07 Canon Kabushiki Kaisha Extrusion control by capillary force reduction

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2306464C3 (de) 1973-02-09 1982-02-25 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Teilfluorierte Aminoäther und Verfahren zu ihrer Herstellung
GB8621793D0 (en) 1986-09-10 1986-10-15 Ici Plc Coating compositions
DE3837506A1 (de) 1988-11-04 1990-05-10 Hoechst Ag Verfahren zur herstellung von oligomeren des hexafluorpropenoxids
US6323361B1 (en) 1997-04-17 2001-11-27 Corning Inc. Photocurable halofluorinated acrylates
US6818203B2 (en) 2000-08-11 2004-11-16 Schering Aktiengesellschaft Use of perfluoroalkyl-containing metal complexes as contrast media in MR-imaging for visualization of plaque, tumors and necroses
US20030201429A1 (en) 2002-04-30 2003-10-30 Mingqian He Low loss electro-optic polymers and devices made therefrom
AU2003250865A1 (en) 2002-07-10 2004-02-02 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Heat stable photocurable resin composition for dry film resist
US7534509B2 (en) * 2004-11-03 2009-05-19 Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha Ambient-temperature molten salts and process for producing the same
CA2615434A1 (en) * 2005-07-15 2007-01-25 Bayer Schering Pharma Aktiengesellschaft Perfluoroalkyl-containing complexes, process for their production as well as their use
JP4770354B2 (ja) 2005-09-20 2011-09-14 日立化成工業株式会社 光硬化性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法
JP2010114209A (ja) 2008-11-05 2010-05-20 Fujifilm Corp 光ナノインプリント用硬化性組成物、硬化物およびその製造方法
JP2011111553A (ja) * 2009-11-27 2011-06-09 Fujifilm Corp インプリント用硬化性組成物、硬化物および硬化物の製造方法
JP5567419B2 (ja) 2010-06-29 2014-08-06 富士フイルム株式会社 光インプリント用硬化性組成物およびそれを用いた硬化物の製造方法
JP2013070033A (ja) * 2011-09-05 2013-04-18 Canon Inc インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
TWI471693B (zh) * 2011-11-10 2015-02-01 Canon Kk 光可固化組成物,及使用彼之圖案化方法
JP5932501B2 (ja) 2012-06-06 2016-06-08 キヤノン株式会社 硬化性組成物、及びこれを用いるパターン形成方法
JP6278645B2 (ja) 2012-09-24 2018-02-14 キヤノン株式会社 光硬化性組成物及びこれを用いた膜の製造方法
JP5857014B2 (ja) 2012-09-27 2016-02-10 富士フイルム株式会社 光インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法およびパターン

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